JP2000344732A - ベンゾニトリル化合物の製造法 - Google Patents
ベンゾニトリル化合物の製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】
【課題】 除草剤またはその中間体として有用なベンゾ
ニトリル化合物の新規な製造法を提供する。 【解決手段】 式（１ａ）の化合物と、シアン化カリウ
ム、シアン化ナトリウムおよびシアン化亜鉛から選ばれ
る１種以上とを、金属触媒の存在下に、反応させること
を特徴とする式（１）の化合物の製造法。〔式中、Ｘは
水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Ｚはニト
ロ基、アミノ基またはＣ1〜Ｃ4アルキルスルホニルアミ
ノ基等を表し、Ｙはフッ素原子、塩素原子または臭素原
子等を表し、Ｑは水素原子、ニトロ基またはアミノ基等
を表す。〕 【化１】
ニトリル化合物の新規な製造法を提供する。 【解決手段】 式（１ａ）の化合物と、シアン化カリウ
ム、シアン化ナトリウムおよびシアン化亜鉛から選ばれ
る１種以上とを、金属触媒の存在下に、反応させること
を特徴とする式（１）の化合物の製造法。〔式中、Ｘは
水素原子、フッ素原子または塩素原子を表し、Ｚはニト
ロ基、アミノ基またはＣ1〜Ｃ4アルキルスルホニルアミ
ノ基等を表し、Ｙはフッ素原子、塩素原子または臭素原
子等を表し、Ｑは水素原子、ニトロ基またはアミノ基等
を表す。〕 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は除草剤またはその中
間体として有用なベンゾニトリル化合物（米国特許５１
２７９３５号および日本公開特許公報平５−１８６４３
６号記載）の製造法に関するものである。
間体として有用なベンゾニトリル化合物（米国特許５１
２７９３５号および日本公開特許公報平５−１８６４３
６号記載）の製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ベンゾニトリル化合物の製造法は、日本
公開特許公報平９−４８７６１号に記載されている。し
かし、この製造法では、シアノ化剤としてシアン化銅を
使用しているため、工業的な製造を考慮した場合、水質
汚濁防止法指定金属である銅を含む廃液の処理が難し
く、またシアン化銅が高価であるため、製造法の改良が
望まれていた。
公開特許公報平９−４８７６１号に記載されている。し
かし、この製造法では、シアノ化剤としてシアン化銅を
使用しているため、工業的な製造を考慮した場合、水質
汚濁防止法指定金属である銅を含む廃液の処理が難し
く、またシアン化銅が高価であるため、製造法の改良が
望まれていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために、除草剤またはその中間体として有用
なベンゾニトリル化合物の製造法を鋭意検討した結果、
金属触媒の存在下に反応を行うことにより、シアノ化剤
としてシアン化銅よりも反応性の劣るシアン化カリウ
ム、シアン化ナトリウムまたはシアン化亜鉛を用いて
も、高収率でベンゾニトリル化合物を得る製造法を見出
し、本発明を完成した。即ち、本発明は下記〔１〕ない
し〔１０〕記載の製造法に関するものである。
を解決するために、除草剤またはその中間体として有用
なベンゾニトリル化合物の製造法を鋭意検討した結果、
金属触媒の存在下に反応を行うことにより、シアノ化剤
としてシアン化銅よりも反応性の劣るシアン化カリウ
ム、シアン化ナトリウムまたはシアン化亜鉛を用いて
も、高収率でベンゾニトリル化合物を得る製造法を見出
し、本発明を完成した。即ち、本発明は下記〔１〕ない
し〔１０〕記載の製造法に関するものである。
【０００４】〔１〕式（１ａ）：
【０００５】
【化３】
【０００６】〔式中、Ｘは水素原子、フッ素原子または
塩素原子を表し、Ｚはニトロ基、アミノ基、Ｃ1 〜Ｃ4
アルキルスルホニルアミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキ
ルスルホニル）アミノ基、（Ｃ2 〜Ｃ5 アルコキシカル
ボニル）アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）ア
ミノ基、（置換しても良いベンゾイル）アミノ基、（Ｃ
2〜Ｃ5アルキルカルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホ
ニル）アミノ基または（置換しても良いベンゾイル）
（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基を表し、Ｙは
フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表
し（ただし、Ｘがフッ素原子の時は、Ｙは塩素原子、臭
素原子またはヨウ素原子を表し、Ｘが塩素原子の時は、
Ｙは臭素原子またはヨウ素原子を表す。）、Ｑは水素原
子、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルコキシカルボ
ニル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）
ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロ
メチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基または
1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジ
ンジオン-3-イル基を表す（ただし、Ｚがニトロ基また
はアミノ基の時は、Ｑは（Ｃ2〜Ｃ5アルコキシカルボニ
ル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメ
チル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基または1-
アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジン
ジオン-3-イル基を表す。）。〕で表されるハロゲン化
ベンゼン化合物と、シアン化カリウム、シアン化ナトリ
ウムおよびシアン化亜鉛から選ばれる１種以上とを、金
属触媒の存在下に、反応させることを特徴とする式
（１）：
塩素原子を表し、Ｚはニトロ基、アミノ基、Ｃ1 〜Ｃ4
アルキルスルホニルアミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキ
ルスルホニル）アミノ基、（Ｃ2 〜Ｃ5 アルコキシカル
ボニル）アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）ア
ミノ基、（置換しても良いベンゾイル）アミノ基、（Ｃ
2〜Ｃ5アルキルカルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホ
ニル）アミノ基または（置換しても良いベンゾイル）
（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基を表し、Ｙは
フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表
し（ただし、Ｘがフッ素原子の時は、Ｙは塩素原子、臭
素原子またはヨウ素原子を表し、Ｘが塩素原子の時は、
Ｙは臭素原子またはヨウ素原子を表す。）、Ｑは水素原
子、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルコキシカルボ
ニル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）
ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロ
メチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基または
1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジ
ンジオン-3-イル基を表す（ただし、Ｚがニトロ基また
はアミノ基の時は、Ｑは（Ｃ2〜Ｃ5アルコキシカルボニ
ル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメ
チル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基または1-
アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジン
ジオン-3-イル基を表す。）。〕で表されるハロゲン化
ベンゼン化合物と、シアン化カリウム、シアン化ナトリ
ウムおよびシアン化亜鉛から選ばれる１種以上とを、金
属触媒の存在下に、反応させることを特徴とする式
（１）：
【０００７】
【化４】
【０００８】で表されるベンゾニトリル化合物の製造
法。
法。
【０００９】〔２〕ＺがＣ1 〜Ｃ4アルキルスルホニル
アミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルスルホニル）アミ
ノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アル
キルスルホニル）アミノ基または（置換しても良いベン
ゾイル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基を表
す上記〔１〕記載の製造法。
アミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルスルホニル）アミ
ノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アル
キルスルホニル）アミノ基または（置換しても良いベン
ゾイル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基を表
す上記〔１〕記載の製造法。
【００１０】〔３〕ＺがＣ1 〜Ｃ4アルキルスルホニル
アミノ基を表す上記〔１〕記載の製造法。
アミノ基を表す上記〔１〕記載の製造法。
【００１１】〔４〕Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔１〕記載の製造
法。
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔１〕記載の製造
法。
【００１２】〔５〕Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔２〕記載の製造
法。
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔２〕記載の製造
法。
【００１３】〔６〕Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔３〕記載の製造
法。
