JP2000283652A - Substrate drying device - Google Patents

Substrate drying device

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JP2000283652A
JP2000283652A JP11092682A JP9268299A JP2000283652A JP 2000283652 A JP2000283652 A JP 2000283652A JP 11092682 A JP11092682 A JP 11092682A JP 9268299 A JP9268299 A JP 9268299A JP 2000283652 A JP2000283652 A JP 2000283652A
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chamber
drying chamber
air
drying
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範夫 豊島
Tetsumasa Hori
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate drying device in which liquid left on a substrate can be removed completely while a degree of cleanness within a drying chamber is being maintained. SOLUTION: A plurality of transporting rollers for use in transporting a substrate are arranged in an evacuation chamber 10 and a liquid draining chamber 20 of which inner sides are continuous from each other. A driving section for the transporting rollers is covered by a driving section cover. An exhaust pipe is connected to a liquid collecting section 11 at the bottom surface of the evacuation chamber 10. An evacuation pipe of the driving section is connected to the bottom surface of the evacuation chamber 10 and an exhaust pipe of the driving section is connected to a rear surface of the evacuation chamber 10 and the pipes are communicated with a space covered by the driving section cover around the driving section. The exhaust pipe and the evacuation pipe at the driving section are connected to a vertical pipe 15 at the rear side of the evacuation chamber 10. An automatic damper is arranged at the upper end of the vertical pipe 15. A ceiling of the liquid draining chamber 20 is formed to be higher than that of the evacuation chamber 10. A fan device 22 is arranged at the upper part of the evacuation chamber 10 and then air knives are arranged at the upper part and the lower part of the transporting passage for the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液体によって洗浄
した後の基板に対して、エアナイフからの空気流を吹き
付けて液体を除去し、基板を乾燥するための基板乾燥装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate drying apparatus for blowing a stream of air from an air knife to a substrate after cleaning with a liquid to remove the liquid and drying the substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示器、フォトマスク等のガラス基
板や、プリント配線基板、半導体ウエハ等の基板の製造
工程においては、基板の表面に所定の処理液を供給した
後に、これを基板から除去する作業が必要となる。例え
ば、基板の洗浄を行う工程では、基板洗浄装置におい
て、純水等の液体を基板の表面に浴びせかけて洗浄した
後、基板乾燥装置において、基板の表面に気体を吹き付
けて、基板表面に付着した液体を除去している。
2. Description of the Related Art In a process of manufacturing a glass substrate such as a liquid crystal display or a photomask, or a substrate such as a printed wiring board or a semiconductor wafer, a predetermined processing liquid is supplied to a surface of the substrate and then removed from the substrate. Work is required. For example, in the step of cleaning the substrate, in a substrate cleaning device, after washing by pouring a liquid such as pure water on the surface of the substrate, in a substrate drying device, a gas is sprayed on the surface of the substrate to adhere to the substrate surface. Liquid is being removed.

【0003】このような基板乾燥装置として、従来か
ら、特開平7−14819号公報に示すものが提案され
ている。かかる基板乾燥装置は、乾燥室内にエアナイフ
を有し、基板洗浄装置から乾燥室内に搬送されてきた基
板の表面に、エアナイフの空気流を吹き付けることによ
って洗浄液を吹き飛ばし、基板を乾燥させる装置であ
る。そして、この乾燥室の上部には、例えば、高性能フ
ィルタであるHEPA(High Efficienc
y Particulate Air)フィルタを有す
るクリーンユニット部が設けられ、このクリーンユニッ
ト部から下方に向けて清浄な空気を乾燥室内に吹き出し
て、ダウンフロー流を形成している。また、乾燥室の下
部には、飛散した水滴やミストが、ダウンフロー流によ
って下降して外部に排出されるように、排出部が設けら
れている。
[0003] As such a substrate drying apparatus, an apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-14819 has been conventionally proposed. Such a substrate drying apparatus has an air knife in a drying chamber, and blows a cleaning liquid by blowing an air flow of an air knife on a surface of a substrate conveyed from the substrate cleaning apparatus into the drying chamber to dry the substrate. In addition, for example, HEPA (High Efficiencyc) which is a high performance filter
A clean unit having a y-Particulate Air) filter is provided, and clean air is blown downward from the clean unit into the drying chamber to form a downflow flow. In addition, a discharge unit is provided at a lower portion of the drying chamber so that the scattered water droplets and mist descend by the downflow flow and are discharged to the outside.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、以上のよう
な従来の基板乾燥装置においては、乾燥室内に基板を搬
入及び搬出するための搬入口及び搬出口が設けられてい
る。このため、エアナイフを停止すると、室内の圧力が
低下して、搬入口及び搬出口から外気が流入する。しか
し、基板乾燥装置の設置場所がクリーンルームであって
も、乾燥室の外部の空気は、乾燥室内よりも清浄度が低
い。従って、上記のように外気が流入すると、乾燥室内
部の清浄度が低下して、基板が汚染される可能性があ
る。
In the above-described conventional substrate drying apparatus, a carry-in port and a carry-out port are provided for loading and unloading the substrate into and out of the drying chamber. For this reason, when the air knife is stopped, the pressure in the room decreases, and outside air flows in from the carry-in and carry-out ports. However, even when the substrate drying apparatus is installed in a clean room, the air outside the drying room has a lower cleanness than the drying room. Therefore, when the outside air flows in as described above, the cleanliness of the inside of the drying chamber is reduced, and the substrate may be contaminated.

