JP2000323047A - プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネル及びその製造方法

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JP2000323047A
JP2000323047A JP13278199A JP13278199A JP2000323047A JP 2000323047 A JP2000323047 A JP 2000323047A JP 13278199 A JP13278199 A JP 13278199A JP 13278199 A JP13278199 A JP 13278199A JP 2000323047 A JP2000323047 A JP 2000323047A
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auxiliary electrode
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JP13278199A
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Shinichi Kuroki
新一 黒木
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属補助電極の異物の発生や誘電体層の変色
を防止することのできるプラズマディスプレイパネル及
びその製造方法を提供する。 【解決手段】 金属補助電極3を被覆するように保護膜
を有していることから、金属補助電極3が誘電体と接触
することがなく、金属補助電極3に泡状の異物が発生し
たり、誘電体層が変色することがない。従って、必要な
駆動電圧を確実に印加できると共に、誘電体層の透明度
悪化による輝度低下を引き起こすこともない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス放電を利用し
た表示を行うプラズマディスプレイパネル及びその製造
方法に関するものである。
【0002】プラズマディスプレイパネル(以下PD
P)は、壁掛け可能な薄型の表示装置として注目されて
おり、近年はテレビジョンとしての用途へも拡大してい
る。このようなPDPにおいては、輝度やコントラスト
を向上させること等による高表示品質化が要望されてい
る。
【0003】
【従来の技術】まず、基本的な構造をAC駆動の面放電
型PDPを例に説明する。図5は、AC駆動の面放電型
PDPの分解斜視図である。図5に示すようにPDP3
0は、マトリクス表示の単位発光領域EUに一対のX,
Yからなる表示電極34とアドレス電極44とが対応す
る3電極構造を有している。
【0004】この表示ラインを形成する面放電のための
一対のX,Yからなる表示電極34は、放電空間45に
対して表示面H側、つまり前面ガラス基板31上に設け
られており、表示光の遮光を最小限にするためにネサ膜
やITO(Indium Tin Oxide)膜等からなる透明電極3
2とその導電性を補う低抵抗化のための金属補助電極3
3とを積層した構成とされている。
【0005】また、その表示電極34上は、壁電荷を利
用してガス放電を維持するAC駆動のための誘電体層3
5によって放電空間に対して絶縁状態に被覆されてお
り、該誘電体層35の表面には更に数千Å程度の厚さの
MgOからなる保護膜36が設けられている。
【0006】一方、単位発光領域EUを選択的に発光さ
せるためのアドレス電極44は、背面ガラス基板41上
に前記一対のX,Yからなる表示電極34と直交するよ
うに一定のピッチで配列され、各アドレス電極44の間
には100〜150μm程度の高さを有するストライプ
状の隔壁42が設けられ、これによって放電空間45が
ライン方向(表示電極34の延長方向)に単位発光領域
EU毎に区画され、且つ放電空間45の間隔寸法が規定
されている。更に、前記背面ガラス基板41には、アド
レス電極44の上面及び隔壁42の側面を含めた背面側
の内面を被覆するように、R(赤)、G(緑)、B
(青)の3原色の蛍光体43が設けられている。
【0007】そしてこのような構成のPDP30では、
各色の蛍光体43は面放電時に放電空間45内のガス放
電より放射される紫外線により励起されて発光し、R,
G,Bの組み合わせによるフルカラ−表示が可能であ
り、その表示に際して隔壁42により単位発光領域EU
間のクロストークが防止されている。
【0008】上述の如くPDP30は、前面ガラス基板
31と背面ガラス基板41に対して個別に所定の構成要
素を設けた後、該前面ガラス基板31と背面ガラス基板
41とを対向配置して、その間隙の周囲を気密に封止し
て内部を一旦真空に排気すると共に、放電ガスを封入す
る一連の工程によって製造される。
【0009】図6は、従来のPDPを説明するための要
部断面図であり、図5と同一部分には同一符号を付して
