JP2000329932A - 干渉フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラー製品の色情報の再現性を向上させる。 【解決手段】 光軸に平行した光の入射に対し、波長域
４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性が、最大値を
１．００としたとき、波長域５１９〜５２８ｎｍおよび
６６０〜６７３ｎｍにおいて０．１０、波長域５３３〜
５４２ｎｍおよび６４５〜６５７ｎｍにおいて０．２
５、波長域５５２〜５６２ｎｍおよび６３０〜６４２ｎ
ｍにおいて０．５０、波長域５６８〜５７８ｎｍおよび
６１６〜６２８ｎｍにおいて０．７５、波長域５９１〜
６０４ｎｍにおいて１．００で構成されるＸＹＺ表色系
における被測定光のＸ成分を透過するフィルターとす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー製品におい
て色情報を再現するために使用される干渉フィルターに
関する。

【０００２】

【従来の技術】従前より、ＲＧＢの３色を用いたＲＧＢ
表色系によって色を再現することが行われてきた。この
表色系は、カラーテレビ色再現を目的とした用途に多く
用いられるものであり、青反射ダイクロイックミラーや
赤反射ダイクロイックミラーを使用するため、顔料を用
いたものに比べて光量損失の少ない光学ユニットを構成
できるメリットがある。

【０００３】しかしながら、ＲＧＢ表色系は負の波長領
域を有しているため、色評価を行う上で計算上の不都合
を生じ、誤った色座標となる危険性がある。このため、
現在では、ＲＧＢ表色系に代えて、負の領域が存在しな
い正の領域だけの座標空間を有したＸＹＺ表色系を用い
て色評価を行っている。このＸＹＺ表色系は、ＲＧＢ表
色系から数学的に導出された数字によって色を評価する
ものである。図１９は横軸を波長、縦軸を波長４００〜
７００ｎｍにおける最大透過率を１００としたときの各
波長毎の透過比率をプロットしたＸ，Ｙ，Ｚの等色関数
を示すものである。

【０００４】特開平６−２８１５０２号公報には、ＲＧ
Ｂ表色系及びＸＹＺ表色系間の変換をなくし、ＸＹＺ表
色系で直接に測定する従来の方法が記載されている。図
２０はこの方法に用いられる３色分解光学ユニットを示
し、被測定光１００はＺ成分反射分離ダイクロイックミ
ラー１１０で５００ｎｍ以下のＺ波長成分が分離され、
この分離されたＺ波長成分は固定撮像素子（ＣＣＤ）１
２０へ照射されて測定される。また、５００ｎｍ以上の
波長成分の光はハーフミラー１３０によって２等分さ
れ、Ｙ成分帯域透過フィルター１４０、Ｘ成分帯域透過
フィルター１５０によってＹ成分波長及びＸ成分波長に
分離されてＣＣＤ１６０，１７０へ照射され、それぞれ
のＣＣＤ１６０，１７０で測定される。

【０００５】このような方法では、３色を同時に取り込
むことができるため、動画の記録に有効となっている。
また、静止画を記録するためには、図１９のＸ，Ｙ，Ｚ
の特性関数を有したフィルターを用いることにより３色
を順番に記録することにより対応することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法では、Ｘ，Ｙ，Ｚの特性を有した干渉フィ
ルターを用いてそれぞれのＣＣＤに対向させて、例えば
静止画を得ようとするときには、各Ｘ，Ｙ，Ｚの特性の
干渉フィルターを透過した光が各ＣＣＤの感度によって
特性が変化し、これにより色バランスが低下する不具合
が生じる。このため、図１９に示すＸ，Ｙ，Ｚの透過率
特性を有した干渉フィルターでは、色再現性が不十分で
あり、実用性にかける問題を有している。

【０００７】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、良好な色再現性を行うことが
できる光学特性に優れた干渉フィルターを提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、光軸に平行した光の入射に対
し、波長域４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性
が、最大値を１．００としたとき、波長域５１９〜５２
８ｎｍおよび６６０〜６７３ｎｍにおいて０．１０、波
長域５３３〜５４２ｎｍおよび６４５〜６５７ｎｍにお
いて０．２５、波長域５５２〜５６２ｎｍおよび６３０
〜６４２ｎｍにおいて０．５０、波長域５６８〜５７８
ｎｍおよび６１６〜６２８ｎｍにおいて０．７５、波長
域５９１〜６０４ｎｍにおいて１．００で構成されるＸ
ＹＺ表色系における被測定光のＸ成分を透過することを
特徴とする。

【０００９】請求項２の発明は、光軸に平行した光の入
射に対し、波長域４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過
特性が、最大値を１．００としたとき、波長域４３５〜
４４２ｎｍおよび６５１〜６６４ｎｍにおいて０．１
０、波長域４６９〜４７７ｎｍおよび６２９〜６４３ｎ
ｍにおいて０．２５、波長域４９８〜５０７ｎｍおよび
６１０〜６２３ｎｍにおいて０．５０、波長域５１９〜
５２９ｎｍおよび５９１〜６０３ｎｍ において０．７
５、波長域５５３〜５６７ｎｍにおいて１．００で構成
されるＸＹＺ表色系における被測定光のＹ成分を透過す
ることを特徴とする。

【００１０】請求項３の発明は、光軸に平行した光の入
射に対し、波長域４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過
特性が、最大値を１．００としたとき、波長域３９６〜
４０３ｎｍおよび４９１〜５０１ｎｍにおいて０．１
０、波長域４０５〜４１１ｎｍおよび４７７〜４８７ｎ
ｍにおいて０．２５、波長域４１４〜４２１ｎｍおよび
４６６〜４７５ｎｍにおいて０．５０、波長域４２３〜
４２９ｎｍおよび４５６〜４６５ｎｍにおいて０．７
５、波長域４３８〜４４６ｎｍにおいて１．００で構成
されるＸＹＺ表色系における被測定光のＺ成分を透過す
ることを特徴とする。

【００１１】以上の請求項１〜３の発明におけるＸ，
Ｙ，Ｚ成分の各干渉フィルターは、ＲＧＢ系から導かれ
るＸＹＺ系の等色関数を再現しており、このため優れた
光学特性となる。また、光源によって映し出された被写
体について、例えば、静止画を記録して色再現する場
合、Ｘ，Ｙ，Ｚの各干渉フィルターは図２に示す感度特
性を有したＣＣＤに基づいてＸ，Ｙ，Ｚ特性が決定され
る。かかるＸ，Ｙ，Ｚ特性を有した干渉フィルターを用
いてＸＹＺ表色系においてデータの取り込みをすること
により、性の座標上での評価を行うことができる。