H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフ
ルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基
または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピ
リミジンジオン-3-イル基を表す上記〔３〕記載の製造
法。
【００１４】〔７〕金属触媒としてパラジウム、ニッケ
ルまたは白金を用いる上記〔１〕ないし〔６〕記載の製
造法。
ルまたは白金を用いる上記〔１〕ないし〔６〕記載の製
造法。
【００１５】〔８〕金属触媒としてパラジウムを用いる
上記〔１〕ないし〔６〕記載の製造法。
上記〔１〕ないし〔６〕記載の製造法。
【００１６】
〔９〕助触媒として、亜鉛、鉄、マンガ
ン、スズ、銅、マグネシウム、クロム、チタンおよびア
ルミニウムから選ばれる金属または該金属のハロゲン化
物を用いる上記〔７〕ないし〔８〕記載の製造法。
ン、スズ、銅、マグネシウム、クロム、チタンおよびア
ルミニウムから選ばれる金属または該金属のハロゲン化
物を用いる上記〔７〕ないし〔８〕記載の製造法。
【００１７】〔１０〕助触媒として、亜鉛、スズおよび
銅から選ばれる金属のハロゲン化物を用いる上記〔７〕
ないし〔８〕記載の製造法。
銅から選ばれる金属のハロゲン化物を用いる上記〔７〕
ないし〔８〕記載の製造法。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の製造法について詳
細に述べる。本発明の製造法のスキームは次の通りであ
る。
細に述べる。本発明の製造法のスキームは次の通りであ
る。
【００１９】
【化５】
【００２０】（上記スキーム中、Ｘ、Ｙ、ＺおよびＱ
は、前記と同じ意味を表す。） 本発明の製造法において、Ｚとしては、例えば、ニトロ
基、アミノ基、メチルスルホニルアミノ基、エチルスル
ホニルアミノ基、n-プロピルスルホニルアミノ基、i-プ
ロピルスルホニルアミノ基、n-ブチルスルホニルアミノ
基、i-ブチルスルホニルアミノ基、s-ブチルスルホニル
アミノ基、t-ブチルスルホニルアミノ基、ビス（メチル
スルホニル）アミノ基、ビス（エチルスルホニル）アミ
ノ基、ビス（n-プロピルスルホニル）アミノ基、ビス
（i-プロピルスルホニル）アミノ基、ビス（n-ブチルス
ルホニル）アミノ基、ビス（i-ブチルスルホニル）アミ
ノ基、ビス（s-ブチルスルホニル）アミノ基、ビス（t-
ブチルスルホニル）アミノ基、メトキシカルボニルアミ
ノ基、エトキシカルボニルアミノ基、n-プロポキシカル
ボニルアミノ基、i-プロポキシカルボニルアミノ基、n-
ブトキシカルボニルアミノ基、i-ブトキシカルボニルア
ミノ基、s-ブトキシカルボニルアミノ基、t-ブトキシカ
ルボニルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、n-ブチリルアミノ基、i-ブチリルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基、
は、前記と同じ意味を表す。） 本発明の製造法において、Ｚとしては、例えば、ニトロ
基、アミノ基、メチルスルホニルアミノ基、エチルスル
ホニルアミノ基、n-プロピルスルホニルアミノ基、i-プ
ロピルスルホニルアミノ基、n-ブチルスルホニルアミノ
基、i-ブチルスルホニルアミノ基、s-ブチルスルホニル
アミノ基、t-ブチルスルホニルアミノ基、ビス（メチル
スルホニル）アミノ基、ビス（エチルスルホニル）アミ
ノ基、ビス（n-プロピルスルホニル）アミノ基、ビス
（i-プロピルスルホニル）アミノ基、ビス（n-ブチルス
ルホニル）アミノ基、ビス（i-ブチルスルホニル）アミ
ノ基、ビス（s-ブチルスルホニル）アミノ基、ビス（t-
ブチルスルホニル）アミノ基、メトキシカルボニルアミ
ノ基、エトキシカルボニルアミノ基、n-プロポキシカル
ボニルアミノ基、i-プロポキシカルボニルアミノ基、n-
ブトキシカルボニルアミノ基、i-ブトキシカルボニルア
ミノ基、s-ブトキシカルボニルアミノ基、t-ブトキシカ
ルボニルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルア
ミノ基、n-ブチリルアミノ基、i-ブチリルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基、
【００２１】２-ブロムベンゾイルアミノ基、３-ブロム
ベンゾイルアミノ基、４-ブロムベンゾイルアミノ基、
２-クロルベンゾイルアミノ基、３-クロルベンゾイルア
ミノ基、４-クロルベンゾイルアミノ基、２-フルオロベ
ンゾイルアミノ基、３-フルオロベンゾイルアミノ基、
４-フルオロベンゾイルアミノ基、２-トルオイルアミノ
基、３-トルオイルアミノ基、４-トルオイルアミノ基、
２-エチルベンゾイルアミノ基、４-エチルベンゾイルア
ミノ基、２-i-プロピルベンゾイルアミノ基、４- i-プ
ロピルベンゾイルアミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル
アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイルアミノ基、２-メ
トキシベンゾイルアミノ基、３-メトキシベンゾイルア
ミノ基、４-メトキシベンゾイルアミノ基、２-エトキシ
ベンゾイルアミノ基、３-エトキシベンゾイルアミノ
基、４-エトキシベンゾイルアミノ基、２-i-プロピルオ
キシベンゾイルアミノ基、
ベンゾイルアミノ基、４-ブロムベンゾイルアミノ基、
２-クロルベンゾイルアミノ基、３-クロルベンゾイルア
ミノ基、４-クロルベンゾイルアミノ基、２-フルオロベ
ンゾイルアミノ基、３-フルオロベンゾイルアミノ基、
４-フルオロベンゾイルアミノ基、２-トルオイルアミノ
基、３-トルオイルアミノ基、４-トルオイルアミノ基、
２-エチルベンゾイルアミノ基、４-エチルベンゾイルア
ミノ基、２-i-プロピルベンゾイルアミノ基、４- i-プ
ロピルベンゾイルアミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル
アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイルアミノ基、２-メ
トキシベンゾイルアミノ基、３-メトキシベンゾイルア
ミノ基、４-メトキシベンゾイルアミノ基、２-エトキシ
ベンゾイルアミノ基、３-エトキシベンゾイルアミノ
基、４-エトキシベンゾイルアミノ基、２-i-プロピルオ
キシベンゾイルアミノ基、
【００２２】３- i-プロピルオキシベンゾイルアミノ
基、４- i-プロピルオキシベンゾイルアミノ基、２-n-
ブトキシベンゾイルアミノ基、３- n-ブトキシベンゾイ
ルアミノ基、４- n-ブトキシベンゾイルアミノ基、アセ
チル（メチルスルホニル）アミノ基、プロピオニル（メ
チルスルホニル）アミノ基、n-ブチリル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、i-ブチリル（メチルスルホニル）アミ
ノ基、アセチル（エチルスルホニル）アミノ基、プロピ
オニル（エチルスルホニル）アミノ基、n-ブチリル（エ
チルスルホニル）アミノ基、i-ブチリル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、アセチル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、プロピオニル（n-プロピルスルホニル）アミノ
基、n-ブチリル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、i-
ブチリル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、ベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、２-ブロムベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、３-ブロムベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、
基、４- i-プロピルオキシベンゾイルアミノ基、２-n-
ブトキシベンゾイルアミノ基、３- n-ブトキシベンゾイ
ルアミノ基、４- n-ブトキシベンゾイルアミノ基、アセ
チル（メチルスルホニル）アミノ基、プロピオニル（メ
チルスルホニル）アミノ基、n-ブチリル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、i-ブチリル（メチルスルホニル）アミ
ノ基、アセチル（エチルスルホニル）アミノ基、プロピ
オニル（エチルスルホニル）アミノ基、n-ブチリル（エ
チルスルホニル）アミノ基、i-ブチリル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、アセチル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、プロピオニル（n-プロピルスルホニル）アミノ
基、n-ブチリル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、i-
ブチリル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、ベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、２-ブロムベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、３-ブロムベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、
【００２３】４-ブロムベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、２-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、３-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、４-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル（メチルス
ルホニル）アミノ基、２-トルオイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、３-トルオイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、４-トルオイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-エチルベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、４-エチルベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-i-プロピルベンゾイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、４- i-プロピルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（メチ
ルスルホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（メ
チルスルホニル）アミノ基、
ル）アミノ基、２-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、３-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、４-クロルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル（メチルス
ルホニル）アミノ基、２-トルオイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、３-トルオイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、４-トルオイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-エチルベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、４-エチルベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-i-プロピルベンゾイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、４- i-プロピルベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（メチ
ルスルホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（メ
チルスルホニル）アミノ基、
【００２４】３-メトキシベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、４-メトキシベンゾイル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、２-エトキシベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（メチルス
ルホニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイル（メチル
スルホニル）アミノ基、２-i-プロピルオキシベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、３- i-プロピルオキ
シベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ基、４- i-プ
ロピルオキシベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-n-ブトキシベンゾイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、３- n-ブトキシベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、４- n-ブトキシベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、ベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、２-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、３-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、２-クロルベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、
ル）アミノ基、４-メトキシベンゾイル（メチルスルホ
ニル）アミノ基、２-エトキシベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（メチルス
ルホニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイル（メチル
スルホニル）アミノ基、２-i-プロピルオキシベンゾイ
ル（メチルスルホニル）アミノ基、３- i-プロピルオキ
シベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ基、４- i-プ
ロピルオキシベンゾイル（メチルスルホニル）アミノ
基、２-n-ブトキシベンゾイル（メチルスルホニル）ア
ミノ基、３- n-ブトキシベンゾイル（メチルスルホニ
ル）アミノ基、４- n-ブトキシベンゾイル（メチルスル
ホニル）アミノ基、ベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、２-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、３-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４-ブロムベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、２-クロルベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、
【００２５】３-クロルベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、４-クロルベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル（エチルス
ルホニル）アミノ基、２-トルオイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、３-トルオイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４-トルオイル（エチルスルホニル）アミノ
基、２-エチルベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、４-エチルベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、２-i-プロピルベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４- i-プロピルベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（エチ
ルスルホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（エ
チルスルホニル）アミノ基、３-メトキシベンゾイル
（エチルスルホニル）アミノ基、４-メトキシベンゾイ
ル（エチルスルホニル）アミノ基、
ル）アミノ基、４-クロルベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル（エチルス
ルホニル）アミノ基、２-トルオイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、３-トルオイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４-トルオイル（エチルスルホニル）アミノ
基、２-エチルベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、４-エチルベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、２-i-プロピルベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４- i-プロピルベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、２-tert-ブチルベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（エチ
ルスルホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（エ
チルスルホニル）アミノ基、３-メトキシベンゾイル
（エチルスルホニル）アミノ基、４-メトキシベンゾイ
ル（エチルスルホニル）アミノ基、
【００２６】２-エトキシベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、２-i-プロピルオキシベンゾイル
（エチルスルホニル）アミノ基、３-i-プロピルオキシ
ベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ基、４- i-プロ
ピルオキシベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ基、
２-n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、３- n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４- n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、ベンゾイル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、２-ブロムベンゾイル（n-プロピルスルホニ
ル）アミノ基、３-ブロムベンゾイル（n-プロピルスル
ホニル）アミノ基、４-ブロムベンゾイル（n-プロピル
スルホニル）アミノ基、２-クロルベンゾイル（n-プロ
ピルスルホニル）アミノ基、３-クロルベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、
ル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（エチルスルホ
ニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイル（エチルスル
ホニル）アミノ基、２-i-プロピルオキシベンゾイル
（エチルスルホニル）アミノ基、３-i-プロピルオキシ
ベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ基、４- i-プロ
ピルオキシベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ基、
２-n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニル）アミノ
基、３- n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニル）ア
ミノ基、４- n-ブトキシベンゾイル（エチルスルホニ
