JP2000338496A - 液晶表示素子の作製方法 - Google Patents
液晶表示素子の作製方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 生産性を向上させ、製造コストの安価な液晶
表示素子の作製方法を提供する。 【解決手段】 大型液晶表示基板３Ａ上に複数の液晶表
示部１３をマトリクス状に形成し、かつ各液晶表示部１
３の周縁部に一部を開口させた液晶注入口７を有するシ
ール材パターン６を液晶注入口７が列方向又は行方向に
揃うようにして形成し、この上から大型透明電極基板４
Ａをシール材パターン６を介して貼り合わせ、この後、
列方向又は行方向の各液晶注入口７に沿って切断して、
液晶セルバー１６を作製する。更に、この液晶セルバー
１６の各液晶注入口７から液晶層５を同時に注入する。
表示素子の作製方法を提供する。 【解決手段】 大型液晶表示基板３Ａ上に複数の液晶表
示部１３をマトリクス状に形成し、かつ各液晶表示部１
３の周縁部に一部を開口させた液晶注入口７を有するシ
ール材パターン６を液晶注入口７が列方向又は行方向に
揃うようにして形成し、この上から大型透明電極基板４
Ａをシール材パターン６を介して貼り合わせ、この後、
列方向又は行方向の各液晶注入口７に沿って切断して、
液晶セルバー１６を作製する。更に、この液晶セルバー
１６の各液晶注入口７から液晶層５を同時に注入する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の作
製方法に関するものである。
製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、一般的な液晶表示素子を示す断
面図である。図５中、（Ａ）は液晶表示素子の側面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図である。
図５（Ａ）に示すように、液晶表示素子１は液晶セル２
とこの液晶セル２中に充填された液晶層５とからなる。
液晶セル２は、一定の間隙で貼り合わせた液晶表示基板
３と、透明電極基板４とからなる。液晶表示基板３上に
は、矩形状の画素電極領域８と図示しない外部回路と接
続する中継端子１０とからなる液晶表示部１３が形成さ
れている。液晶表示基板３と透明電極基板４との貼り合
わせは、画素電極領域８の周縁部に枠状に形成されるシ
ール材パターン６によって行われる。
面図である。図５中、（Ａ）は液晶表示素子の側面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図である。
図５（Ａ）に示すように、液晶表示素子１は液晶セル２
とこの液晶セル２中に充填された液晶層５とからなる。
液晶セル２は、一定の間隙で貼り合わせた液晶表示基板
３と、透明電極基板４とからなる。液晶表示基板３上に
は、矩形状の画素電極領域８と図示しない外部回路と接
続する中継端子１０とからなる液晶表示部１３が形成さ
れている。液晶表示基板３と透明電極基板４との貼り合
わせは、画素電極領域８の周縁部に枠状に形成されるシ
ール材パターン６によって行われる。
【０００３】図５（Ｂ）に示すように、シール材パター
ン６は、画素電極領域８の三辺の周縁部に形成されると
共に、残りの一辺に対しては端縁より内側の辺に沿って
形成され、その途中に開口部である液晶注入口７が設け
られる。なお、液晶表示基板３上の破線で囲んだ矩形領
域は、表示部に相当する画素電極領域８である。液晶層
５は、液晶注入口７からシール材パターン６内に注入さ
れるが、この液晶注入口７には液晶層５を封止するため
の封止材９が形成されている。
ン６は、画素電極領域８の三辺の周縁部に形成されると
共に、残りの一辺に対しては端縁より内側の辺に沿って
形成され、その途中に開口部である液晶注入口７が設け
られる。なお、液晶表示基板３上の破線で囲んだ矩形領
域は、表示部に相当する画素電極領域８である。液晶層
５は、液晶注入口７からシール材パターン６内に注入さ
れるが、この液晶注入口７には液晶層５を封止するため
の封止材９が形成されている。
【０００４】次に、この液晶表示素子の作製方法につい
て図６乃至図８を用いて説明する。図６は、従来の液晶
表示素子の作製方法の第１工程を示す図である。図６
中、（Ａ）は大型液晶表示基板の平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図である。図７は、
従来の液晶表示素子の作製方法の第２工程を示す図であ