【００１２】これらの発明では、データ処理上、Ｘ，
Ｙ，Ｚについて個別に調整することができるため、取り
込んだデータを取り込んだ環境と異なる環境下で呼び出
した場合、その環境下に合わせた色補正が容易となる。
例えば、図１に示す光源３０を備えた環境下Ａで図２に
示す感度特性を有したＣＣＤカメラ３１により指標とす
るカラーチャートと被対象物３２の画像とを、Ｘ，Ｙ，
Ｚそれぞれの光学特性を有した干渉フィルターを順次、
通過させてデータを取り込む。

【００１３】ここで、ＣＣＤカメラ３１は図５に示すよ
うに、フィルター保持具３５と、ＣＣＤ３４とをハウジ
ング３１ａ内に有している。フィルター保持具３５は図
６に示すように、垂直入射において図４に示した光学特
性のＸフィルター３６，Ｙフィルター３７、Ｚフィルタ
ー３８を有している。図４は図２に示すＣＣＤの感度特
性から導かれるＸ，Ｙ，Ｚそれぞれのフィルター３６，
３７，３８の光学特性を示すものである。

【００１４】なお、フィルター保持具３５はモータ３９
に連結されており、モータ３９の駆動によって各フィル
ター３６，３７，３８が順次、レンズ群４０に臨むよう
に間欠回転する。被対象物からの光は各フィルター３
６，３７，３８を通った後、ＣＣＤ３４に入射する。そ
して、ＣＣＤ３４からデータ処理コンピュータ４９に取
り込まれて処理が行われる。

【００１５】図３は環境下Ａとは異なった環境下Ｂを示
し、この環境下Ｂでは環境下Ａの光源３１とは異なった
光源３３が設けられている。この環境下Ｂで、指標とす
るカラーチャートについて取り込んだデータを元に補正
を行った後、被対象物３２の画像を示すことにより、コ
ンピュータ３４上でデータの色再現を容易に、且つ正確
に行うことができる。

【００１６】図４は以上の発明に用いられる干渉フィル
ターの透過率特性を示す。図１９に示す特性関数を有し
たフィルターの内、Ｘフィルターでは、４４０ｎｍ付近
と６００ｎｍ付近にピークを有した透過帯となっている
が、４４０ｎｍ付近の透過帯は、Ｚフィルターでまかな
うことができる。このため、図４では、それぞれ１つず
つピークを有したＸ，Ｙ，Ｚフィルターの特性とするも
のである。

【００１７】図７は以上の発明に用いることができるＣ
ＣＤカメラ３１の別の構成を示す。このＣＣＤカメラ３
１では、ハウジング３１ａ内にＸフィルター４３、Ｙフ
ィルター４４及びＺフィルター４５が固定的に設けられ
ていると共に、各フィルター４３，４４，４５にはＣＣ
Ｄ４６，４７，４８がそれぞれ対応するように配置され
ている。このＣＣＤカメラ３１では、レンズ群４０を透
過した被対象物からの光がそれぞれのフィルター４３，
４４，４５に入射し、各フィルター４３，４４，４５を
透過した光がそれぞれのＣＣＤ４６，４７，４８に入射
した後、ＣＣＤ４６，４７，４８からデータ処理コンピ
ュータ４９に取り込まれる。このような構造では、Ｘ，
Ｙ，Ｚそれぞれのフィルター４３，４４，４５を光が同
時に透過するため、動画に対する対応が可能となる。

【００１８】次に、請求項４の発明は、波長λ＝５００
ｎｍでの屈折率ｎが、２．３３０≦ｎ≦２．３８０であ
る高屈折率材料層及び１．４５５≦ｎ≦１．４６５の低
屈折率材料層を交互に積層した多層膜により構成され、
Ｈを高屈折率材料、Ｌを低屈折率材料とし、λ＝５００
ｎｍ、光学式膜厚λ／４を１としたとき、ＸＹＺ表色系
において基板表面側から空気側へ、順に膜厚が０．９１
１Ｈ／０．８７４Ｌ／０．４３９Ｈ（／０．８８３Ｌ／
０．９７８Ｈ）×６／１．２６０Ｌ／０．４７０Ｈ／
１．８０６Ｌとなる１８層の膜構成を有するフィルター
と、基板表面側から空気側へ、順に膜厚が０．８０１Ｈ
／２．４１４Ｌ／１．５８５Ｈ（／１．５０１Ｌ／１．
５１６Ｈ）×５／１．５６２Ｌ／１．６３２Ｈ／０．８
９２Ｌとなる１６層の膜構成を有するフィルターとから
なり、波長域４００ｎｍ〜４６０ｎｍでの透過率Ｔ＜
０．１％、波長域５００ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率Ｔ
＞９０％となっている被測定光のＸ成分を波長域４００
ｎｍ〜７００ｎｍにおいて透過することを特徴とする。

【００１９】請求項５の発明は、波長λ＝５００ｎｍで
の屈折率ｎが、１．５５０≦ｎ≦２．０００の中間屈折
率材料層を基板側の１層目に設け、２層目以降を２．３
３０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率材料層及び１．４５５
≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層を交互に積層した多
層膜により構成され、Ｍを中間屈折率材料、Ｈを高屈折
率材料、Ｌを低屈折率材料とし、λ＝５００ｎｍ、光学
式膜厚λ／４を１としたとき、ＸＹＺ表色系において、
基板表面側から空気側へ、順に膜厚が１Ｍ／２．１３０
Ｈ／２．１３７Ｌ（／０．８１０Ｈ／０．８０７Ｌ）×
３／０．９２４Ｈ／１．３６６Ｌとなる１１層の膜構成
を有するフィルターと、基板表面側から空気側へ、順に
膜厚が０．３０８Ｈ／２．１４５Ｌ／２．００４Ｈ
（１．３９６Ｌ／１．４７４Ｈ）×４／１．６１５Ｌ／
１．５１８Ｈ／０．９２４Ｌとなる１４層の膜構成を有
するフィルターとからなり、被測定光のＹ成分を波長域
４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて透過することを特徴と
する。

