JP2000281462A - 金属−セラミックス複合基板の製造方法 - Google Patents

金属−セラミックス複合基板の製造方法

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JP2000281462A JP11090498A JP9049899A JP2000281462A JP 2000281462 A JP2000281462 A JP 2000281462A JP 11090498 A JP11090498 A JP 11090498A JP 9049899 A JP9049899 A JP 9049899A JP 2000281462 A JP2000281462 A JP 2000281462A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高温の接合温度から室温に冷却する過程で発
生する金属−セラミックス複合基板の残留応力を除去す
ることで、その基板の反りを防止することができ、しか
も機械加工等を加えずに製造工程的に有利な温度制御の
みにより、基板の反りを防止することができる、信頼性
に優れた金属−セラミックス複合基板を提供する。 【解決手段】 セラミックス基板1に銅板2、3を直接
接合法で接合して構成した金属−セラミックス複合基板
に、室温から更に過冷却し再び室温に戻す温度サイクル
を与えることにより、接合温度から室温に冷却する過程
で発生する熱応力に起因する金属−セラミックス複合基
板の残留応力を除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、パワーモジュー
ル等の大電力電子部品の実装に好適な金属−セラミック
ス複合基板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、パワートランジスタモジュールや
スイッチング電源モジュール等のような大電力電子部品
の実装に使用する基板としてセラミックス基板の表面に
銅板を接合して作成された銅張りセラミックス複合基板
が使用されている。この複合基板は更に、使用するセラ
ミックス基板の種類やその製造法によって、銅−アルミ
ナ直接接合基板、銅−窒化アルミニウムろう接基板等に
分けられる。
【0003】銅−アルミナ直接接合基板の製造方法は、
特開昭52−37914号公報に開示されるように、酸
素を含有するタフピッチ電解銅板か、または無酸素銅板
を使用して酸化性雰囲気中で加熱することによって無酸
素銅板の表面に酸化銅を1〜10μm発生させてから、銅
板とアルミナ基板を重ねて不活性雰囲気中で加熱し、銅
板とアルミナ基板との界面に銅とアルミニウムとの複合
酸化物を生成させ銅板とアルミナ基板を直接接合する、
いわゆる直接接合法(DBC法:ダイレクト・ボンディング
・カッパー法)で接合するものである。
【0004】例えば直接接合法においては、まず所定形
状の厚さ0.2〜0.5mmの銅回路板を、酸化アルミニウム焼
結体や窒化アルミニウム焼結体等からなる厚さ0.6〜1.0
mmのセラミックス基板上に接触配置させて約1000℃まで
加熱し、接合界面にCu-Cu2 Oの共晶液相を生成させ、こ
の液相でセラミックス基板の表面と接触させ、液相を冷
却固化することによって、セラミックス基板と銅回路板
とが接合される。このように直接接合法を適用したセラ
ミックス回路基板は、セラミックス基板と銅回路板との
接合強度が強く、またメタライズ層やろう材層を必要と
しない単純構造のため小型高実装化が可能である等の長
所を有しており、製造工程の短縮化を実現することも可
能である。
【0005】銅−窒化アルミニウム直接接合基板の場合
は、予め窒化アルミニウム基板の表面に酸化物を形成す
る必要がある。例えば特開平3−93687公報に開示
されているように、予め空気中において、約1000℃の温
度で窒化アルミニウム基板を処理し、表面に酸化物を生
成させてから、この酸化物層を介して前述の方法により
銅板と窒化アルミニウム基板を接合している。
【0006】また、銅―アルミナろう接基板及び銅−窒
化アルミニウムろう接基板は、銅板とセラミックス基板
との間に低融点のろう材を用いて接合を行う。
【0007】上述のように銅−セラミックス複合基板は
広く使用されているにもかかわらず、製造中及び実用上
いくつかの問題点がある。その中で最も重大な問題点
は、電子部品の実装時に基板にそりが発生し、基板の電
子部品の実装面の反対面の金属板に直接放熱フィン等の
基板冷却用媒体を接合する場合に接合面が密着せずに放
