JP2000299278A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2000299278A5 JP2000299278A5 JP1999109292A JP10929299A JP2000299278A5 JP 2000299278 A5 JP2000299278 A5 JP 2000299278A5 JP 1999109292 A JP1999109292 A JP 1999109292A JP 10929299 A JP10929299 A JP 10929299A JP 2000299278 A5 JP2000299278 A5 JP 2000299278A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shot
- projection exposure
- measurement
- stage
- mark
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10929299A JP4250252B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10929299A JP4250252B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000299278A JP2000299278A (ja) | 2000-10-24 |
| JP2000299278A5 true JP2000299278A5 (enExample) | 2006-06-01 |
| JP4250252B2 JP4250252B2 (ja) | 2009-04-08 |
Family
ID=14506487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10929299A Expired - Fee Related JP4250252B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4250252B2 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3977302B2 (ja) | 2003-08-13 | 2007-09-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びその使用方法並びにデバイス製造方法 |
| JP4410202B2 (ja) * | 2005-03-02 | 2010-02-03 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 2重計量サンプリングを使用したオーバレイ制御のための処理方法 |
| JP5062992B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2012-10-31 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP5111213B2 (ja) * | 2008-04-15 | 2013-01-09 | キヤノン株式会社 | 計測方法、ステージ移動特性の調整方法、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP5554906B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2014-07-23 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | 露光装置のアライメント方法 |
| JP2014022467A (ja) * | 2012-07-13 | 2014-02-03 | Canon Inc | 露光装置、校正方法および物品の製造方法 |
| JP6401501B2 (ja) | 2014-06-02 | 2018-10-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
| JP6774269B2 (ja) * | 2016-08-26 | 2020-10-21 | キヤノン株式会社 | 計測方法、計測装置、露光装置及び物品の製造方法 |
| JP6860353B2 (ja) * | 2017-01-18 | 2021-04-14 | キヤノン株式会社 | 評価方法、物品製造方法およびプログラム |
| JP6978926B2 (ja) * | 2017-12-18 | 2021-12-08 | キヤノン株式会社 | 計測方法、計測装置、露光装置、および物品製造方法 |
| JP2022027020A (ja) * | 2020-07-31 | 2022-02-10 | キヤノン株式会社 | 決定方法、露光方法、露光装置、および物品製造方法 |
-
1999
- 1999-04-16 JP JP10929299A patent/JP4250252B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103097956B (zh) | 用于执行图案对准的方法和装置 | |
| TWI645267B (zh) | Optical measuring device and method | |
| JP2000299278A5 (enExample) | ||
| JP2011060919A5 (enExample) | ||
| CN107976870B (zh) | 一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法 | |
| TWI614823B (zh) | 雙層對準裝置和雙層對準方法 | |
| KR970016827A (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
| EP1688794A3 (en) | Method of manufacturing a photolithography pattern and method of determining the position of an image of an alignment mark | |
| KR970077116A (ko) | 노광 방법 및 노광 장치 | |
| JP2023164945A (ja) | 露光装置およびアライメント方法 | |
| CN102109767B (zh) | 一种确定光刻机之间套刻精度匹配的方法及系统 | |
| JPH1012544A5 (enExample) | ||
| CA2324913A1 (en) | A device for measuring relative position error | |
| JPH10172890A5 (enExample) | ||
| CN105005182A (zh) | 多个传感器间相互位置关系校准方法 | |
| JP4250252B2 (ja) | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| JP2005300628A (ja) | ローカルアライメント機能を有する露光装置 | |
| JP2011035009A (ja) | ディストーション及び基板ステージの移動特性の計測方法、露光装置並びにデバイス製造方法 | |
| US8120750B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
| TW200510959A (en) | Lithographic apparatus and integrated circuit manufacturing method | |
| US20120258391A1 (en) | Measurement apparatus, exposure apparatus, and device fabrication method | |
| CN104076611A (zh) | 用于光刻设备的拼接物镜成像测校方法 | |
| SG138458A1 (en) | Lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| US20090284719A1 (en) | Alignment method and apparatus of mask pattern | |
| JP2010271695A (ja) | 露光調整方法及び液晶表示装置の製造方法 |