【0005】また、上述の従来技術においては、エアナ
イフの吹き出し側の天井に、クリーンユニット部が配設
されているので、エアナイフによって吹き飛ばされた洗
浄水のミストがダウンフロー流によって、基板に再付着
する。特に、かかるミストは、洗い落とされた塵埃を含
んでいる場合もあるので、これらの塵埃によって基板が
汚染される可能性がある。
Further, in the above-mentioned prior art, since the clean unit is disposed on the ceiling on the side of the air knife blowing side, the mist of the cleaning water blown off by the air knife is re-adhered to the substrate by the downflow flow. I do. In particular, since such mist may include washed-out dust, the dust may contaminate the substrate.

【0006】本発明は、以上のような従来技術の問題点
を解決するために提案されたものであり、その目的は、
乾燥室内の清浄度を保ちつつ、基板上の液体を完全に除
去することができる基板乾燥装置を提供することにあ
る。
[0006] The present invention has been proposed to solve the above-mentioned problems of the prior art.
An object of the present invention is to provide a substrate drying apparatus capable of completely removing a liquid on a substrate while maintaining cleanliness in a drying chamber.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、乾燥室内に、基板の搬送手段と、基板
上の液体を空気流によって除去するエアナイフとを備え
た基板乾燥装置において、以下のような技術的特徴を有
する。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate drying apparatus having a substrate transfer means and an air knife for removing a liquid on the substrate by an air flow in a drying chamber. Has the following technical features.

【0008】すなわち、請求項1記載の発明は、前記乾
燥室には、前記乾燥室内部に清浄空気を送風するファン
ユニットが設けられ、前記乾燥室には、基板から除去さ
れた液体によって生じる水滴及びミストを排出する排出
手段が接続され、前記乾燥室には、室内の気圧調整用の
ダンパが設けられ、前記乾燥室内の気圧が外部の気圧よ
りも陽圧に維持されるように、前記エアナイフの作動・
停止に応じて、前記ダンパの開放度を制御する制御手段
を有することを特徴とする。以上のような請求項1記載
の発明では、エアナイフが停止して乾燥室内の圧力が低
下した場合であっても、ダンパによって室内の気圧を調
整して、外部よりも陽圧に保つことができるので、外気
の侵入による室内の汚染が防止される。
That is, the invention according to claim 1 is characterized in that the drying chamber is provided with a fan unit for blowing clean air into the interior of the drying chamber, and the drying chamber has water droplets generated by liquid removed from the substrate. And a discharge means for discharging mist, a damper for adjusting the air pressure in the drying chamber is provided in the drying chamber, and the air knife is controlled so that the air pressure in the drying chamber is maintained at a more positive pressure than the external air pressure. Operation of
It has a control means for controlling the degree of opening of the damper in response to the stop. According to the first aspect of the present invention, even when the pressure in the drying chamber is reduced due to the stoppage of the air knife, the pressure in the chamber can be adjusted by the damper to maintain the pressure more positive than the outside. Therefore, indoor pollution due to intrusion of outside air is prevented.

【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載の基
板乾燥装置において、前記乾燥室は、天井の高い高位部
と、天井の低い低位部とを有し、前記基板の搬入口が前
記低位部側に設けられ、前記基板の搬出口が前記高位部
側に設けられ、前記ファンユニットは、前記高位部の上
部に設けられ、前記エアナイフは、その吹き出し部が前
記低位部側となるように、傾斜して配設されていること
を特徴とする。以上のような請求項2記載の発明では、
ファンユニットは、高位部の上部に設けられているの
で、吹き出される空気は、上から下に向かっての一方向
に層流として流れ、乱流になりにくい。また、ファンユ
ニットに内蔵されたHEPAフィルタ等によって清浄化
された空気は、低位部側へ傾斜したエアナイフによって
水分が除去され、きれいになった基板の表面に吹き付け
られる。従って、塵埃を含むミストが基板に再付着して
汚損されることがない。
According to a second aspect of the present invention, in the substrate drying apparatus according to the first aspect, the drying chamber has a high portion having a high ceiling and a low portion having a low ceiling, and the loading port of the substrate is provided with the entrance. The lower port side is provided, the substrate carry-out port is provided at the higher port section side, the fan unit is provided at an upper portion of the higher port section, and the air knife has a blowout section at the lower port side. In addition, it is characterized by being disposed at an angle. According to the second aspect of the present invention,
Since the fan unit is provided at the upper part of the high-order part, the blown air flows in one direction from top to bottom as a laminar flow, and is less likely to be turbulent. Further, the air cleaned by the HEPA filter or the like built in the fan unit has its moisture removed by an air knife inclined toward the lower part, and is blown onto the cleaned surface of the substrate. Therefore, mist including dust does not re-adhere to the substrate and is not contaminated.

【0010】請求項3記載の発明は、請求項2記載の基
板乾燥装置において、前記排出手段は排気管を有し、前
記低位部には、前記搬送手段の下側に排気口が設けら
れ、前記排気管は前記排気口に接続されていることを特
徴とする。以上のような請求項3記載の発明では、低位
部においては天井が低いので、エアナイフからの空気の
吹き付けによって発生したミストは、高位部からの上か
ら下への層流によって、排気口から排気管を介して直ち
に排出され、滞留しにくい。従って、エアナイフを通過
して高位部側へ移動した清浄度の高い基板に、ミストを
含む空気が触れることがない。
According to a third aspect of the present invention, in the substrate drying apparatus of the second aspect, the discharge means has an exhaust pipe, and an exhaust port is provided in the lower portion below the transfer means, The exhaust pipe is connected to the exhaust port. According to the third aspect of the present invention, since the ceiling is low in the low portion, the mist generated by blowing air from the air knife is exhausted from the exhaust port by laminar flow from the high portion to the bottom. Immediately discharged through the pipe, it is hard to stay. Therefore, the air containing the mist does not come into contact with the substrate having a high degree of cleanliness that has passed through the air knife and moved to the high-order portion side.

