JP2000322719A - 磁気ヘッドの評価方法および評価装置ならびに磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気シールドの磁化によるノイズを抑制し
て、磁気抵抗効果ヘッドの出力特性を正確に評価する。 【解決手段】 強磁性体膜をコイル３２に励磁電源３３
から印加される電流にて励磁することで、この強磁性体
膜の端縁に線状に形成される微小励磁源３１を、支持部
材３６を介して微動ステージ３７に搭載し、微小励磁源
３１の線方向とトラック幅方向が直交するように磁気ヘ
ッド３４を配置する。磁気ヘッド３４を微小励磁源３１
に対して微小なステップでトラック幅方向に移動させつ
つ、各ステップ位置（再生トラックの幅方向の各点）で
微小励磁源３１から印加される磁荷による磁気抵抗ヘッ
ドの出力をプリアンプ４１およびスペクトラムアナライ
ザ４２にて測定することで、磁気シールド等の磁気抵抗
効果部位以外の磁化のノイズ排除して、計算機４０にて
記録する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドの評価
技術および製造技術に関し、特に、磁気抵抗効果ヘッド
の製造過程において、磁気抵抗効果ヘッドの出力特性を
測定する評価技術等に適用して有効な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子計算機の発達に伴い、磁気ディスク
装置などの記憶装置は大容量化、高速化が急激に進んで
いる。磁気ディスク等に用いられる磁気ヘッドは、装置
の大容量化を達成するために、記録トラック幅の狭小
化、感度の増大が図られている。大容量の磁気ディスク
装置では、記録トラック幅が非常に小さいため、磁気ヘ
ッドを所定のトラックに精密に位置合わせすることが必
要になる。また、再生感度が低いと必要な信号強度を得
ることができず、信号にエラーが発生するため高い感度
が必要になる。

【０００３】磁気抵抗効果ヘッドはＮｉＦｅ合金薄膜等
の電気抵抗が外部磁界に対して変化する磁気抵抗効果を
用いて磁気媒体からの信号の検出を行うものであり、再
生感度を高めるために磁気ディスク装置に広く用いられ
ている。磁気抵抗効果ヘッドは誘導型ヘッドに比べ再生
出力が磁気ディスクとの相対速度に依存しない、高出力
が得られる等の特徴がある。最近では、磁気抵抗効果ヘ
ッドをさらに高出力化するため、ＮｉＦｅ合金薄膜等に
比べ、磁界に対する電気抵抗の変化率がより大きな、Ｇ
ＭＲ効果と呼ばれる磁気抵抗効果を有する多層膜を使用
した磁気抵抗効果ヘッドも開発されている。

【０００４】磁気ヘッドは、装置の大容量化のキーとな
る部品の一つであり、装置の性能は磁気ヘッドの性能に
左右される場合もある。このため、磁気ディスク装置を
製作する場合には、磁気ヘッドが所定の性能を達成して
いるか検査することが必要になる。ところが、磁気抵抗
効果ヘッドは、ヘッド加工時のストレスや、磁気抵抗効
果膜が持つ内部応力、磁気歪などのため、ウエハ状態で
の特性とは異なる場合が多く、ヘッド加工後に出力特性
を測定する必要がある。

【０００５】従来の参考技術の磁気ヘッドの評価方法に
は大きく分けて２種の方法がある。第１の評価方法は動
的測定と呼ばれ、磁気ヘッドを実際に磁気媒体上で記録
及び再生試験を行い、そこでの再生信号、オーバーライ
ト特性等の諸特性を測定する方法である。この方法は実
際の磁気媒体で記録再生を行うため、磁気ヘッドの動作
は装置内での動作とほぼ同じであり、磁気ヘッドの特性
を高精度に評価することができる。しかしながら、この
方法は実際に磁気媒体を回転させ、ヘッドを磁気媒体上
に浮上させ測定をしなければならないため、測定手順が
複雑になる。また実際にヘッドの最終工程まで作製して
からでないと測定することができないため、特性を評価
して不合格とした場合には、それまでの工程に掛かった
工数、材料費が無駄になってしまう等の技術的課題があ
る。