【００２０】請求項６の発明は、波長λ＝５００ｎｍで
の屈折率ｎが、２．３３０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率
材料層及び１．４５５≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料
層を交互に積層した多層膜により構成され、Ｈを高屈折
率材料、Ｌを低屈折率材料とし、λ＝５００ｎｍ、光学
式膜厚λ／４を１としたとき、ＸＹＺ表色系において、
基板表面側から空気側へ、順に膜厚が１．４１３Ｈ／
１．２６７Ｌ／０．８３３Ｈ／１．２５９Ｌ／１．２２
２Ｈ／１．０５６Ｌ／０．７７４Ｈ／１．１６５Ｌ／
０．５４４Ｈ／１．８６６Ｌ／０．８５３Ｈ／０．９４
５Ｌ／０．９１２Ｈ／０．３６５Ｌ／０．３０４Ｈ／
２．０２２Ｌとなる１６層の膜構成を有し、波長域４０
０ｎｍ〜４２０ｎｍでの透過率Ｔ＞８５％、波長域４２
０ｎｍ〜５００ｎｍでの透過率Ｔ＞９０％、波長域５７
０ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率Ｔ＜ ０．１％となって
いる被測定光のＺ成分を波長域４００ｎｍ〜７００ｎｍ
において透過することを特徴とする。

【００２１】このような請求項４〜６の発明では、各々
の透過帯をになうフィルターと、不要な波長域をカット
すると共に各々の透過帯を損なうことなく透過するフィ
ルターとを組み合わせることで構成される。この場合、
透過帯を損なうことなく透過するにあたって、全体の透
過光量を下げることがないようにＴ＜９０％としてい
る。なお、請求項４〜６に記載するフィルターの膜厚
は、基本膜厚であり、中間屈折率材料の膜厚は、波長を
λとし、光学式膜厚λ／４を１としたとき、０．０から
０．７の範囲内であれば問題ないものである。また、高
屈折率材料、低屈折率材料の公差として、記載された各
膜厚に対し、±１．０％の許容範囲内であれば、光学特
性上の問題はなく、±０．５％の許容範囲内であれば、
光学特性上さらに好ましい。真空蒸着による多層膜の形
成の際の成膜の複数回繰り返しのばらつきがこれらの範
囲内となるものであり、この範囲内であれば、光学特性
上の問題が生じることがない。

【００２２】（ ）で囲まれた膜の繰り返しについて
は、繰り返しの中で分割されてもよく、Ｈを高屈折率材
料、Ｌを低屈折率材料とし、ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、及びｕ
_１、ｕ_２、ｕ_３を正数とした場合、例えば、（ｔ_１Ｈ／
ｕ_１Ｌ）×５としたとき、（ｔ_１Ｈ／ｕ_１Ｌ）×２／
（ｔ_２／ｕ_２Ｌ）×１／（ｔ_３Ｈ／ｕ_３Ｌ）×２であっ
ても良く、この場合には、ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３及びｕ_１、
ｕ_２、ｕ_３がそれぞれ異なっていても良い。

【００２３】なお、レーザーカットフィルターの成膜
は、真空蒸着法に代えてイオンアシスト法やスパッタリ
ング法などを用いることができる。この成膜では、λ＝
７５０ｎｍでの屈折率が、中間屈折率材料層で１．５５
０≦ｎ≦２．０００、高屈折率材料層で２．２１０≦ｎ
≦２．３００、低屈折率材料層で１．４５０≦ｎ≦１．
４７０の範囲内であれば、何ら制限はない。また、中間
屈折率材料としては、ＡＬ_２０_３およびＡＬ_２０_３とＬ
ａの混合物、高屈折率材料としてはＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ
_５、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３、低屈折率材料としてはＳｉ
Ｏ_２などでもよい。

【００２４】

【発明の実施の形態】（実施の形態１）この実施の形態
では、対向した平面が平行のガラス基板Ｓ−ＢＳＬ７
（外径２８ｍｍ、厚さ１．０ｍｍ）の一方の平面上に、
第１のフィルターを成膜によって形成すると共に、他方
の平面上に第２のフィルターを成膜によって形成して第
１の光学部品とした。成膜は真空蒸着によって行った。

【００２５】第１のフィルターは屈折率をｎとしたと
き、２．３３０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率材料層
（Ｈ）をＴｉＯ_２の高屈折率材料を用い、１．４５５≦
ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層（Ｌ）をＳｉＯ_２の低
屈折率材料を用いて成膜される。この第１のフィルター
は、波長λ＝５００ｍｍ、光学式膜厚λ／４を１とした
とき、基板側から順に膜厚が、０．９１１Ｈ／０．８７
４Ｌ／０．４３９Ｈ（／０．８８３Ｌ／０．９７８Ｈ）
×６／１．２６０Ｌ／０．４７０Ｈ／１．８０６Ｌの計
１８層の膜構成となっている。なお、膜構成における
（／０．８８３Ｌ／０．９７８Ｈ）×６は（／０．８８
３Ｌ／０．９７８Ｈ）の膜厚を６回繰り返すことを示し
ており、この表現は以下についても同様である。

【００２６】第２のフィルターはガラス基板の他方の平
面に対して、基板側から順に膜厚が、０．８０１Ｈ／
２．４１４Ｌ／１．５８５Ｈ（／１．５０Ｌ／１．５１
６Ｈ）×５／１．５６２Ｌ／１．６３２Ｈ／０．８９２
Ｌの計１６層の膜構成となっている。

【００２７】次に、第１の光学部品と同じガラス基板の
片面に対して、第３のフィルターを真空蒸着によって成
膜して第２の光学部品を形成した。この第３のフィルタ
ーは高屈折率材料としてＴｉＯ_２を、低屈折材料として
ＳｉＯ_２を用いて成膜され、基板側から空気側に向かっ
て膜厚が順に、０．５Ｈ／０．５Ｌ／０．９Ｈ／０．７
２Ｌ／０．７２Ｌ（／０．８Ｌ／０．８Ｈ）×１１／
０．７５Ｌ／０．７Ｈ／１．０Ｌ／０．７Ｈ／１．４Ｌ
の計３２層の膜構成となるように行う。この第３のフィ
ルターは、波長域４００ｎｍ〜４６０ｎｍにおいて透過
率Ｔ＜０．１％で且つ、波長域５００ｎｍ〜７００ｎｍ
において透過率Ｔ＞９０％を満たしている。