いる。前面ガラス基板31には、前述したように透明電
極32及び金属補助電極33が形成されているが、金属
補助電極33は、電気的特性や下層の透明電極32や上
層の誘電体層との密着性を良好にするためにクロム(C
r)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三層構造をなして
いる。一対の透明電極32間は、表示のための放電を発
生させるための放電部37となり、その反対側には非放
電部38が配設されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図5に示す
誘電体層35は、有機溶媒に溶解した低融点ガラスをス
クリーン印刷法で形成した後、有機溶媒を除去するため
にその低融点ガラス層を500〜600℃で焼成するこ
とにより形成している。この焼成時に金属補助電極33
の中の酸化し易いCuと誘電体層35とが反応を起こす
ことにより、金属補助電極33内に泡状の異物が発生し
たり、誘電体層35が変色したりする。
【0011】金属補助電極33内に発生する泡状の異物
によって、この金属補助電極33に所定の駆動電圧を印
加できなかったり、変色によって誘電体層35の透明度
が悪化して表示品質を劣化させることになる。本発明は
前記課題を解消するためになされるもので、金属補助電
極の異物の発生や誘電体層の変色を防止することのでき
るプラズマディスプレイパネル及びその製造方法の提供
を目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明に係るプラズマデ
ィスプレイパネルは、放電空間を挟んで少なくとも一方
が透明の一対の基板からなり、透明基板内面に透明電極
と金属補助電極とが積層された表示電極を有し、該表示
電極を被覆する誘電体層が形成されてなるプラズマディ
スプレイパネルにおいて、前記金属補助電極が前記誘電
体層の焼成工程時に両者の反応を防ぐ保護膜により覆わ
れているものである。このように本発明においては、金
属補助電極を被覆するように保護膜を有していることか
ら、金属補助電極が誘電体と接触することがなく、金属
補助電極に泡状の異物が発生したり、誘電体層が変色す
ることがない。従って、必要な駆動電圧を確実に印加で
きると共に、誘電体層の透明度悪化による輝度低下を引
き起こすこともない。
【0013】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、放電空間を挟んで少なくとも一方が透
明の一対の基板からなり、透明基板内面に透明電極と金
属補助電極とが積層された表示電極を有し、該表示電極
を被覆する誘電体層が形成されてなるプラズマディスプ
レイパネルの製造方法において、前記透明基板上に透明
電極及び金属補助電極を形成した後、全面に光を透過し
ない感光性レジストを塗布する第1の工程、前記金属補
助電極と前記透明電極間に配設される非放電部とに対向
する開口部又は遮光部を有するマスクを介して前記感光
レジストを部分的に感光させる第2の工程、露光した感
光性レジストを現像することにより、前記金属補助電極
と非放電部とを被覆する遮光膜を形成する第3の工程、
を順次実施するプロセスを含んでなるものである。
【0014】このように本発明によれば、遮光性を有す
る感光性レジストを用いて所望の領域にパターンを形成
するため、コントラストを高めるために非放電部に形成
する遮光膜と同時に金属補助電極を被覆する膜を形成す
ることができる。従って、特に工程を増やすことなく金
属補助電極の異物の発生、誘電体層の変色を防止するこ
とができる。
【0015】
【発明の実施の形態】(本発明の第1の実施形態)以下
本発明の第1の実施形態を図1及び図2に基づいて説明
する。
【0016】図1は本発明の第1の実施形態に係るプラ
ズマディスプレイパネル(以下PDPと称する)の要部
断面図、図2は第1の実施形態に係るPDPの製造方法
を説明するための工程図である。図1と図2いずれも本
発明の特徴部分である前面基板の要部のみを示してい
る。
【0017】本実施形態のPDPは、図1に示すよう
に、前面ガラス基板1上にITOからなる透明電極2と
クロム(Cr)−銅(Cu)−クロム(Cr)の三層構
造の金属補助電極3とが所定間隔で複数設けられてい
る。
【0018】そして非放電部にコントラストを高めるた
めの遮光膜4が、金属補助電極3を覆う部分に図示しな
い誘電体層との反応を防止する保護膜5が設けられてい
る。この遮光膜4と保護膜とは、黒色顔料を含む感光性
レジストから構成されるものであり、同一工程にて形成
されている。詳細な製造工程については後述する。
【0019】尚、遮光膜4が形成されていない透明電極
2間は放電部6であり、透明電極2と金属補助電極3と
に所定の電圧を印加することにより、表示に必要な放電
が発生する。この放電は透明電極2の間で発生するた
め、金属補助電極3が保護膜5で被覆されていることに
よる影響はない。