る。図７中、（Ａ）は大型透明電極基板側から見た平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図であ
る。図８は、従来の液晶表示素子の作製方法の第３工程
を示す図である。図８中、（Ａ）は液晶セルの側面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た平面図である。
ここでは、４個の液晶表示素子を作製する場合について
説明するが、これ以上の場合についても同様である。
て図６乃至図８を用いて説明する。図６は、従来の液晶
表示素子の作製方法の第１工程を示す図である。図６
中、（Ａ）は大型液晶表示基板の平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図である。図７は、
従来の液晶表示素子の作製方法の第２工程を示す図であ
る。図７中、（Ａ）は大型透明電極基板側から見た平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図であ
る。図８は、従来の液晶表示素子の作製方法の第３工程
を示す図である。図８中、（Ａ）は液晶セルの側面図、
（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た平面図である。
ここでは、４個の液晶表示素子を作製する場合について
説明するが、これ以上の場合についても同様である。
【０００５】（第１工程）図６（Ａ）及び（Ｂ）に示す
ように、円板状の大型液晶表示基板３Ａ上に複数の画素
電極領域８、８、８、８と中継端子１０、１０、１０、
１０とからなる液晶表示部１３、１３、１３、１３を所
定ピッチでマトリクス状に形成した後、この液晶表示基
板３上にシール材を塗布する。次に、このシール材上に
図示しないフォトレジストパターンを形成し、フォトリ
ソグラフィ法及びエッチング法を用いて、画素電極領域
８、８、８、８を取り囲み、一部を開口させた液晶注入
口７、７、７、７を有する複数のシール材パターン６、
６、６、６を、この液晶注入口７、７、７、７が同一方
向を向くように形成する。
ように、円板状の大型液晶表示基板３Ａ上に複数の画素
電極領域８、８、８、８と中継端子１０、１０、１０、
１０とからなる液晶表示部１３、１３、１３、１３を所
定ピッチでマトリクス状に形成した後、この液晶表示基
板３上にシール材を塗布する。次に、このシール材上に
図示しないフォトレジストパターンを形成し、フォトリ
ソグラフィ法及びエッチング法を用いて、画素電極領域
８、８、８、８を取り囲み、一部を開口させた液晶注入
口７、７、７、７を有する複数のシール材パターン６、
６、６、６を、この液晶注入口７、７、７、７が同一方
向を向くように形成する。
【０００６】（第２工程）次に、図７（Ａ）及び（Ｂ）
に示すように、大型透明電極基板４Ａを大型液晶表示基
板３Ａ上に載置し、大型透明電極基板４Ａと大型液晶表
示基板３Ａとの位置合わせを行った後、大型透明電極基
板４Ａ側から加圧し、この大型透明電極基板４Ａを大型
液晶表示基板３Ａと共に硬化させて一体化する。
に示すように、大型透明電極基板４Ａを大型液晶表示基
板３Ａ上に載置し、大型透明電極基板４Ａと大型液晶表
示基板３Ａとの位置合わせを行った後、大型透明電極基
板４Ａ側から加圧し、この大型透明電極基板４Ａを大型
液晶表示基板３Ａと共に硬化させて一体化する。
【０００７】（第３工程）次に、図８（Ａ）及び（Ｂ）
に示すように、液晶表示部１３、１３、１３、１３をマ
トリクス状に完全切断して、シール材パターン６を介し
て一定の間隙で貼り合わせた液晶表示基板３と、透明電
極基板４とからなる液晶セル２を作製する。
に示すように、液晶表示部１３、１３、１３、１３をマ
トリクス状に完全切断して、シール材パターン６を介し
て一定の間隙で貼り合わせた液晶表示基板３と、透明電
極基板４とからなる液晶セル２を作製する。
【０００８】（第４工程）この後、液晶セル２の液晶注
入口７から液晶層５を注入した後、液晶注入口７を封止
材９で封止する。次に、中継端子１０を露出させるよう
に、液晶表示基板３と透明電極基板４とを相対的にずら
して図５に示す液晶表示素子１を作製する。
入口７から液晶層５を注入した後、液晶注入口７を封止
材９で封止する。次に、中継端子１０を露出させるよう
に、液晶表示基板３と透明電極基板４とを相対的にずら
して図５に示す液晶表示素子１を作製する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶表示素子の作製方法は以下の問題点を有していた。
