JP2000305084A - 反射型液晶表示デバイス - Google Patents
反射型液晶表示デバイスInfo
- Publication number
- JP2000305084A JP2000305084A JP11110530A JP11053099A JP2000305084A JP 2000305084 A JP2000305084 A JP 2000305084A JP 11110530 A JP11110530 A JP 11110530A JP 11053099 A JP11053099 A JP 11053099A JP 2000305084 A JP2000305084 A JP 2000305084A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- display device
- crystal display
- alignment film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 35
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 焼き付き及び干渉縞の発生を防止し、光効率
の高い光源を用いることができ、また反射率が低下せ
ず、しかも生産性の高い反射型液晶表示デバイスを提供
する。 【解決手段】 第1基板2上に順次形成された反射電極
4と,第1配向膜5と、第2基板10上に順次形成され
た中間膜9と,透明電極8と,第2配向膜7と、第1基板
2の第1配向膜5と第2基板10の第2配向膜7とを対
向配置させ、第1配向膜5と第2配向膜7との間に注入
形成された液晶層6とからなる反射型液晶表示デバイス
1において、液晶層6の屈折率を第1配向膜5よりも高
く、第2配向膜7よりも小さくし、かつ中間膜9の屈折
率を第2基板10よりも高く、透明電極8よりも小さく
した。
の高い光源を用いることができ、また反射率が低下せ
ず、しかも生産性の高い反射型液晶表示デバイスを提供
する。 【解決手段】 第1基板2上に順次形成された反射電極
4と,第1配向膜5と、第2基板10上に順次形成され
た中間膜9と,透明電極8と,第2配向膜7と、第1基板
2の第1配向膜5と第2基板10の第2配向膜7とを対
向配置させ、第1配向膜5と第2配向膜7との間に注入
形成された液晶層6とからなる反射型液晶表示デバイス
1において、液晶層6の屈折率を第1配向膜5よりも高
く、第2配向膜7よりも小さくし、かつ中間膜9の屈折
率を第2基板10よりも高く、透明電極8よりも小さく
した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示デ
バイスに関し、特にビデオプロジェクタ等の大画面ディ
スクプレイに用いられる反射型液晶表示デバイスに関す
る。
バイスに関し、特にビデオプロジェクタ等の大画面ディ
スクプレイに用いられる反射型液晶表示デバイスに関す
る。
【0002】
【従来の技術】大画面を表示する装置として液晶プロジ
ェクタがあるが、透過型液晶表示デバイスよりも大きな
開口率を有する反射型液晶表示デバイスも最近用いられ
ている。以下に、従来の反射型液晶表示デバイスについ
て図3を用いて説明する。図3は、従来の反射型液晶表
示デバイスを示す断面図である。まず始めに、従来の反
射型液晶表示デバイス13の構成について説明する。図
3に示すように、シリコン基板2上に薄膜トランジスタ
及11及び場合によってはコンデンサ12が形成され、
更にこれらの素子上には、層間絶縁膜3を介して、電極
と光反射膜の性能を兼ねたAl等からなる反射電極4が
形成され、この反射電極4上には第1配向膜5が形成さ
れている。なお、反射電極4上に多層の誘電体膜からな
る増反射用多層膜を形成すると反射率を向上させること
ができるが、生産性を優先させる場合には、増反射用多
層膜の形成は行わない。
ェクタがあるが、透過型液晶表示デバイスよりも大きな
開口率を有する反射型液晶表示デバイスも最近用いられ
ている。以下に、従来の反射型液晶表示デバイスについ
て図3を用いて説明する。図3は、従来の反射型液晶表
示デバイスを示す断面図である。まず始めに、従来の反
射型液晶表示デバイス13の構成について説明する。図
3に示すように、シリコン基板2上に薄膜トランジスタ
及11及び場合によってはコンデンサ12が形成され、
更にこれらの素子上には、層間絶縁膜3を介して、電極
と光反射膜の性能を兼ねたAl等からなる反射電極4が
形成され、この反射電極4上には第1配向膜5が形成さ
れている。なお、反射電極4上に多層の誘電体膜からな
