JP2000305264A - 蛍光体を含有する感光性樹脂組成物、蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間への
埋め込み性が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パター
ンを形成できる蛍光体パターンの製造法を提供する。 【解決手段】（Ｉ）凹凸を有する基板の上に、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層及び（Ｂ）埋め込み
層を順次配置した状態で、前記（Ｂ）層に圧力を加え
て、前記（Ａ）層及び（Ｂ）層を凹凸を有する基板上に
積層する工程、（II）（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物に活性光線を像的に照射する工程、（III）
（Ｂ）埋め込み層を除去する工程、（IV）現像により活
性光線を像的に照射した（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工
程及び（Ｖ）前記パターンから焼成により不要分を除去
して蛍光体パターンを形成する工程の各工程を含むこと
を特徴とする蛍光体パターンの製造法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物、蛍光体パターンの製造法、これに用
いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズ
マディスプレイパネル用背面板に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配置され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体層を設ける方法として
は、各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペース
トをスクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法
が提案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特
開平１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０
号公報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されて
いる。しかし、上記の蛍光体分散液は液状であるため、
蛍光体の沈澱等による分散不良が生じ易く、また、スラ
リー液に液状の感光性レジストを用いた場合には、暗反
応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の欠点を有
する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印刷精度に
劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応は困難で
ある等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等に活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部を除去し、さらに、焼成によ
り不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに蛍
光体パターンを形成するものである。従って、前記ＰＤ
Ｐ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、蛍
光体の分散性を確認する必要がなく、また、蛍光体分散
スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも優
れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍光
体パターンを形成することができる。

【０００５】また、従来の方法により感光性エレメント
を使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネー
トにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込む
と、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターンを
均一な膜厚、形状で形成することが困難であったことか
ら、近年、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に
埋め込み層を配置した状態で、埋め込み層に圧力を加え
てラミネートする方法が特開平１０−９２３１３号公報
に提案されている。しかし、この方法では、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の上に埋め込み層を配置した
状態で、埋め込み層に圧力を加えてラミネートする際、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層のカバーフィルム
（例えば、ポリエチレンやポリエチレンテレフタレー
ト）を剥離除去しにくくなる場合があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上に埋め込
み層を配置した状態で、埋め込み層に圧力を加えてラミ
ネートする際、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
カバーフィルムの除去性が優れ、作業性及び光感度に優
れる蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を提供するも
のである。

【０００７】請求項２記載の発明は、ＰＤＰ用基板等の
凹凸を有する基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板
であれば、バリアリブ壁面及び空間底面上における蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高
精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる蛍光体
パターンの製造法を提供するものである。請求項３記載
の発明は、請求項２記載の発明の効果に加えて、さらに
作業性、環境安全性に優れる蛍光体パターンの製造法を
提供するものである。

【０００８】請求項４記載の発明は、請求項２又は３記
載の発明の効果に加えて、さらに作業性に優れる蛍光体
パターンの製造法を提供するものである。請求項５記載
の発明は、請求項２、３又は４記載の発明の効果に加え
て、さらに膜べりの抑制に優れる蛍光体パターンの製造
法を提供するものである。請求項６記載の発明は、請求
項２、３、４又は５記載の発明の効果に加えて、さらに
作業性、光感度に優れる蛍光体パターンの製造法を提供
するものである。

【０００９】請求項７記載の発明は、エッジフュージョ
ンの抑制及びＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間
への埋め込み性が優れ、埋め込み層の除去性が優れ、高
精度で均一な形状の蛍光体パターンを作業性良く形成で
きる感光性エレメントを提供するものである。請求項８
記載の発明は、請求項７記載の発明の効果に加えて、さ
らに作業性、光感度に優れる感光性エレメントを提供す
るものである。

【００１０】請求項９記載の発明は、高精度で均一な形
状で輝度の優れた蛍光体パターンを提供するものであ
る。請求項１０記載の発明は、高精度で均一な形状で輝
度の優れた蛍光体パターンを備えたプラズマディスプレ
イパネル用背面板を提供するものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）フィル
ム性付与ポリマー、（ｂ）蛍光体、（ｃ）エチレン性不
飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｄ）活性光の
照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び（ｅ）
下記一般式（Ｉ）

【化２】 （ただし、式中Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子、水
酸基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示し、ｎ
は１〜２０の整数である）で表される化合物を含む蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物に関する。

【００１２】また、本発明は、（Ｉ）凹凸を有する基板
の上に、（Ａ）前記蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層及び（Ｂ）埋め込み層を順次配置した状態で、前記
（Ｂ）層に圧力を加えて、前記（Ａ）層及び（Ｂ）層を
凹凸を有する基板上に積層する工程、（II）（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物に活性光線を像的に照射
する工程、（III）（Ｂ）埋め込み層を除去する工程、
（IV）現像により活性光線を像的に照射した（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパ
ターンを形成する工程及び（Ｖ）前記パターンから焼成
により不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程
の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
法に関する。

【００１３】また、本発明は、（Ｉ）の工程が、（Ｉ
ａ）支持体フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層を有し、そ
の上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有
してなる感光性エレメントを、凹凸を有する基板に前記
（Ａ）層が接するようにして積層する工程である前記の
蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
（Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、赤、緑、及び青
に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からな
る多色のパターンを形成した後、（Ｖ）の工程を行い多
色の蛍光体パターンを形成する前記蛍光体パターンの製
造法に関する。また、本発明は、（Ｉ）〜（Ｖ）の各工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体
パターンを形成する前記蛍光体パターンの製造法に関す
る。また、本発明は、（Ｂ）埋め込み層が熱可塑性樹脂
を含むものである前記蛍光体パターンの製造法に関す
る。

【００１４】また、本発明は、支持体フィルム上に
（Ｂ）埋め込み層を有し、その上に（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を有してなる感光性エレメント
に関する。また、本発明は、（Ｂ）埋め込み層が熱可塑
性樹脂を含むものである前記感光性エレメントに関す
る。

【００１５】また、本発明は、前記蛍光体パターンの製
造法により製造された蛍光体パターンに関する。また、
本発明は、プラズマディスプレイパネル用基板上に前記
蛍光体パターンを備えてなるプラズマディスプレイパネ
ル用背面板に関する。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物は、（ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）
蛍光体、（ｃ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不
飽和化合物、（ｄ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光開始剤及び（ｅ）下記一般式（Ｉ）

【化３】 （ただし、式中Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子、水
酸基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示し、ｎ
は１〜２０の整数である）で表される化合物を含むこと
を特徴とする。

【００１７】一般式（Ｉ）における、アクリロイル基、
メタクリロイル基の化学構造は、それぞれ下記のとおり
である。

【化４】

【００１８】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マーとしては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重
合体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、特開平
１０−９２３１３号公報に記載されるビニル単量体等が
挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わ
せて使用される。

【００１９】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マーの重量平均分子量は、５，０００〜３００，０００
とすることが好ましく、２０，０００〜１５０，０００
とすることがより好ましい。この重量平均分子量が、
５，０００未満では、感光性エレメントとした場合にフ
ィルム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３０
０，０００を超えると、現像性（不要部が現像により、
容易に除去できる性質）が低下する傾向がある。なお、
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用い
て換算した値である。