【０００６】第２の評価方法は、準静的測定と呼ばれ、
ヘルムホルツコイルなどによる外部一様磁界を磁気抵抗
効果ヘッドに印加し、この外部一様磁界に対する磁気抵
抗効果ヘッドの出力特性を測定するものである。外部磁
界は、通常磁気ヘッドの寸法に対して十分大きなコイル
によって印加されるため、この試験中は磁気抵抗効果ヘ
ッドはヘッド全体が磁界の中に置かれる。この方法は比
較的簡単に測定できることが特徴で、またヘッドの最終
工程まで終了していなくても適当な方法で電極に電流を
流すことができれば測定することができるため、工程途
中で不良品を選別することが可能である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述の参考技術の第２
の評価方法は測定が簡便でかつヘッドの最終工程まで達
していなくても測定可能などの特徴を持っているが、こ
の方法には次のような技術的課題がある。すなわち、磁
気抵抗効果ヘッドは、後述の図２に示すように、磁気抵
抗効果膜を上下の２枚の磁気シールドで挟んだような構
造になる。上述の第２の評価方法では、磁気ヘッド全体
がほぼ均一な磁界中に置かれるため、磁気ヘッド全体に
磁界が印加される形になり、磁気シールド部分にも磁界
が印加されるため、検出される信号は磁気シールド部分
の影響を受けた信号になってしまい、正確な測定結果が
得られない、という懸念がある。

【０００８】磁気抵抗効果（ＭＲ）部分の感度が向上す
ると、磁気シールド部分の影響も非常に大きくなるた
め、磁気シールド部分の影響を小さく押さえ、磁気抵抗
効果ヘッドの出力特性を正確に評価することが必要にな
る。

【０００９】本発明の目的は、磁気抵抗効果部位以外の
磁気シールド部分等の周辺構造の影響を排除し、磁気抵
抗効果ヘッドの出力特性を正確に評価することが可能な
評価技術を提供することにある。

【００１０】本発明の他の目的は、磁気記録媒体等の特
性や仕様等に応じた最適な再生特性や構造を有する磁気
抵抗効果ヘッドを歩留り良く、高い生産性にて製造する
ことが可能な磁気ヘッドの製造技術を提供することにあ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドの評
価方法は、線状に配置された微小励磁源を測定対象の磁
気ヘッドの磁気抵抗効果部位に近接させ、前記微小励磁
源と前記磁気抵抗効果部位とを相対的に移動させつつ前
記磁気抵抗効果部位からの出力信号を計測するものであ
る。

【００１２】より具体的には、線状に配置された微小励
磁源と、この微小励磁源と媒体対向面がほぼ密着し、か
つ励磁源の線方向ヘッドのトラック幅方向がほぼ直交す
るように配置された磁気抵抗効果ヘッドとを、ヘッドの
トラック幅方向に相対的に、微小なステップで移動さ
せ、各ステップにおける磁気抵抗効果ヘッドからの信号
を測定する方法である。

【００１３】微小励磁源は、例えば、磁気ヘッドの媒体
対向面に直交する、強磁性薄膜の直線状の端縁部と、こ
の強磁性薄膜を励磁する外部励磁源とで構成される。強
磁性薄膜は外部励磁源で磁化されることで線状の微小励
磁源として機能する端縁部に磁荷を生じ、この磁荷によ
る磁界が磁気抵抗効果ヘッドを励磁する。強磁性薄膜の
端縁部に生じる磁荷は強磁性薄膜の膜厚程度に限定され
るため、磁気抵抗効果ヘッドを微小な幅で励磁すること
ができる。従って強磁性薄膜の膜厚を磁気シールド部分
に対して十分小さくすれば、磁気シールドをほとんど励
磁することなく、各点における磁気抵抗効果ヘッドの出
力信号を正確に検出することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら詳細に説明する。

【００１５】図１は、本発明の一実施の形態である磁気
ヘッドの評価方法を実施する評価装置の構成の一例を示
す概念図であり、図２は、本実施の形態の評価技術の評
価対象となる磁気抵抗効果ヘッドの要部の構成の一例を
示す断面図である。

【００１６】まず、本実施の形態の磁気ヘッドの評価方
法および装置を説明する前に、図２によって、評価対象
となる磁気抵抗効果ヘッドの構造の一例について簡単に
説明する。