ル）アミノ基、ベンゾイル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、２-ブロムベンゾイル（n-プロピルスルホニ
ル）アミノ基、３-ブロムベンゾイル（n-プロピルスル
ホニル）アミノ基、４-ブロムベンゾイル（n-プロピル
スルホニル）アミノ基、２-クロルベンゾイル（n-プロ
ピルスルホニル）アミノ基、３-クロルベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、
【００２７】４-クロルベンゾイル（n-プロピルスルホ
ニル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（n-プロピル
スルホニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル
（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-トルオイル（n
-プロピルスルホニル）アミノ基、３-トルオイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、４-トルオイル（n-プロ
ピルスルホニル）アミノ基、２-エチルベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、４-エチルベンゾイル
（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-i-プロピルベ
ンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、４- i-プ
ロピルベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、
２-tert-ブチルベンゾイル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（n-プロピルスル
ホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（n-プロピ
ルスルホニル）アミノ基、３-メトキシベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、
ニル）アミノ基、２-フルオロベンゾイル（n-プロピル
スルホニル）アミノ基、３-フルオロベンゾイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、４-フルオロベンゾイル
（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-トルオイル（n
-プロピルスルホニル）アミノ基、３-トルオイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、４-トルオイル（n-プロ
ピルスルホニル）アミノ基、２-エチルベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、４-エチルベンゾイル
（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-i-プロピルベ
ンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、４- i-プ
ロピルベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、
２-tert-ブチルベンゾイル（n-プロピルスルホニル）ア
ミノ基、４- tert-ブチルベンゾイル（n-プロピルスル
ホニル）アミノ基、２-メトキシベンゾイル（n-プロピ
ルスルホニル）アミノ基、３-メトキシベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、
【００２８】４-メトキシベンゾイル（n-プロピルスル
ホニル）アミノ基、２-エトキシベンゾイル（n-プロピ
ルスルホニル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイ
ル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-i-プロピル
オキシベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、
３-i-プロピルオキシベンゾイル（n-プロピルスルホニ
ル）アミノ基、４- i-プロピルオキシベンゾイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、２-n-ブトキシベンゾイ
ル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、３- n-ブトキシ
ベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基および４
- n-ブトキシベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミ
ノ基等が挙げられる。この中で、好ましい置換基は、Ｃ
1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ
4 アルキルスルホニル）アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキル
カルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基
および（置換しても良いベンゾイル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキ
ルスルホニル）アミノ基であり、より好ましい置換基
は、Ｃ1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミノ基である。
ホニル）アミノ基、２-エトキシベンゾイル（n-プロピ
ルスルホニル）アミノ基、３-エトキシベンゾイル（n-
プロピルスルホニル）アミノ基、４-エトキシベンゾイ
ル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、２-i-プロピル
オキシベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、
３-i-プロピルオキシベンゾイル（n-プロピルスルホニ
ル）アミノ基、４- i-プロピルオキシベンゾイル（n-プ
ロピルスルホニル）アミノ基、２-n-ブトキシベンゾイ
ル（n-プロピルスルホニル）アミノ基、３- n-ブトキシ
ベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミノ基および４
- n-ブトキシベンゾイル（n-プロピルスルホニル）アミ
ノ基等が挙げられる。この中で、好ましい置換基は、Ｃ
1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ
4 アルキルスルホニル）アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキル
カルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基
および（置換しても良いベンゾイル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキ
ルスルホニル）アミノ基であり、より好ましい置換基
は、Ｃ1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミノ基である。
【００２９】Ｑとしては、例えば、水素原子、ニトロ
基、アミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシ
カルボニルアミノ基、n-プロポキシカルボニルアミノ
基、i-プロポキシカルボニルアミノ基、n-ブトキシカル
ボニルアミノ基、i-ブトキシカルボニルアミノ基、s-ブ
トキシカルボニルアミノ基、t-ブトキシカルボニルアミ
ノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジン
ジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4
（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基および1-アミノ-6
-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3
-イル基等が挙げられる。この中で好ましい置換基は、6
-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3
-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基および1-アミノ-6-トリ
フルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル
である。
基、アミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシ
カルボニルアミノ基、n-プロポキシカルボニルアミノ
基、i-プロポキシカルボニルアミノ基、n-ブトキシカル
ボニルアミノ基、i-ブトキシカルボニルアミノ基、s-ブ
トキシカルボニルアミノ基、t-ブトキシカルボニルアミ
ノ基、6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジン
ジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4
（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基および1-アミノ-6
-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3
-イル基等が挙げられる。この中で好ましい置換基は、6
-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3
-イル基、1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基および1-アミノ-6-トリ
フルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル
である。
【００３０】出発物質であるハロゲン化ベンゼン化合物
（１ａ）１モルに対して、シアン化カリウムまたはシア
ン化ナトリウムは、通常０．５〜１０モル、好ましくは
０．８〜３モル使用し、またシアン化亜鉛は、通常０．
２５〜１０モル、好ましくは０．４〜１．５モル使用す
る。またこれら金属シアン化物は混合物で使用してもよ
い。
（１ａ）１モルに対して、シアン化カリウムまたはシア
ン化ナトリウムは、通常０．５〜１０モル、好ましくは