【0020】このように本実施形態のPDPによれば、
金属補助電極3が保護膜5により被覆保護されているこ
とから、図示しない誘電体層との反応による泡状の異物
が金属補助電極3のCu層に発生することはない。ま
た、誘電体層が変色することもない。
【0021】次に図1に示すPDPの製造方法を図2に
より説明する。図2において図1と同一部分には同一符
号を付している。まず、図2(a)に示すように、前面
ガラス基板1上に透明電極2及び金属補助電極3を積層
状態で所定間隔毎に形成する。
【0022】透明電極2は、前面ガラス基板1の略全面
に0.1μm程度のITO膜をスパッタリングにより成
膜した後、エッチングによりパターニングして形成す
る。また金属補助電極3は、Cr−Cu−Crを順にス
パッタリングにて成膜して、1μm程度の多層金属膜を
被着した後、各層毎に異なるエッチング液にてパターニ
ングすることで形成する。続いて図2(b)に示すよう
に、透明電極2及び金属補助電極3を覆うように前面ガ
ラス基板1上に遮光材料層7をスクリーン印刷等の厚膜
技術により形成する。この遮光材料層7は、例えばマン
ガン(Mn)や鉄(Fe)系の酸化膜からなる黒色顔料
と感光性のバインダとを混合したペーストであり、遮光
性を有すると共に光反射率も低い。
【0023】このように遮光材料層7を形成した後、図
2(c)に示すように、所定の開口部を有する露光マス
ク8を設置した状態で、遮光材料層7に応じた波長の光
により露光を行なう。本実施形態の場合、ネガ型のレジ
ストを使用していることから膜を形成する部分が開口す
る露光マスクを用いる。最後に、現像処理を行なうこと
により露光されていない部分を除去して、図2(d)に
示すように非放電部に遮光膜4を、金属補助電極3上に
保護膜5を同時に形成する。
【0024】以上説明したとおり、本実施形態によれば
コントラストを高めるために非放電部に設ける遮光膜4
と同一の工程により、金属補助電極3と誘電体層との間
に介在して両者の反応を防止する保護膜5を形成するこ
とができる。従って、工数や使用する材料を増やすこと
なく特性の優れたPDPを得ることが可能となる。
【0025】(本発明の第2の実施形態)以下本発明の
第2の実施形態に係るPDPを図3に基づいて説明す
る。図3は本発明の第2の実施形態に係るPDP要部断
面図である。
【0026】本実施形態に係るPDPにおいて第1の実
施形態と異なるのは、保護膜の構成である。つまり、図
3に示すように、前面ガラス基板11上に設けられる透
明電極12及び金属補助電極13、更に遮光膜14の構
成は、第1の実施形態と同様であり、金属補助電極13
を覆う保護膜15の形状が異なっている。
【0027】金属補助電極13は、第1の実施形態と同
様、Cr−Cu−Crの三層構造をなしており、この金
属補助電極13を形成した時点で、誘電体層との反応を
起こすCu層は金属補助電極13の側面に露出する状態
となっていることから、保護膜15は少なくとも金属補
助電極13の側面を被覆すれば良い。
【0028】そこで本実施形態では、図3に示すように
金属補助電極13のエッジ部及び側面のみを覆うような
形状とし、金属補助電極13の最上層であるCr層を露
出させて、誘電体層と接触する構成としている。Cr層
は誘電体層との反応を起こすことはなく、密着性にも優
れている。
【0029】尚、遮光膜14が形成されていない透明電
極12間は放電部16であり、透明電極12と金属補助
電極13とに所定の電圧を印加することにより、表示に
必要な放電が発生する。
【0030】本実施形態に係るPDPは、第1の実施形
態と同様な製造方法により得ることができる。つまり露
光工程で使用する露光マスクの開口部の形状を変更する
ことで図3の如く保護膜15を形成することができる。
従って、第1の実施形態と同様、工数や使用する材料を
増やすことなく特性の優れたPDPを得ることが可能で
ある。
【0031】(本発明の第3の実施形態)以下本発明の
第3の実施形態に係るPDPを図4に基づいて説明す
る。図4は本発明の第3の実施形態に係るPDP要部断
面図である。
【0032】本実施形態に係るPDPにおいて第1、第
2の実施形態と異なるのは、遮光膜と保護膜の構成であ
る。つまり、図4に示すように、前面ガラス基板21上
に設けられる透明電極22及び金属補助電極23の構成
は、第1、第2の実施形態と同様であり、非放電部の遮
光膜と金属補助電極23を覆う保護膜の形状が異なって
いる。尚、遮光膜24が形成されていない透明電極22
間は、第1、第2の実施形態と同様、放電部26を構成
している。
【0033】図4に示すように、本実施形態のPDP
は、非放電部に配設される遮光膜24を金属補助電極2
3を覆う領域まで拡大して形成している。すなわちこの
遮光膜24は、金属補助電極23に対する保護膜の機能
を兼ねるものである。本実施形態の遮光膜24は、透明
電極22間にある非放電部の領域と金属補助電極13の
領域とが連続するような開口部形状の露光マスクを使用