【００２０】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層が、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、（ａ）フィルム性付与ポリマーのカルボキシル基
含有率（酸（mgKOH/g）で規定できる）を適宜調整する
ことができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ム等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、
９０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を
超えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパ
ターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）
が低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と
一種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像
する場合には、酸価を、１６〜２６０とすることが好ま
しい。この酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾
向があり、２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾
向がある。さらに、水と水に溶解しない一種以上の有機
溶剤とからなる現像液（エマルジョン現像液）を用いて
現像する場合には、カルボキシル基を含有しなくてもよ
い。なお、１，１，１−トリクロロエタン等の有機溶剤
現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有しなく
ても良い。

【００２１】本発明における（ｂ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、
ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅ
ｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００２２】本発明における（ｄ）蛍光体の粒径は、
０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍ
であることがより好ましく、２〜８μｍであることが特
に好ましい。この粒径が０．１μｍ未満では、発光効率
が低下する傾向があり、また、２０μｍを超えると、分
散性が低下する傾向がある。また、本発明における
（ｄ）蛍光体の形状としては、球形であることが好まし
く、その表面積はより小さい方が好ましい。

【００２３】本発明における（ｃ）エチレン性不飽和基
を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合
性多官能モノマとして知られているものを全て用いるこ
とができる（但し、（ｅ）成分である一般式（Ｉ）で表
される化合物のうちでＲ¹及びＲ²が（メタ）クリロイル
基であるものを除く）。

【００２４】例えば、下記一般式（II）

【化５】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜１
０の整数であり、Ｙは置換基を有していてもよい飽和又
は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリアル
キレングリコール残基、

【化６】 （式中、Ｒ³及びＲ⁴は各々独立に水素原子、メチル基、
エチル基、プロピル基又はトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立に炭素数１〜６のアルキレン
基を示し、ｊ及びｍは各々独立に１〜２０の整数を示
す）で表される末端にエチレン性不飽和基を有する化合
物等が挙げられる。

【００２５】一般式（II）中、Ｙで示される置換基を有
していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複素
環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基等を有する置換基を有し
ていてもよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環
状のアルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン
残基、シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残
基、シクロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残
基、ネオペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン
残基、シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプ
タン残基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基
等）、芳香族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、
アントラセン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基
等）、複素環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロ
ール残基、オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダ
ゾール残基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン
残基、トリアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残
基等）等が挙げられる。

【００２６】具体的には、例えば、アクリル酸又はメタ
クリル酸のエステル系モノマ、スチレン系モノマ、ポリ
オレフィン系モノマ、ビニル系モノマ、ニトリル系モノ
マ、テトエチレングリコールジメタクリレート等のポリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、２，２−ビス（４−アクリロ
キシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
メタクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシポリ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ビスフェ
ノールＡジグリシジルエーテルジアクリレート、ビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテルジメタクリレート、ウ
レタンジアクリレート化合物、特開平１０−９２３１３
号公報等に記載される光重合性多官能モノマ等が挙げら
れる。

【００２７】これらの不飽和結合を有する単量体は、い
ずれにしても、光照射によりラジカル重合するものであ
ればよく、また、これらの不飽和結合を有する単量体
は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００２８】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層は、蛍光体パターンの作製時
に、焼成により不要分を除去する必要があるため、前記
した（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物の中では、熱分解性が良好な、ポリエチレングリ
コールジメタクリレートがより好ましい。

【００２９】本発明における（ｄ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光開始剤としては、例えば、芳
香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル
−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２，２
−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２
−モルフォリノプロパノン−１、２，４−ジエチルチオ
キサントン、２−エチルアントラキノン、フェナントレ
ンキノン等）、ベンゾインエーテル（ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェ
ニルエーテル等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エ
チルベンゾイン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチ
ルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダゾー
ル二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニ
ル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾー
ル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フ
ェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニ
ル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−
５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を
組み合わせて使用される。

【００３０】本発明における（ｅ）化合物としては、特
に制限は無く、例えば、ｎ−パラフィン等のパラフィン
類、へプチルアルコール、デシルアルコール等の高級飽
和一価アルコール類、エチレングリコール、１，４−ブ
タンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−
ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２
−ドデカンジオール等の高級飽和二価アルコール類又は
これらアルコール類のアクリルあるいはメタクリル酸エ
ステル類等を使用することができる。

【００３１】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｃ）成分及び（ｅ）成分の総量が１００
重量部として、１０〜９０重量部とすることが好まし
く、２０〜８０重量部とすることがより好ましい。この
配合量が、１０重量部未満では、感光性エレメントをロ
ール状で供給した場合、蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物がロール端部からしみ出す（以下エッジフュージョ
ンと記す）ことにより、感光性エレメントのラミネート
時にロールからの繰り出しが困難となり、またしみ出し
た部分がＰＤＰ用基板の空間に部分的に過剰に埋め込ま
れ、製造歩留りが著しく低下する等の問題が生じたり、
フィルム形成性が低下する傾向があり、９０重量部を超
えると、感度が不充分となる傾向がある。

【００３２】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｃ）成分、（ｄ）成分及び（ｅ）成分の
総量１００重量部に対して、１０〜５００重量部とする
ことが好ましく、１０〜４００重量部とすることがより
好ましく、１０〜３００重量部とすることが特に好まし
く、５０〜２５０重量部とすることが極めて好ましい。
この配合量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光
させた場合に発光効率が低下する傾向があり、５００重
量部を超えると、感光性エレメントとした場合に、フィ
ルム形成性が低下したり、可とう性が低下する傾向があ
る。

【００３３】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｃ）成分及び（ｅ）成分の総量が１００
重量部として、１０〜９０重量部とすることが好まし
く、２０〜８０重量部とすることがより好ましい。この
配合量が、１０重量部未満では、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があり、９０重
量部を超えると、光硬化物が脆くなる傾向があり、ま
た、感光性エレメントとした場合に、蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物が流動によって端部からしみ出した
り、フィルム形成性が低下する傾向がある。

【００３４】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｃ）成分及び（ｅ）成分の総量１００重
量部に対して、０．０１〜３０重量部とすることが好ま
しく、０．１〜２０重量部とすることがより好ましい。
この配合量が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があ
り、３０重量部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物の露光表面での活性光の吸収が増大して、内部
の光硬化が不充分となる傾向がある。

【００３５】本発明のおける（ｅ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｃ）成分及び（ｅ）成分の総量１００重
量部に対して、０．０５〜３０重量部とすることが好ま
しく、０．１〜２０重量部とすることがより好ましい。
この配合量が、０．０５重量部未満では、蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層のカバーフィルムの除去性が充
分ではなくなる傾向があり、３０重量部を超えると、光
硬化物が脆くなる傾向があり、また、感光性エレメント
とした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物が流
動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性が低
下する傾向がある。