【００１７】図２は磁気抵抗効果ヘッドの一般的な構造
を示す図である。１０は下部磁気シールド膜であり、１
１は磁気抵抗効果膜、１２は磁気抵抗効果膜に信号の検
出電流１３を流すための一対の電極で磁気抵抗効果膜１
１の両端に接続されている。磁気抵抗効果膜１１は下部
絶縁膜１５および上部絶縁膜１６によって下部磁気シー
ルド膜１０および上部磁気シールド膜１４と絶縁されて
おり、一方の電極１２から磁気抵抗効果膜１１に流され
た検出電流１３は、磁気抵抗効果膜１１を通ってもう一
方の電極１２に流れる。紙面の手前側が磁気抵抗効果ヘ
ッドの媒体と対向する面であり、媒体からの磁界は紙面
に垂直方向に磁気抵抗ヘッドに印加される。この磁界に
よって磁気抵抗効果膜１１の磁化方向が変化し、それに
伴って磁気抵抗効果膜１１の電気抵抗が変化し、電極１
２に電圧の変化となって検出される。磁気抵抗効果ヘッ
ドの再生のトラック幅は、通常、磁気抵抗効果膜１１の
幅寸法１１ａとほぼ等しい。磁気抵抗効果膜１１は通常
ＮｉＦｅ合金薄膜などの強磁性薄膜が用いられている。
磁気抵抗効果膜１１の膜厚は１０から４０ｎｍ程度であ
る。下部磁気シールド膜１０および上部磁気シールド膜
１４もＮｉＦｅ合金薄膜のような軟磁気特性を有する強
磁性膜で作製されるが、膜厚は磁気抵抗効果膜１１の膜
厚に比べ桁違いに厚く、２〜３μｍ程度である。磁気抵
抗効果膜１１を絶縁する下部絶縁膜１５および上部絶縁
膜１６はＡl₂Ｏ₃ 等で作製され、膜厚は0.１〜0.２μｍ
程度である。上部絶縁膜１６と下部絶縁膜１５は、磁気
抵抗効果膜１１が下部磁気シールド膜１０および上部磁
気シールド膜１４の間のちょうど中心にくるように膜厚
が調整される。下部磁気シールド膜１０と上部磁気シー
ルド膜１４の間隔、すなわち上部絶縁膜１６および下部
絶縁膜１５と磁気抵抗効果膜１１の全体の厚さは、磁気
ヘッドの再生ギャップとなるため、再生分解能を高める
ためには下部磁気シールド膜１０と上部磁気シールド膜
１４の間隔を狭くしなければならない。以上説明したよ
うに、磁気抵抗効果ヘッドでは、非常に薄い磁気抵抗効
果膜１１が、非常に厚い磁気シールド膜と、薄い絶縁膜
を介して積層されたものであることがわかる。

【００１８】図９は磁気抵抗効果磁気ヘッドを、従来法
のように均一磁界で励磁し外部の磁界の大きさに対する
抵抗の変化を測定した例である。磁気抵抗効果ヘッドを
均一磁界中で励磁すると、外部磁界の大きさに対して抵
抗が変化するため、外部磁界に応じて電気抵抗が変化
し、そこに検出電流を流すことによって、抵抗の変化を
電圧の変化として検出することができる。磁気抵抗効果
ヘッドでは、磁界に対して出力の大きさが線形に変化す
ることが要求されるため、この応答曲線はなるべく直線
に近いものが望ましい。ところが、図９に示すように、
しばしば磁界−抵抗曲線上にジャンプ２１が見られる場
合がある。このようなジャンプの見られる原因は、磁気
シールド膜の磁壁が外部磁界の印加によって移動し、そ
の磁壁からの磁界が磁気抵抗効果膜に印加されてしまう
ためである。磁気シールドが磁化した際に、その磁化が
磁気抵抗効果膜に印加されてしまうのは、前述のよう
に、磁気抵抗効果ヘッドでは非常に厚い下部磁気シール
ド膜１０および上部磁気シールド膜１４と近接して、磁
気抵抗効果膜１１が置かれている、という磁気抵抗効果
ヘッドの構造に起因するものである。