（第３工程）に示すように、液晶セル２への液晶層５の
注入は、液晶層５を注入する度に液晶セル２を図示しな
い固定冶具に固定して行う必要があるので、大幅な時間
を要し、生産性が悪く、液晶表示素子１の製造コストが
高かった。そこで、本発明は上記問題に鑑みて成された
ものであり、生産性を向上させ、製造コストの安価な液
晶表示素子の作製方法を提供することを目的とする。
液晶表示素子の作製方法は以下の問題点を有していた。
（第３工程）に示すように、液晶セル２への液晶層５の
注入は、液晶層５を注入する度に液晶セル２を図示しな
い固定冶具に固定して行う必要があるので、大幅な時間
を要し、生産性が悪く、液晶表示素子１の製造コストが
高かった。そこで、本発明は上記問題に鑑みて成された
ものであり、生産性を向上させ、製造コストの安価な液
晶表示素子の作製方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示素子の
作製方法において、大型液晶表示基板上に複数の液晶表
示部をマトリクス状に形成し、かつ各液晶表示部の周縁
部に一部を開口させた液晶注入口を有するシール材パタ
ーンを前記液晶注入口が列方向又は行方向に揃うように
して形成し、この上から大型透明電極基板を前記複数の
シール材パターンを介して貼り合わせ、この後、列方向
又は行方向の各晶注入口に沿って切断して、液晶セルバ
ーを作製することを特徴とする。第２の発明は、請求項
１記載の液晶表示素子の作製方法において、前記液晶セ
ルバーの各液晶注入口から液晶層を同時に注入して作製
することを特徴とする。
作製方法において、大型液晶表示基板上に複数の液晶表
示部をマトリクス状に形成し、かつ各液晶表示部の周縁
部に一部を開口させた液晶注入口を有するシール材パタ
ーンを前記液晶注入口が列方向又は行方向に揃うように
して形成し、この上から大型透明電極基板を前記複数の
シール材パターンを介して貼り合わせ、この後、列方向
又は行方向の各晶注入口に沿って切断して、液晶セルバ
ーを作製することを特徴とする。第２の発明は、請求項
１記載の液晶表示素子の作製方法において、前記液晶セ
ルバーの各液晶注入口から液晶層を同時に注入して作製
することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態について以下図
を参照しながら説明する。図１は、本発明の液晶表示素
子の作製方法の第１工程を示す工程図である。図１中、
（Ａ）は大型液晶表示基板の平面図、（Ｂ）は（Ａ）の
矢印ＭＭ方向から見た断面図である。図２は、本発明の
液晶表示素子の作製方法の第２工程を示す工程図であ
る。図２中、（Ａ）は大型透明電極基板側から見た平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図であ
る。図３は、本発明の液晶表示素子の作製方法の第３工
程を示す工程図である。図３中、（Ａ）は大型透明電極
基板側から見た平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向
から見た断面図である。図４は、本発明の液晶表示素子
の作製方法の第４工程を示す工程図である。図４中、
（Ａ）は液晶セルバーの平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印
ＭＭ方向から見た側面図である。従来技術と同一構成に
は同一符号を付し、その説明を省略する。ここでは、従
来技術と同様に４個の液晶表示素子を作製する場合につ
いて説明するが、これ以上の場合についても同様であ
る。
を参照しながら説明する。図１は、本発明の液晶表示素
子の作製方法の第１工程を示す工程図である。図１中、
（Ａ）は大型液晶表示基板の平面図、（Ｂ）は（Ａ）の
矢印ＭＭ方向から見た断面図である。図２は、本発明の
液晶表示素子の作製方法の第２工程を示す工程図であ
る。図２中、（Ａ）は大型透明電極基板側から見た平面
図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向から見た断面図であ
る。図３は、本発明の液晶表示素子の作製方法の第３工
程を示す工程図である。図３中、（Ａ）は大型透明電極
基板側から見た平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印ＭＭ方向
から見た断面図である。図４は、本発明の液晶表示素子
の作製方法の第４工程を示す工程図である。図４中、
（Ａ）は液晶セルバーの平面図、（Ｂ）は（Ａ）の矢印
ＭＭ方向から見た側面図である。従来技術と同一構成に
