JP2000274643A - 排ガス処理システム - Google Patents
排ガス処理システムInfo
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- JP2000274643A JP2000274643A JP11081159A JP8115999A JP2000274643A JP 2000274643 A JP2000274643 A JP 2000274643A JP 11081159 A JP11081159 A JP 11081159A JP 8115999 A JP8115999 A JP 8115999A JP 2000274643 A JP2000274643 A JP 2000274643A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低温になった排ガスを少量のエネルギーで触
媒の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類を
高効率で除去することができる、省エネルギーかつ高効
率の排ガス処理システムを提供することを目的とする。 【解決手段】 排ガス処理システムに排ガス１１に還元
剤を添加する還元剤添加２２を備え、排ガス１１を処理
ガス１３として加熱可能な加熱部１４と手段、処理ガス
１３の流通方向における加熱部１４の両側に、還元触媒
層１ｂ，２ｂと蓄熱層１ａ，２ａの積層で還元触媒層１
ｂ，２ｂを加熱部１４側に形成した還元蓄熱部１，２
と、加熱部１４に対して還元蓄熱部１，２の反対側に、
処理ガス１３を供給又は排出する２つの取合口１０ａ，
１０ｂをそれぞれ設けた処理炉８を備え、処理炉８内を
流れる処理ガス１３の方向を切り換える処理方向切換機
構６を備えたことを特徴とする。
媒の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類を
高効率で除去することができる、省エネルギーかつ高効
率の排ガス処理システムを提供することを目的とする。 【解決手段】 排ガス処理システムに排ガス１１に還元
剤を添加する還元剤添加２２を備え、排ガス１１を処理
ガス１３として加熱可能な加熱部１４と手段、処理ガス
１３の流通方向における加熱部１４の両側に、還元触媒
層１ｂ，２ｂと蓄熱層１ａ，２ａの積層で還元触媒層１
ｂ，２ｂを加熱部１４側に形成した還元蓄熱部１，２
と、加熱部１４に対して還元蓄熱部１，２の反対側に、
処理ガス１３を供給又は排出する２つの取合口１０ａ，
１０ｂをそれぞれ設けた処理炉８を備え、処理炉８内を
流れる処理ガス１３の方向を切り換える処理方向切換機
構６を備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、都市ごみ又は産業
廃棄物等の焼却炉に付設され、これらの焼却炉から排出
されるＮＯｘやダイオキシン類を除去する排ガス処理シ
ステムに関する。
廃棄物等の焼却炉に付設され、これらの焼却炉から排出
されるＮＯｘやダイオキシン類を除去する排ガス処理シ
ステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、焼却炉から排出される排ガスのＮ
Ｏｘやダイオキシン類を除去する方法として、排ガスの
温度が２５０℃〜３５０℃以上の活性温度以上において
アンモニアや尿素水を還元剤とするＮＯｘ還元触媒脱硝
法が用いられている。しかし、ＮＯｘ還元脱硝法におい
て、排ガスが低温の場合、活性が非常に低く、特に２２
０℃以下ではＮＯｘやダイオキシン類の除去効率が非常
に低い。このため、排ガスを高温で処理する必要があ
り、排ガスが２２０℃以下になる場合は、再加熱する必
要があった。例えば、湿式、半乾式又は乾式塩化水素除