【００２８】図９は以上の成膜を行う成膜装置を示す。
この成膜装置は、排気系としてのロータリーポンプ１１
及び拡散ポンプ１２が接続された成膜チャンバー１０を
備えている。成膜チャンバー１０内には、電子銃１５，
１６と、電子銃１５，１６のそれぞれに隣接する材料ハ
ース２４，２５と、電子銃１５，１６上で開閉自在とな
っているシャッター１７，１８とが設けられている。材
料ハース２４，２５には、成膜材料１３，１４が充填さ
れる。この実施の形態における成膜材料１３はＳｉＯ_２
であり、成膜材料１４はＴｉＯ_２である。

【００２９】成膜チャンバー１０内の上部には、低速回
転可能なドーム２３が配置されており、このドーム２３
に基板ホルダー２２が取り付けられている。また、ドー
ム２３の中央部分には、膜厚監視を行う監視用ガラス２
０が配置されており、この監視用ガラス２０上の反射率
の変化を反射式光学監視系１９が監視して、監視用ガラ
ス２０の反射率の変化からガラス基板２１に成膜した膜
厚を監視するようになっている。

【００３０】この装置では、成膜面が下向きになるよう
ガラス基板２１を基板ホルダー２２にセットし、この基
板ホルダー２２を成膜時に１５ｒｐｍで回転するドーム
２３にセットする。成膜チャンバー１０内をロータリー
ポンプ１１と拡散ポンプ１２により、所定の雰囲気
（２．６×１０^−３Ｐａ）にした後、１．３×１０^−２
Ｐａまで不図示の酸素ガス導入系により酸素を導入し、
成膜材料（ＴｉＯ_２）１４用の電子銃１６の電流値を上
げ、その後、シャッター１８を開けてＴｉＯ_２を成膜す
る。

【００３１】この成膜を反射式膜厚監視計１９が監視
し、所定の膜厚に達した時点でシャッター１８を閉じて
ガラス基板２１に成膜する材料を遮り、電流値を下げ
る。

【００３２】次に成膜材料（ＳｉＯ_２）１３用の電子銃
１５の電流値を上げた後、シャッター１７を開けてＳｉ
Ｏ_２を成膜する。このときも同様に反射式膜厚監視計１
９で監視を行い、所定の膜厚に達した時点でシャッター
１７を閉じてガラス基板２１に成膜する材料を遮り、電
流値を下げる。以上の作動を交互に繰り返して上述した
層数の多層膜をガラス基板２１上に形成する。

【００３３】なお、高屈折率材料１４が充填されている
材料ハース２５としては、複数の充填部を備えると共
に、図示を省略した回転手段によって回転可能となって
おり、その回転によって、例えば、Ａｌ_２Ｏ_３及びＴｉ
Ｏ_２を交互に成膜するように構成することも可能であ
る。

【００３４】以上のようにしてフィルターが成膜された
第１の光学部品及び第２の光学部品を平行に組み合わせ
て干渉フィルターを作製した。図８はこの干渉フィルタ
ー５０を示し、第１の光学部品５の両面には、後述した
膜構成の第１のフィルター５３，５４が形成されてお
り、第２の光学部品５２の片面には、第３のフィルター
５５が形成されている。干渉フィルター５０は第１及び
第２の光学部品５１，５２の間に空気層５６が存在する
ように光学部品５１，５２の間にスペーサ５７を介在さ
せた状態で、内径２８ｍｍの内枠リング５８に落とし込
み、さらに外枠リング５９で押圧しながら内枠リング５
８及び外枠リング５９を接着することによって形成され
る。このときの光学的有効径は直径２６ｍｍである。

【００３５】かかる干渉フィルター５０を分光光度計
（商品名「Ｕ４０００」、日立製作所（株）製）によっ
て垂直透過率特性を測定した。図１０はこの測定結果を
示す。また、表１には、透過率特性の最大値を１．００
としたときにおける０．１０、０．２５、０．５０、
０．７５、１．００の透過波長を示してある。

【００３６】さらに、上述した真空蒸着による多層膜の
成膜を実施して、それぞれ５個の第１、第２の光学部品
を得るとともに、これらを組み合わせて５個の干渉フィ
ルターを作製し、その垂直透過率特性を測定した。その
結果、波長域４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性
が、最大値を１．００としたとき、波長域５１９ｎｍ〜
５２８ｎｍおよび６６０〜６７３ｎｍにおいて０．１
０、波長域５３３〜５４２ｎｍおよび６４５〜６５７ｎ
ｍにおいて、０．２５、波長域５５２〜５６２ｎｍおよ
び６３０〜６４２ｎｍにおいて、０．５０、波長域５６
８〜５７８ｎｍおよび６１６〜６２８ｎｍにおいて、
０．７５、波長域５９１〜６０４ｎｍにおいて１．００
の範囲内であった。この範囲内では、光学特性上問題の
ないことが確認されている。以上の構成により、波長域
４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて、ＸＹＺ座標系のＸ成
分透過の干渉フィルターとして使用可能なフィルターが
得られた。

【００３７】なお上述した第２の光学部品５２の片面の
みに形成した第３のフィルター５５の反対側の平面に対
し、１層以上であれば層数及び膜構成は問わないが、例
えば、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／４を１としたと
き、基板側から順に膜厚が、０．２６７Ｈ／０．３５２
Ｌ／２．１０３Ｈ／１Ｌの計４層の膜構成の反射防止膜
を形成してもよい。

【００３８】また、この実施の形態では、第１および第
２のフィルター５３，５４を１つのガラス基板上ではな
く、異なった平行平面のガラス基板（Ｓ−ＢＳＬ７）上
にそれぞれ設けても十分な効果が得られる。さらに、こ
れらの裏面にそれぞれ反射防止膜を形成してもよい。

【００３９】この実施の形態では、真空蒸着法によって
ガラス基板上に蒸着材料を成膜し、所定の膜構成を有す
るフィルターを形成したが、同様な膜構成はイオンプレ
ーティング法、スパッタリング法によっても成膜が可能
であり、成膜手法は特に限定されるものではない。ま
た、成膜材料としてＴｉＯ_２とＳｉＯ_２を用いたが、上
述した高屈折率の範囲内であれば、これ等の材料に限定
されるものではなく、例えばＴａ_２Ｏ_５やＹ_２Ｏ_５を用
いることも可能である。

【００４０】（実施の形態２）この実施の形態では、実
施の形態１のガラス基板と同一のガラス基板の各面に対
して、第１のフィルター及び第２のフィルターを形成し
た。これらのフィルターは真空蒸着によって形成するも
のである。