熱性能が著しく低下する等の問題がある。
【0008】そりの発生は、銅の熱膨張係数がセラミッ
クスの熱膨張係数より1桁大きいことに起因する。銅板
とセラミックス基板を直接接合する場合、約1000℃まで
加熱され、接合温度から室温に冷却する過程で熱膨張係
数の違いにより、複合基板の内部に多大な熱応力が発生
する。この応力は銅板側に引張り、セラミックス基板側
に圧縮の残留応力分布として存在する。この残留応力
は、片側の銅板上に回路図をエッチング処理により作成
することにより、銅板が分断され、回路を切った前記銅
板の残留応力のみ開放され、金属−セラミックス複合基
板にそりが発生する。さらに、この残留応力は、セラミ
ックス基板にクラックを生じさせたり、あるいは金属板
剥離の発生原因等となる。また、セラミックス基板にク
ラックが生じないまでも、セラミックス基板の強度を低
下させるという悪影響を及ぼす。
【0009】上述のように冷却過程で発生した残留応力
は、冷却速度の調節等によりある程度は低減できるもの
の、そりの防止には至らず、重大な問題となっている。
このため、上記のようなセラミックス回路基板は、通常
セラミックス基板の裏面にも表面すなわち半導体実装部
と同一あるいは5〜50%薄い金属板を接合して、セラミッ
クス回路基板の反りを防止する方法が広く用いられてい
る。
【0010】上述したような残留応力による問題の対応
策として、例えば特開平10-87385公報には、アルミニウ
ム−セラミックス直接接合法で接合したAl−セラミック
ス基板上の電子部品搭載部分をショットピーニング法に
より硬化させる方法が記載されている。また、特開平8-
250823公報には、金属板の外周縁部内側に複数の孔を形
成することが記載されている。これによりセラミックス
基板のクラック発生や強度低下を防止し、機械加工によ
って金属板の変形を防止している。更にまた、特開昭6
0―89354号公報には、セラミック−金属の複合基
板製作のため、加熱後室温まで冷却する段階での破壊あ
るいは曲がり防止のため、金属エレメントをモザイク状
に組み立てることが開示されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たセラミックス回路基板の裏面に金属板を接合する方法
は、回路のパターンにより裏面の金属板の薄さを調節し
なければならず、薄さの決定に多大な設計工数が必要で
あり、また製造工程が繁雑になり、製造工数、材料原価
の増大を招いていた。また、特開平10-87385公報に記載
されているショットピーニング法による残留応力の除去
についても、特開平8-250823公報に記載されている機械
加工による金属板外周縁部内側に複数の孔を形成する方
法についても、更に特開昭60―89354号公報に記
載されている金属エレメントをモザイク状に組み立てる
方法についても、製造工程が繁雑になり、製造工数が増
大するという問題がある。
【0012】このようなことから、金属板接合後の冷却
過程により、金属板に生じる残留応力を開放、緩和し
て、セラミックス基板のクラック発生や強度低下を有効
に防止すると共に、機械加工等を行わず、製造工程の簡
略化が図れ、セラミックス基板の反りを防止する技術が
広く求められている。
【0013】本発明は、このような課題に対処するため
になされたもので、金属板接合後の冷却過程で金属−セ
ラミックス複合基板に生じる残留応力を緩和、開放し、
セラミックス基板の反りの発生を防止、制御し、クラッ
ク発生や強度低下を防止することができ、しかも機械加
工等の外力を加えることなく金属板の反りを防止でき
る、信頼性や製造性優れる金属−セラミックス複合基板
の製造方法を提供することを目的としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の金属−セラミッ
クス複合基板の製造方法は、セラミックス基板と、前記
セラミックス基板の少なくとも1主面に接合された電子
部品搭載のための回路を形成する金属板とを具備する金
属−セラミックス複合基板の製造方法において、室温か
ら更に過冷却し再び室温に戻す温度サイクルを、前記金
属−セラミックス複合基板に与えるものである。
【0015】また本発明の金属−セラミックス複合基板
の製造方法は、セラミックス基板と、前記セラミックス
基板の少なくとも1主面に接合された電子部品搭載のた
めの回路を形成する金属板とを具備する金属−セラミッ
クス複合基板の製造方法において、前記セラミックス基
板と前記金属板とを接合する焼結工程時の温度から室温