去装置の下流側に脱硝用の排ガス処理装置を設置する場
合、排ガス処理装置に供給される排ガスは２２０℃以下
になるので、排ガスを２５０℃〜３５０℃以上に再加熱
しＮＯｘ還元触媒脱硝法によって処理することになる。
Ｏｘやダイオキシン類を除去する方法として、排ガスの
温度が２５０℃〜３５０℃以上の活性温度以上において
アンモニアや尿素水を還元剤とするＮＯｘ還元触媒脱硝
法が用いられている。しかし、ＮＯｘ還元脱硝法におい
て、排ガスが低温の場合、活性が非常に低く、特に２２
０℃以下ではＮＯｘやダイオキシン類の除去効率が非常
に低い。このため、排ガスを高温で処理する必要があ
り、排ガスが２２０℃以下になる場合は、再加熱する必
要があった。例えば、湿式、半乾式又は乾式塩化水素除
去装置の下流側に脱硝用の排ガス処理装置を設置する場
合、排ガス処理装置に供給される排ガスは２２０℃以下
になるので、排ガスを２５０℃〜３５０℃以上に再加熱
しＮＯｘ還元触媒脱硝法によって処理することになる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】これらの構成において
は、排ガスを再加熱するために相当のエネルギーが必要
となり、再加熱のための加熱手段として、例えば、高負
荷のバーナ等を用い、膨大な設備を使用する必要があっ
た。さらに、加熱後に脱硝処理された高温状態の排ガス
は、そのまま大気に放出され、熱効率の点からも問題が
あった。よって、本発明は、これらの事情を鑑みて、少
量のエネルギーを加えることで、低温になった排ガスを
触媒の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類
を高効率で除去し、さらに処理後の排ガスを処理前の排
ガスの加熱に再利用することができる、省エネルギーか
つ高効率の排ガス処理システムを提供することを目的と
する。
は、排ガスを再加熱するために相当のエネルギーが必要
となり、再加熱のための加熱手段として、例えば、高負
荷のバーナ等を用い、膨大な設備を使用する必要があっ
た。さらに、加熱後に脱硝処理された高温状態の排ガス
は、そのまま大気に放出され、熱効率の点からも問題が
あった。よって、本発明は、これらの事情を鑑みて、少
量のエネルギーを加えることで、低温になった排ガスを
触媒の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類
を高効率で除去し、さらに処理後の排ガスを処理前の排
ガスの加熱に再利用することができる、省エネルギーか
つ高効率の排ガス処理システムを提供することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明に係る排ガス処理システムについては、排ガス
に還元剤を添加する還元剤添加手段を備え、前記排ガス
を処理ガスとして加熱可能な加熱部と、前記処理ガスの
流通方向における前記加熱部の両側に、還元触媒層と蓄
熱層の積層で前記還元触媒層を前記加熱部側に形成した
還元蓄熱部と、前記加熱部に対して前記還元蓄熱部の反
対側に、前記処理ガスを供給又は排出する２つの取合口
をそれぞれ設けた処理炉を備え、前記処理炉内を流れる
前記処理ガスの方向を切り換える処理方向切換機構を備
えることを特徴とする。この構成によると、加熱後に還
元触媒層で処理された処理ガスの熱を還元蓄熱部に貯
え、処理方向切換機構により処理ガスの方向が切り換え
られると、前記還元蓄熱部に貯えられた熱は処理前の処
理ガスの加熱に使用される。よって、前記加熱部は少量
のエネルギーで補助的に処理ガスを加熱するだけで処理
ガスを活性温度以上に加熱することができ、省エネルギ
ーかつ高効率にＮＯｘやダイオキシン類を除去すること