る増反射用多層膜を形成すると反射率を向上させること
ができるが、生産性を優先させる場合には、増反射用多
層膜の形成は行わない。
【0003】一方、ガラス基板10上には、ITO(I
ndium Tin Oxide)等の透明電極8、第
2配向膜7が順次形成されている。更に、第1配向膜5
と第2配向膜7とが所定の間隔を有して互いに対向配置
され、この配向膜間に図示しないスペーサを介して液晶
層6が注入形成されている。
ndium Tin Oxide)等の透明電極8、第
2配向膜7が順次形成されている。更に、第1配向膜5
と第2配向膜7とが所定の間隔を有して互いに対向配置
され、この配向膜間に図示しないスペーサを介して液晶
層6が注入形成されている。
【0004】次に、この作用について説明する。光源か
らの光I0は、ガラス基板10側から入射して液晶層6
を通過し、シリコン基板2表面の反射電極4で反射され
る。この後、反射光IRが液晶層6、透明電極8及びガ
ラス基板10を通過して、反射型液晶表示デバイス13
の上方から出射する。この際、入射光I0、反射光IRと
も液晶層6を通過する際に、液晶分子の配向状態に応じ
て偏光方向が規制され、反射光IRは、薄膜トランジス
タ11によって液晶層6に書き込まれた画像情報信号に
基づいた偏光光として、反射型液晶表示デバイス13の
上方から出射する。
らの光I0は、ガラス基板10側から入射して液晶層6
を通過し、シリコン基板2表面の反射電極4で反射され
る。この後、反射光IRが液晶層6、透明電極8及びガ
ラス基板10を通過して、反射型液晶表示デバイス13
の上方から出射する。この際、入射光I0、反射光IRと
も液晶層6を通過する際に、液晶分子の配向状態に応じ
て偏光方向が規制され、反射光IRは、薄膜トランジス
タ11によって液晶層6に書き込まれた画像情報信号に
基づいた偏光光として、反射型液晶表示デバイス13の
上方から出射する。
【0005】一般的に、透過型液晶表示デバイスの場合
は、トランジスタが形成される領域等は、遮光部とな
り、光を透過できず、構造的に高い開口率を得ることが
困難であるが、反射型液晶表示デバイスの場合は、反射
電極の下層にトランジスタを作り込むことができるた
め、透過型液晶表示デバイスに比較して開口率の点で有
利な構造と言える。
は、トランジスタが形成される領域等は、遮光部とな
り、光を透過できず、構造的に高い開口率を得ることが
困難であるが、反射型液晶表示デバイスの場合は、反射
電極の下層にトランジスタを作り込むことができるた
め、透過型液晶表示デバイスに比較して開口率の点で有
利な構造と言える。
【0006】次に、上述する反射型液晶表示デバイスを
用いた従来の液晶プロジェクタについて図4を用いて説
明する。図4は、上述する反射型液晶表示デバイスを用
いた従来の液晶プロジェクタの構成を示す概略図であ
る。図4に示すように、液晶プロジェクタは、メタルハ
ライドランプ等からなる光源14、2枚の偏光子15、
18、ハーフミラー16、反射型液晶表示デバイス1
3、この反射型液晶表示デバイス13の駆動回路17、
光学レンズ19及びスクリーン20から構成されてい
る。
用いた従来の液晶プロジェクタについて図4を用いて説
明する。図4は、上述する反射型液晶表示デバイスを用
いた従来の液晶プロジェクタの構成を示す概略図であ
る。図4に示すように、液晶プロジェクタは、メタルハ
ライドランプ等からなる光源14、2枚の偏光子15、
18、ハーフミラー16、反射型液晶表示デバイス1
3、この反射型液晶表示デバイス13の駆動回路17、
光学レンズ19及びスクリーン20から構成されてい
る。
【0007】この液晶プロジェクタの作用は、以下に示
す通りである。光源14より出射された光は、まず偏光
子15を通過し、一定方向の偏光光のみが取り出された
後、ハーフミラー16で光の進路を変更され、反射型液
晶表示デバイス13に入射する。一方、反射型液晶表示
デバイス13中の液晶層6には、駆動回路17を介して
所定電圧が各画素に印加され、これに応じて液晶分子の
配向状態を変化させる。液晶層6を通過する光は、この
液晶分子の配向状態によりその偏光方向が規制される。
す通りである。光源14より出射された光は、まず偏光
子15を通過し、一定方向の偏光光のみが取り出された
後、ハーフミラー16で光の進路を変更され、反射型液
晶表示デバイス13に入射する。一方、反射型液晶表示
デバイス13中の液晶層6には、駆動回路17を介して
所定電圧が各画素に印加され、これに応じて液晶分子の
配向状態を変化させる。液晶層6を通過する光は、この
液晶分子の配向状態によりその偏光方向が規制される。