は同一符号を付し、その説明を省略する。ここでは、従
来技術と同様に４個の液晶表示素子を作製する場合につ
いて説明するが、これ以上の場合についても同様であ
る。
【００１２】（第１工程）図１（Ａ）及び（Ｂ）に示す
ように、円板状の大型液晶表示基板３Ａ上に複数の画素
電極領域８、８、８、８と中継端子１０、１０、１０、
１０とからなる液晶表部１３、１３、１３、１３を所定
ピッチでマトリクス状に形成した後、この液晶表示基板
３上にシール材を塗布する。次に、このシール材上に図
示しないフォトレジストパターンを形成し、フォトリソ
グラフィ法及びエッチング法を用いて、画素電極領域
８、８、８、８を取り囲み、一部を開口させた液晶注入
口７、７、７、７を有する複数のシール材パターン６、
６、６、６を、この液晶注入口７、７、７、７が同一方
向を向くように形成する。また、大型液晶表示基板３Ａ
の周縁部に開口部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１Ａを有
する周縁部シール材パターン１１を形成する。更に、周
縁部シール材パターン１１が形成されている以外の大型
液晶表示基板３Ａの周縁部にアライメントマーク１
２1、１２2を形成する。
ように、円板状の大型液晶表示基板３Ａ上に複数の画素
電極領域８、８、８、８と中継端子１０、１０、１０、
１０とからなる液晶表部１３、１３、１３、１３を所定
ピッチでマトリクス状に形成した後、この液晶表示基板
３上にシール材を塗布する。次に、このシール材上に図
示しないフォトレジストパターンを形成し、フォトリソ
グラフィ法及びエッチング法を用いて、画素電極領域
８、８、８、８を取り囲み、一部を開口させた液晶注入
口７、７、７、７を有する複数のシール材パターン６、
６、６、６を、この液晶注入口７、７、７、７が同一方
向を向くように形成する。また、大型液晶表示基板３Ａ
の周縁部に開口部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１Ａを有
する周縁部シール材パターン１１を形成する。更に、周
縁部シール材パターン１１が形成されている以外の大型
液晶表示基板３Ａの周縁部にアライメントマーク１
２1、１２2を形成する。
【００１３】（第２工程）次に、大型透明電極基板４Ａ
上に大型液晶表示基板３Ａのアライメントマーク１
２1、１２2と位置合わせできるアラメントマーク１
４1、１４2を作製する。この後、図２に示すように、大
型液晶表示基板３Ａのアライメントマーク１２ 1、１２2
と大型透明電極基板４Ａのアラメントマーク１４1、１
４2とを位置合わせするようにして、大型透明電極基板
４Ａを大型液晶表示基板３Ａ上に載置する。次に、大型
透明電極基板４Ａ側から加圧して、大型透明電極基板４
Ａを大型液晶表示基板３Ａと共に硬化して一体化する。
上に大型液晶表示基板３Ａのアライメントマーク１
２1、１２2と位置合わせできるアラメントマーク１
４1、１４2を作製する。この後、図２に示すように、大
型液晶表示基板３Ａのアライメントマーク１２ 1、１２2
と大型透明電極基板４Ａのアラメントマーク１４1、１
４2とを位置合わせするようにして、大型透明電極基板
４Ａを大型液晶表示基板３Ａ上に載置する。次に、大型
透明電極基板４Ａ側から加圧して、大型透明電極基板４
Ａを大型液晶表示基板３Ａと共に硬化して一体化する。
【００１４】この際、大型液晶表示基板３Ａには、開口
部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１Ａを有する周縁部シー
ル材パターン１１が形成されているので、大型液晶表示
基板３Ａと大型透明電極基板４Ａとの間隙に閉じ込めら
れる空気は、この開口部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１
Ａを介して外部に排出することができる。このため、大
型液晶表示基板３Ａと大型透明電極基板４Ａとの間隙の
厚さを均一にできる。
部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１Ａを有する周縁部シー
ル材パターン１１が形成されているので、大型液晶表示
基板３Ａと大型透明電極基板４Ａとの間隙に閉じ込めら
れる空気は、この開口部１１Ａ、１１Ａ、１１Ａ、１１
Ａを介して外部に排出することができる。このため、大
型液晶表示基板３Ａと大型透明電極基板４Ａとの間隙の
厚さを均一にできる。
【００１５】（第３工程）更に、図３に示すように、周
縁部シール材パターン１１の開口部１１Ａ、１１Ａ、１