【0011】請求項4記載の発明は、請求項1〜3のい
ずれか1項に記載の基板乾燥装置において、前記搬送手
段は、平行配置された複数の搬送ローラと、前記搬送ロ
ーラの端部に構成された駆動部とを有し、前記乾燥室に
は、前記搬送ローラ側の空間と前記駆動部側の空間とを
仕切るカバーが、前記駆動部を覆う位置に設けられ、前
記乾燥室における前記駆動部側の空間に、排気管が接続
されていることを特徴とする。以上のような請求項4記
載の発明では、搬送ローラの駆動部がカバーで覆われ、
その周囲の空気は排気管によって外部に排気される。こ
のため、駆動部の構成部品から、摩耗によって発生する
微細な塵埃や、潤滑油などの飛散によって発生するゴミ
が、搬送ローラによって搬送されている基板側へ移行せ
ず、基板の汚染が防止される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate drying apparatus according to any one of the first to third aspects, the transporting means comprises a plurality of transport rollers arranged in parallel, and an end portion of the transport roller. And a cover that partitions the space on the transport roller side and the space on the drive unit side is provided at a position that covers the drive unit, and the drying chamber has a drive unit configured in the drying chamber. An exhaust pipe is connected to the space on the driving unit side. According to the fourth aspect of the present invention, the drive unit of the transport roller is covered with the cover,
The surrounding air is exhausted to the outside by an exhaust pipe. For this reason, fine dust generated by abrasion and dust generated by scattering of lubricating oil, etc. from the components of the driving unit do not move to the substrate side being transported by the transporting rollers, thereby preventing contamination of the substrate. You.

【0012】請求項5記載の発明は、請求項1〜4のい
ずれか1項に記載の基板乾燥装置において、前記乾燥室
には、室内の気圧と外部の気圧との差圧を検出するセン
サが設けられ、前記センサが前記制御手段に接続されて
いることを特徴とする。以上のような請求項5記載の発
明では、センサの検出値に基づいて、乾燥室内を常に外
部よりも陽圧に保つことができるので、外気の侵入を防
いで、室内の汚染を防止することができる。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the substrate drying apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein the drying chamber has a sensor for detecting a pressure difference between an indoor air pressure and an external air pressure. And the sensor is connected to the control means. According to the fifth aspect of the present invention, the drying chamber can always be maintained at a positive pressure than the outside based on the detection value of the sensor. Therefore, the invasion of outside air is prevented, and the indoor pollution is prevented. Can be.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】(1)実施の形態の構成 請求項1〜4記載の発明に対応する実施の形態を、図1
〜7を参照して以下に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (1) Configuration of the Embodiment An embodiment corresponding to the invention described in claims 1 to 4 is shown in FIG.
This will be described below with reference to FIGS.

【0014】1−1.全体構成 本実施の形態は、図1に示すように、排気室10と液切
り室20とが連続して構成された乾燥室1が、架台2上
に設置されている。そして、図1〜3に示すように、排
気室10には基板の搬入口10aが形成され、液切り室
20には基板の搬出口20aが形成されている。また、
排気室10及び液切り室20の内部には、乾燥室1の幅
方向に、基板搬送用の搬送ローラ30が配設されてい
る。この搬送ローラ30は、基板の搬送方向に複数平行
に設けられている。
1-1. Overall Configuration In the present embodiment, as shown in FIG. 1, a drying chamber 1 in which an exhaust chamber 10 and a liquid draining chamber 20 are continuously connected is installed on a gantry 2. As shown in FIGS. 1 to 3, the exhaust chamber 10 has a substrate entrance 10 a, and the liquid draining chamber 20 has a substrate exit 20 a. Also,
Inside the exhaust chamber 10 and the drain chamber 20, a transport roller 30 for transporting the substrate is arranged in the width direction of the drying chamber 1. The plurality of transport rollers 30 are provided in parallel with the transport direction of the substrate.

【0015】1−2.搬送ローラの駆動部の構成 搬送ローラ30の軸の両端は、軸受け31によって回動
可能に支持されている。この搬送ローラ30の一端に
は、第1のはすば歯車30aが取り付けられている。乾
燥室1においては、搬送ローラ30の第1のはすば歯車
30a側の側面近傍に、基板の搬送方向のシャフト32
が設けられている。このシャフト32には、各々の搬送
ローラ30の第1のはすば歯車30aに係合する第2の
はすば歯車32aが設けられている。そして、図4に示
すように、シャフト31の近傍における乾燥室1の外部
には、モータ32bが設置され、このモータ32bを駆
動源としてベルトドライブによってシャフト32が回転
する構成となっている。
1-2. Configuration of Drive Unit of Transport Roller Both ends of the shaft of the transport roller 30 are rotatably supported by bearings 31. A first helical gear 30a is attached to one end of the transport roller 30. In the drying chamber 1, a shaft 32 in the substrate transport direction is provided near the side surface of the transport roller 30 on the first helical gear 30 a side.
Is provided. The shaft 32 is provided with a second helical gear 32a that engages with the first helical gear 30a of each transport roller 30. As shown in FIG. 4, a motor 32b is installed outside the drying chamber 1 near the shaft 31, and the shaft 32 is rotated by a belt drive using the motor 32b as a driving source.