に冷却し、この室温への冷却工程より引続いてその室温
から更に過冷却し、再び室温に戻す温度サイクルを、前
記金属−セラミックス複合基板に与えるものである。
【0016】また本発明の金属−セラミックス複合基板
の製造方法は、上記金属−セラミックス複合基板の製造
方法において、過冷却の下限温度を制御することで、金
属−セラミックス複合基板の残留応力値を制御し、そり
の向き、または反りの量を制御するものである。
【0017】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明に係る
金属−セラミックス複合基板の製造方法について詳細に
説明する。図1は、本発明に係る金属−セラミックス複
合基板の構造を示す平面図である。同図において、1は
セラミックス基板であり、このセラミックス基板1の表
面1aには金属板として銅板1が接合されている。ま
た、セラミックス基板1の裏面1bにも同様に銅板1と
同一の薄さの銅板2が接合されており、これらにより金
属−セラミックス複合基板4が構成されている。
【0018】ここで、上記セラミックス基板1として
は、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケ
イ素、ジルコニア等の各種セラミックス焼結体を用いる
ことができ、この場合、高純度の素材であればなおさら
好ましい。また用途や要求に応じて適宜選択して使用す
ることが可能である。
【0019】また、図1に示す金属−セラミックス複合
基板における銅板2、3は、セラミックス基板1に対し
て直接接合、いわゆるDBC法により接合されている。
このようなDBC法を利用する場合の銅板2、3として
は、タフピッチ銅のような酸素を100〜3000ppmの割合で
含有する銅を用いることが好ましいが、接合時の条件に
よっては無酸素銅を用いることも可能である。
【0020】また金属板として、銅板2、3に代り、導
電性が良好で、且つ軟らかい金属、例えば銅合金、アル
ミニウム、アルミニウム合金等を用いることができる。
【0021】セラミックス複合基板4を製造するため
に、直接接合法を用いるため、焼結時に約1000℃と高温
になる。この後、図2に示すように、室温までの冷却過
程で熱応力が発生し、残留応力となるが、本発明では接
合工程の約1000℃からの室温までの冷却工程後に過冷却
を実施することで、残留応力を除去、あるいは制御して
いる。過冷却温度は、セラミックス基板の線膨張係数を
α1、金属板の線膨張係数をα2、ヤング率をE、焼結温
度をT1、室温をT2、過冷却温度をT3、線膨張係数の
差から発生するひずみをε、ひずみεのときに金属に発
生する応力をσとすると、発生するひずみεは、 Δα=α1−α2 [ひずみ/deg] (式1) ε=Δα×(T1−T2) [%] (式2) となり、この時に発生する応力σを零にするために必要
なヒステリシスループ(図3)を得るために過冷却を行
い、更にひずみを発生させている。残留応力が減少する
方向のループでは、その傾きがヤング率の傾きと同等と
なるため、このひずみε0は、 ε0=σ/E (式3) となる。ただし、図2に示すように銅のような延性材の
場合は1%未満のひずみを更に発生させても発生する応
力値に大きな差はなく材料が破断することはない。した
がって過冷却温度は、 T3= T2−(T1−T2)×ε0/ε [℃] (式4) となる。
【0022】上述のT3の温度を基準に、T3より高い温
度を過冷却温度とすると、残留応力が完全に開放されず
に、回路側の金属面が凸となる反りが発生する。また、
3より低い温度を過冷却温度とすると、残留応力の引
張り、圧縮が入れ替り回路側の金属面が凹となる反りが
発生するため、過冷却温度を任意に設定することで、反
りの向きを制御できる。
【0023】また、上述のT3を基準にT3から過冷却温
度が離れる程、反りの量が多くなるため、過冷却温度を
任意に設定することで、反り量を制御することができ
る。
【0024】次に本発明に係る製造方法を、具体例を用
いて説明する。即ち、まず、セラミックス基板1として
厚さ0.635mmのアルミナ基板と、金属板として厚さ0.3mm
の銅板2,3を用意した。そして、図1に示したよう
に、アルミナ基板1の両面に2枚の銅板2,3をそれぞ
れ直接配置し、約1000℃の条件で加熱し、直接接合さ
せ、室温(20℃)まで冷却し、金属−セラミックス複合基
板4を得た。
【0025】次に金属−セラミックス複合基板4の残留
応力を除去するために、図4に示すように過冷却を行っ