【0008】このため、反射型液晶表示デバイス13に
入射した光は、液晶層6を往復する間に偏光方向の規制
を受ける。この後、反射型液晶表示デバイス13の反射
電極4で反射された反射光は、ハーフミラー16を通過
し、もう一方の偏光子18に到達し、ここで所定方向に
変調を受けた偏光光のみが選択され、更に光学レンズ1
9により拡大され、スクリーン20に映し出される。
入射した光は、液晶層6を往復する間に偏光方向の規制
を受ける。この後、反射型液晶表示デバイス13の反射
電極4で反射された反射光は、ハーフミラー16を通過
し、もう一方の偏光子18に到達し、ここで所定方向に
変調を受けた偏光光のみが選択され、更に光学レンズ1
9により拡大され、スクリーン20に映し出される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
反射型液晶デバイス13には以下の問題があった。一般
的に、液晶層を挟む2つの電極近傍にそれぞれ異なる誘
電体層が形成されていると、これらの電極近傍でのイン
ピーダンス差を生じるので、反射型液晶デバイスを駆動
する際に微小な直流成分が液晶層に印加されると、この
反射型液晶デバイスに焼き付きを生じる場合がある。こ
のため、電極近傍にはできるだけ誘電体層を形成するこ
とを避けた上で明るさを向上させることが重要となる。
一方、光源14に輝線を有する光効率の高いメタルハラ
イドランプ等を用いる場合、わずかな液晶層6の厚さむ
らから生じる干渉縞を抑えるため、液晶層6と透明電極
8との間にそれらの中間の屈折率の誘電体層以外の材料
からなる層を形成する必要がある。
反射型液晶デバイス13には以下の問題があった。一般
的に、液晶層を挟む2つの電極近傍にそれぞれ異なる誘
電体層が形成されていると、これらの電極近傍でのイン
ピーダンス差を生じるので、反射型液晶デバイスを駆動
する際に微小な直流成分が液晶層に印加されると、この
反射型液晶デバイスに焼き付きを生じる場合がある。こ
のため、電極近傍にはできるだけ誘電体層を形成するこ
とを避けた上で明るさを向上させることが重要となる。
一方、光源14に輝線を有する光効率の高いメタルハラ
イドランプ等を用いる場合、わずかな液晶層6の厚さむ
らから生じる干渉縞を抑えるため、液晶層6と透明電極
8との間にそれらの中間の屈折率の誘電体層以外の材料
からなる層を形成する必要がある。
【0010】このようにすれば、液晶層6と透明電極8
との間に誘電体層を形成することなく、干渉縞の発生を
防止できるが、反射型液晶デバイス13の生産性が著し
く低下する。透明電極8及び反射電極4上には誘電体層
からなる第1配向膜5及び第2配向膜7が形成されてお
り、誘電体層を形成することなく反射型液晶表示デバイ
ス1を作製することはできない。この問題を解決するた
めに、これらの第1配向膜5及び第2配向膜7として斜
方蒸着法により形成されたAl2O3を用いることが考え
られた。しかし、このAl2O3を第1配向膜5(屈折率
5〜10)に用いると、Al2O3の屈折率は、液晶の屈
折率(1.5〜1.55)よりも高いため、反射率が低
下するといった問題を生じていた。また、Al2O3の代
わりにAl2O3の屈折率と等しいポリミイドのラビング
膜を用いても同様の問題を生じていた。
との間に誘電体層を形成することなく、干渉縞の発生を
防止できるが、反射型液晶デバイス13の生産性が著し
く低下する。透明電極8及び反射電極4上には誘電体層
からなる第1配向膜5及び第2配向膜7が形成されてお
り、誘電体層を形成することなく反射型液晶表示デバイ
ス1を作製することはできない。この問題を解決するた
めに、これらの第1配向膜5及び第2配向膜7として斜
方蒸着法により形成されたAl2O3を用いることが考え
られた。しかし、このAl2O3を第1配向膜5(屈折率
5〜10)に用いると、Al2O3の屈折率は、液晶の屈
折率(1.5〜1.55)よりも高いため、反射率が低
下するといった問題を生じていた。また、Al2O3の代
わりにAl2O3の屈折率と等しいポリミイドのラビング
膜を用いても同様の問題を生じていた。
【0011】そこで、焼き付き及び干渉縞の発生を抑制
し、光効率の高い光源を用いることができ、また反射率
が低下せず、しかも生産性の高い反射型液晶表示デバイ
スを提供することを目的とする。
し、光効率の高い光源を用いることができ、また反射率
が低下せず、しかも生産性の高い反射型液晶表示デバイ
スを提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の反射型液晶表示
デバイスは、第1基板上に順次形成された反射電極と,