【0016】さらに、乾燥室1の内部には、搬送ローラ
30の軸受け31、第1のはすば歯車30a、シャフト
32等の駆動部を覆う駆動部カバー33が、基板の移動
方向の全域に亘って、乾燥室1の内壁と平行に設けられ
ている。なお、駆動部カバー33は、搬送ローラ30の
駆動部のみを覆っているので幅が狭く、各々の搬送ロー
ラ30の軸はこの駆動部カバー33を回動可能に貫通し
ている。
Further, inside the drying chamber 1, a drive unit cover 33 that covers the drive unit such as the bearing 31 of the transport roller 30, the first helical gear 30a, and the shaft 32 is provided over the entire area in the moving direction of the substrate. It is provided in parallel with the inner wall of the drying chamber 1 throughout. The drive unit cover 33 covers only the drive unit of the transport roller 30 and thus has a small width, and the shaft of each transport roller 30 passes through the drive unit cover 33 in a rotatable manner.

【0017】1−3.排気室の構成 また、排気室10の底面には、図5及び図6に示すよう
に、下方に凹んだ集液部11が形成されている。この集
液部11の後端には、排気管12の一端部が接続され、
集液部11の内底には、そこに落下した排液が排気管1
2へ流入するように傾斜が設けられている。排気管12
は、全体としてU字型をした気液分離用のトラップを構
成している。この排気管12の最も低い部分に、分離し
た排液を流出させる排出管12aが接続されている。
1-3. Configuration of Exhaust Chamber Further, as shown in FIGS. 5 and 6, a liquid collecting part 11 that is recessed downward is formed on the bottom surface of the exhaust chamber 10. One end of an exhaust pipe 12 is connected to the rear end of the liquid collecting section 11,
On the inner bottom of the liquid collecting section 11, the drainage liquid dropped there is the exhaust pipe 1
An inclination is provided so as to flow into the second. Exhaust pipe 12
Constitutes a U-shaped trap for gas-liquid separation as a whole. A discharge pipe 12 a for discharging the separated waste liquid is connected to the lowest part of the exhaust pipe 12.

【0018】排気室10の底面には駆動部排気管13の
一端が接続され、背面には駆動部排気管14が接続され
ている。これらの駆動部排気管13,14は、駆動部カ
バー33によって覆われた駆動部周囲の空間に連通して
いる。また、背面側の駆動部排気管14には、ドレン管
14aが接続されている。
One end of a drive unit exhaust pipe 13 is connected to the bottom surface of the exhaust chamber 10, and a drive unit exhaust pipe 14 is connected to the back surface. These drive unit exhaust pipes 13 and 14 communicate with the space around the drive unit covered by the drive unit cover 33. A drain pipe 14a is connected to the drive section exhaust pipe 14 on the rear side.

【0019】さらに、排気室10の背後には、垂直管1
5が設けられている。この垂直管15は、その下端に排
気管12の他端が接続され、その下部側面に排気管13
の他端が接続され、その上部前面に排気管14の他端が
接続されている。
Further, behind the exhaust chamber 10, a vertical pipe 1 is provided.
5 are provided. The other end of the exhaust pipe 12 is connected to the lower end of the vertical pipe 15, and the exhaust pipe 13 is
And the other end of the exhaust pipe 14 is connected to the upper front surface.

【0020】1−4.オートダンパの構成 垂直管15の上端には、オートダンパ16が設けられて
いる。オートダンパ16は、図7及び図8に示すよう
に、垂直管15を封鎖する円形板状の蓋部16aを有
し、この蓋部16aが水平方向のときに全閉状態、垂直
方向のときに全開状態となる。蓋部16aを回転させる
機構は、シャフト16b、軸受け部16c、駆動部16
d及び連結部16eによって構成されている。シャフト
16bは、蓋部16aの直径方向に取り付けられてい
る。
1-4. Configuration of Auto Damper An auto damper 16 is provided at the upper end of the vertical tube 15. As shown in FIGS. 7 and 8, the auto damper 16 has a circular plate-like lid 16a for closing the vertical pipe 15, and when the lid 16a is in the horizontal direction, it is in a fully closed state, and when it is in the vertical direction, Is fully opened. The mechanism for rotating the lid 16a includes a shaft 16b, a bearing 16c, a driving unit 16
d and the connecting portion 16e. The shaft 16b is attached in the diameter direction of the lid 16a.

【0021】軸受け部16cは、垂直管15の径方向に
対向する位置に2つ設けられ、シャフト16bの両端を
回転可能に支持している。駆動部16dは、連結部16
eを介してシャフト16bに連結され、シャフト16b
を回転させることにより、蓋部16aの開閉を行うもの
であって、例えば、電動モータや、油圧あるいはエアモ
ータなどが使用される。
Two bearing portions 16c are provided at positions opposed to the vertical tube 15 in the radial direction, and rotatably support both ends of the shaft 16b. The driving unit 16d includes the connecting unit 16
e, the shaft 16b
The cover 16a is opened and closed by rotating the motor. For example, an electric motor, a hydraulic or air motor, or the like is used.