０．８〜３モル使用し、またシアン化亜鉛は、通常０．
２５〜１０モル、好ましくは０．４〜１．５モル使用す
る。またこれら金属シアン化物は混合物で使用してもよ
い。
【００３１】金属触媒としては、鉄、コバルト、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、
白金およびオスミウムなどが挙げられるが、好ましくは
ニッケル、パラジウムおよび白金であり、より好ましく
はパラジウムである。具体的には、ニッケル触媒として
は、ニッケル担持シリカ、ニッケル担持アルミナおよび
ニッケル担持炭素等の担持触媒、ジクロロビス（トリフ
ェニルホスフィン）ニッケル、ジクロロ[1,2-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）エタン]ニッケル、ジクロロ[1,3-
ビス（ジフェニルホスフィノ]プロパン]ニッケル、ジク
ロロビス[1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン]ニ
ッケル、ジクロロビス[1,1'-（ジフェニルホスフィノ）
フェロセン]ニッケル、ジブロムビス（トリフェニルホ
スフィン）ニッケル、ジブロム[1,2-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）エタン]ニッケル、ジブロム[1,3-ビス（ジ
フェニルホスフィノ]プロパン]ニッケル、ジブロムビス
[1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン]ニッケル、
ジブロムビス[1,1'-（ジフェニルホスフィノ）フェロセ
ン]ニッケル、ブロムビス（トリフェニルホスフィン）
ニッケル、クロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッ
ケル、 トリス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、
ビス（トリフェニルホスフィン）ジカルボニルニッケ
ル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、
テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル、ビ
ス（シクロオクタジエン）ニッケルおよびアセチルアセ
トナートニッケル等の錯体触媒、並びに塩化ニッケル、
臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硝酸ニッケル、酢酸ニ
ッケル、酸化ニッケルおよびシアン化ニッケル等が挙げ
られる。
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、
白金およびオスミウムなどが挙げられるが、好ましくは
ニッケル、パラジウムおよび白金であり、より好ましく
はパラジウムである。具体的には、ニッケル触媒として
は、ニッケル担持シリカ、ニッケル担持アルミナおよび
ニッケル担持炭素等の担持触媒、ジクロロビス（トリフ
ェニルホスフィン）ニッケル、ジクロロ[1,2-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）エタン]ニッケル、ジクロロ[1,3-
ビス（ジフェニルホスフィノ]プロパン]ニッケル、ジク
ロロビス[1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン]ニ
ッケル、ジクロロビス[1,1'-（ジフェニルホスフィノ）
フェロセン]ニッケル、ジブロムビス（トリフェニルホ
スフィン）ニッケル、ジブロム[1,2-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）エタン]ニッケル、ジブロム[1,3-ビス（ジ
フェニルホスフィノ]プロパン]ニッケル、ジブロムビス
[1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン]ニッケル、
ジブロムビス[1,1'-（ジフェニルホスフィノ）フェロセ
ン]ニッケル、ブロムビス（トリフェニルホスフィン）
ニッケル、クロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッ
ケル、 トリス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、
ビス（トリフェニルホスフィン）ジカルボニルニッケ
ル、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、
テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル、ビ
ス（シクロオクタジエン）ニッケルおよびアセチルアセ
トナートニッケル等の錯体触媒、並びに塩化ニッケル、
臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、硝酸ニッケル、酢酸ニ
ッケル、酸化ニッケルおよびシアン化ニッケル等が挙げ
られる。
【００３２】パラジウム触媒としては、パラジウム担持
シリカ触媒、パラジウム担持アルミナ触媒およびパラジ
ウム担持炭素触媒等の担持触媒、（２，２-ビピリジ
ン）ジクロロパラジウム、ビス（アセトニトリル）パラ
ジウムクロライド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム
クロライド、ビス[１，２-ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）エタン]パラジウム、ビス[１，２-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）エタン]パラジウムクロライド、ジクロ
ロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロ
ロビス（トリメチルホスフィン）パラジウム、ジクロロ
ビス（トリブチルホスフィン）パラジウム、テトラキス
（トリエチルホスファイト）パラジウム、ビス（シクロ
オクタ-１，５-ジエン）パラジウム、テトラキス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウム、ジカルボニルビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム、カルボニルト
リス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、アセチル
アセトナトパラジウム、ジクロロ（１，５-シクロオク
タジエン）パラジウムおよびトリス（ジベンジリデンア
セトン）ジパラジウム等の錯体触媒、並びに塩化パラジ
ウム、臭化パラジウム、硝酸パラジウム、酸化パラジウ
ム、酢酸パラジウムおよびシアン化パラジウム等が挙げ
られる。
シリカ触媒、パラジウム担持アルミナ触媒およびパラジ
ウム担持炭素触媒等の担持触媒、（２，２-ビピリジ
ン）ジクロロパラジウム、ビス（アセトニトリル）パラ
ジウムクロライド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウム
クロライド、ビス[１，２-ビス（ジフェニルホスフィ
ノ）エタン]パラジウム、ビス[１，２-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）エタン]パラジウムクロライド、ジクロ
ロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ジクロ
ロビス（トリメチルホスフィン）パラジウム、ジクロロ
ビス（トリブチルホスフィン）パラジウム、テトラキス
（トリエチルホスファイト）パラジウム、ビス（シクロ
オクタ-１，５-ジエン）パラジウム、テトラキス（トリ
フェニルホスフィン）パラジウム、ジカルボニルビス
（トリフェニルホスフィン）パラジウム、カルボニルト
リス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、アセチル
アセトナトパラジウム、ジクロロ（１，５-シクロオク
タジエン）パラジウムおよびトリス（ジベンジリデンア
セトン）ジパラジウム等の錯体触媒、並びに塩化パラジ
ウム、臭化パラジウム、硝酸パラジウム、酸化パラジウ
ム、酢酸パラジウムおよびシアン化パラジウム等が挙げ
られる。
【００３３】白金触媒としては、白金担持シリカ触媒、
白金担持アルミナ触媒および白金担持炭素触媒等の担持
触媒、ビス（アセトニトリル）ジクロロ白金、ビス（ベ
ンゾニトリル）ジクロロ白金、ジクロロビス（トリフェ
ニルホスフィン）白金、ジクロロビス（トリメチルホス
フィン）白金、ジクロロビス（トリブチルホスフィン）
白金、テトラキス（トリフェニルホスフィン）白金、テ
トラキス（トリフェニルホスファイト）白金、トリス
（トリフェニルホスフィン）白金、ジカルボニルビス
（トリフェニルホスフィン）白金、ビス（トリフェニル
ホスフィン）（エチレン）白金、カルボニルトリス（ト
リフェニルホスフィン）白金、ビス（１，５-シクロオ
クタジエン）白金、（１，５-シクロオクタジエン）ジ
クロロ白金および（１，５-シクロオクタジエン）ジブ
ロモ白金等の錯体触媒、並びに塩化白金、臭化白金、ヨ
ウ化白金および酸化白金等が挙げられる。
白金担持アルミナ触媒および白金担持炭素触媒等の担持
触媒、ビス（アセトニトリル）ジクロロ白金、ビス（ベ
ンゾニトリル）ジクロロ白金、ジクロロビス（トリフェ
ニルホスフィン）白金、ジクロロビス（トリメチルホス
フィン）白金、ジクロロビス（トリブチルホスフィン）
白金、テトラキス（トリフェニルホスフィン）白金、テ
トラキス（トリフェニルホスファイト）白金、トリス
（トリフェニルホスフィン）白金、ジカルボニルビス
（トリフェニルホスフィン）白金、ビス（トリフェニル
ホスフィン）（エチレン）白金、カルボニルトリス（ト
リフェニルホスフィン）白金、ビス（１，５-シクロオ
クタジエン）白金、（１，５-シクロオクタジエン）ジ
クロロ白金および（１，５-シクロオクタジエン）ジブ
ロモ白金等の錯体触媒、並びに塩化白金、臭化白金、ヨ
ウ化白金および酸化白金等が挙げられる。
【００３４】以上述べた触媒はそれぞれ単独でも複数組
み合わせて使用しても良い。
み合わせて使用しても良い。
【００３５】上記触媒の使用量としては、一般式（1a）
に対して通常０．０００１〜１００モル％の範囲、好ま
しくは０．０１〜５０モル％の範囲が良い。
に対して通常０．０００１〜１００モル％の範囲、好ま
しくは０．０１〜５０モル％の範囲が良い。
【００３６】上記金属触媒は必要に応じ、配位子を添加
し触媒の安定化および活性化を行なうこともできる。
し触媒の安定化および活性化を行なうこともできる。
【００３７】配位子としては以下のものが挙げられる。
単座または多座の３級ホスフィン類としては、1,1-ビス
（ジメチルホスフィノ）メタン、1,1-ビス（ジエチルホ
スフィノ）メタン、1,2-ビス（ジメチルホスフィノ）エ
タン、1,2-ジエチルホスフィノ）エタン、1,3-ビス（ジ