【００４１】第１のフィルターは屈折率をｎとしたと
き、１．５５０≦ｎ≦２．０００の中間屈折率材料層
（Ｍ）をＡｌ_２Ｏ_３の中間屈折率材料を用い、２．３３
０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率材料層（Ｈ）をＴｉＯ_２
の高屈折率材料を用い、１．４５５≦ｎ≦１．４６５の
低屈折率材料層（Ｌ）をＳｉＯ_２の低屈折率材料を用い
て成膜される。この第１のフィルターは、波長λ＝５０
０ｍｍ、光学式膜厚λ／４を１としたとき、基板側から
順に膜厚が、１Ｍ／２．１３０Ｈ／２．１３７Ｌ（／
０．８１０Ｈ／０．８０７Ｌ）×３／０．９２４Ｈ／
１．３６６Ｌである１１層の膜構成となっている。

【００４２】一方、第２のフィルターは基板表面側から
空気側へ、順に膜厚が、０．３０８Ｈ／２．１４５Ｌ／
２．００４Ｈ（１．３９６Ｌ／１．４７４Ｈ）×４／
１．６１５Ｌ／１．５１８Ｈ／０．９２４Ｌである１４
層の膜構成となっている。

【００４３】以上の第１及び第２のフィルターからなる
干渉フィルターを分光光度計（商品名「Ｕ４０００」、
日立製作所（株）製）によって垂直透過率特性を測定し
た。図１２はこの測定結果を示す。また、表１には、透
過率特性の最大値を１．００としたときにおける０．１
０、０．２５、０．５０、０．７５、１．００の透過波
長を示してある。

【００４４】さらに、上述した真空蒸着による多層膜の
成膜を実施して、５個の干渉フィルターを作製し、その
垂直透過率特性を測定した。その結果、波長域４００〜
７００ｎｍにおいて膜の透過特性が、最大値を１．００
としたとき、波長域４３５〜４４２ｎｍおよび６５１〜
６６４ｎｍにおいて０．１０、波長域４６９〜４７７ｎ
ｍおよび６２９〜６４３ｎｍにおいて０．２５、波長域
４９８〜５０７ｎｍおよび６１０〜６２３ｎｍにおいて
０．５０、波長域５１９〜５２９ｎｍおよび５９１〜６
０３ｎｍにおいて０．７５、波長域５５３〜５６７ｎｍ
において１．００の範囲内であった。この範囲内では、
光学特性上問題のないことが確認されている。以上の構
成により、波長域４００ｎｍ〜７００ｎｍにおいて、Ｘ
ＹＺ座標系のＹ成分透過の干渉フィルターとして使用可
能なフィルターが得られた。

【００４５】この実施の形態では、第１および第２のフ
ィルターを１つのガラス基板上ではなく、異なった平行
平面のガラス基板（Ｓ−ＢＳＬ７）上にそれぞれ設けて
も十分な効果が得られる。さらに、これらの裏面にそれ
ぞれ反射防止膜を形成してもよい。反射防止膜として
は、フィルターを形成した裏面に対し、１層以上であれ
ば層数及び膜構成は問わないが、例えば、λ＝５００ｎ
ｍ、光学式膜厚λ／４を１としたとき、基板側から順に
膜厚が、０．２６７Ｈ／０．３５２Ｌ／２．１０３Ｈ／
１Ｌの計４層の膜構成とすることができる。このように
反射防止膜を形成することにより基板表面の反射を低減
することができ、これにより透過率を向上させることが
可能となる。

【００４６】なお、この実施の形態においても、成膜手
法や成膜材料は限定されるものではなく、他の成膜手法
や成膜材料を使用することも可能である。例えば、中間
屈折率材料としてＡｌ_２Ｏ_３に代えてＡｌ_２Ｏ_３とＬａ
との混合物を使用することができると共に、高屈折率材
料や低屈折率材料としても他の材料を使用することがで
きる。

【００４７】（実施の形態３）この実施の形態では、対
向した平面が平行のガラス基板Ｓ−ＢＳＬ７（外径２８
ｍｍ、厚さ１．０ｍｍ）の一方の平面上に、第１のフィ
ルターを成膜によって形成して第１の光学部品とした。
一方、同一材料からなる他のガラス基板の一方の平面に
第２のフィルターを、他方の平面に第３のフィルターを
それぞれ成膜によって形成して第２の光学部品とした。
なお、成膜は真空蒸着によって行うものである。

【００４８】第１の光学部品における第１のフィルター
は、屈折率をｎとしたとき、２．３３０≦ｎ≦２．３８
０の高屈折率材料層（Ｈ）をＴｉＯ_２の高屈折率材料を
用い、１．４５５≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層
（Ｌ）をＳｉＯ_２の低屈折率材料を用いて成膜される。
この第１のフィルターは、波長λ＝５００ｍｍ、光学式
膜厚λ／４を１としたとき、基板側から空気側に向かっ
て膜厚が、順に１．４１３Ｈ／１．２６７Ｌ／０．８３
３Ｈ／１．２５９Ｌ／１．２２２Ｈ／１．０５６Ｌ／
０．７７４Ｈ／１．１６５Ｌ／０．５４４Ｈ／１．８６
６Ｌ／０．８５３Ｈ／０．９４５Ｌ／０．９１２Ｈ／
０．３６５Ｌ／０．３０４Ｈ／２．０２２Ｌである１６
層の膜構成となっている。

【００４９】第２の光学部品における第２及び第３のフ
ィルターは、第１のフィルターと同一の屈折率材料を用
いて成膜されるものである。第２のフィルターは基板側
から空気側に向かって膜厚が順に、１．５５１Ｈ／１．
２２３Ｌ（／１．４９１Ｈ／０．９２５Ｌ）×８／１．
４３１Ｈ／０．５０７Ｌである２０層の膜構成で形成さ
れる。第３のフィルターは基板側から空気側に向かって
膜厚が順に、（１．４１Ｌ／１．４１Ｈ）×９／０．７
０５Ｌである１９層の膜構成となっている。

【００５０】この第２のフィルター及び第３のフィルタ
ーによって形成される第２の光学部品は、波長域４００
ｎｍ〜４２０ｎｍでの透過率Ｔ＞８５％、波長域４２０
ｎｍ〜５００ｎｍでの透過率Ｔ＞９０％、波長域５７０
ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率Ｔ＜ ０．１％の透過特性
を有している。

【００５１】図１３は実施の形態１と同様に、以上の第
１及び第２の光学部品を平行に組み合わせて作製した干
渉フィルター６０を示し、図８と同一の部分には同一の
符号を付してある。この干渉フィルター６０では、第１
の光学部品６１の片面に第１のフィルター６３が形成さ
れ、第２の光学部品６２の一方の面に第２のフィルター
６４が、他方の面に第３のフィルター６５が形成されて
いる。