【００３６】本発明における凹凸を有する基板として
は、バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパネ
ル用基板（ＰＤＰ基板）等が挙げられる。ＰＤＰ用基板
としては、例えば、透明な接着のための表面処理を施し
ていてもよい、ガラス板、合成樹脂等の基板に、電極及
びバリアリブが形成されたものなどが挙げられる。バリ
アリブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使用で
きるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガラス
（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いることがで
きる。

【００３７】また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリア
リブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電
極、抵抗体層が形成されていてもよい。これらのもの
を、基板へ形成する方法としては、特に制限はなく、例
えば、基板に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗布、
印刷等の方法で、電極を形成することができ、印刷法、
サンドブラスト法、埋め込み法等の方法でバリアリブを
形成することができる。

【００３８】図１及び図２にバリアリブが形成されたＰ
ＤＰ用基板の一例の模式図を示した。バリアリブは、通
常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２００μｍと
される。バリアリブで囲まれた放電空間の形状には、特
に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム状、３
角形状、楕円形状等が可能であるが、通常、図１及び図
２等に示すような、格子状又はストライプ状の放電空間
が形成される。図１及び図２において、基板１上にはバ
リアリブ２が形成されており、図１では格子状放電空間
３が、図２ではストライプ状放電空間４が形成されてい
る。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によ
って決められ、通常、図１のような格子状放電空間であ
れば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、図２
のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は３０〜
１mmとなる。

【００３９】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長
期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、
カルボキシル基を有する化合物を含有させることができ
る。カルボキシル基を有する化合物としては、例えば、
飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二
塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられ
る。

【００４０】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリル酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００４１】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００４２】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
ができる。また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物層に
は、焼成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないよう
にするために、公知の結着剤を使用することができる。
また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、染料、発
色剤、可塑剤、顔料、表面改質剤、安定剤、密着性付与
剤、熱硬化剤等を必要に応じて添加することができる。

【００４３】本発明において、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層は、これを構成する前記各成分を溶
解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一に分散した溶液とし、支持体フィルム状に、塗
布、乾燥することにより得られた支持体フィルム及び
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感
光性エレメントの形態で供給することができる。

【００４４】前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、トタラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げら
れ、これらは単独又は２種類以上を組み合わせて使用さ
れる。

【００４５】前記支持体フィルムとしては、化学的及び
熱的に安定であり、また、可とう性の物質で構成され
た、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、
その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好ま
しい。支持体フィルムは、後に（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層から除去可能でなくてはならないた
め、除去が不可能となるような表面処理が施されたもの
であったり、材質であったりしてはならない。支持体フ
ィルムの厚さは、５〜１００μｍとすることが好まし
く、１０〜８０μｍとすることがより好ましい。

【００４６】前記塗布方法としては、公知の方法を用い
ることができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６
０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分
〜１時間とすることが好ましい。

【００４７】また、この塗布工程において、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する前記各成分
を溶解又は分散可能な溶液に、溶解又は混合させること
により、均一に分散した溶液と接触する部分の塗布装置
の材質は、非金属性の材質であることが好ましい。この
（Ａ）層を構成する溶液と接触する部分の塗布装置の材
質が金属である場合には、（Ａ）層を構成する溶液中の
蛍光体によって、これと接触する塗布装置が研磨され、
この研磨粉が（Ａ）層を構成する溶液中に不純物として
混入する傾向がある。

【００４８】前記した支持体フィルム及び（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメン
トは、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上
には、さらに剥離可能なカバーフィルムが積層されてい
てもよい。そのようなカバーフィルムとしては、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との接着力
よりも、カバーフィルムと（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層との接着力の方が小さいものであること
が好ましい。カバーフィルムの厚さは、特に制限はない
が、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜９０
μｍとすることがより好ましい。このようにして得られ
る感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とす
ることができる。

【００４９】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
２００μｍとすることが好ましく、２０〜１２０μｍと
することがより好ましく、３０〜８０μｍとすることが
特に好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、焼成後
の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低下する傾向
があり、２００μｍを超えると、焼成後の蛍光体パター
ンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発光効率が
低下する傾向がある。

【００５０】本発明における（Ｂ）埋め込み層を構成す
る材質としては、外部からの圧力により変形し、かつ
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からの剥離
が可能であるものであれば特に制限はなく、その材料と
しては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
メチルペンテン、ポリカーボネート、ポリウレタン、テ
フロン、ゴム類（ブタジエンゴム、スチレンヌタジエン
ゴム、シリコンゴム等）、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニル
トルエン、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸
エステル、エチレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレン
とアクリル酸エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビ
ニルの共重合体、スチレンとアクリル酸エステル又はメ
タクリル酸エステルとの共重合体、ビニルトルエンとア
クリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合
体、ポリビニルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エス
テル又はポリメタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ
酢酸ビニルの加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共
重合体の加水分解物、エチレンとアクリル酸エステルと
の共重合体の加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの
共重合体の加水分解物、スチレンとエチレンとアクリル
酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエン
とエチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の加水分
解物等）カルボキシルアルキルセルロースの水溶性塩、
水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキルでん
粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不飽和カルボン
酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合させる
ことにより得られるカルボキシル基を有する樹脂などが
挙げられる。これらは単独又は２種類以上組み合わせて
使用される。

【００５１】本発明における（Ｂ）埋め込み層には、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層における
（ｃ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合
物の（Ｂ）層へのマイグレーション抑制等の点から、エ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を含有
してなる樹脂組成物により構成することもできる。エチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物として
は、前述した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）エチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を使用す
ることができる。

【００５２】エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物の使用量は、（Ｂ）埋め込み層を構成する成分
の総量１００重量部に対して、０．１〜２０重量部とす
ることが好ましく、０．５〜１０重量部とすることがよ
り好ましい。この使用量が０．１重量部未満では、エチ
レン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物が（Ａ）
層から（Ｂ）層へマイグレーションする傾向があり、２
０重量部を超えると、エチレン性不飽和基を有する光重
合性不飽和化合物が（Ｂ）層から（Ａ）層へマイグレー
ションする傾向がある。

【００５３】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層
は、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層におけ
る（ｄ）活性光の照射により遊離ラジカルを発生する光
開始剤の（Ｂ）埋め込み層へのマイグレーション抑制等
の点から、活性光の照射により遊離ラジカルを生成する
光開始剤を含有してなる樹脂組成物により構成すること
もできる。活性光の照射により遊離ラジカルを生成する
光開始剤としては、前述した（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可
能な（ｄ）活性光の照射により遊離ラジカルを生成する
光開始剤を使用することができる。

【００５４】活性光の照射により遊離ラジカルを生成す
る光開始剤の使用量は、（Ｂ）埋め込み層を構成する成
分の総量１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部
とすることが好ましく、０．０５〜５重量部とすること
がより好ましい。この使用量が０．０１重量部未満は、
活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤が
（Ａ）層から（Ｂ）層へマイグレーションする傾向があ
り、１０重量部を超えると、活性光の照射により遊離ラ
ジカルを生成する光開始剤が（Ｂ）層から（Ａ）層へマ
イグレーションする傾向がある。