が可能である。さらに、前記蓄熱層をセラミック製ハニ
カム状の蓄熱体で構成することにより、排ガスの煤塵に
よる前記蓄熱層の目詰まりを抑制することができる。ま
た、前記排ガスと外気を切り換えて前記処理ガスとする
処理ガス切換機構を備えることにより、前記排ガス処理
システム始動時に排ガスと換えて外気を供給し、冷えた
前記還元蓄熱層をある程度まで加熱した後に排ガスを処
理することができ、処理初期の排ガスのＮＯｘやダイオ
キシン類を確実かつ高効率に除去することができる。ま
た、前記排ガスの煤塵を除去する集塵器を備えること
で、排ガスの煤塵を除去し、前記還元蓄熱部の目詰まり
を抑制し、目詰まりによる処理能力低下等を抑制するこ
とができる。
の本発明に係る排ガス処理システムについては、排ガス
に還元剤を添加する還元剤添加手段を備え、前記排ガス
を処理ガスとして加熱可能な加熱部と、前記処理ガスの
流通方向における前記加熱部の両側に、還元触媒層と蓄
熱層の積層で前記還元触媒層を前記加熱部側に形成した
還元蓄熱部と、前記加熱部に対して前記還元蓄熱部の反
対側に、前記処理ガスを供給又は排出する２つの取合口
をそれぞれ設けた処理炉を備え、前記処理炉内を流れる
前記処理ガスの方向を切り換える処理方向切換機構を備
えることを特徴とする。この構成によると、加熱後に還
元触媒層で処理された処理ガスの熱を還元蓄熱部に貯
え、処理方向切換機構により処理ガスの方向が切り換え
られると、前記還元蓄熱部に貯えられた熱は処理前の処
理ガスの加熱に使用される。よって、前記加熱部は少量
のエネルギーで補助的に処理ガスを加熱するだけで処理
ガスを活性温度以上に加熱することができ、省エネルギ
ーかつ高効率にＮＯｘやダイオキシン類を除去すること
が可能である。さらに、前記蓄熱層をセラミック製ハニ
カム状の蓄熱体で構成することにより、排ガスの煤塵に
よる前記蓄熱層の目詰まりを抑制することができる。ま
た、前記排ガスと外気を切り換えて前記処理ガスとする
処理ガス切換機構を備えることにより、前記排ガス処理
システム始動時に排ガスと換えて外気を供給し、冷えた
前記還元蓄熱層をある程度まで加熱した後に排ガスを処
理することができ、処理初期の排ガスのＮＯｘやダイオ
キシン類を確実かつ高効率に除去することができる。ま
た、前記排ガスの煤塵を除去する集塵器を備えること
で、排ガスの煤塵を除去し、前記還元蓄熱部の目詰まり
を抑制し、目詰まりによる処理能力低下等を抑制するこ
とができる。
【０００５】
【発明の実施の形態】本願に係る排ガス処理システムの
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１、図２に示
す排ガス処理システムは還元剤としてアンモニアや尿素
水を排ガスに添加し、ＮＯｘ還元脱硝法にて排ガス中の
ＮＯｘやダイオキシン類を除去するものであり、集塵器
２１、還元剤添加器２２、処理ガス切換機構７、処理方
向切換機構６、処理炉８、吸引ファン２０で構成されて
おり、処理炉８はバーナ４を有する加熱部１４、ＴｉＯ
2−Ｖ2Ｏ5 系の還元触媒層１ｂ、２ｂとセラミックハニ
カム状の蓄熱層１ａ、２ａで形成された積層状の２つの
還元蓄熱部１、２、処理ガス１３を供給又は排出する２
つの取合口１０ａ、１０ｂで構成されている。焼却炉か
ら排出された排ガス１１は前記集塵器２１で煤塵をある
程度除去された後に前記還元剤添加器２２によりアンモ
ニアや尿素水等の還元剤を添加され前記処理ガス切換機
構７に流れる。還元剤を添加した前記排ガス１１と外気
１２を前記処理ガス切換機構７の２つの切換ダンパ７
ａ、７ｂによって、例えば図１（イ）と図２（イ）に示
すように、切り換えて流すことが可能で、切り換えられ
た処理ガス１３は前記処理方向切換機構６に供給され
る。さらに、前記処理方向切換機構６の４つの切り換え