【００５２】かかる干渉フィルター６０を分光光度計
（商品名「Ｕ４０００」、日立製作所（株）製）によっ
て垂直透過率特性を測定した。図１４はこの測定結果を
示す。また、表１には、透過率特性の最大値を１．００
としたときにおける０．１０、０．２５、０．５０、
０．７５、１．００の透過波長を示してある。

【００５３】さらに、上述した真空蒸着による多層膜の
成膜を実施して、それぞれ５個の第１、第２の光学部品
を得るとともに、これらを組み合わせて５個の干渉フィ
ルターを作製し、その垂直透過率特性を測定した。その
結果、波長域４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性
が、最大値を１．００としたとき、波長域３９６〜４０
３ｎｍおよび４９１〜５０１ｎｍにおいて０．１０、波
長域４０５〜４１１ｎｍおよび４７７〜４８７ｎｍにお
いて０．２５、波長域４１４〜４２１ｎｍおよび４６６
〜４７５ｎｍにおいて０．５０、波長域４２３〜４２９
ｎｍおよび４５６〜４６５ｎｍにおいて０．７５、波長
域４３８〜４４６ｎｍにおいて１．００の範囲内であっ
た。この範囲内では、光学特性上問題のないことが確認
されている。以上の構成により、波長域４００ｎｍ〜７
００ｎｍにおいて、ＸＹＺ座標系のＺ成分透過の干渉フ
ィルターとして使用可能なフィルターが得られた。

【００５４】この実施の形態では、第１のフィルター６
３を形成した第１の光学部品６１の反射防止膜を形成し
てもよい。反射防止膜としては、フィルターを形成した
裏面に対し、１層以上であれば層数及び膜構成は問わな
いが、例えば、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／４を１
としたとき、基板側から順に膜厚が、０．２６７Ｈ／
０．３５２Ｌ／２．１０３Ｈ／１Ｌの計４層の膜構成と
することができる。このように反射防止膜を形成するこ
とにより基板表面の反射を低減することができ、これに
より透過率を向上させることが可能となる。裏面に対し
て、反射防止膜を形成してもよい。反射防止膜として
は、フィルターを形成した裏面に対し、１層以上であれ
ば層数及び膜構成は問わないが、例えば、λ＝５００ｎ
ｍ、光学式膜厚λ／４を１としたとき、基板側から順に
膜厚が、０．２６７Ｈ／０．３５２Ｌ／２．１０３Ｈ／
１Ｌの計４層の膜構成とすることができる。このように
反射防止膜を形成することにより基板表面の反射を低減
することができ、これにより透過率を向上させることが
可能となる。

【００５５】また、この実施の形態では、第２のフィル
ター６４及び第３のフィルター６５を別々のガラス基板
に形成しても良く、この場合にも、その裏面に反射防止
膜を設けても良い。さらに、成膜手法や成膜材料につい
ても変更することができる。

【００５６】（実施の形態４）この実施の形態では、実
施の形態３と同様に、対向した平面が平行のガラス基板
Ｓ−ＢＳＬ７（外径２８ｍｍ、厚さ１．０ｍｍ）の一方
の平面上に、第１のフィルターを成膜によって形成して
第１の光学部品とすると共に、同一材料からなる他のガ
ラス基板の一方の平面に第２のフィルターを、他方の平
面に第３のフィルターをそれぞれ成膜によって形成して
第２の光学部品とした。成膜は真空蒸着によって行うも
のである。

【００５７】第１の光学部品における第１のフィルター
は、屈折率をｎとしたとき、２．３３０≦ｎ≦２．３８
０の高屈折率材料層（Ｈ）をＴｉＯ_２の高屈折率材料を
用い、１．４５５≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層
（Ｌ）をＳｉＯ_２の低屈折率材料を用いて成膜される。
この第１のフィルターは、波長λ＝５００ｍｍ、光学式
膜厚λ／４を１としたとき、基板側から空気側に向かっ
て膜厚が、順に１．４２４Ｈ／１．２７７Ｌ／０．８３
９Ｈ／１．２６９Ｌ／１．２３３Ｈ／１．０６４Ｌ／
０．７８Ｈ／１．１７４Ｌ／０．５４８Ｈ／１．８８１
Ｌ／０．８６Ｈ／０．９５３Ｌ／０．９１９Ｈ／０．３
６８Ｌ／０．３０７Ｈ／２．０３９Ｌである１６層の膜
構成となっている。

【００５８】第２の光学部品における第２及び第３のフ
ィルターは、第１のフィルターと同一の屈折率材料を用
いて成膜されるものである。第２のフィルターは基板側
から空気側に向かって膜厚が順に、１．５５１Ｈ／１．
２２３Ｌ（／１．４９１Ｈ／０．９２５Ｌ）×８／１．
４３１Ｈ／０．５０７Ｌである２０層の膜構成で形成さ
れる。第３のフィルターは基板側から空気側に向かって
膜厚が順に、（１．４１Ｌ／１．４１Ｈ）×９／０．７
０５Ｌである１９層の膜構成となっている。

【００５９】この第２のフィルター及び第３のフィルタ
ーによって形成される第２の光学部品は、波長域４００
ｎｍ〜４２０ｎｍでの透過率Ｔ＞８５％、波長域４２０
ｎｍ〜５００ｎｍでの透過率Ｔ＞９０％、波長域５７０
ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率Ｔ＜ ０．１％の透過特性
を有している。

【００６０】図１５は実施の形態３と同様に、以上の第
１及び第２の光学部品を平行に組み合わせて作製した干
渉フィルター７０を示し、図１３と同一の部分には同一
の符号を付してある。この干渉フィルター７０では、第
１の光学部品７１の片面に第１のフィルター７３が形成
され、第２の光学部品７２の一方の面に第２のフィルタ
ー７４が、他方の面に第３のフィルター７５が形成され
ている。

【００６１】図１６はこの実施の形態の干渉フィルター
７０の垂直透過率特性を測定した結果を示す。表１に
は、透過率特性の最大値を１．００としたときにおける
０．１０、０．２５、０．５０、０．７５、１．００の
透過波長を示してある。