【００５５】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層に
は、その光重合の抑制等の点から、重合禁止剤を含有し
てなる樹脂組成物により構成することもできる。重合禁
止剤としては、特に制限はなく、例えば、２，６−ジ−
ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，２′−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′
−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、テトラキス−〔メチレン−３−（３′，５′−ジ
−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネ
ート〕メタン（アデカスタブＡＯ−２２０、旭電化工業
(株)製商品名）、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチ
ルエーテル、ベンゾキノン、ジフェニル−ｐ−ベンゾキ
ノン、ピロガロール、フェノチアジン、カテコール、レ
ゾルシノール、オルトジニトロベンゼン、パラジニトロ
ベンゼン、メタジニトロベンゼン、フェナントラキノ
ン、ヒンダードアミン化合物（旭電化工業(株)製商品
名：アデカスタブＬＡ−３２、ＬＡ−３６、ＬＡ−３
１、１４１３、ＬＡ−５１、ＬＡ−５２、ＬＡ−７７、
ＬＡ−５７、ＬＡ−６２、ＬＡ−６７、ＬＡ−６３、Ｌ
Ａ−８２、ＬＡ−８７、ＬＡ−５０１、ＬＡ−６０２、
ＬＡ−６０３）などを使用することができ、これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ
る。

【００５６】重合禁止剤の使用量は、（Ｂ）埋め込み層
を構成する成分の１００重量部に対して０．０１〜３０
重量部とすることが好ましく、０．０５〜２０重量部と
することがより好ましい。この使用量が０．０１重量部
未満だと重合禁止効果が十分でない可能性があり、３０
重量部を超えると、蛍光体パターンの形成性が劣る可能
性がある。

【００５７】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層中
には、粉末ガラス、有機マイクロビーズ等の光散乱材を
含有させることもできる。光散乱材の使用量は、埋め込
み層を構成する成分全体１００重量部に対して０．０５
〜８０重量部とすることが好ましく、０．１〜６０重量
部とすることがより好ましく、０．５〜５０重量部とす
ることがさらに好ましい。光散乱材の使用量が０．０５
重量部未満だと、形成された蛍光体層の光硬化性が不十
分となる傾向があり、８０重量部を超えると、蛍光体層
の埋め込み形状が劣る傾向がある。

【００５８】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層に
は、後述する支持体フィルム上への塗布性向上の点か
ら、レベリング剤を含有してなる樹脂組成物により構成
することもできる。レベリング剤としては、特に制限は
なく、例えば、市販のシリコン系又はフッ素系レベリン
グ剤、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール等のグリコール類、パラフィン類、界面活性剤、前
述した（Ａ）傾向体を含有する感光性樹脂組成物層を構
成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ｃ）エチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物等を使用するこ
とができる。上記した材料のうち、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、テフロン等は、溶融押出し法等に
よりフィルム状に形成されたものを、（Ｂ）埋め込み層
として使用することができる。

【００５９】また、本発明における（Ｂ）埋め込み層
は、これを構成する前記樹脂等を、これらを溶解又は分
散可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一
に溶解又は分散した溶液とし、支持体フィルム上に、塗
布、乾燥することにより得られるフィルム又はシートの
形態で供給することもできる。この支持体フィルムとし
ては、化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の
物質で構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン
等が挙げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレ
ートがより好ましい。支持体フィルムの厚さは、５〜１
００μｍとすることが好ましく、１０〜３０μｍとする
ことがより好ましい。塗布方法としては、公知の方法を
用いることができ、例えば、ナイフコート法、ロールコ
ート法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコ
ート法、カーテンコート法等が挙げられる。

【００６０】本発明における（Ｂ）埋め込み層の厚さ
は、特に制限はないが、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込
み性等の点から、１０〜２００μｍとすることが好まし
く、２０〜１００μｍとすることがより好ましい。ま
た、前記したフィルム又はシートにおける（Ｂ）埋め込
み層の上には、さらに、剥離可能なカバーフィルムを積
層することができる。このカバーフィルムとしては、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルム
と（Ｂ）埋め込み層との接着力よりも、カバーフィルム
と（Ｂ）埋め込み層との接着力の方が小さいものである
ことが好ましい。

【００６１】以下、本発明の蛍光体パターンの製造例の
一例を、各工程について、図３及び図４を用いて説明す
る。なお、図３及び図４は、本発明の蛍光体パターンの
製造法の一例の各工程を示した模式図である。また、本
発明の蛍光体パターンの製造法におけるこれらの工程
は、特開平１０−９２３１３号公報に準じて行うことも
できる。

【００６２】〔（Ｉ）凹凸を有する基板の上に、（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及び（Ｂ）埋め込
み層を順次配置した状態で、前記（Ｂ）層に圧力を加え
て、前記（Ａ）層及び（Ｂ）層を凹凸を有する基板上に
積層する工程〕この（Ｉ）工程では、凹凸を有する基板
上に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上
部に（Ｂ）埋め込み層が配置された状態で、（Ｂ）層を
圧着する。凹凸を有する基板上に、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の上部に（Ｂ）埋め込み層が配
置された状態で、（Ｂ）層を圧着する工程の一例を図３
（Ｉ）及び図３（II）に示した。

【００６３】図３（Ｉ）は、バリアリブ２が形成された
ＰＤＰ用基板１（凹凸を有する基板）上に、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層５を積層した状態を示
した。図３（Ｉ）において、バリアリブ２が形成された
ＰＤＰ用基板１に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物５を積層する方法としては、例えば、前記した支
持体フィルム及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を有してなる感光性エレメントを用いて積層する
方法等が挙げられる。この感光性エレメントを用いて積
層する場合は、感光性エレメントにカバーフィルムが存
在しているときは、そのカバーフィルムを除去後、ＰＤ
Ｐ用基板１のバリアリブ２を形成した面に、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層５が接するように、載
せただけでもよく、圧着ロール等で加圧してもよく、減
圧下において行ってもよい。また、この時加熱を伴うこ
ともできる。

【００６４】図３（II）は、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層５の上部に、（Ｂ）埋め込み層６を配
置し、（Ｂ）層を圧着し、バリアリブ２が形成されたＰ
ＤＰ用基板１（凹凸を有する基板）のバリアリブ壁面及
び基板底面上に囲まれた空間へ、（Ａ）層５及び（Ｂ）
層６を埋め込んだ状態を示した。図３（II）において、
（Ａ）層５の上部に、（Ｂ）層６を配置し、圧着する方
法としては、例えば、図３（Ｉ）の状態の（Ａ）層５の
上に支持体フィルムが存在している場合には、支持体フ
ィルムを除去した後、（Ａ）層５の上部に、（Ｂ）層６
（カバーフィルムが存在しているときは、そのカバーフ
ィルムを除去した後）を配置し、圧着ロール７等により
圧着する方法などが挙げられる。また、（Ａ）層５のＰ
ＤＰ基板の空間への埋め込み性をさらに向上するため
に、（Ｂ）層６の上に支持体フィルムが存在する場合に
は、その支持体フィルムを必要に応じて除去しながら圧
着ロール７等により圧着してもよい。