【００１９】そこで、本実施の形態では、以下のよう
に、下部磁気シールド膜１０および上部磁気シールド膜
１４は磁化せずに、磁気抵抗効果膜１１を選択的に磁化
することで、磁気抵抗効果膜１１の特性を磁気シールド
膜の影響を排除して正確に測定する技術を開示する。

【００２０】図１は本実施の形態の磁気ヘッドの評価方
法を実施する評価装置の全体の構成を示している。この
図１を用いて、本実施の形態の磁気ヘッドの評価方法、
評価装置について説明する。本実施の形態の評価装置
は、微動ステージ３７、微小励磁源３１を支持し微動ス
テージ３７にて移動される支持部材３６、この支持部材
３６の微小励磁源３１に近接して対向するように評価対
象の磁気抵抗効果型の磁気ヘッド３４を支持するバネ３
５、支持部材３６を取り囲み、励磁電源３３からの電流
にて微小励磁源３１を励磁するコイル３２、微動ステー
ジ３７の動作を制御するステージコントローラ３９、磁
気ヘッド３４の磁気抵抗効果膜１１に検出電流を流して
外部磁荷による電圧変化を測定するプリアンプ４１およ
びスペクトラムアナライザ４２、全体を制御するととも
に、測定結果を微動ステージ３７の位置情報とともに記
録する計算機４０等をふくんでいる。

【００２１】すなわち、コイル３２は励磁電源３３に接
続され、励磁電源３３からの電流によって磁界を発生す
る。この磁界は後述の図３〜図６に例示される強磁性膜
４３（強磁性膜４７）を励磁し、強磁性膜４３（４７）
の端部に線状の微小励磁源３１を形成する。磁気ヘッド
３４はバネ３５によってトラック幅方向が微小励磁源３
１の線方向とほぼ直交するように固定されており、支持
部材３６に密着されている。さらに線状の微小励磁源３
１と支持部材３６はともに、微動ステージ３７上にのっ
ている。微動ステージ３７はステージコントローラ３９
によってコントロールされ、移動方向３８の方向（想定
される媒体上のトラックの幅方向）に移動可能である。
ステージコントローラ３９は計算機４０によって制御さ
れるとともに、微動ステージ３７の位置信号を計算機４
０に対して出力する。磁気ヘッド３４はプリアンプ４１
と接続されており、プリアンプ４１の出力はスペクトラ
ムアナライザ４２で励磁周波数成分のみの信号強度が取
り出され、その出力が計算機４０に出力される。計算機
４０では微動ステージ３７の位置信号と、微動ステージ
３７の各位置での磁気抵抗効果ヘッドの信号の強度が記
録される。

【００２２】測定はまず微小励磁源３１が磁気抵抗効果
ヘッドの想定される再生トラックから幅方向に数μｍず
れた位置、すなわち磁気抵抗効果ヘッドの磁気抵抗効果
膜１１から数μｍ離れた位置から開始し、その位置での
ヘッドの出力を測定するとともに、微動ステージ３７の
位置も測定する。次に、計算機４０からステージコント
ローラ３９に出される制御信号によって微動ステージ３
７が微小なステップで、磁気抵抗効果ヘッドのトラック
の幅方向に移動され、再びその位置でのヘッドの出力と
微動ステージ３７の位置を測定する。このステップを、
微小励磁源３１が磁気抵抗効果ヘッドのトラック部分を
通過し、反対側に至るまで繰り返すことによって、磁気
抵抗効果ヘッドのトラック幅方向の全体の出力特性が測
定される。

【００２３】図８はこのようにして測定された磁気抵抗
効果ヘッドの出力特性である。横軸はトラック幅方向の
位置であり、縦軸がその位置でのヘッド（磁気抵抗効果
膜１１）の出力である。ヘッドの出力はトラック中心付
近で大きくなり、トラックの端部で小さくなっている。
本実施の形態の評価方法では、磁気抵抗効果ヘッドの出
力電圧をそのままでは測定できないが、このようにして
得られた測定データをトラック方向に積分することによ
って、出力を相対的に比較することは可能である。ま
た、このトラック方向の出力電圧の分布は、磁気抵抗効
果ヘッドの再生感度の分布に対応しており、例えばこの
出力の半値幅ＨＷを求めることによって、当該磁気抵抗
効果ヘッドを構成する磁気抵抗効果膜１１の幅寸法１１
ａに対応した再生トラック幅を測定することも可能であ
る。