メチルホスフィノ）プロパンおよび1,4-ビス（ジメチル
ホスフィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィノ）
アルカン類、1,1-ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、
１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、1,5-ビス
（ジフェニルホスフィノ）ペンタンおよび1,6-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ヘキサン等のビス（ジフェニルホ
スフィノ）アルカン類、並びに1,1'-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）フェロセン、トリス（３−スルホナ−トフ
ェニル）ホスフィンナトリウム塩、ビス（ジフェニルホ
スフィノ）ビナフチル、トリメチルホスフィン、トリエ
チルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニル
ホスフィン、トリス（パラトリル）ホスフィン、トリス
（パラフルオロフェニル）ホスフィン、トリス（２，６
−ジメチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィ
ノベンゼン−３−スルホン酸ナトリウム、ビス（３−ス
ルホナ−トフェニル）ホスフィノベンゼンナトリウム
塩、17-ジフェニルホスフィノ-2,5,8,11,14-ペンタオキ
サビシクロ-[13.4.0]-ノナデカ-15,17,19-トリエンおよ
び20-ジフェニルホスフィノ-2,5,8,11,14,17-ヘキサオ
キサビシクロ-[16.4.0]-ドコサ-18,20,22-トリエン等が
挙げられる。
単座または多座の３級ホスフィン類としては、1,1-ビス
（ジメチルホスフィノ）メタン、1,1-ビス（ジエチルホ
スフィノ）メタン、1,2-ビス（ジメチルホスフィノ）エ
タン、1,2-ジエチルホスフィノ）エタン、1,3-ビス（ジ
メチルホスフィノ）プロパンおよび1,4-ビス（ジメチル
ホスフィノ）ブタン等のビス（ジアルキルホスフィノ）
アルカン類、1,1-ビス（ジフェニルホスフィノ）メタ
ン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、
１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，
４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、1,5-ビス
（ジフェニルホスフィノ）ペンタンおよび1,6-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ヘキサン等のビス（ジフェニルホ
スフィノ）アルカン類、並びに1,1'-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）フェロセン、トリス（３−スルホナ−トフ
ェニル）ホスフィンナトリウム塩、ビス（ジフェニルホ
スフィノ）ビナフチル、トリメチルホスフィン、トリエ
チルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニル
ホスフィン、トリス（パラトリル）ホスフィン、トリス
（パラフルオロフェニル）ホスフィン、トリス（２，６
−ジメチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィ
ノベンゼン−３−スルホン酸ナトリウム、ビス（３−ス
ルホナ−トフェニル）ホスフィノベンゼンナトリウム
塩、17-ジフェニルホスフィノ-2,5,8,11,14-ペンタオキ
サビシクロ-[13.4.0]-ノナデカ-15,17,19-トリエンおよ
び20-ジフェニルホスフィノ-2,5,8,11,14,17-ヘキサオ
キサビシクロ-[16.4.0]-ドコサ-18,20,22-トリエン等が
挙げられる。
【００３８】その他の配位子としては、トリエチルホス
ファイト、トリブチルホスファイト、トリフェニルホス
ファイトおよびトリス（２，６−ジメチルフェニル）ホ
スファイト等の亜リン酸エステル類、トリフェニルメチ
ルホスホニウムヨージド、トリフェニルメチルホスホニ
ウムブロミド、トリフェニルメチルホスホニウムクロラ
イド、トリフェニルアリルホスホニウムヨージド、トリ
フェニルアリルホスホニウムブロミド、トリフェニルア
リルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニ
ウムヨージド、テトラフェニルホスホニウムブロミドお
よびテトラフェニルホスホニウムクロライド等のホスホ
ニウム塩類、リン酸トリフェニル、リン酸トリメチル、
リン酸トリエチルおよびリン酸トリアリル等のリン酸エ
ステル類、トリフェニルホスフィンオキサイドおよびジ
フェニルメチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオ
キサイド類、トリフェニルホスフィンスルフィドおよび
ジフェニルメチルホスフィンスルフィド等のホスフィン
スルフィド類、シクロオクタジエンおよびシクロペンタ
ジエン等の不飽和炭化水素類、ベンゾニトリル、アセト
ニトリル等のニトリル類、2,2'-ビピリジン、１，１０-
フェナントロリンおよび８-ヒドロキシキノリン等のピ
リジン類縁体類、並びにアセチルアセトン等が挙げられ
る。
ファイト、トリブチルホスファイト、トリフェニルホス
ファイトおよびトリス（２，６−ジメチルフェニル）ホ
スファイト等の亜リン酸エステル類、トリフェニルメチ
ルホスホニウムヨージド、トリフェニルメチルホスホニ
ウムブロミド、トリフェニルメチルホスホニウムクロラ
イド、トリフェニルアリルホスホニウムヨージド、トリ
フェニルアリルホスホニウムブロミド、トリフェニルア
リルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニ
ウムヨージド、テトラフェニルホスホニウムブロミドお
よびテトラフェニルホスホニウムクロライド等のホスホ
ニウム塩類、リン酸トリフェニル、リン酸トリメチル、
リン酸トリエチルおよびリン酸トリアリル等のリン酸エ
ステル類、トリフェニルホスフィンオキサイドおよびジ
フェニルメチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオ
キサイド類、トリフェニルホスフィンスルフィドおよび
ジフェニルメチルホスフィンスルフィド等のホスフィン
スルフィド類、シクロオクタジエンおよびシクロペンタ
ジエン等の不飽和炭化水素類、ベンゾニトリル、アセト
ニトリル等のニトリル類、2,2'-ビピリジン、１，１０-
フェナントロリンおよび８-ヒドロキシキノリン等のピ
リジン類縁体類、並びにアセチルアセトン等が挙げられ
る。
【００３９】配位子の使用量としては、上記金属触媒に
対して、通常０〜１００００モル％の範囲、好ましくは
０〜１０００モル％の範囲が良い。
対して、通常０〜１００００モル％の範囲、好ましくは
０〜１０００モル％の範囲が良い。
【００４０】また、本発明はこれら金属触媒類及びホス
フィン類とを組み合わせて用いるか、反応系にそれぞれ
単独で添加しても良く、予め錯体の形に調整して使用し
ても良い。
フィン類とを組み合わせて用いるか、反応系にそれぞれ
単独で添加しても良く、予め錯体の形に調整して使用し
ても良い。
【００４１】２価の金属錯体を０価の錯体に還元するの
には、亜鉛、スズ、マンガン、マグネシウム、コバル
ト、鉄粉末や、第一鉄塩、第一スズ塩、第一マンガン
塩、第一コバルト塩、蟻酸、シュウ酸さらにはこれらの
混合物や合金粉末、またエチルマグネシウムブロミドな
どのグリニア試薬、ブチルリチウムなどのアルキルリチ
ウム試薬、水素化ホウ素ナトリウムなどの水素化金属試
薬、および電解還元を使うことができる。
には、亜鉛、スズ、マンガン、マグネシウム、コバル
ト、鉄粉末や、第一鉄塩、第一スズ塩、第一マンガン
塩、第一コバルト塩、蟻酸、シュウ酸さらにはこれらの
混合物や合金粉末、またエチルマグネシウムブロミドな
どのグリニア試薬、ブチルリチウムなどのアルキルリチ
ウム試薬、水素化ホウ素ナトリウムなどの水素化金属試
薬、および電解還元を使うことができる。
【００４２】本発明の製造法で用いる有機溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロホルムおよび塩化メチ
レン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルおよび
プロピオニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルエ
チルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンおよびジメトキシエタン等のエーテル類、ピリジン、
5-エチル-2-メチルピリジン、キノリンおよびＮ、Ｎ’
ージメチルアニリン等の第三級アミン類、Ｎ、Ｎ’ージ
メチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ’ージメチルホルムアミ
ド、Ｎーメチルピロリドンおよびテトラメチルウレア等
の酸アミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン
等の含硫黄化合物、並びにヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の燐化合物等が挙げられ、それらを２種類以
上混合して用いてもよい。
は、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびクロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロホルムおよび塩化メチ
レン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルおよび
プロピオニトリル等のニトリル類、アセトン、メチルエ
チルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン
類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ンおよびジメトキシエタン等のエーテル類、ピリジン、
5-エチル-2-メチルピリジン、キノリンおよびＮ、Ｎ’
ージメチルアニリン等の第三級アミン類、Ｎ、Ｎ’ージ
メチルアセトアミド、Ｎ、Ｎ’ージメチルホルムアミ
ド、Ｎーメチルピロリドンおよびテトラメチルウレア等
の酸アミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン
等の含硫黄化合物、並びにヘキサメチルホスホリックト
リアミド等の燐化合物等が挙げられ、それらを２種類以
上混合して用いてもよい。
【００４３】また、より反応を円滑に進行させるために