第1配向膜と、第2基板上に順次形成された中間膜と,
透明電極と,第2配向膜と、前記第1基板の前記第1配向
膜と前記2基板の前記第2配向膜とを対向配置させ、前
記第1配向膜と前記第2配向膜との間に注入形成された
液晶層とからなる反射型液晶表示デバイスにおいて、前
記液晶層の屈折率を前記第1配向膜よりも高く、前記第
2配向膜よりも小さくし、かつ前記中間膜の屈折率を前
記第2基板よりも高く、前記透明電極よりも小さくした
ことを特徴とする。
デバイスは、第1基板上に順次形成された反射電極と,
第1配向膜と、第2基板上に順次形成された中間膜と,
透明電極と,第2配向膜と、前記第1基板の前記第1配向
膜と前記2基板の前記第2配向膜とを対向配置させ、前
記第1配向膜と前記第2配向膜との間に注入形成された
液晶層とからなる反射型液晶表示デバイスにおいて、前
記液晶層の屈折率を前記第1配向膜よりも高く、前記第
2配向膜よりも小さくし、かつ前記中間膜の屈折率を前
記第2基板よりも高く、前記透明電極よりも小さくした
ことを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の反射型液晶表示デバイス
1の実施形態について以下図を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施形態の反射型液晶表示デバイスを
示す断面図である。従来例と同一構成には同一符号を付
し、その説明を省略する。本発明の反射型液晶表示デバ
イス1は、液晶層6の屈折率を第1配向膜5よりも高
く、第2配向膜7よりも小さくし、かつAl2O3からな
る中間膜9の屈折率をガラス基板10よりも高く、透明
電極8よりも小さくしたものである。
1の実施形態について以下図を参照しながら説明する。
図1は、本発明の実施形態の反射型液晶表示デバイスを
示す断面図である。従来例と同一構成には同一符号を付
し、その説明を省略する。本発明の反射型液晶表示デバ
イス1は、液晶層6の屈折率を第1配向膜5よりも高
く、第2配向膜7よりも小さくし、かつAl2O3からな
る中間膜9の屈折率をガラス基板10よりも高く、透明
電極8よりも小さくしたものである。
【0014】以下に、本発明の反射型液晶表示デバイス
1の構成について説明する。図1に示すように、シリコ
ン基板2上には薄膜トランジスタ及11及び場合によっ
てはコンデンサ12が形成され、更にこれらの素子上に
は、層間絶縁膜3を介して、電極と光反射膜の性能を兼
ねたAl等からなる反射電極4が形成され、この反射電
極4上には、厚さλ/4のSiO2からなる第1配向膜
5が形成されている。
1の構成について説明する。図1に示すように、シリコ
ン基板2上には薄膜トランジスタ及11及び場合によっ
てはコンデンサ12が形成され、更にこれらの素子上に
は、層間絶縁膜3を介して、電極と光反射膜の性能を兼
ねたAl等からなる反射電極4が形成され、この反射電
極4上には、厚さλ/4のSiO2からなる第1配向膜
5が形成されている。
【0015】一方、ガラス基板10上には、厚さλ/4
のAl2O3からなる中間膜9、ITO(Indium
Tin Oxide)等からなる厚さλ/2の透明電極
8、厚さλ/4のAl2O3からなる第2配向膜7が順次
形成されている。ここで、λは干渉縞の原因となる輝線
の波長で複数ある場合はそれらの中間値とする。第1配
向膜5及び第2配向膜7は、液晶層中の液晶分子の配列
を規制するためのものである。また、第1配向膜5及び
第2配向膜7は基板を蒸着源に対して65°傾けて酸素
イオンビームを照射しながら真空蒸着したものである。
シリコン基板2の第1配向膜5側とガラス基板10の第
2配向膜7側とを対向配置させ、この第1配向膜5と第
2配向膜7との間に図示しないスペーサを介して液晶層
6が注入形成されている。ここで、液晶層6の屈折率を
第1配向膜5よりも高く、第2配向膜7よりも小さく
し、かつAl2O3からなる中間膜9の屈折率は、ガラス
基板10より高く、透明電極8より小さい。
のAl2O3からなる中間膜9、ITO(Indium
Tin Oxide)等からなる厚さλ/2の透明電極
8、厚さλ/4のAl2O3からなる第2配向膜7が順次
形成されている。ここで、λは干渉縞の原因となる輝線
の波長で複数ある場合はそれらの中間値とする。第1配
向膜5及び第2配向膜7は、液晶層中の液晶分子の配列
を規制するためのものである。また、第1配向膜5及び
第2配向膜7は基板を蒸着源に対して65°傾けて酸素
イオンビームを照射しながら真空蒸着したものである。
シリコン基板2の第1配向膜5側とガラス基板10の第
2配向膜7側とを対向配置させ、この第1配向膜5と第