【００２４】微小励磁源３１を構成する強磁性膜４３
（４７）を励磁するコイル３２の励磁周波数は１００Ｋ
Ｈｚ以上の比較的高い周波数に設定することが望まし
い。これはプリアンプ４１のゲインが周波数の低いとこ
ろで低下するためと、出力の検出にスペクトラムアナラ
イザ４２を使用するので低い周波数では信号の検出がで
きないためである。したがって、強磁性膜４３（４７）
を励磁するコイル３２は巻き数が少なく、高周波で励磁
できるものとすることが必要である。ただし、プリアン
プ４１に周波数の下限の低いものを用い、他の高感度の
検出手段でヘッドの再生電圧を検出する場合には、励磁
周波数はこれより低くてもよい。たとえばヘッド出力の
検出はスペクトラムアナライザ４２の代わりにロックイ
ンアンプを用いて、励磁周波数と位相の同期した信号の
みを取り出せば、励磁周波数は数十Ｈｚでもよい。微動
ステージ３７の移動ステップは磁気ヘッドの再生トラッ
ク幅に対し十分狭くすることが必要で、好ましくは微小
励磁源３１の幅と同程度であることが望ましい。現在、
磁気ディスク装置で用いられている磁気ヘッドは再生ト
ラック幅が１μｍ以下となっているため、微動ステージ
３７の移動ステップは少なくとも0.１μｍ以下とするこ
とが必要である。

【００２５】図３は線状の微小励磁源３１として、媒体
対向面に対し直交して配置された強磁性膜４３を用いた
場合の斜視図であり、図４は、微小励磁源３１が形成さ
れる支持部材３６のみを取り出して示す斜視図である。
なお、図１の構成例では、この図３および図４の微小励
磁源３１を用いた例が示されている。

【００２６】強磁性膜４３は、支持部材３６を構成する
一対のブロック３６ｂおよびブロック３６ｃによって挟
みこまれ、その直線状の端縁部が微小励磁源３１を形成
し、磁気ヘッド３４の媒体対向面３４ａと密着してい
る。強磁性膜４３はコイル３２によって囲まれており、
コイル３２から発生する磁界によって磁化される。従っ
て、強磁性膜４３は比較的小さな励磁磁界で磁化するよ
うに、ＮｉＦｅ合金薄膜のような軟磁気特性にすぐれた
材料が望ましい。また、強磁性膜４３の膜厚４３ａは磁
気ヘッド３４の再生トラック幅に対して十分小さくする
ことが必要である。ただし、強磁性膜４３の膜厚をあま
り薄くすると、強磁性膜４３の端縁部すなわち微小励磁
源３１に発生する磁荷が減少し、磁気ヘッド３４の出力
が減少するので、磁気ヘッド３４の再生トラック幅の１
／１０から１／２０程度の厚さ（一例として４００Å以
下）とするのが良い。強磁性膜４３と支持部材３６は、
磁気ヘッドの媒体対向面３４ａと密着することが必要な
ため、磁気ヘッドと接触するヘッド対向面３６ａは十分
平滑に研磨することが必要である。磁気ヘッドと強磁性
膜４３の端縁部（微小励磁源３１）の間のギャップが大
きくなると、磁気ヘッドの再生出力が減少してしまうた
め、磁気抵抗効果ヘッドと微小励磁源３１の間は十分に
密着させなければならない。

【００２７】なお、支持部材３６を構成する一対のブロ
ック３６ｂおよびブロック３６ｃによって強磁性膜４３
を挟む構造は、たとえば一方のブロック３６ｂの一主面
に必要な厚さに強磁性膜４３をスパッタ等の方法にて形
成した後、他方のブロック３６ｃを強磁性膜４３に張り
合わせ、さらに、強磁性膜４３の端縁部が露出するヘッ
ド対向面３６ａとなる部分を平坦に研磨することで、任
意の厚さの強磁性膜４３を精密に形成することができ
る。