【００６５】このようにして、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物５をＰＤＰ用基板の空間に均一に形成
することができる。また、本発明における（Ｉ）工程で
は、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５と
（Ｂ）埋め込み層６とを、２層同時に加熱圧着しながら
積層させることもできる。また、前記した加熱圧着時の
加熱条件、圧着圧力条件及びＰＤＰ用基板の予備加熱条
件や、（Ｂ）埋め込み層６の膜厚等の各条件の組み合わ
せを変えることより、図５に示すような状態に積層する
こともできる。なお、図５は、本発明の蛍光体パターン
の製造法における、（Ｉ）工程終了後の一例である。

【００６６】〔（II）（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程〕活性光線
９を像的に照射する方法としては、図３（II）の状態の
（Ｂ）埋め込み層６の上部に、ネガフィルム、ポジフィ
ルム等のフォトマスク８を介して、活性光線９を像的に
照射することができる。この時、（Ｂ）層６の上に、前
記した支持体フィルムを新たに被覆して、活性光線９を
像的に照射することもできる。また、後述する（III）
（Ｂ）埋め込み層６を除去する工程を行った後に、直接
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層にフォトマ
スク８を介して、活性光線９を像的に照射することもで
きる。また、フォトマスク８の活性光線９の透過幅とし
ては、通常、ＰＤＰ用基板の凹部の開口幅であるが、前
記（Ｉ）の工程において、図３（II）のように積層させ
た場合は、ＰＤＰ用基板の凹部の開口幅よりも広い透過
幅とすることが、位置合わせ精度の裕度を大きくできる
点から好ましい。

【００６７】一方、前記（Ｉ）の工程において図５のよ
うに積層させた場合には、ＰＤＰ用基板の凹部の開口幅
と同じ透過幅か又はＰＤＰ用基板の凹部の開口幅よりも
狭い透過幅とすることが、バリアリブの上に所望しない
光硬化した蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を残さ
ず位置合わせ精度の裕度を大きくできる点から好まし
い。

【００６８】活性光線９としては、公知の活性光線が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、９，１０−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線９としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。ま
た、本発明における活性光線９としては、平行光線、散
乱光線等が挙げられ、平行光線及び散乱光線のどちらを
使用してもよく、また、両方を一工程において使用して
もよく、両方二段階で別々に使用してもよい。なお、両
方を二段階で別々に使用する場合には、どちらを先に行
ってもよい。また、本発明における活性光線９の照射量
は、特に制限はないが、光硬化性等の点から、５〜１
０，０００mJ/cm²とすることが好ましく、７〜５，００
０mJ/cm²とすることが好ましく、１０〜１，０００mJ/c
m²とすることが特に好ましい。

【００６９】〔（III）（Ｂ）埋め込み層を除去する工
程〕（Ｂ）埋め込み層６を剥離した状態を図３（IV）に
示した。図３（IV）において、（Ｂ）層６を除去する方
法としては、例えば、（Ｂ）層６上に、粘着テープを接
着したり、鈎型の治具等を用いて、物理的に（Ｂ）層６
を剥がす方法等が挙げられる。また、作業性の向上を目
的に、静電気、吸引等の力を利用して、（Ｂ）層６を剥
離する方法などを使用することもできる。また、（Ｂ）
層６を剥がした直後に、巻取用ロール等を使用して
（Ｂ）層６を巻取ることもできる。

【００７０】〔（IV）現像により活性光線を像的に照射
した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択
的に除去してパターンを形成する工程〕現像により不要
部を除去した状態を図４（Ｖ）に示した。なお、図４
（Ｖ）において、５′は光硬化後の蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層である。図４（Ｖ）において、現像方
法としては、例えば、図４（IV）の状態の後、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層５の上に支持体フィ
ルムが存在する場合には、これを除去した後、アルカリ
水溶液、水系現像液、有機溶媒等の公知の現像液を用い
て、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピン
グ等の公知方法により現像を行い、不要部を除去する方
法等が挙げられる。また、（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層５の不要部を除去する方法として、露光
部、未露光部の粘着性を有した不要部のみを剥離するド
ライ現像にて行うこともできる。

【００７１】〔（Ｖ）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕焼成によ
り不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状態
を図４（VI）に示した。なお、図４（VI）において、１
０は開口体パターンである。図４（VI）において、焼成
方法としては、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用
し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去し、蛍光体パ
ターンを形成することができる。この時の、焼成温度
は、３５０〜８００℃とすることが好ましく、４００〜
６００℃とすることがより好ましい。また、焼成時間
は、３〜１２０分間とすることが好ましく、５〜９０分
間とすることがより好ましい。この時の、昇温速度は、
０．５〜５０℃／分とすることが好ましく、１〜４５℃
／分とすることがより好ましい。また、最高焼成温度に
到達する前の３５０〜４５０℃の間に、その温度を保持
するステップを設けることができ、その保持時間は５〜
１００分間とすることが好ましい。

【００７２】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を提言できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（IV）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及
び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
からなる多色パターンを形成した後、（Ｖ）の工程を行
い、多色の蛍光体パターンを形成することが好ましい。
本発明において、赤色、青色及び緑色に発色するそれぞ
れの蛍光体を単独で有する（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層５は、赤色、青色及び緑色の各色につい
て、どの様な順番でも行うことができる。

【００７３】本発明における（Ｉ）〜（IV）の各工程を
１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物を含む多色パターンを
形成した状態を図６に示した。図６において、５′ａは
１色目のパターン、５′ｂは２色目のパターン及び５′
ｃは３色目のパターンである。また、本発明における
（Ｖ）の工程を行い多色の蛍光体パターンを形成した状
態を図７に示した。図７において、１０ａは１色目の蛍
光体パターン、１０ｂは２色目の蛍光体パターン及び１
０ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【００７４】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、膜べりの抑制等の点から、前記本発明における
（Ｉ）〜（Ｖ）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、
緑色及び青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
ることが好ましい。

【００７５】本発明の蛍光体パターンの製造法において
は、前記（Ｉ）の工程が、（Ｉａ）支持体フィルム上
に、（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め
込み層を有し、その上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を有してなる感光性エレメントを、凹凸を
有する基板に前記（Ａ）層が接するようにして積層する
工程であることが、作業性、環境安全性の観点からは好
ましい。

【００７６】この場合は、蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉａ）支持体フィルム上に、（Ｂ）埋め込み層として
の（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を有し、その上に
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感
光性エレメントを、凹凸を有する基板の凹凸表面上に、
（Ａ）層が接するように加熱し加圧して凹凸表面上に
（Ａ）層及び（Ｂａ）層を積層する工程、（IIａ）
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を活性光線
により像的に照射する工程、（IIIａ）（Ｂ）埋め込み
層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を除去する工
程、（IVａ）現像により（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層から不要分を除去する工程、（IVａ）現像
により（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層から
不要分を除去する工程、並びに、（Ｖａ）焼成により
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層から不要成
分を除去する工程を含むことになる。