助触媒を併用することが効果的である。助触媒として塩
化銅（l）、臭化銅（I）、ヨウ化銅（l）、塩化銅（l
l）、酸化銅（ll）、硫酸銅（ll）、シアン化銅（l）、
銅粉末、塩化亜鉛（ll）、臭化亜鉛（ll）、ヨウ化亜鉛
（ll）、シアン化亜鉛（ll）、亜鉛粉末、塩化スズ（l
l）、臭化スズ（ll）、ヨウ化スズ（ll）、スズ粉末、
酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、塩化鉄(II)、塩
化鉄(III)、鉄粉末、塩化マグネシウム(II)、塩化クロ
ム(II)、塩化マンガン(II)、酢酸鉛(IV)、塩化チタン(I
V)、ヘキサクロロ白金(IV)酸カリウムおよびヘキサシア
ノ鉄(III)酸カリウム等の金属塩、18-クラウン-6-エー
テル、15-クラウン-5-エーテルおよびジシクロヘキシル
-18-クラウン-6-エーテル等のクラウンエーテル類、並
びに四塩化ケイ素が挙げられ、場合によっては反応系内
にヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化カリウム
および臭化カリウムなどを加えても良い。この中で好ま
しい助触媒は、亜鉛、鉄、マンガン、スズ、銅、マグネ
シウム、クロム、チタンおよびアルミニウムから選ばれ
る金属のハロゲン化物であり、より好ましい助触媒は、
亜鉛、スズおよび銅から選ばれる金属のハロゲン化物で
ある。助触媒の添加量は、金属触媒に対して通常０〜１
００００モル％の範囲、好ましくは、０〜５００モル％
の範囲がよい。
助触媒を併用することが効果的である。助触媒として塩
化銅（l）、臭化銅（I）、ヨウ化銅（l）、塩化銅（l
l）、酸化銅（ll）、硫酸銅（ll）、シアン化銅（l）、
銅粉末、塩化亜鉛（ll）、臭化亜鉛（ll）、ヨウ化亜鉛
（ll）、シアン化亜鉛（ll）、亜鉛粉末、塩化スズ（l
l）、臭化スズ（ll）、ヨウ化スズ（ll）、スズ粉末、
酸化アルミニウム、塩化アルミニウム、塩化鉄(II)、塩
化鉄(III)、鉄粉末、塩化マグネシウム(II)、塩化クロ
ム(II)、塩化マンガン(II)、酢酸鉛(IV)、塩化チタン(I
V)、ヘキサクロロ白金(IV)酸カリウムおよびヘキサシア
ノ鉄(III)酸カリウム等の金属塩、18-クラウン-6-エー
テル、15-クラウン-5-エーテルおよびジシクロヘキシル
-18-クラウン-6-エーテル等のクラウンエーテル類、並
びに四塩化ケイ素が挙げられ、場合によっては反応系内
にヨウ化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化カリウム
および臭化カリウムなどを加えても良い。この中で好ま
しい助触媒は、亜鉛、鉄、マンガン、スズ、銅、マグネ
シウム、クロム、チタンおよびアルミニウムから選ばれ
る金属のハロゲン化物であり、より好ましい助触媒は、
亜鉛、スズおよび銅から選ばれる金属のハロゲン化物で
ある。助触媒の添加量は、金属触媒に対して通常０〜１
００００モル％の範囲、好ましくは、０〜５００モル％
の範囲がよい。
【００４４】反応温度は、通常室温から３００度、好ま
しくは５０〜２００度、または溶媒の還流温度で行われ
る。反応時間は、通常３０分〜７２時間、好ましくは１
〜２４時間を要する。
しくは５０〜２００度、または溶媒の還流温度で行われ
る。反応時間は、通常３０分〜７２時間、好ましくは１
〜２４時間を要する。
【００４５】
【実施例】以下に本発明の製造法を実施例として具体的
に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００４６】実施例における反応スキームを以下に示
す。
す。
【００４７】
【化６】
【００４８】[実施例1]3-(4-シアノ-5-エチルスルホニ
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン1.2g(2.5ミリモル)とシアン化ナトリ
ウム0.15g、塩化亜鉛0.04gを5-エチル-2-ピコリン5mlに
加え、アルゴン雰囲気下120℃1時間撹拌した。次に、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.6gを加え
10時間加熱撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフ
ィにて内標法により定量したところ、90%の収率で目的
化合物が得られていた。
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン1.2g(2.5ミリモル)とシアン化ナトリ
ウム0.15g、塩化亜鉛0.04gを5-エチル-2-ピコリン5mlに
加え、アルゴン雰囲気下120℃1時間撹拌した。次に、テ
トラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.6gを加え
10時間加熱撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフ
ィにて内標法により定量したところ、90%の収率で目的
化合物が得られていた。
【００４９】[実施例6]3-(4-シアノ-5-エチルスルホニ
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン1.2g(2.5ミリモル)と55%油性水素化ナ
トリウム0.11gを5-エチル-2-ピコリン20gに加え30分室
温で撹拌した。次に、塩化銅(II)0.07gとシアン化ナト
リウム0.15gを加え、アルゴン雰囲気下140℃1時間撹拌
した。さらに、テトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム0.3gを加え3時間加熱撹拌した。反応終了後、液
体クロマトグラフィにて相対面積値として79%の目的化
合物を検出した。
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン1.2g(2.5ミリモル)と55%油性水素化ナ
トリウム0.11gを5-エチル-2-ピコリン20gに加え30分室
温で撹拌した。次に、塩化銅(II)0.07gとシアン化ナト
リウム0.15gを加え、アルゴン雰囲気下140℃1時間撹拌
した。さらに、テトラキストリフェニルホスフィンパラ
ジウム0.3gを加え3時間加熱撹拌した。反応終了後、液
体クロマトグラフィにて相対面積値として79%の目的化
合物を検出した。
【００５０】[実施例7]3-(4-シアノ-5-エチルスルホニ
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン0.5g(1.0ミリモル)を5-エチル-2-ピコ
リン10mlに溶かし、氷冷下で水素化ナトリウム0.04gを
加え５分間撹拌した。その後、酢酸パラジウム0.04g、
1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン0.16gを加え
アルゴン雰囲気下で90度、１時間撹拌した。放冷後、塩
化亜鉛0.03g、シアン化ナトリウム0.06g加え、さらに4
時間撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフィにて
相対面積値として61%の目的化合物を検出した。
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン0.5g(1.0ミリモル)を5-エチル-2-ピコ
リン10mlに溶かし、氷冷下で水素化ナトリウム0.04gを
加え５分間撹拌した。その後、酢酸パラジウム0.04g、
1,4-ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン0.16gを加え
アルゴン雰囲気下で90度、１時間撹拌した。放冷後、塩
化亜鉛0.03g、シアン化ナトリウム0.06g加え、さらに4
時間撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフィにて
相対面積値として61%の目的化合物を検出した。
【００５１】[実施例9]3-(4-シアノ-5-エチルスルホニ
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン2.0g(4.2ミリモル)とシアン化亜鉛0.3
g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.5g
を5-エチル-2-ピコリン10gに加え、アルゴン雰囲気下80
℃3.5時間撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフ
ィにて相対面積値として94%の目的化合物を検出した。
ルアミノ-2-フルオロフェニル)-1-メチル-6-トリフルオ
ロメチル-2,4(1H, 3H)ピリミジンジオン(化合物No.1)の
製法 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフ
ェニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2,4(1H, 3H)
ピリミジンジオン2.0g(4.2ミリモル)とシアン化亜鉛0.3
g、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム0.5g
を5-エチル-2-ピコリン10gに加え、アルゴン雰囲気下80
℃3.5時間撹拌した。反応終了後、液体クロマトグラフ
ィにて相対面積値として94%の目的化合物を検出した。
【００５２】第２表に、その他の実施例を、前記実施例
を含めて示した。なお、実施例1〜9の全てにおいて、ベ
ンゼン環の２位がシアノ化された化合物は、殆ど検出さ
れなかった。
を含めて示した。なお、実施例1〜9の全てにおいて、ベ
ンゼン環の２位がシアノ化された化合物は、殆ど検出さ
れなかった。
【００５３】第１表に、第２表で用いる略号および用語
の意味を示す。
の意味を示す。
【００５４】
【表１】 第１表 ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 略号または用語 意味 ――――――――――――――――――――――――――――――――――― 基質１ 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフェ ニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2, 4(1H, 3H)ピリ ミジンジオン 基質１−Ｎａ 3-(4-ブロモ-5-エチルスルホニルアミノ-2-フルオロフェ ニル)-1-メチル-6-トリフルオロメチル-2, 4(1H, 3H)ピリ ミジンジオンナトリウム塩 ｄｐｐｅ 1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン ＭＥＰ 5-エチル-2-ピコリン ＤＭＦ N,N-ジメチルホルムアミドシアノ 化剤の配合量 基質に対するシアノ化剤の当量 触媒の配合量 基質に対する触媒の当量 助触媒の配合量 基質に対する助触媒の当量 溶媒の配合量 基質１重量部に対する溶媒の重量部 ―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００５５】