【００２８】図５は線状の微小励磁源３１を別の方法で
形成した場合の斜視図であり、図６は、微小励磁源３１
が形成される支持部材３６のみを取り出して示す斜視図
である。この図５の方法では、磁気ヘッドの媒体対向面
３４ａと平行で、支持部材３６上に形成された強磁性膜
４７の直線状の端縁部を微小励磁源３１とする。この場
合は強磁性膜４７は、磁気ヘッド３４のトラック方向に
磁化される。したがって、強磁性膜４７を励磁するコイ
ル３２は強磁性膜４７を囲むように配置される。強磁性
膜４７がトラック方向に磁化すると、図３の場合と同様
に強磁性膜４７の、微小励磁源３１として機能する端縁
部に磁荷を生じ、この磁荷による磁界が磁気抵抗効果ヘ
ッドを励磁する。

【００２９】上述の図３の方法は、強磁性膜４３を支持
部材３６のブロック３６ｂおよび３６ｃで挟み、かつ支
持部材３６と強磁性膜４３の端縁部を平滑に研磨する必
要があったが、この図５の方法では、強磁性膜４７をガ
ラス基板のような平滑な面上に作製し、イオンミリング
のような適当な方法で端縁部を形成することによって微
小励磁源３１を作製することができるので、微小励磁源
３１の作製が容易である。ただし、強磁性膜４７の微小
励磁源３１として機能する端縁部に生じる磁荷は、強磁
性膜４７の膜厚方向、すなわち磁気抵抗効果ヘッドの媒
体対向面３４ａに垂直方向に分布するため、強磁性膜４
７の膜厚４７ａが厚いと相対的に励磁源の幅が増大して
しまう欠点があるので、強磁性膜４７の膜厚４７ａはあ
まり厚くできない。たとえば強磁性膜４７の膜厚４７ａ
は１００Å以下に設定することができる。

【００３０】本実施の形態によれば、磁気抵抗効果ヘッ
ドの出力測定時に、微細な幅の直線状の微小励磁源３１
によって、磁気抵抗効果ヘッドの媒体対向面の微小な領
域のみが励磁されるため、磁気シールドをあまり磁化さ
せることなく、すなわち磁気シールドの磁化による影響
を受けることなく、磁気シールドに挟まれた磁気抵抗効
果膜１１の出力特性の測定を正確に行うことが可能であ
る。これは、磁気シールド膜の膜厚、幅に比べ微小励磁
源３１の幅が非常に小さいためであり、磁気シールド膜
の磁壁移動によるノイズの発生を押さえることができる
からである。

【００３１】また、本実施の形態の測定方法によれば、
磁気抵抗効果ヘッドのトラック幅方向の再生感度の分布
を精密に測定することが可能なため、磁気抵抗効果ヘッ
ドの再生トラック幅を精度良く測定、あるいは決定する
ことも可能である。

【００３２】さらに、本実施の形態の磁気抵抗効果の評
価装置を用いれば、微小励磁源３１による磁気抵抗効果
ヘッドの出力を、トラック幅方向の各位置において精密
に測定することができる。

【００３３】次に、図７のフローチャートにて、上述の
ような本実施の形態の磁気ヘッドの評価方法および装置
を用いた磁気ヘッドの製造方法の一例を説明する。

【００３４】磁気抵抗効果ヘッドの製造プロセスでは、
対象となる磁気ディスク媒体の記録密度、すなわち、当
該媒体に同心円状に設定されるトラックの幅寸法や間隔
に応じて、磁気抵抗効果膜１１のトラック幅方向の寸法
等の仕様を精密に決定する必要がある。

【００３５】従って、量産に先立つヘッド試作工程で
は、ウェハプロセスにて、ウェハに図２に例示された構
造の磁気抵抗効果部位を含む複数の磁気ヘッドを一括し
て形成した後（ステップ１０１）、ウェハのダイシング
にて個々の磁気ヘッドを分離し（ステップ１０２）、上
述のような評価方法および装置を用いた磁気抵抗効果部
位の機能評価を行う（ステップ１０３）。

【００３６】この評価結果が、目的の磁気ディスク媒体
に適合した性能となるまで、製造プロセスやヘッド構
造、各薄膜の材質等を適宜変化させる操作を繰り返す
（ステップ１０４、ステップ１１１）。