【００７７】前記した（Ｉａ）工程で使用される感光性
エレメントも本発明の一つであり、この支持体フィルム
上に、（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋
め込み層を有し、その上に（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層を有してなる感光性エレメントは、前記
した（Ｂ）埋め込み層を構成する成分を、これを溶解す
る溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一な溶液
とし、この溶液を前記した支持体フィルム上にナイフコ
ート法、ロールコート法、スプレーコート法、グラビア
コート法、バーコート法、カーテンコート法等の公知の
塗布方法を用いて、塗布、乾燥することにより支持体フ
ィルム上に（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能
な埋め込みを形成し、この形成した（Ｂａ）層の上に、
（Ａ）層を構成する前記各成分を、これを溶解又は分散
可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより、均一に
分散した溶液を、ナイフコート法、ロールコート法、ス
プレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カ
ーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾
燥して（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形
成することにより得ることができる。

【００７８】このようにして得られた本発明の感光性エ
レメントの（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
の上には、さらに剥離可能な前記カバーフィルムを積層
することができる。カバーフィルムとしては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと
（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め込み
層との接着力及び（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥
離可能な埋め込み層と（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層との接着力よりも、カバーフィルムと（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との接着力の方が
小さいものであることが好ましい。

【００７９】（Ｂ）埋め込み層を構成する樹脂又は
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
前記各成分を溶解する溶剤としては、例えば、水、トル
エン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−
ブチルラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルスルホン、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、クロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコ
ール、エチルアルコール等が挙げられる。これらは単独
で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００８０】また、塗布工程において、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層を構成する前記各成分を溶
解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一に分散した溶液と接触する部分の塗布装置の材
質は、非金属性の材質であることが好ましい。この
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
溶液と接触する部分の塗布装置の材質が金属である場合
には、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構
成する溶液中の蛍光体によって、これと接触する塗布装
置が研磨され、この研磨粉が（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する溶液中に不純物として混入
する傾向がある。乾燥温度は、６０〜１３０℃とするこ
とが好ましく、乾燥時間は、３分〜１時間とすることが
好ましい。

【００８１】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
２００μｍとすることが好ましく、１５〜１５０μｍと
することがより好ましく、２０〜１００μｍとすること
が特に好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、後述
する焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低
下する傾向があり、２００μｍを超えると、焼成後の蛍
光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して
発光効率が低下する傾向がある。

【００８２】本発明における（Ｂ）埋め込み層としての
（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層の厚さは、特に制限はな
いが、１０〜２００μｍとすることが好ましく、１５〜
１５０μｍとすることがより好ましく、２０〜１００μ
ｍとすることが特に好ましい。この厚さが、１０μｍ未
満では、後述する焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、
発光効率が低下する傾向があり、２００μｍを超える
と、焼成後の蛍光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光
面積が縮小して発光効率が低下する傾向がある。

【００８３】また、本発明の感光性エレメントは、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な前記溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一に分散した溶液を、前記し
た支持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗
布、乾燥することにより（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を形成した後、この（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層と前記支持体フィルム上に設けた
（Ｂ）埋め込み層が接するように張り合わせることによ
り得ることもできる。この時、（Ｂａ）層が接している
支持体フィルムと（Ｂａ）層との接着力及び（Ｂａ）層
と（Ａ）層との接着力よりも、（Ａ）層が接している支
持体フィルムと（Ａ）層との接着力の方が小さいもので
あることが好ましい。このようにして得られる本発明の
感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とする
ことができる。

【００８４】以下、（Ｉ）の工程が、（Ｉａ）支持体フ
ィルム上に、（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂ）剥離可能
な埋め込み層を有し、その上に（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層を優位なる感光性エレメントを、凹
凸を有する基板に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層が接するようにして積層する工程である場合につ
いて、各工程を図８を用いて説明する。なお、図８は、
本発明の蛍光体パターンの製造法の一工程である（Ｉ
ａ）工程を示した模式図である。

【００８５】〔（Ｉａ）支持体フィルム上に、（Ｂ）埋
め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を有
し、その上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を有してなる感光性エレメントを、凹凸を有する基板
に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が接する
ようにして積層する工程〕バリアリブ２が形成された前
記ＰＤＰ用基板１（凹凸を有する基板）の凹凸表面上
に、（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め
込み層６ａ及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層５を含む本発明の感光性エレメントを、圧着ロール
７を用いて積層させた状態を図８に示した。

【００８６】図８の工程において、バリアリブ２が形成
されたＰＤＰ用基板１上に、（Ｂ）埋め込み層としての
（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層６ａ及び（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５を含む本発明の感光性エ
レメントを積層させる方法としては、例えば、感光性エ
レメントにカバーフィルムが存在しているときは、その
カバーフィルム（支持体フィルム上に（Ｂ）埋め込み層
としての（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を形成したもの
と、支持体フィルム上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を形成したものを張り合わせて得られた感
光性エレメントを使用する場合は、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５の支持体フィルム）を除去
後、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面に、（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が接するよう
に、圧着ロール７で圧着させること等により積層するこ
とができる。このようにして、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層５をＰＤＰ用基板の凹部空間に均一
に形成することができる。

【００８７】また、本発明の感光性エレメントの前記し
た加熱圧着時の加熱条件、圧着圧力条件及びＰＤＰ用基
板の予備加熱条件や、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層５と（Ｂ）埋め込み層としての（Ｂａ）剥離
可能な埋め込み層６ａの膜厚等の各条件の組み合わせを
変えることにより、図５に示すような状態に積層するこ
ともできる。

【００８８】〔（IIａ）（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を活性光線により像的に照射する工程〕活
性光線を像的に照射する方法としては、前記（II）
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を活性光線
により像的に照射する工程と同様の方法を用いることが
できる。

【００８９】〔（IIIａ）（Ｂ）埋め込み層としての
（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を除去する工程〕（Ｂ）
埋め込み層としての（Ｂａ）剥離可能な埋め込み層を除
去する方法としては、前記（II）（Ｂ）埋め込み層を除
去する工程と同様の全ての方法を用いることができる。

【００９０】〔（IVａ）現像により活性光線を像的に照
射した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選
択的に除去してパターンを形成する工程〕現像により不
要部を除去する方法としては、前記（IV）現像により活
性光線を像的に照射した（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工
程と同様の全ての方法を用いることができる。

【００９１】〔（Ｖａ）前記パターンから焼成により不
要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕焼成に
より不要分を除去する方法としては、前記（Ｖ）前記パ
ターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パターン
を形成する工程と同様の全ての方法を用いることができ
る。

【００９２】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、工程数を低減できる等の点から、前記本発明におけ
る（Ｉａ）〜（IVａ）の各工程を１色毎に繰り返して、
赤色、緑色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層からなる多色パターンを形成した後、（Ｖ
ａ）の工程を行い多色の蛍光体パターンを形成すること
が好ましい。本発明において、赤色、青色及び緑色に発
色するそれぞれの蛍光体を単独で含む（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５は、赤色、青色及び緑色の
各色について、どの様な順番でも行うことができる。ま
た、本発明の蛍光体パターンの製造法は、膜べりの抑制
等の点から、前記本発明における（Ｉａ）〜（Ｖａ）の
各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発
色する多色の蛍光体パターンを形成することが好まし
い。