【0022】1−5.液切り室の構成 一方、液切り室20には、エアナイフ21とファンユニ
ット22が配設されている。エアナイフ21は、図9に
示すように、基板の搬送路の上下に設けられ、基板の進
行方向に対して斜めに配設されている。液切り室20の
天井は、排気室10の天井よりも高く形成され、この液
切り室20の上部にファンユニット22が設けられてい
る。ファンユニット22は、下方への空気流を形成する
ファンと、埃等の流入を防ぐHEPAフィルタ等とを備
えている。
1-5. Configuration of Drainage Chamber On the other hand, an air knife 21 and a fan unit 22 are arranged in the drainage chamber 20. As shown in FIG. 9, the air knives 21 are provided above and below the substrate transport path, and are disposed obliquely with respect to the direction of travel of the substrate. The ceiling of the drain chamber 20 is formed higher than the ceiling of the exhaust chamber 10, and a fan unit 22 is provided above the drain chamber 20. The fan unit 22 includes a fan that forms a downward airflow, a HEPA filter that prevents inflow of dust and the like, and the like.

【0023】1−6.制御回路の構成 さらに、エアナイフ21及びオートダンパ16の作動
は、図示しない制御回路によって制御される。この制御
回路は、エアナイフ21の駆動部(図示せず)と、オー
トダンパ16の駆動部16dに接続され、エアナイフ2
1の作動時には、オートダンパ16が開となり、エアナ
イフ21の停止時には、オートダンパ16が閉となるよ
うに設定されている。
1-6. Configuration of Control Circuit Further, the operations of the air knife 21 and the auto damper 16 are controlled by a control circuit (not shown). This control circuit is connected to a driving section (not shown) of the air knife 21 and a driving section 16d of the automatic damper 16, and the air knife 2
When the air knife 21 is stopped, the automatic damper 16 is set to open, and when the air knife 21 is stopped, the automatic damper 16 is closed.

【0024】(2)本実施の形態の作用 以上のような構成を有する本実施の形態の作用効果は、
以下の通りである。すなわち、図9に示すように、洗浄
液によって洗浄された基板Bは、搬送ローラ30によっ
て、搬入口10aから排気室10内に搬入される。そし
て、基板Bが液切り室20側に移動する過程で、作動し
たエアナイフ21の空気流が吹き付けられるので、基板
B上の洗浄液が吹き飛ばされる。このようにエアナイフ
によって水分が除去された基板の表面に、ファンユニッ
ト22からの清浄化された空気流が吹き付けられる。
(2) Operation of this Embodiment The operation and effect of this embodiment having the above configuration are as follows.
It is as follows. That is, as shown in FIG. 9, the substrate B cleaned with the cleaning liquid is carried into the exhaust chamber 10 from the carry-in port 10 a by the transport roller 30. Then, in the process of moving the substrate B toward the liquid draining chamber 20, the air flow of the activated air knife 21 is blown, so that the cleaning liquid on the substrate B is blown off. The cleaned airflow from the fan unit 22 is blown onto the surface of the substrate from which the moisture has been removed by the air knife.

【0025】ファンユニット22は、排気室10よりも
高い位置に設けられているので、その空気流は、排気室
10側へ移動して、上から下への層流となる。そして、
基板Bから吹き飛ばされることによって生じた水滴及び
ミストは、ファンユニット22の空気流によって下降し
て、集液部11に流れる。集液部11に流れたミスト及
び水滴は、排気管12へ流入して気液分離され、排液は
排出管12aから外部に排出され、ミストは垂直管15
に流れる。また、駆動部カバー33によって覆われた駆
動部周囲の空気は、図5に示すように、駆動部排気管1
3,14を介して排出され、凝結した液体は、排出管1
2aやドレン管14aを介して外部へ排出される。
Since the fan unit 22 is provided at a position higher than the exhaust chamber 10, the air flow moves toward the exhaust chamber 10 and becomes laminar from top to bottom. And
Water droplets and mist generated by being blown off from the substrate B descend by the airflow of the fan unit 22 and flow to the liquid collecting unit 11. The mist and water droplets flowing into the liquid collecting section 11 flow into the exhaust pipe 12 to be separated into gas and liquid, and the discharged liquid is discharged to the outside from the discharge pipe 12a.
Flows to Further, as shown in FIG. 5, the air around the driving unit covered by the driving unit cover 33 is driven by the driving unit exhaust pipe 1.
The condensed liquid discharged through 3 and 14 is discharged to discharge pipe 1
It is discharged to the outside via the drain pipe 2a and the drain pipe 14a.

【0026】このようにエアナイフ21の作動による洗
浄液の除去中には、制御回路からの制御信号に基づい
て、駆動部16dがオートダンパ16を開とするので、
排気が促進される。また、洗浄液の除去後は、搬送ロー
ラ30によって基板Bが搬出口20aから搬出され、エ
アナイフ21が停止するが、この時、制御回路からの制
御信号に基づいて、駆動部16dがオートダンパ16を
閉とするので、排気室10及び液切り室20の室内の気
圧が、外部の気圧よりも陽圧に保たれる。
During the removal of the cleaning liquid by the operation of the air knife 21, the drive unit 16d opens the automatic damper 16 based on the control signal from the control circuit.
Exhaust is promoted. After the cleaning liquid is removed, the substrate B is carried out of the carry-out port 20a by the carrying roller 30 and the air knife 21 is stopped. At this time, the driving unit 16d activates the auto damper 16 based on a control signal from the control circuit. Since it is closed, the air pressure in the exhaust chamber 10 and the liquid drain chamber 20 is maintained at a more positive pressure than the external air pressure.

【0027】従って、基板Bを搬出した後においても、
搬入口10a及び搬出口20aからの外気の流入が防止
され、室内は清浄に保たれる。その後、次の基板Bの洗
浄液を除去する場合にも、基板Bの汚染が防止される。
Therefore, even after the substrate B is unloaded,
Inflow of outside air from the carry-in port 10a and the carry-out port 20a is prevented, and the room is kept clean. Thereafter, even when the cleaning liquid for the next substrate B is removed, the contamination of the substrate B is prevented.