【００３７】そして、上述の試作工程で目的の性能の磁
気ヘッドが得られた後に、量産工程に移行し、量産工程
では、ウェハプロセスにて、ウェハに図２に例示された
構造の磁気抵抗効果部位を含む複数の磁気ヘッドを一括
して形成した後（ステップ１０５）、ウェハのダイシン
グにて個々の磁気ヘッドを分離したり研磨等の必要な加
工を施す（ステップ１０６）。

【００３８】そして、必要に応じて、量産された磁気ヘ
ッドに対して、上述の評価方法および装置等を用いた抜
取り検査を実行し（ステップ１０７）、性能不良等が認
められた場合には（ステップ１０８）、当該不良ヘッド
を含むロットの廃棄（ステップ１１２）等の対策を行
う。なお、この性能不良の原因は必要に応じて解析さ
れ、ステップ１０５、ステップ１０６等の量産工程の製
造プロセスにフィードバックされる（ステップ１１
３）。

【００３９】良品の磁気ヘッドは、出荷あるいは、自社
内のヘッド・ディスク・アセンブリ（ＨＤＡ）工程に供
給される（ステップ１０９、ステップ１１０）。

【００４０】本実施の形態の磁気ヘッドの製造方法によ
れば、磁気抵抗効果ヘッドを構成する磁気抵抗効果膜１
１等の特性を、磁気シールド膜等の影響を受けることな
く高精度の正確に測定できるので、試作段階における磁
気ヘッドの構造や仕様を対象となる磁気ディスク媒体の
性能等に応じて正確に決定でき、試作工程の工程完了ま
での所要時間の短縮による生産性の向上を実現できる。

【００４１】さらに、量産工程においても、抜取り検査
等における磁気ヘッドの正確な評価により、不良の解析
や、工程条件の改良等に寄与でき、磁気ヘッドの歩留り
の向上、さらには製造工程での生産性の向上を実現でき
る。

【００４２】以上本発明者によってなされた発明を実施
の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施
の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しな
い範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００４３】たとえば、評価対象としては、磁気ヘッド
等に限らず、評価対象に対する微小な磁荷の印加を必要
とする技術に広く適用することができる。

【００４４】

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの評価方法によれ
ば、磁気抵抗効果部位以外の磁気シールド部分等の周辺
構造の影響を排除し、磁気抵抗効果ヘッドの出力特性を
正確に評価することができる、という効果が得られる。

【００４５】本発明の磁気ヘッドの評価装置によれば、
磁気抵抗効果部位以外の磁気シールド部分等の周辺構造
の影響を排除し、磁気抵抗効果ヘッドの出力特性を正確
に評価することができる、という効果が得られる。

【００４６】本発明の磁気ヘッドの製造方法によれば、
磁気記録媒体等の特性や仕様等に応じた最適な再生特性
や構造を有する磁気抵抗効果ヘッドを歩留り良く、高い
生産性にて製造することができる、という効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
方法を実施する評価装置の構成の一例を示す概念図であ
る。

【図２】本発明の一実施の形態である評価技術の評価対
象となる磁気抵抗効果ヘッドの要部の構成の一例を示す
断面図である。

【図３】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
装置における微小励磁源の構成の一例を磁気ヘッドとと
もに示す斜視図である。

【図４】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
装置における微小励磁源の構成の一例を示す斜視図であ
る。

【図５】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
装置における微小励磁源の他の構成の一例を磁気ヘッド
とともに示す斜視図である。

【図６】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
装置における微小励磁源の他の構成の一例を示す斜視図
である。

【図７】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
方法および装置を用いた磁気ヘッドの製造方法の一例を
説明するフローチャートである。