１Ａ、１１Ａに対応する一体化した大型液晶表示基板３
と大型透明電極基板４Ａとの側部に封止材１５、１５、
１５、１５を接着し加熱及び硬化する。このようにし
て、後述する一体化した大型液晶表示基板３Ａと大型透
明電極基板４Ａとを図示しないダイサー等で切断する際
に用いられる水や切りクズが大型液晶表示基板３Ａと大
型透明電極基板４Ａとの間に混入しないようにする。
縁部シール材パターン１１の開口部１１Ａ、１１Ａ、１
１Ａ、１１Ａに対応する一体化した大型液晶表示基板３
と大型透明電極基板４Ａとの側部に封止材１５、１５、
１５、１５を接着し加熱及び硬化する。このようにし
て、後述する一体化した大型液晶表示基板３Ａと大型透
明電極基板４Ａとを図示しないダイサー等で切断する際
に用いられる水や切りクズが大型液晶表示基板３Ａと大
型透明電極基板４Ａとの間に混入しないようにする。
【００１６】（第４工程）次に、図示しないスクライバ
ーを用いて、液晶注入口７、７の注入方向に、大型透明
電極基板４Ａにスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、Ｓ1を、大型液
晶表示基板３Ａにこのスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、Ｓ1に対
応するスクライブ傷Ｓ2、Ｓ2、Ｓ2を形成し、図示しな
い劈開装置を用いて、これらのスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、
Ｓ1、Ｓ2、Ｓ 2、Ｓ2から一体化した大型液晶表示基板３
Ａと大型透明電極基板４Ａを劈開して、図４に示す液晶
注入口７、７を露出させた液晶セルバー１６を作製す
る。なお、液晶セルバー１６の作製は、水等を用いるダ
イサーを用いて作製してもよい。ダイサーは被加工物を
精度良く切ることができるので、液晶セルバー１６の形
状に精度が必要である場合に好都合である。
ーを用いて、液晶注入口７、７の注入方向に、大型透明
電極基板４Ａにスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、Ｓ1を、大型液
晶表示基板３Ａにこのスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、Ｓ1に対
応するスクライブ傷Ｓ2、Ｓ2、Ｓ2を形成し、図示しな
い劈開装置を用いて、これらのスクライブ傷Ｓ1、Ｓ1、
Ｓ1、Ｓ2、Ｓ 2、Ｓ2から一体化した大型液晶表示基板３
Ａと大型透明電極基板４Ａを劈開して、図４に示す液晶
注入口７、７を露出させた液晶セルバー１６を作製す
る。なお、液晶セルバー１６の作製は、水等を用いるダ
イサーを用いて作製してもよい。ダイサーは被加工物を
精度良く切ることができるので、液晶セルバー１６の形
状に精度が必要である場合に好都合である。
【００１７】（第５工程）次に、図４に示すように、液
晶セルバー１６の複数の液晶注入口７、７を下方に向
け、この液晶注入口７、７から液晶層５を同時に注入す
る。更に、この液晶注入口７、７を封止材９で封止した
後、大型透明電極基板４Ａ側から液晶表示部１３、１３
のピッチで大型液晶表示基板３Ａに達するまで切断して
中継端子１０を露出させる。次に、大型液晶表示基板３
Ａ側から液晶表示部１３、１３のピッチで大型透明電極
基板４Ａに達するまで切断する。こうして、図５に示す
液晶表示素子１を作製する。
晶セルバー１６の複数の液晶注入口７、７を下方に向
け、この液晶注入口７、７から液晶層５を同時に注入す
る。更に、この液晶注入口７、７を封止材９で封止した
後、大型透明電極基板４Ａ側から液晶表示部１３、１３
のピッチで大型液晶表示基板３Ａに達するまで切断して
中継端子１０を露出させる。次に、大型液晶表示基板３
Ａ側から液晶表示部１３、１３のピッチで大型透明電極
基板４Ａに達するまで切断する。こうして、図５に示す
液晶表示素子１を作製する。
【００１８】以上のように、液晶注入口７、７が露出し
た液晶セルバー１６を形成した後、この液晶注入口７、
７から液晶層５を同時に注入して液晶表示素子１を作製
するので、液晶層５の注入を液晶セルバー１６毎にでき
るため、生産性が向上し、製造コストを低減することが
できる。
た液晶セルバー１６を形成した後、この液晶注入口７、
７から液晶層５を同時に注入して液晶表示素子１を作製
するので、液晶層５の注入を液晶セルバー１６毎にでき
るため、生産性が向上し、製造コストを低減することが
できる。
【００１９】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子の作製方法によれ