【００９３】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、上述のようにして得られた蛍光体パターンを、
プラズマディスプレイパネル用基板上に備えてなるもの
である。以下、プラズマディスプレイパネル用背面板に
ついて、図９を用いて説明する。なお、図９は、プラズ
マディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例を示した模式図
であり、図９において１は基板、２はバリアリブ、４は
ストライプ状放電空間、１０は蛍光体パターン、１１は
アドレス用電極、１２は保護膜、１３は誘電体層、１４
は表示用電極及び１５は前面板用基板である。

【００９４】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマの溶液（ａ−１）の作製〕撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下
で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の
滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分
子量が８０，０００、酸価が１３０mgKOH／gのフィルム
性付与ポリマの溶液（固形分４５．５重量％）（ａ−
１）を得た。

【００９５】

【表１】

【００９６】実施例１ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ａ−１）の作製〕表２に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ａ−１）を作製した。

【００９７】

【表２】

【００９８】製造例２〜５ 〔（Ｂ）重合禁止剤を含有する埋め込み層用溶液(Ｂ−
１)〜(Ｂ−４)の作製〕表３に示す材料を６０℃に加熱
しながらメカニカルスターラーを用いて３０分間混合
し、埋め込み層溶液（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）を作製し
た。

【００９９】

【表３】

【０１００】なお、表３において使用した重合禁止剤を
下記に示した。

【化７】

【０１０１】得られた溶液を２０μｍの厚さのポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜
１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を
除去し、（Ｂ）埋め込み層を作製した。得られた（Ｂ）
層の乾燥後の厚さは、６０μｍであった。次いで、この
（Ｂ）層の上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィル
ムをカバーフィルムとして張り合わせて、埋め込み層を
含むフィルム（Ｂ−１）〜（Ｂ−４）を作製した。

【０１０２】実施例２ 〔感光性エレメント（Ｅ−１）の作製〕実施例１で得ら
れた、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶
液（Ａ−１）を２０μｍの厚さのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に均一に塗布し、１１０℃の熱風対流
式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を形成した。得られた
（Ａ）層の厚さは６０μｍであった。次いで、この
（Ａ）層の上に、さらに、製造例２で得られた埋め込み
層を含むフィルム（Ｂ−１）のカバーフィルムを剥がし
たフィルムを、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と
埋め込み層が接するようにて張り合わせて、感光性エレ
メント（Ｅ−１）を作製した。

【０１０３】実施例３〜５ 〔感光性エレメント（Ｅ−２）〜（Ｅ−４）の作製〕実
施例２において、埋め込み層を含むフィルムを（Ｂ−
１）からそれぞれ（Ｂ−２）〜（Ｂ−４）に代えた以外
は、実施例２と同様の操作を行い、感光性エレメント
（Ｅ−２）〜（Ｅ−４）を得た。

【０１０４】実施例２〜実施例５で得られた感光性エレ
メント（Ｅ−１）〜（Ｅ−４）のエッジフュージョン性
を下記の方法で測定した。ロール上に巻き取られた長さ
９０ｍの感光性エレメント（Ｅ−１）〜（Ｅ−４）を温
度が２３℃、湿度が６０％ＲＨで保管し、ロール面から
の感光層のしみ出しの様子を、６カ月間にわたって目視
で評価したところ、感光層のしみ出しが無く、エッジフ
ュージョン性が良好であることが分かった。

【０１０５】実施例６ 〔蛍光体パターンの形成〕 〔（Ｉ）凹凸を有する基板の上に、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層及び（Ｂ）埋め込み層に圧力を
加えて、前記（Ａ）層及び（Ｂ）層を凹凸を有する基板
上に積層する工程〕ＰＤＰ用基板（ストライプ状のバリ
アリブ、バリアリブ間の開口幅１４０μｍ、バリアリブ
の幅７０μｍ、バリアリブの高さ１４０μｍ）のバリア
リブが形成された側に、実施例２で得られた感光性エレ
メント（Ｅ−１）の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層側のカバーフィルムであるポリエチレンフィル
ムを剥がしながら、ラミネータ（日立化成工業(株)製商
品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、加熱温度が１１
０℃、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が
０．５ｍ／分、圧着圧力が５×１０³N/m（線圧）で圧着
し、（Ａ）層及び（Ｂ）層を、バリアリブ壁面及び基板
底面上に囲まれた空間へ埋め込んだ。

【０１０６】なお、この際、感光性エレメント（Ｅ−
１）の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層側の
カバーフィルムであるポリエチレンフィルムの剥離性を
目視で評価した。評価結果を表５に示す。 ・目視での剥離性 ○：（Ａ）層とポリエチレンフィルムが簡単に剥離でき
るもの ×：（Ａ）層とポリエチレンフィルムの剥離が困難なも
の

【０１０７】〔（II）（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程〕次に、
(株)オーク製作所製ＨＭＷ−５９０型露光機を使用し、
１００mJ/cm²で活性光線を像的に照射した。

【０１０８】〔（III）（Ｂ）埋め込み層を除去する工
程〕次いで、（Ｂ）埋め込み層に粘着テープを接着し、
物理的に（Ｂ）層を剥離した。なお、この際、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層と（Ｂ）埋め込み層
の剥離性を、目視及び接着強度で下記条件により評価し
た。評価結果を表５に示す。 ・目視での剥離性 ○：（Ａ）層と（Ｂ）層が簡単に剥離できるもの ×：（Ａ）層と（Ｂ）層の剥離が困難なもの ・接着強度 （Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と（Ｂ）埋
め込み層の接着強度は、不動工業(株)製レオメーターＮ
ＲＭ−２０１０Ｊ−ＣＷ型を使用して、ピール強度で評
価した。 サンプルサイズ：２０×１００（mm） 引き剥がし速度：３０mm/min

【０１０９】〔（IV）現像により活性光線を像的に照射
した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を選択
的に除去してパターンを形成する工程〕次いで、活性光
線の照射後、常温で１時間放置した後、１重量％炭酸ナ
トリウム水溶液を用いて３０℃で７０秒間スプレー現像
した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電材(株)
製紫外線照射装置を使用して、３mJ/cm²の紫外線照射を
行った。

【０１１０】〔（Ｖ）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕次に、５
５０℃３０分間加熱処理（焼成）を行い、不必要な樹脂
成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを
形成させた。

【０１１１】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を実態顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて
観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表
５に示した。評価基準は下記の通りである。 ○：蛍光体パターンがＰＤＰ用の基板の空間（バリアリ
ブ壁面及びセル底面上）に均一に形成されている ×：蛍光体パターンがＰＤＰ用の基板の空間（バリアリ
ブ壁面及びセル底面上）に均一に形成されていない

【０１１２】実施例７〜９ 実施例６の（Ｉ）工程において、感光性エレメントを
（Ｅ−１）からそれぞれ（Ｅ−２）〜（Ｅ−４）に代え
た以外は、実施例６と同様の操作を行い、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層側のカバーフィルムであ
るポリエチレンフィルムの剥離性、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層と（Ｂ）埋め込み層の接着力及
び蛍光体パターンの形成状況を評価した。結果を表５に
示す。