【0028】なお、オートダンパ16は、その蓋部16
aの回動量によって開閉の程度を調節できるが、この蓋
部16aをどの程度閉じれば陽圧になるかは、ファンユ
ニット22からの流量によって異なる。しかし、エアナ
イフ21を停止した状態でも室内を陽圧に保ち、しかも
室内の下部に溜まる塵埃を巻き上げないようにするに
は、ファンユニット22からの層流が形成されているこ
とが効果的である。従って、層流を形成するのに必要な
空気量と、基板の搬出口20a及び搬入口10a、排気
管12からの空気の漏出量を勘案して、オートダンパ1
6の閉鎖度合い、すなわち蓋部16aの回動量を決定す
る。
The auto damper 16 has a cover 16
The degree of opening / closing can be adjusted by the amount of rotation of “a”, but the degree to which the lid 16 a is closed to obtain a positive pressure depends on the flow rate from the fan unit 22. However, the laminar flow from the fan unit 22 is effective to keep the room at a positive pressure even when the air knife 21 is stopped and to prevent the dust accumulated in the lower part of the room from rolling up. . Therefore, taking into account the amount of air necessary to form a laminar flow and the amount of air leaking from the substrate carrying-out port 20a, the carrying-in port 10a, and the exhaust pipe 12, the automatic damper 1 is used.
6, the amount of rotation of the cover 16a is determined.

【0029】(3)実施の形態の効果 以上のような本実施の形態によれば、排気室10及び液
切り室20の室内を陽圧に保ち、外気の侵入を防ぐの
で、外気の影響を受けずに、基板の汚染を防止すること
ができ、品質が安定し、歩留まりが向上する。
(3) Effects of the Embodiment According to the above-described embodiment, the interior of the exhaust chamber 10 and the drain chamber 20 is maintained at a positive pressure to prevent the invasion of the outside air. Therefore, contamination of the substrate can be prevented, the quality is stabilized, and the yield is improved.

【0030】また、ファンユニット22からの清浄化さ
れた空気流は、エアナイフ21によって水分が除去さ
れ、きれいになった基板Bの表面に吹き付けられるの
で、塵埃を含むミストが基板Bに再付着して汚損される
ことがない。
Further, since the purified air flow from the fan unit 22 is blown onto the cleaned surface of the substrate B after the moisture is removed by the air knife 21, the mist containing dust adheres to the substrate B again. There is no contamination.

【0031】また、ファンユニット22からの空気流
は、液切り室20の高い天井側から、天井の低い排気室
10側へ流れ、上から下への層流となるので、エアナイ
フ21によって吹き飛ばされて生じた水滴及びミスト
が、排気室10内に滞留することなく効率良く排出され
る。
The air flow from the fan unit 22 flows from the high ceiling side of the liquid drainage chamber 20 to the exhaust chamber 10 with a low ceiling, and becomes a laminar flow from top to bottom. The generated water droplets and mist are efficiently discharged without staying in the exhaust chamber 10.

【0032】また、搬送ローラ30の駆動部を構成する
軸受け31、第1のはすば歯車30a、シャフト32等
は、駆動部カバー33によって覆われているので、構成
部品の摩耗によって発生する微細な塵埃や、潤滑油など
の飛散によって発生するゴミが、搬送中の基板B側へ移
行せず、基板Bの汚染が防止される。
The bearing 31, the first helical gear 30a, the shaft 32, and the like, which constitute the driving unit of the transport roller 30, are covered by the driving unit cover 33, so that the fine parts generated by the wear of the component parts. Dust generated by scattering of dust or lubricating oil does not move to the side of the substrate B being transported, so that contamination of the substrate B is prevented.

【0033】(4)その他の実施の形態 本発明は、上記のような実施の形態に限定されるもので
はなく、各部材の大きさ、形状、数等は適宜変更可能で
ある。例えば、請求項4記載の発明に対応する実施の形
態として、図9に示すように、液切り室20における搬
出口20aの近傍に、差圧センサ40を設け、この差圧
センサ20は制御回路に接続することも可能である。こ
の場合、制御回路は、差圧センサ20によって検出され
た乾燥室1の内部の気圧と外部の気圧との差圧に応じ
て、内部の気圧を外部の気圧よりも陽圧に保つように、
オートダンパ16の駆動部16dを制御するように設定
する。
(4) Other Embodiments The present invention is not limited to the above embodiments, and the size, shape, number, etc. of each member can be changed as appropriate. For example, as an embodiment corresponding to the fourth aspect of the present invention, as shown in FIG. 9, a differential pressure sensor 40 is provided near the carry-out port 20a in the liquid draining chamber 20, and the differential pressure sensor 20 is a control circuit. It is also possible to connect to. In this case, the control circuit controls the internal pressure to be more positive than the external pressure in accordance with the differential pressure between the internal pressure and the external pressure detected by the differential pressure sensor 20.
The setting is made so as to control the drive unit 16d of the automatic damper 16.