【表２】
【００５６】
【発明の効果】本発明の製造法により、除草剤またはそ
の中間体として有用なベンゾニトリル化合物を高収率で
得ることができる。
の中間体として有用なベンゾニトリル化合物を高収率で
得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 31/28 Ｂ０１Ｊ 31/28 Ｚ 31/30 31/30 Ｚ Ｃ０７Ｃ 311/08 Ｃ０７Ｃ 311/08 Ｃ０７Ｄ 239/54 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｄ 239/54 Ｚ Ｆターム(参考） 4G069 AA02 AA03 AA06 BA27A BA27B BB02A BB02B BB08A BB08B BC10A BC16A BC22A BC22B BC31A BC31B BC35A BC35B BC50A BC58A BC62A BC66A BC68A BC72A BC72B BC75A BE08B BE26B BE37B CB76 4H006 AA02 AB04 BA05 BA07 BA11 BA21 BA25 BA26 4H011 AB01 4H039 CA70 CD20 CD90
Claims (10)
- 【請求項１】 式（１ａ）： 【化１】 〔式中、Ｘは水素原子、フッ素原子または塩素原子を表
し、 Ｚはニトロ基、アミノ基、Ｃ1 〜Ｃ4アルキルスルホニ
ルアミノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルスルホニル）ア
ミノ基、（Ｃ2 〜Ｃ5 アルコキシカルボニル）アミノ
基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）アミノ基、（置換
しても良いベンゾイル）アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキル
カルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基
または（置換しても良いベンゾイル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキ
ルスルホニル）アミノ基を表し、 Ｙはフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子
を表し（ただし、Ｘがフッ素原子の時は、Ｙは塩素原
子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｘが塩素原子の
時は、Ｙは臭素原子またはヨウ素原子を表す。）、 Ｑは水素原子、ニトロ基、アミノ基、（Ｃ2〜Ｃ5アルコ
キシカルボニル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4
（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-ト
リフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イ
ル基または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基を表す（ただし、Ｚがニ
トロ基またはアミノ基の時は、Ｑは（Ｃ2〜Ｃ5アルコキ
シカルボニル）アミノ基、6-トリフルオロメチル-2,4
（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-ト
リフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イ
ル基または1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基を表す。）。〕で表され
るハロゲン化ベンゼン化合物と、シアン化カリウム、シ
アン化ナトリウムおよびシアン化亜鉛から選ばれる１種
以上とを、金属触媒の存在下に、反応させることを特徴
とする式（１）： 【化２】 で表されるベンゾニトリル化合物の製造法。 - 【請求項２】 ＺがＣ1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミ
ノ基、ビス（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルスルホニル）アミノ
基、（Ｃ2〜Ｃ5アルキルカルボニル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキ
ルスルホニル）アミノ基または（置換しても良いベンゾ
イル）（Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル）アミノ基を表す
請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 ＺがＣ1 〜Ｃ4アルキルスルホニルアミ
ノ基を表す請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】 Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフル
オロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基ま
たは1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリ
ミジンジオン-3-イル基を表す請求項１記載の製造法。 - 【請求項５】 Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフル
オロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基ま
たは1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリ
ミジンジオン-3-イル基を表す請求項２記載の製造法。 - 【請求項６】 Ｑが6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3
H）ピリミジンジオン-3-イル基、1-メチル-6-トリフル
オロメチル-2,4（1H,3H）ピリミジンジオン-3-イル基ま
たは1-アミノ-6-トリフルオロメチル-2,4（1H,3H）ピリ
ミジンジオン-3-イル基を表す請求項３記載の製造法。 - 【請求項７】 金属触媒としてパラジウム、ニッケルま
たは白金を用いる請求項１ないし６記載の製造法。 - 【請求項８】 金属触媒としてパラジウムを用いる請求
項１ないし６記載の製造法。 - 【請求項９】 助触媒として、亜鉛、鉄、マンガン、ス
ズ、銅、マグネシウム、クロム、チタンおよびアルミニ
ウムから選ばれる金属または該金属のハロゲン化物を用
いる請求項７ないし８記載の製造法。 - 【請求項１０】 助触媒として、亜鉛、スズおよび銅か
ら選ばれる金属のハロゲン化物を用いる請求項７ないし
８記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000083421A JP2000344732A (ja) | 1999-03-29 | 2000-03-24 | ベンゾニトリル化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8623099 | 1999-03-29 | ||
| JP11-86230 | 1999-03-29 | ||
| JP2000083421A JP2000344732A (ja) | 1999-03-29 | 2000-03-24 | ベンゾニトリル化合物の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000344732A true JP2000344732A (ja) | 2000-12-12 |
Family
ID=26427387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000083421A Pending JP2000344732A (ja) | 1999-03-29 | 2000-03-24 | ベンゾニトリル化合物の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000344732A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008063336A (ja) * | 2006-09-09 | 2008-03-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族またはヘテロ芳香族ニトリルを触媒的に調製するための方法 |
| JP2008189656A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-08-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族または複素芳香族ニトリルを触媒的に製造する方法 |
| JP2010512316A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ２−アミノ−５−シアノ安息香酸誘導体を調製するためのプロセス |
-
2000
- 2000-03-24 JP JP2000083421A patent/JP2000344732A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008063336A (ja) * | 2006-09-09 | 2008-03-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族またはヘテロ芳香族ニトリルを触媒的に調製するための方法 |
| JP2008189656A (ja) * | 2006-11-29 | 2008-08-21 | Saltigo Gmbh | 芳香族または複素芳香族ニトリルを触媒的に製造する方法 |
| JP2010512316A (ja) * | 2006-12-06 | 2010-04-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | ２−アミノ−５−シアノ安息香酸誘導体を調製するためのプロセス |
| US8748630B2 (en) | 2006-12-06 | 2014-06-10 | E I Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing 2-amino-5-cyanobenzoic acid derivatives |
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