して露光を行なうことにより得ることができる。
【0034】従って、露光マスクの開口部形状が簡単と
なり、細かいパターニングに比して精度良く遮光膜24
を形成することが可能となる。但し、本実施形態におい
ては、隣接する透明電極22及び金属補助電極23が遮
光膜24により接続される状態になることから、遮光膜
24の材料としては、金属を含まない絶縁性のものを使
用する必要がある。
【0035】以上説明した第1〜第3の実施形態におい
ては、金属補助電極として三層構造(Cr−Cu−C
u)の例を説明したが、誘電体層との相性の悪い他の金
属を用いる場合にも本発明は有効である。また、金属補
助電極に保護膜を被覆する本発明のPDPの構成は、非
放電部に遮光膜を形成しないPDPにおいても効果を有
する。
【0036】
【発明の効果】以上のように本発明においては、金属補
助電極を被覆するように保護膜を有していることから、
金属補助電極が誘電体と接触することがなく、金属補助
電極に泡状の異物が発生したり、誘電体層が変色するこ
とがない。従って、必要な駆動電圧を確実に印加できる
と共に、誘電体層の透明度悪化による輝度低下を引き起
こすこともない。
【0037】また、遮光性を有する感光性レジストを用
いて、コントラストを高めるために非放電部に形成する
遮光膜と同時に金属補助電極を被覆する保護膜を形成す
ることができる。従って、特に工程を増やすことなく金
属補助電極の異物の発生、誘電体層の変色を防止するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係るPDP要部断面
図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係るPDPの製造方
法を説明するための工程図である。
【図3】本発明の第2の実施形態に係るPDP要部断面
図である。
【図4】本発明の第3の実施形態に係るPDP要部断面
図である。
【図5】面放電型PDPの構造を説明するための分解斜
視図である。
【図6】従来のPDPを説明するための要部断面図であ
る。
【符号の説明】
1,11,21,31 前面ガラス基板 2,12,22,32 透明電極 3,13,23,33 金属補助電極 4,14,24 遮光膜 5,15,36 保護膜 6,16,26,37 放電部 7 遮光材料層 8 露光マスク 30 PDP 34 表示電極 35 誘電体層 38 非放電部 41 背面ガラス基板 42 隔壁 43 蛍光体 44 アドレス電極 45 放電空間

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 放電空間を挟んで少なくとも一方が透明
    の一対の基板からなり、透明基板内面に透明電極と金属
    補助電極とが積層された表示電極を有し、該表示電極を
    被覆する誘電体層が形成されてなるプラズマディスプレ
    イパネルにおいて、 前記金属補助電極が前記誘電体層の焼成工程時に両者の
    反応を防ぐ保護膜により覆われていることを特徴とする
    プラズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】 前記金属補助電極は、クロム−銅−クロ
    ムが順次積層された多層構造であり、少なくとも銅の露
    出部と接触するように前記保護膜が被覆されていること
    を特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネ
    ル。
  3. 【請求項3】 前記保護膜は、隣接する透明電極間の非
    放電部に形成される遮光膜と連続的に設けられているこ
    とを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパ
    ネル。
  4. 【請求項4】 放電空間を挟んで少なくとも一方が透明
    の一対の基板からなり、透明基板内面に透明電極と金属
    補助電極とが積層された表示電極を有し、該表示電極を
    被覆する誘電体層が形成されてなるプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法において、 前記透明基板上に透明電極及び金属補助電極を形成した
    後、全面に光を透過しない感光性レジストを塗布する第
    1の工程と、 前記金属補助電極と前記透明電極間に配設される非放電
    部とに対向する開口部又は遮光部を有するマスクを介し
    て前記感光レジストを部分的に感光させる第2の工程
    と、 露光した感光性レジストを現像することにより、前記金
    属補助電極と非放電部とを被覆する遮光膜を形成する第
    3の工程を順次実施するプロセスを含んでなることを特
    徴とするプラズマディスプレパネルの製造方法。
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