【0034】かかる構成によれば、差圧センサ40によ
って検出された室内の気圧と外部の気圧との差が、あら
かじめ定められた値よりも低下した場合には、オートダ
ンパ16を閉じて、ファンユニット22のファンを駆動
し、内部の圧力を上昇させることによって、室内を外部
よりも陽圧に保って外気の流入を防ぐことができる。ま
た、差圧センサ40からの検出値に基づいて、室内の気
圧を常に一定に保つことができるので、乱流の発生によ
る水滴やミストの基板への再付着等を防止することがで
きる。
According to this configuration, when the difference between the indoor air pressure and the external air pressure detected by the differential pressure sensor 40 falls below a predetermined value, the automatic damper 16 is closed and the fan is closed. By driving the fan of the unit 22 to increase the internal pressure, the inside of the room can be maintained at a positive pressure compared to the outside, and the inflow of outside air can be prevented. Further, since the pressure in the room can always be kept constant based on the detection value from the differential pressure sensor 40, it is possible to prevent water droplets and mist from re-adhering to the substrate due to generation of turbulence.

【0035】また、オートダンパ16の開閉状態は、そ
の蓋部16aがシャフト16bを軸に回転可能に設けら
れているので、全開及び全閉のいずれか一方の状態には
限定されない。つまり、制御回路からの制御信号に応じ
て、駆動部16dがシャフト16bの回転量を調節する
ことにより、蓋部16aの角度を変えて、開閉の程度を
微妙に調整することができる。
The open / closed state of the auto damper 16 is not limited to one of the fully open state and the fully closed state since the lid 16a is provided rotatably about the shaft 16b. In other words, the degree of opening and closing can be finely adjusted by changing the angle of the lid 16a by adjusting the amount of rotation of the shaft 16b by the driving unit 16d according to a control signal from the control circuit.

【0036】また、図10に示すように、排気室10内
部の上方にカバー50を設け、このカバー50に垂直管
15を接続する構成とすることも可能である。かかる構
成とすれば、排気室10内に発生して上昇した一部のミ
ストを、効率良く素早く排出することができるため、基
板Bへのミストの再付着をより一層確実に防止すること
ができる。さらに、図11に示すように、上方のエアナ
イフ21の上部と、排気室10及び液切り室20の仕切
りとの間に、液切り室20から排気室10への空気流を
遮る斜めカバー60を設けることも可能である。
As shown in FIG. 10, a cover 50 may be provided above the inside of the exhaust chamber 10, and the vertical pipe 15 may be connected to the cover 50. With such a configuration, a part of the mist generated and raised in the exhaust chamber 10 can be efficiently and quickly discharged, so that the re-adhesion of the mist to the substrate B can be more reliably prevented. . Further, as shown in FIG. 11, between the upper part of the upper air knife 21 and the partition of the exhaust chamber 10 and the liquid drain chamber 20, a diagonal cover 60 that blocks the air flow from the liquid drain chamber 20 to the exhaust chamber 10 is provided. It is also possible to provide.

【0037】また、上記の実施の形態における排気管、
排液管の数は、設計の段階で自由に増減変更可能であ
り、ダンパを複数設置することもできる。ダンパの形状
は、1枚の板状の蓋部を開閉させるもの以外に、複数の
羽根の角度を変化させて通過する空気の流量を調整する
ものでも、ピンチバルブのようにエアバッグを膨らませ
ることにより、通路を開閉するものでも良い。さらに、
駆動部は、搬送ローラ30を駆動可能なものであれば、
どのような構成でもよい。
The exhaust pipe according to the above embodiment,
The number of drain pipes can be freely increased or decreased at the design stage, and a plurality of dampers can be installed. The shape of the damper is such as to open and close a single plate-shaped lid, and also to adjust the flow rate of passing air by changing the angle of a plurality of blades, and to inflate the airbag like a pinch valve. Thereby, the passage may be opened and closed. further,
As long as the driving unit can drive the transport roller 30,
Any configuration may be used.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上のような本発明によれば、乾燥室内
の清浄度を保ちつつ、基板上の液体を完全に除去可能な
基板乾燥装置を提供することができる。
According to the present invention as described above, it is possible to provide a substrate drying apparatus capable of completely removing the liquid on the substrate while maintaining the cleanliness of the drying chamber.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基板乾燥装置の一つの実施の形態の構
成を示す外観斜視図である。
FIG. 1 is an external perspective view showing a configuration of one embodiment of a substrate drying apparatus of the present invention.

【図2】図1の実施の形態における排気室の内部構成を
示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an internal configuration of an exhaust chamber in the embodiment of FIG.

【図3】図1の実施の形態における液切り室の内部構成
を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an internal configuration of a liquid drainage chamber in the embodiment of FIG.

【図4】図1の実施の形態における排気室の透視側面図
である。
FIG. 4 is a perspective side view of an exhaust chamber in the embodiment of FIG.

【図5】図1の実施の形態における排気室の側面図であ
る。
FIG. 5 is a side view of the exhaust chamber in the embodiment of FIG.

【図6】図1の実施の形態における排気室の背面図であ
る。
FIG. 6 is a rear view of the exhaust chamber in the embodiment of FIG.

【図7】図1の実施の形態におけるオートダンパの全閉
状態を示す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing the fully closed state of the automatic damper in the embodiment of FIG.

【図8】図1の実施の形態におけるオートダンパの全開
状態を示す透視側面図である。
FIG. 8 is a transparent side view showing a fully opened state of the automatic damper in the embodiment of FIG. 1;

【図9】図1の実施の形態における排気及び排液の流れ
を示す簡略図である。
FIG. 9 is a simplified diagram showing the flow of exhaust and drainage in the embodiment of FIG.

【図10】本発明の基板乾燥装置の他の実施の形態を示
す簡略図である。
FIG. 10 is a simplified diagram showing another embodiment of the substrate drying apparatus of the present invention.