【０１１３】比較例１ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ａ−２）の作製〕表４に示す材料をライカイ機を用い
て１５分間混合し、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層用溶液（Ａ−２）を作製した。

【０１１４】

【表４】

【０１１５】比較例２ 〔感光性エレメント（Ｅ−５）の作製〕実施例２におい
て、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ａ−１）を、（Ａ−２）に代えた以外は、実施例２と
同様の操作を行い、感光性エレメント（Ｅ−５）を得
た。

【０１１６】比較例３ 実施例６の（Ｉ）工程において、感光性エレメントを
（Ｅ−１）から（Ｅ−５）に代えた以外は、実施例６と
同様の操作を行い、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層側のカバーフィルムであるポリエチレンフィル
ムの剥離性、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層と（Ｂ）埋め込み層の接着力及び蛍光体パターンの形
成状況を評価した。結果を表５に示す。

【０１１７】

【表５】

【０１１８】

【発明の効果】請求項１記載の蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の
上に埋め込み層を配置した状態で、埋め込み圧力を加え
てラミネートする際、蛍光体の除去性に優れ、作業性及
び光感度に優れる。請求項２記載の蛍光体パターンの製
造法は、ＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板への空間へ
の埋め込み性（ＰＤＰ用基板であれば、バリアリブ壁面
及び空間底面上における蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層の形成性）が優れ、埋め込み層の除去性が優れ、
高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成できる。

【０１１９】請求項３記載の蛍光体パターンの製造法
は、請求項２記載の蛍光体パターンの製造法の効果を奏
し、さらに作業性、環境安全性に優れる。請求項４記載
の蛍光体パターンの製造法は、請求項２又は３記載の蛍
光体パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性に優
れる。請求項５記載の蛍光体パターンの製造法は、請求
項２又は３記載の蛍光体パターンの製造法の効果を奏
し、さらに膜減りの抑制に優れる。請求項６記載の蛍光
体パターンの製造法は、請求項２、３、４又は５記載の
蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性、
光感度に優れる。

【０１２０】請求項７記載の感光性エレメントは、エッ
ジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板等の凹凸を有す
る基板の空間への埋め込み層が優れ、高精度で均一な形
状の蛍光体パターンを作業性良く形成できる。請求項８
記載の感光性エレメントは、請求項７記載の感光性エレ
メントの効果を奏し、さらに作業性、光感度に優れる。

【０１２１】請求項９記載の蛍光体パターンは、高精度
で均一な形状で輝度の優れたものである。請求項１０記
載のプラズマディスプレイパネル用背面板は、高精度で
均一な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを備えたもの
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図５】本発明の蛍光体パターンの製造法おける、
（Ｉ）工程終了後の一例である。

【図６】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図７】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【図８】本発明の蛍光体パターンの製造法の一工程を示
した模式図である。

【図９】本発明のプラズマディスプレイパネル用背面板
の一例を示した模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ バリアリブ ３ 格子状放電空間 ４ ストライプ状放電空間 ５ 蛍光体を含有する感光性樹脂組成物 ５′ 光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物 ５′ａ １色目のパターン ５′ｂ ２色目のパターン ５′ｃ ３色目のパターン ６ 埋め込み層 ６ａ 剥離可能な埋め込み層 ７ 圧着ロール ８ フォトマスク ９ 活性光線 １０ 蛍光体パターン １０ａ １色目の蛍光体パターン １０ｂ ２色目の蛍光体パターン １０ｃ ３色目の蛍光体パターン １１ アドレス用電極 １２ 保護膜 １３ 誘電体層 １４ 表示用電極 １５ 前面板用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ Ｂ３２Ｂ 7/02 １０３ (72)発明者 野尻 剛 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 佐藤 和也 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 島村 真理子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AA02 AB11 AB17 AC01 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 BC51 BC65 CA00 CB13 CB14 CC15 DA03 DA20 DA40 EA03 EA08 EA10 FA12 FA28 4F100 AK01A AK25A AT00B BA02 CA30A DD01B EJ171 EJ522 EJ912 GB41 JL08A JN17A 4H001 CA01 CC13 XA05 XA08 XA12 XA13 XA14 XA15 XA16 XA17 XA20 XA23 XA30 XA38 XA39 XA48 XA56 XA57 XA64 YA13 YA17 YA25 YA29 YA30 YA31 YA47 YA58 YA63 YA65 5C028 FF16 HH14 5C040 FA01 GA03 GB02 GG09 JA19 KA15 KA16 MA22 MA23 MA24 MA30

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （ａ）フィルム性付与ポリマー、（ｂ）
   蛍光体、（ｃ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不
   飽和化合物、（ｄ）活性光の照射により遊離ラジカルを
   生成する光開始剤及び（ｅ）下記一般式（Ｉ） 【化１】 （ただし、式中Ｒ¹及びＲ²は、各々独立に水素原子、水
   酸基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示し、ｎ
   は１〜２０の整数である）で表される化合物を含む蛍光
   体を含有する感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 （Ｉ）凹凸を有する基板の上に、（Ａ）
   請求項１記載の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層及
   び（Ｂ）埋め込み層を順次配置した状態で、前記（Ｂ）
   層に圧力を加えて、前記（Ａ）層及び（Ｂ）層を凹凸を
   有する基板上に積層する工程、（II）（Ａ）蛍光体を含
   有する感光性樹脂組成物に活性光線を像的に照射する工
   程、（III）（Ｂ）埋め込み層を除去する工程、（IV）
   現像により活性光線を像的に照射した（Ａ）蛍光体を含
   有する感光性樹脂組成物層を選択的に除去してパターン
   を形成する工程及び（Ｖ）前記パターンから焼成により
   不要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程の各工
   程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造法。
3. 【請求項３】 （Ｉ）の工程が、（Ｉａ）支持体フィル
   ム上に、（Ｂ）埋め込み層を有し、その上に（Ａ）蛍光
   体を含有する感光性樹脂組成物層を有してなる感光性エ
   レメントを、凹凸を有する基板に前記（Ａ）層が接する
   ようにして積層する工程である請求項２記載の蛍光体パ
   ターンの製造法。
4. 【請求項４】 （Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、
   赤、緑、及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂
   組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（Ｖ）
   の工程を行い多色の蛍光体パターンを形成する請求項２
   又は３記載の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（Ｖ）の各工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項２又は３記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （Ｂ）埋め込み層が熱可塑性樹脂を含む
   ものである請求項２、３、４又は５記載の蛍光体パター
   ンの製造法。
7. 【請求項７】 支持体フィルム上に（Ｂ）埋め込み層を
   有し、その上に（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
   物層を有してなる感光性エレメント。
8. 【請求項８】 （Ｂ）埋め込み層が熱可塑性樹脂を含む
   ものである請求項７記載の感光性エレメント。
9. 【請求項９】 請求項２、３、４、５又は６記載の蛍光
   体パターンの製造法により製造された蛍光体パターン。
10. 【請求項１０】 プラズマディスプレイパネル用基板上
    に請求項９記載の蛍光体パターンを備えてなるプラズマ
    ディスプレイパネル用背面板。