【００６２】以上の実施の形態により、波長域４００ｎ
ｍ〜７００ｎｍにおいて、ＸＹＺ座標系のＺ成分透過の
干渉フィルターとして使用可能なフィルターが得られ
た。

【００６３】この実施の形態では、請求項６の膜厚に対
して、全層を１．００８倍して構成されたＺ干渉フィル
ターである。この実施の形態のＺ干渉フィルターを実施
の形態１のＺ干渉フィルター及び実施の形態２のＹ干渉
フィルターと組み合わせて用い、各ＣＣＤで取り込まれ
た各成分のデータによって静止画を記録しても良好な色
再現が可能であった。これにより、使用上、問題のない
ことが確認できた。

【００６４】なお、この実施の形態では、第１のフィル
ター７３を形成した第１の光学部品７１の反射防止膜を
形成してもよい。反射防止膜としては、フィルターを形
成した裏面に対し、１層以上であれば層数及び膜構成は
問わないが、例えば、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／
４を１としたとき、基板側から順に膜厚が、０．２６７
Ｈ／０．３５２Ｌ／２．１０３Ｈ／１Ｌの計４層の膜構
成とすることができる。このように反射防止膜を形成す
ることにより基板表面の反射を低減することができ、こ
れにより透過率を向上させることが可能となる。

【００６５】また、この実施の形態では、第２のフィル
ター６４及び第３のフィルター６５を別々のガラス基板
に形成しても良く、この場合にも、その裏面に反射防止
膜を設けても良い。さらに、成膜手法や成膜材料につい
ても変更することができる。

【００６６】（実施の形態５）この実施の形態では、実
施の形態３のガラス基板と同一のガラス基板の一方の面
に対して、赤外線カットフィルターを形成して第３の光
学部品を作製した。

【００６７】赤外線カットフィルターは屈折率をｎとし
たとき、１．５５０≦ｎ≦２．０００の中間屈折率材料
層（Ｍ）をＡｌ_２Ｏ_３の中間屈折率材料を用い、２．３
３０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率材料層（Ｈ）をＴｉＯ
_２の高屈折率材料を用い、１．４５５≦ｎ≦１．４６５
の低屈折率材料層（Ｌ）をＳｉＯ_２の低屈折率材料を用
いて真空蒸着により成膜される。この赤外線カットフィ
ルターは、波長λ＝５００ｍｍ、光学式膜厚λ／４を１
としたとき、基板側から順に膜厚が、０．７８４Ｍ／
１．７２３８６Ｈ／１．９３３９Ｌ／１．７４３６２Ｈ
（／１．７２４８Ｌ／１．６９２Ｈ）×１５／１．８１
５４３Ｌ／１．６９７２Ｈ／１．８２３７４Ｌ／１．７
０７５５Ｈ・０．９２０２６Ｌである３９層の膜構成と
なっている。

【００６８】かかる赤外線カットフィルターは７４５〜
９５０ｎｍの透過率を０．１％以下のカットすることが
できる。図１８はこの赤外線カットフィルターの垂直透
過率特性を示す。

【００６９】図１７はこの第３の光学部品８３を図１３
に示す実施の形態３の光学部品６１，６２と平行になる
ように内枠リング５８及び外枠リング５９に組み付けた
干渉フィルター８０を示す。第３の光学部品８３は第２
の光学部品６２における第３のフィルター６５側に配置
され、その赤外線カットフィルター８４が空気層５６を
介して第３のフィルター６５に臨んでいる。このように
組み合わせることにより、５７０〜９５０ｎｍまで透過
率０．１％以下の特性を有し、赤外域の通過帯による影
響を低減したＸＹＺ座標系のＺ成分透過フィルターとし
て使用することができる。

【００７０】なお、この実施の形態では、赤外線カット
フィルターが形成された第３の光学部品を実施の形態１
や実施の形態２の干渉フィルターと組み合わせても同様
な効果を得ることができる。

【００７１】

【表１】

【００７２】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、ＸＹＺ表色系で取り込んだデータのＸ成分を透
過するため、色情報を再現することができる。

【００７３】請求項２の発明によれば、ＸＹＺ表色系で
取り込んだデータのＹ成分を透過するため、色情報を再
現することができる。

【００７４】請求項３の発明によれば、ＸＹＺ表色系で
取り込んだデータのＺ成分を透過するため、色情報を再
現することができる。

【００７５】請求項４の発明によれば、ＸＹＺ表色系で
取り込んだデータのＸ成分を透過するため、色情報を再
現することができ、しかも簡単に作製することができ
る。

【００７６】請求項５の発明によれば、ＸＹＺ表色系で
取り込んだデータのＹ成分を透過するため、色情報を再
現することができ、しかも簡単に作製することができ
る。

【００７７】請求項３の発明によれば、ＸＹＺ表色系で
取り込んだデータのＺ成分を透過するため、色情報を再
現することができ、しかも簡単に作製することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】データを取り込む一例を示す正面図である。

【図２】本発明に用いるＣＣＤカメラの感度を示す特性
図である。

【図３】データを再現する一例を示す正面図である。

【図４】本発明に用いる干渉フィルターの透過率の特性
図である。

【図５】ＣＣＤカメラの内部を示す断面図である。

【図６】図５のレンズ保持具の正面図である。

【図７】別のＣＣＤカメラの内部を示す断面図である。

【図８】実施の形態１の干渉フィルターの断面図であ
る。

【図９】成膜装置の断面図である。

【図１０】実施の形態１のＸ成分透過の干渉フィルター
の垂直透過率特性図である。

【図１１】実施の形態１の干渉フィルターの分光反射率
特性図である。

【図１２】実施の形態２のＹ成分透過の干渉フィルター
の垂直透過率特性図である。

【図１３】実施の形態３の干渉フィルターの断面図であ
る。

【図１４】実施の形態３のＺ成分透過の垂直透過率特性
図である。

【図１５】実施の形態４の干渉フィルターの断面図であ
る。

【図１６】実施の形態４のＺ成分透過の垂直透過率特性
図である。

【図１７】実施の形態５の干渉フィルターの断面図であ
る。

【図１８】実施の形態５のＺ成分透過の干渉フィルター
の垂直透過率特性図である。

【図１９】ＸＹＺの等色関数の特性図である。

【図２０】従来の干渉フィルターの側面図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 浩 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 高尾 潔 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 (72)発明者 川俣 健 東京都渋谷区幡ケ谷２丁目43番２号 オリ ンパス光学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA13 GA23 GA25 GA33 GA43 GA51