た。過冷却温度は、表1に示すアルミナ基板1、銅板
2,3の材料定数から次のように算出した。 Δα=(72-17)×10-6=55×10-6 [ひずみ/deg] 55×10-6×(1000-20)=0.055( = 5.5%) 5.5%ひずみのときの応力値を図4のグラフから読み取
ると、13.3kg/mm2となり、この発生応力を零にするため
のヒステリシスループを形成するためには、 13.3/12500=0.001 ( =0.1%) のひずみを更に発生させる必要があり、そのためには、 20-(1000-20)×0.001/0.055=2.2[℃] となり、過冷却温度2.2℃を得た。そして図4に示すよ
うな室温から2.2℃まで過冷却し、室温まで再び戻す工
程を経て、目的とする金属−セラミックス複合基板4を
得た。
【0026】
【表1】
【0027】このようにして得た金属−セラミックス複
合基板4の銅板2に所定の回路をエッチング処理により
回路を作成し、電子部品をはんだ実装するために、250
℃でリフローを施したところ、金属−セラミックス複合
基板4の反りは、従来に比べ十分無視できる程度まで低
減できた。
【0028】なお上記の実施例において、金属−セラミ
ックス複合基板4の過冷却工程は、焼結温度(約100
0℃)からの冷却工程に引き続いて行ったが、焼結温度
(約1000℃)から室温へ冷却され、その室温で長時
間放置されたものに対して行っても同等の効果を奏す
る。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の金属−セ
ラミックス複合基板の製造方法によれば、直接接合時の
温度から室温への冷却過程で発生する残留応力を過冷却
することで、除去、あるいは制御することが可能なた
め、金属−セラミックス複合基板の反りを防止すること
ができる。また、基板の反りの向き、反り量を制御する
ことができると共に、機械加工等を加えずに製造工程的
に有利な温度制御のみにより、基板の反りを防止するこ
とができる。従って、製造工程の簡略化および製造工数
の低減を図った上で、焼結時からの冷却に起因する基板
の反りを有効に防止することができる、信頼性に優れた
金属−セラミックス複合基板を提供することが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態に係わる金属−セラミッ
クス複合基板の構造を示す図であって、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
【図2】 本発明の実施の形態に係わる金属の応力−ひ
ずみ線図の模式図である。
【図3】 本発明の実施の形態に係わる金属の応力−ひ
ずみのヒステリシスを表す模式図である。
【図4】 本発明の実施の形態に係わる金属−セラミッ
クス複合基板の銅板の応力−ひずみ線図である。
【符号の説明】
1 セラミックス基板 2、3 銅板 4 金属−セラミックス複合基板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミックス基板と、前記セラミックス
    基板の少なくとも1主面に接合された電子部品搭載のた
    めの回路を形成する金属板とを具備する金属−セラミッ
    クス複合基板の製造方法において、室温から更に過冷却
    し再び室温に戻す温度サイクルを、前記金属−セラミッ
    クス複合基板に与えることを特徴とする金属−セラミッ
    クス複合基板の製造方法。
  2. 【請求項2】 セラミックス基板と、前記セラミックス
    基板の少なくとも1主面に接合された電子部品搭載のた
    めの回路を形成する金属板とを具備する金属−セラミッ
    クス複合基板の製造方法において、前記セラミックス基
    板と前記金属板とを接合する焼結工程時の温度から室温
    に冷却し、この室温への冷却工程より引続いてその室温
    から更に過冷却し、再び室温に戻す温度サイクルを、前
    記金属−セラミックス複合基板に与えることを特徴とす
    る金属−セラミックス複合基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 過冷却の下限温度を制御することで、金
    属−セラミックス複合基板の残留応力値を制御し、そり
    の向き、または反りの量を制御することを特徴とする請
    求項1または2に記載の金属−セラミックス複合基板の
    製造方法。
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