2配向膜7との間に図示しないスペーサを介して液晶層
6が注入形成されている。ここで、液晶層6の屈折率を
第1配向膜5よりも高く、第2配向膜7よりも小さく
し、かつAl2O3からなる中間膜9の屈折率は、ガラス
基板10より高く、透明電極8より小さい。
【0016】その作用は、従来の反射型液晶表示デバイ
ス13と同様であるので説明を省略する。また、本発明
の実施形態の反射型液晶表示デバイス1を用いた液晶プ
ロジェクタの構成及び作用についても従来の液晶プロジ
ェクタと同様であるので説明を省略する。
ス13と同様であるので説明を省略する。また、本発明
の実施形態の反射型液晶表示デバイス1を用いた液晶プ
ロジェクタの構成及び作用についても従来の液晶プロジ
ェクタと同様であるので説明を省略する。
【0017】次に、本発明の反射型液晶表示デバイス1
の反射率を測定した。この際、本発明の反射型液晶表示
デバイス1における第1配向膜5を形成しないものと、
従来の反射型液晶表示デバイス13の反射電極4と第1
配向膜5との間にAl2O3を形成したものとを比較例と
して用いた。反射率は、入射光IOに対する反射光IRの
割合を測定することによって求めた。
の反射率を測定した。この際、本発明の反射型液晶表示
デバイス1における第1配向膜5を形成しないものと、
従来の反射型液晶表示デバイス13の反射電極4と第1
配向膜5との間にAl2O3を形成したものとを比較例と
して用いた。反射率は、入射光IOに対する反射光IRの
割合を測定することによって求めた。
【0018】その結果を図2に示す。図2は、各試料に
おける波長λと反射率との関係を示す図である。縦軸
は、反射率(%)、横軸は、波長λ(nm)を示してい
る。ここでは、ガラス基板10の表面での反射分は除外
してある。図2中のAは本発明の反射型液晶表示デバイ
ス1、Bは本発明の反射型液晶表示デバイス1における
第1配向膜5を形成しないもの、Cは従来の反射型液晶
表示デバイス14の反射電極4と第1配向膜5との間に
Al2O3を形成したものを示す。
おける波長λと反射率との関係を示す図である。縦軸
は、反射率(%)、横軸は、波長λ(nm)を示してい
る。ここでは、ガラス基板10の表面での反射分は除外
してある。図2中のAは本発明の反射型液晶表示デバイ
ス1、Bは本発明の反射型液晶表示デバイス1における
第1配向膜5を形成しないもの、Cは従来の反射型液晶
表示デバイス14の反射電極4と第1配向膜5との間に
Al2O3を形成したものを示す。
【0019】図2に示すように、波長λが400nm〜
700nmの範囲で反射率は、本発明の反射型液晶表示
デバイス1(図2中A)が最も高く、本発明の反射型液
晶表示デバイス1における第1配向膜5を形成しないも
の(図2中B)、従来の反射型液晶表示デバイス14の
反射電極4と第1配向膜5との間にAl2O3を形成した
もの(図2中C)の順で低下した。また、本発明の反射
型液晶表示デバイス1を用いて、図4に示した液晶プロ
ジェクタによりスクリーン20上に投影された画像評価
を行った結果、液晶層4の厚さむらによる干渉縞は見ら
れなかった。
700nmの範囲で反射率は、本発明の反射型液晶表示
デバイス1(図2中A)が最も高く、本発明の反射型液
晶表示デバイス1における第1配向膜5を形成しないも
の(図2中B)、従来の反射型液晶表示デバイス14の
反射電極4と第1配向膜5との間にAl2O3を形成した
もの(図2中C)の順で低下した。また、本発明の反射
型液晶表示デバイス1を用いて、図4に示した液晶プロ
ジェクタによりスクリーン20上に投影された画像評価
を行った結果、液晶層4の厚さむらによる干渉縞は見ら
れなかった。
【0020】このように、液晶層6の屈折率を第1配向
膜5よりも高く、第2配向膜7よりも小さくし、かつ中
間膜9の屈折率をガラス基板10よりも高く、透明電極
4よりも小さくしているので、干渉縞の発生を防止でき
ると共に反射率を向上させることができる。液晶層4の
厚さむらから生じる干渉縞がないので、輝線を有するよ
うな光効率の高い光源を用いることができる。また、多
層の誘電体膜からなる増反射用多層膜の形成を必要とす
ることなく反射率を向上させることができるので、焼き
付きを防止でき、生産性を向上させることができる。
膜5よりも高く、第2配向膜7よりも小さくし、かつ中
間膜9の屈折率をガラス基板10よりも高く、透明電極
4よりも小さくしているので、干渉縞の発生を防止でき
ると共に反射率を向上させることができる。液晶層4の
厚さむらから生じる干渉縞がないので、輝線を有するよ
うな光効率の高い光源を用いることができる。また、多
層の誘電体膜からなる増反射用多層膜の形成を必要とす