【図11】本発明の基板乾燥装置の他の実施の形態を示
す簡略図である。
FIG. 11 is a simplified diagram showing another embodiment of the substrate drying apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…乾燥室 2…架台 10…排気室 10a…搬入口 11…集液部 12…排気管 12a…排出管 13,14…駆動部排気管 14a…ドレン管 15…垂直管 16…オートダンパ 16a…蓋部 16b…シャフト 16c…軸受け部 16d…駆動部 16e…連結部 20…液切り室 20a…搬出口 21…エアナイフ 22…ファンユニット 30…搬送ローラ 30a…第1のはすば歯車 31…軸受け 32…シャフト 32a…第2のはすば歯車 32b…モータ 33…駆動部カバー 40…差圧センサ 50…カバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Drying chamber 2 ... Stand 10 ... Exhaust chamber 10a ... Carry-in port 11 ... Liquid collection part 12 ... Exhaust pipe 12a ... Discharge pipe 13, 14 ... Drive part exhaust pipe 14a ... Drain pipe 15 ... Vertical pipe 16 ... Auto damper 16a ... Lid 16b Shaft 16c Bearing 16d Driving unit 16e Connecting unit 20 Drainage chamber 20a Carry-out port 21 Air knife 22 Fan unit 30 Transport roller 30a First helical gear 31 Bearing 32 ... Shaft 32a ... Second helical gear 32b ... Motor 33 ... Drive cover 40 ... Differential pressure sensor 50 ... Cover

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3L113 AA01 AB10 AC20 AC31 AC45 AC46 AC48 AC49 AC50 AC52 AC57 AC63 AC67 AC72 AC73 AC75 AC76 AC83 BA34 CA10 DA04 DA09 DA24  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 3L113 AA01 AB10 AC20 AC31 AC45 AC46 AC48 AC49 AC50 AC52 AC57 AC63 AC67 AC72 AC73 AC75 AC76 AC83 BA34 CA10 DA04 DA09 DA24

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 乾燥室内に、基板の搬送手段と、基板上
の液体を空気流によって除去するエアナイフとを備えた
基板乾燥装置において、 前記乾燥室には、前記乾燥室内部に清浄空気を送風する
ファンユニットが設けられ、 前記乾燥室には、基板から除去された液体によって生じ
る水滴及びミストを排出する排出手段が接続され、 前記乾燥室には、室内の気圧調整用のダンパが設けら
れ、 前記乾燥室内の気圧が外部の気圧よりも陽圧に維持され
るように、前記エアナイフの作動・停止に応じて、前記
ダンパの開放度を制御する制御手段を有することを特徴
とする基板乾燥装置。
1. A substrate drying apparatus comprising: a substrate transfer means in a drying chamber; and an air knife for removing a liquid on the substrate by an air flow, wherein the drying chamber blows clean air into the drying chamber. A discharge unit for discharging water droplets and mist generated by the liquid removed from the substrate is connected to the drying chamber, and a damper for adjusting the atmospheric pressure in the room is provided in the drying chamber; A substrate drying apparatus, comprising: a control unit that controls the degree of opening of the damper in accordance with the operation / stop of the air knife so that the air pressure in the drying chamber is maintained at a more positive pressure than the external air pressure. .
【請求項2】 前記乾燥室は、天井の高い高位部と、天
井の低い低位部とを有し、 前記基板の搬入口が前記低位部側に設けられ、 前記基板の搬出口が前記高位部側に設けられ、 前記ファンユニットは、前記高位部の上部に設けられ、 前記エアナイフは、その吹き出し部が前記低位部側とな
るように、傾斜して配設されていることを特徴とする請
求項1記載の基板乾燥装置。
2. The drying chamber has a high portion with a high ceiling and a low portion with a low ceiling, a loading port for the substrate is provided on the low portion side, and a loading port for the substrate is connected to the high portion. The fan unit is provided on an upper portion of the high portion, and the air knife is disposed so as to be inclined such that a blowout portion is on the low portion side. Item 2. A substrate drying apparatus according to Item 1.
【請求項3】 前記排出手段は排気管を有し、 前記低位部には、前記搬送手段の下側に排気口が設けら
れ、 前記排気管は前記排気口に接続されていることを特徴と
する請求項2記載の基板乾燥装置。
3. The exhaust means has an exhaust pipe, and an exhaust port is provided below the transport means in the lower part, and the exhaust pipe is connected to the exhaust port. The substrate drying apparatus according to claim 2, wherein
【請求項4】 前記搬送手段は、平行配置された複数の
搬送ローラと、前記搬送ローラの端部に構成された駆動
部とを有し、 前記乾燥室には、前記搬送ローラ側の空間と前記駆動部
側の空間とを仕切るカバーが、前記駆動部を覆う位置に
設けられ、 前記乾燥室における前記駆動部側の空間に、排気管が接
続されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか
1項に記載の基板乾燥装置。
4. The transport unit has a plurality of transport rollers arranged in parallel, and a drive unit configured at an end of the transport roller, wherein the drying chamber has a space on the transport roller side. A cover for partitioning the drive unit side space is provided at a position covering the drive unit, and an exhaust pipe is connected to the drive unit side space in the drying chamber. 4. The substrate drying device according to any one of items 3.
【請求項5】 前記乾燥室には、室内の気圧と外部の気
圧との差圧を検出するセンサが設けられ、 前記センサが前記制御手段に接続されていることを特徴
とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の基板乾燥装
置。
5. The drying chamber is provided with a sensor for detecting a pressure difference between an indoor air pressure and an external air pressure, and the sensor is connected to the control means. 5. The substrate drying apparatus according to any one of 4.
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