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光軸に平行した光の入射に対し、波長域
   ４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性が、最大値を
   １．００としたとき、 波長域５１９〜５２８ｎｍおよび６６０〜６７３ｎｍに
   おいて０．１０、波長域５３３〜５４２ｎｍおよび６４
   ５〜６５７ｎｍにおいて０．２５、波長域５５２〜５６
   ２ｎｍおよび６３０〜６４２ｎｍにおいて０．５０、波
   長域５６８〜５７８ｎｍおよび６１６〜６２８ｎｍにお
   いて０．７５、波長域５９１〜６０４ｎｍにおいて１．
   ００で構成されるＸＹＺ表色系における被測定光のＸ成
   分を透過することを特徴とする干渉フィルター。
2. 【請求項２】 光軸に平行した光の入射に対し、波長域
   ４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性が、最大値を
   １．００としたとき、 波長域４３５〜４４２ｎｍおよび６５１〜６６４ｎｍに
   おいて０．１０、波長域４６９〜４７７ｎｍおよび６２
   ９〜６４３ｎｍにおいて０．２５、波長域４９８〜５０
   ７ｎｍおよび６１０〜６２３ｎｍにおいて０．５０、波
   長域５１９〜５２９ｎｍおよび５９１〜６０３ｎｍにお
   いて０．７５、波長域５５３〜５６７ｎｍにおいて１．
   ００で構成されるＸＹＺ表色系における被測定光のＹ成
   分を透過することを特徴とする干渉フィルター。
3. 【請求項３】 光軸に平行した光の入射に対し、波長域
   ４００〜７００ｎｍにおいて膜の透過特性が、最大値を
   １．００としたとき、 波長域３９６〜４０３ｎｍおよび４９１〜５０１ｎｍに
   おいて０．１０、波長域４０５〜４１１ｎｍおよび４７
   ７〜４８７ｎｍにおいて０．２５、波長域４１４〜４２
   １ｎｍおよび４６６〜４７５ｎｍにおいて０．５０、波
   長域４２３〜４２９ｎｍおよび４５６〜４６５ｎｍにお
   いて０．７５、波長域４３８〜４４６ｎｍにおいて１．
   ００で構成されるＸＹＺ表色系における被測定光のＺ成
   分を透過することを特徴とする干渉フィルター。
4. 【請求項４】 波長λ＝５００ｎｍでの屈折率ｎが、
   ２．３３０≦ｎ≦２．３８０である高屈折率材料層及び
   １．４５５≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層を交互に
   積層した多層膜により構成され、Ｈを高屈折率材料、Ｌ
   を低屈折率材料とし、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／
   ４を１としたとき、ＸＹＺ表色系において基板表面側か
   ら空気側へ、順に膜厚が０．９１１Ｈ／０．８７４Ｌ／
   ０．４３９Ｈ（／０．８８３Ｌ／０．９７８Ｈ）×６／
   １．２６０Ｌ／０．４７０Ｈ／１．８０６Ｌとなる１８
   層の膜構成を有するフィルターと、 基板表面側から空気側へ、順に膜厚が０．８０１Ｈ／
   ２．４１４Ｌ／１．５８５Ｈ（／１．５０１Ｌ／１．５
   １６Ｈ）×５／１．５６２Ｌ／１．６３２Ｈ／０．８９
   ２Ｌとなる１６層の膜構成を有するフィルターと、 波長域４００ｎｍ〜４６０ｎｍでの透過率Ｔ＜０．１％
   であり、且つ波長域５００ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率
   Ｔ＞９０％であるフィルターとからなり、 被測定光のＸ成分を波長域４００ｎｍ〜７００ｎｍにお
   いて透過することを特徴とする干渉フィルター。
5. 【請求項５】 波長λ＝５００ｎｍでの屈折率ｎが、
   １．５５０≦ｎ≦２．０００の中間屈折率材料層を基板
   側の１層目に設け、２層目以降を２．３３０≦ｎ≦２．
   ３８０の高屈折率材料層及び１．４５５≦ｎ≦１．４６
   ５の低屈折率材料層を交互に積層した多層膜により構成
   され、Ｍを中間屈折率材料、Ｈを高屈折率材料、Ｌを低
   屈折率材料とし、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／４を
   １としたとき、ＸＹＺ表色系において、基板表面側から
   空気側へ、順に膜厚が１Ｍ／２．１３０Ｈ／２．１３７
   Ｌ（／０．８１０Ｈ／０．８０７Ｌ）×３／０．９２４
   Ｈ／１．３６６Ｌとなる１１層の膜構成を有するフィル
   ターと、 基板表面側から空気側へ、順に膜厚が０．３０８Ｈ／
   ２．１４５Ｌ／２．００４Ｈ（１．３９６Ｌ／１．４７
   ４Ｈ）×４／１．６１５Ｌ／１．５１８Ｈ／０．９２４
   Ｌとなる１４層の膜構成を有するフィルターとからな
   り、 被測定光のＹ成分を波長域４００ｎｍ〜７００ｎｍにお
   いて透過することを特徴とする干渉フィルター。
6. 【請求項６】 波長λ＝５００ｎｍでの屈折率ｎが、
   ２．３３０≦ｎ≦２．３８０の高屈折率材料層及び１．
   ４５５≦ｎ≦１．４６５の低屈折率材料層を交互に積層
   した多層膜により構成され、Ｈを高屈折率材料、Ｌを低
   屈折率材料とし、λ＝５００ｎｍ、光学式膜厚λ／４を
   １としたとき、ＸＹＺ表色系において、基板表面側から
   空気側へ膜厚が順に、１．４１３Ｈ／１．２６７Ｌ／
   ０．８３３Ｈ／１．２５９Ｌ／１．２２２Ｈ／１．０５
   ６Ｌ／０．７７４Ｈ／１．１６５Ｌ／０．５４４Ｈ／
   １．８６６Ｌ／０．８５３Ｈ／０．９４５Ｌ／０．９１
   ２Ｈ／０．３６５Ｌ／０．３０４Ｈ／２．０２２Ｌとな
   る１６層の膜構成を有するフィルターと、 波長域４００ｎｍ〜４２０ｎｍでの透過率Ｔ＞８５％、
   波長域４２０ｎｍ〜５００ｎｍでの透過率Ｔ＞９０％、
   波長域５７０ｎｍ〜７００ｎｍでの透過率Ｔ＜０．１％
   であるフィルターとからなり、 被測定光のＺ成分を波長域４００ｎｍ〜７００ｎｍにお
   いて透過することを特徴とする干渉フィルター。