ることなく反射率を向上させることができるので、焼き
付きを防止でき、生産性を向上させることができる。
【0021】更に、反射型液晶表示デバイス1に入射す
る入射光I0は、反射光の他に吸収光を生じるが、反射
率が高いので、この吸収光による発熱量が低減されるた
め、放熱性を改善できる。このため、発熱が小さいこと
から高光量の光源を用いた高い輝度を有する液晶プロジ
ェクタを得ることができる。
る入射光I0は、反射光の他に吸収光を生じるが、反射
率が高いので、この吸収光による発熱量が低減されるた
め、放熱性を改善できる。このため、発熱が小さいこと
から高光量の光源を用いた高い輝度を有する液晶プロジ
ェクタを得ることができる。
【0022】
【発明の効果】本発明の反射型液晶表示デバイスによれ
ば、液晶層の屈折率を第1配向膜よりも高く、第2配向
膜よりも小さくし、かつ中間膜の屈折率を第2基板より
も高く、透明電極よりも小さくしたので、干渉縞の発生
を防止できると共に反射率を向上させることができる。
液晶層の厚さむらから生じる干渉縞がないので、輝線を
有するような光効率の高い光源を用いることができる。
また、多層の誘電体膜からなる増反射用多層膜の形成を
必要とすることなく反射率を向上させることができるの
で、焼き付きを防止でき、生産性を向上させることがで
きる。更に、入射光は、反射光の他に吸収光を生じる
が、反射率が高いので、この吸収光による発熱量が低減
されるため、放熱性を改善できる。
ば、液晶層の屈折率を第1配向膜よりも高く、第2配向
膜よりも小さくし、かつ中間膜の屈折率を第2基板より
も高く、透明電極よりも小さくしたので、干渉縞の発生
を防止できると共に反射率を向上させることができる。
液晶層の厚さむらから生じる干渉縞がないので、輝線を
有するような光効率の高い光源を用いることができる。
また、多層の誘電体膜からなる増反射用多層膜の形成を
必要とすることなく反射率を向上させることができるの
で、焼き付きを防止でき、生産性を向上させることがで
きる。更に、入射光は、反射光の他に吸収光を生じる
が、反射率が高いので、この吸収光による発熱量が低減
されるため、放熱性を改善できる。
【図1】本発明の反射型液晶表示デバイスを示す断面図
である。
である。
【図2】各試料における反射率と波長の関係を示す図で
ある。
ある。
【図3】従来の反射型液晶表示デバイスを示す断面図で
ある。
ある。
【図4】従来の液晶プロジェクタを示す断面図である。
1…反射型液晶表示デバイス、2…シリコン基板(第1
の基板)、3…層間絶縁膜、4…反射電極、5…第1配
向膜、6…液晶層、7…第2配向膜、8…透明電極、9
…中間膜、10…ガラス基板(第2の基板)
の基板)、3…層間絶縁膜、4…反射電極、5…第1配
向膜、6…液晶層、7…第2配向膜、8…透明電極、9
…中間膜、10…ガラス基板(第2の基板)
Claims (1)
- 【請求項1】第1基板上に順次形成された反射電極と,
第1配向膜と、第2基板上に順次形成された中間膜と,
透明電極と,第2配向膜と、前記第1基板の前記第1配向
膜と前記2基板の前記第2配向膜とを対向配置させ、前
記第1配向膜と前記第2配向膜との間に注入形成された
液晶層とからなる反射型液晶表示デバイスにおいて、 前記液晶層の屈折率を前記第1配向膜よりも高く、前記
第2配向膜よりも小さくし、かつ前記中間膜の屈折率を
前記第2基板よりも高く、前記透明電極よりも小さくし
たことを特徴とする反射型液晶表示デバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11110530A JP2000305084A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 反射型液晶表示デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11110530A JP2000305084A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 反射型液晶表示デバイス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000305084A true JP2000305084A (ja) | 2000-11-02 |
Family