ば、液晶セルバーを作製した後、この液晶セルバーの各
液晶注入口から液晶層を同時に注入して液晶表示素子を
作製するので、液晶層の注入を液晶セルバー毎にできる
ため、生産性が向上し、製造コストを低減することがで
きる。
ば、液晶セルバーを作製した後、この液晶セルバーの各
液晶注入口から液晶層を同時に注入して液晶表示素子を
作製するので、液晶層の注入を液晶セルバー毎にできる
ため、生産性が向上し、製造コストを低減することがで
きる。
【図１】本発明の液晶表示素子の作製方法の第１工程を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図２】本発明の液晶表示素子の作製方法の第２工程を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図３】本発明の液晶表示素子の作製方法の第３工程を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図４】本発明の液晶表示素子の作製方法の第４工程を
示す工程図である。
示す工程図である。
【図５】一般的な液晶表示素子を示す断面図である。
【図６】従来の液晶表示素子の作製方法の第１工程を示
す図である。
す図である。
【図７】従来の液晶表示素子の作製方法の第２工程を示
す図である。
す図である。
【図８】従来の液晶表示素子の作製方法の第３工程を示
す図である。
す図である。
１…液晶表示素子、２…液晶セル、３…液晶表示基板、
３Ａ…大型液晶表示基板、４…透明電極基板、４Ａ…大
型透明電極基板、５…液晶層、６…シール材パターン、
７…液晶注入口、８…画素電極領域、９、１５…封止
材、１０…中継端子、１１…周縁部シール材パターン、
１２1、１２2、１４1、１４2…アライメントマーク、１
３…液晶表示部、１６…液晶セルバー
３Ａ…大型液晶表示基板、４…透明電極基板、４Ａ…大
型透明電極基板、５…液晶層、６…シール材パターン、
７…液晶注入口、８…画素電極領域、９、１５…封止
材、１０…中継端子、１１…周縁部シール材パターン、
１２1、１２2、１４1、１４2…アライメントマーク、１
３…液晶表示部、１６…液晶セルバー
Claims (2)
- 【請求項１】大型液晶表示基板上に複数の液晶表示部を
マトリクス状に形成し、かつ各液晶表示部の周縁部に一
部を開口させた液晶注入口を有するシール材パターンを
前記液晶注入口が列方向又は行方向に揃うようにして形
成し、この上から大型透明電極基板を前記複数のシール
材パターンを介して貼り合わせ、この後、列方向又は行
方向の各晶注入口に沿って切断して、液晶セルバーを作
製することを特徴とする液晶表示素子の作製方法。 - 【請求項２】前記液晶セルバーの各液晶注入口から液晶
層を同時に注入して作製することを特徴とする請求項１
記載の液晶表示素子の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14623799A JP2000338496A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 液晶表示素子の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14623799A JP2000338496A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 液晶表示素子の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000338496A true JP2000338496A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15403213
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14623799A Pending JP2000338496A (ja) | 1999-05-26 | 1999-05-26 | 液晶表示素子の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000338496A (ja) |
-
1999
- 1999-05-26 JP JP14623799A patent/JP2000338496A/ja active Pending
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