【図８】本発明の一実施の形態である磁気ヘッドの評価
方法を実施する評価装置にて測定された磁気抵抗効果ヘ
ッドの出力特性の一例を示す線図である。

【図９】磁気抵抗効果磁気ヘッドを、従来法のように均
一磁界で励磁し外部の磁界の大きさに対する抵抗の変化
を測定した線図である。

【符号の説明】

１０…下部磁気シールド膜、１１…磁気抵抗効果膜、１
１ａ…幅寸法、１２…電極、１３…検出電流、１４…上
部磁気シールド膜、１５…下部絶縁膜、１６…上部絶縁
膜、２１…従来法の磁界―抵抗曲線上のシールド膜によ
るジャンプ、３１…微小励磁源、３２…コイル、３３…
励磁電源（外部励磁源）、３４…磁気ヘッド、３４ａ…
媒体対向面、３５…バネ、３６…支持部材、３６ａ…ヘ
ッド対向面、３６ｂ…ブロック、３６ｃ…ブロック、３
７…微動ステージ、３８…移動方向、３９…ステージコ
ントローラ、４０…計算機、４１…プリアンプ、４２…
スペクトラムアナライザ、４３…強磁性膜（第１の強磁
性膜）、４３ａ…膜厚、４７…強磁性膜（第２の強磁性
膜）、４７ａ…膜厚。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 線状に配置された微小励磁源を測定対象
   の磁気ヘッドの磁気抵抗効果部位に近接させ、前記微小
   励磁源と前記磁気抵抗効果部位とを相対的に移動させつ
   つ前記磁気抵抗効果部位からの出力信号を計測すること
   を特徴とする磁気ヘッドの評価方法。
2. 【請求項２】 線状に配置された微小励磁源と、前記微
   小励磁源に近接し、前記微小励磁源の線方向とトラック
   幅方向が実質的に直交するように配置された磁気抵抗効
   果ヘッドとを、前記磁気抵抗効果ヘッドのトラック幅方
   向に、微小なステップで相対的に移動させ、各ステップ
   毎に当該ステップ位置で前記微小励磁源からの磁界によ
   る前記磁気抵抗効果ヘッドの出力信号を検出し、トラッ
   ク幅方向の各点における前記磁気抵抗効果ヘッドの前記
   磁界に対する応答を測定することを特徴とする磁気ヘッ
   ドの評価方法。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の磁気ヘッドの評
   価方法において、 前記微小励磁源が、前記磁気抵抗効果ヘッドまたは前記
   磁気抵抗効果部位の媒体対向面に直交する第１の強磁性
   薄膜の直線状の端縁部と、前記強磁性薄膜を励磁する外
   部励磁源と、からなる第１の構成、 前記微小励磁源が、前記磁気抵抗効果ヘッドまたは前記
   磁気抵抗効果部位の媒体対向面に対し平行に配置された
   第２の強磁性薄膜の直線状の端縁部と、前記第２の強磁
   性薄膜を励磁する外部励磁源とからなる第２の構成、 のいずれかの構成であることを特徴とする磁気ヘッドの
   評価方法。
4. 【請求項４】 線状に配置された微小励磁源と、前記微
   小励磁源に近接し、前記微小励磁源の線方向とトラック
   幅方向が実質的に直交するよう磁気抵抗効果ヘッドを固
   定するヘッド支持手段と、前記磁気抵抗効果ヘッドのト
   ラック幅方向に、前記磁気抵抗効果ヘッドと前記微小励
   磁源を微小なステップで相対的に移動させる移動手段
   と、前記微小なステップの各々において、前記微小励磁
   源からの磁界による前記磁気抵抗効果ヘッドからの出力
   信号を検出するヘッド出力検出手段と、複数の前記ステ
   ップの各々の位置と前記磁気抵抗効果ヘッドからの出力
   信号とを対応付けて記録する記録手段と、を含むことを
   特徴とする磁気ヘッドの評価装置。
5. 【請求項５】 ウェハプロセスにて磁気抵抗効果部位を
   含む複数の磁気抵抗効果ヘッドをウェハに一括して制作
   する工程と、前記ウェハを切断して個々の前記磁気抵抗
   効果ヘッドを切り出す工程とを含む磁気ヘッドの製造方
   法であって、 線状に配置された微小励磁源を測定対象の前記磁気抵抗
   効果ヘッドの前記磁気抵抗効果部位に近接させ、前記微
   小励磁源と前記磁気抵抗効果部位とを相対的に移動させ
   つつ前記磁気抵抗効果部位からの出力信号を計測する工
   程を必要に応じて実行することを特徴とする磁気ヘッド
   の製造方法。