ID=14538154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11110530A Pending JP2000305084A (ja) | 1999-04-19 | 1999-04-19 | 反射型液晶表示デバイス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000305084A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006349795A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Sony Corp | 液晶表示素子および液晶表示素子の製造方法ならびに液晶プロジェクタ |
-
1999
- 1999-04-19 JP JP11110530A patent/JP2000305084A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006349795A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Sony Corp | 液晶表示素子および液晶表示素子の製造方法ならびに液晶プロジェクタ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1533650B1 (en) | Liquid crystal display element, and liquid crystal display device | |
| CN1327281C (zh) | 反射式液晶显示装置及其制造方法以及液晶显示单元 | |
| JPH05203915A (ja) | ディスプレイ装置 | |
| WO1990000756A1 (fr) | Dispositif electro-optique a cristaux liquides du type a reflexion et dispositif d'affichage du type a projection l'utilisant | |
| JP2002229032A (ja) | 反射型フリンジフィールド駆動モード液晶表示装置 | |
| JPH1164852A (ja) | 投射型液晶表示装置 | |
| US20100053482A1 (en) | Liquid crystal device and projector | |
| JPH11174427A (ja) | 液晶表示デバイスと液晶プロジェクタ | |
| JP5737854B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP5568937B2 (ja) | 液晶装置、電子機器および投射型表示装置 | |
| JP4192878B2 (ja) | 投射型表示装置 | |
| KR20010054927A (ko) | 저반사의 블랙매트릭스를 구비한 액정표시소자 | |
| US7440059B2 (en) | Reflection type liquid crystal display element and liquid crystal display unit | |
| US6414734B1 (en) | Liquid crystal display device and liquid crystal projector | |
| TW201217872A (en) | Projector and optical unit | |
| JP3758612B2 (ja) | 反射型液晶表示素子、表示装置、プロジェクション光学システム、及びプロジェクションディスプレイシステム | |
| JP2005221639A (ja) | 液晶装置および投射型表示装置 | |
| JP2000305084A (ja) | 反射型液晶表示デバイス | |
| JP3979155B2 (ja) | 液晶装置用基板、液晶装置用基板の製造方法、液晶装置、並びに投射型表示装置 | |
| JP2013113869A (ja) | 液晶装置、電子機器、及び位相差補償板 | |
| JP2011064849A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
| JP6673378B2 (ja) | 液晶装置、電子機器、投射型表示装置 | |
| JPH0456827A (ja) | 反射型液晶パネル | |
| JP2013068874A (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器 | |
| JP5862201B2 (ja) | 液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器 |