ダンパ６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄの切換により、例えば図
１（イ）と図１（ロ）に示すように、処理ガス１３は前
記処理炉８内を流れる方向を切り換えられ、前記吸引フ
ァン２０へ流れる。すなわち、切換ダンパ６ａ、６ｂを
開、切換ダンパ６ｃ、６ｄを閉にすると、処理ガス１３
は取合口１０ａ、処理炉８、取合口１０ｂを介し吸引フ
ァン２０へ流れる第１処理状態Ａとなり、切換ダンパ６
ａ、６ｂを閉、切換ダンパ６ｃ、６ｄを開にすると、処
理ガス１３は取合口１０ｂ、処理炉８、取合口１０ａを
介し吸引ファン２０へ流れる第２処理状態Ｂとなる。
実施の形態を図面に基づいて説明する。図１、図２に示
す排ガス処理システムは還元剤としてアンモニアや尿素
水を排ガスに添加し、ＮＯｘ還元脱硝法にて排ガス中の
ＮＯｘやダイオキシン類を除去するものであり、集塵器
２１、還元剤添加器２２、処理ガス切換機構７、処理方
向切換機構６、処理炉８、吸引ファン２０で構成されて
おり、処理炉８はバーナ４を有する加熱部１４、ＴｉＯ
2−Ｖ2Ｏ5 系の還元触媒層１ｂ、２ｂとセラミックハニ
カム状の蓄熱層１ａ、２ａで形成された積層状の２つの
還元蓄熱部１、２、処理ガス１３を供給又は排出する２
つの取合口１０ａ、１０ｂで構成されている。焼却炉か
ら排出された排ガス１１は前記集塵器２１で煤塵をある
程度除去された後に前記還元剤添加器２２によりアンモ
ニアや尿素水等の還元剤を添加され前記処理ガス切換機
構７に流れる。還元剤を添加した前記排ガス１１と外気
１２を前記処理ガス切換機構７の２つの切換ダンパ７
ａ、７ｂによって、例えば図１（イ）と図２（イ）に示
すように、切り換えて流すことが可能で、切り換えられ
た処理ガス１３は前記処理方向切換機構６に供給され
る。さらに、前記処理方向切換機構６の４つの切り換え
ダンパ６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄの切換により、例えば図
１（イ）と図１（ロ）に示すように、処理ガス１３は前
記処理炉８内を流れる方向を切り換えられ、前記吸引フ
ァン２０へ流れる。すなわち、切換ダンパ６ａ、６ｂを
開、切換ダンパ６ｃ、６ｄを閉にすると、処理ガス１３
は取合口１０ａ、処理炉８、取合口１０ｂを介し吸引フ
ァン２０へ流れる第１処理状態Ａとなり、切換ダンパ６
ａ、６ｂを閉、切換ダンパ６ｃ、６ｄを開にすると、処
理ガス１３は取合口１０ｂ、処理炉８、取合口１０ａを
介し吸引ファン２０へ流れる第２処理状態Ｂとなる。
【０００６】以下に、焼却炉からの排ガスを処理する前
の準備運転の手順を、図１に基いて説明する。排ガス処
理初期段階にて、処理炉８の還元触媒層１ｂ、２ｂが活
性温度以下の状態で排ガスを処理すると、充分にＮＯｘ
やダイオキシン類を除去することができず、性能が低下
する。初期段階のみバーナ４を高負荷にする方法がある
が、この場合、高負荷のバーナを備える必要がある。し
かし、排ガスを処理する前に以下に示す手順で準備運転
を行うと、処理初期段階において、還元触媒層１ｂ、２
ｂが活性温度以上にすることができ、排ガスのＮＯｘや
ダイオキシン類を確実かつ高効率に除去することができ
る。すなわち、図１に示すように、処理ガス切換機構７
で、切換ダンパ７ａを閉、７ｂを開にし、外気１２を処
理ガス１３とし、処理炉８に供給している状態で準備運
転は行われる。まず、図１（イ）に示すように、処理方
向切換機構６において、処理ガス１３は第１処理状態Ａ
で流れ、処理炉８に供給された処理ガス１３は、還元蓄
熱部１を介し、バーナ４によって加熱され、還元蓄熱部
２に熱を与え排出される。次に、図１（ロ）に示すよう
に、処理方向切換機構６において、処理ガス１３は第２
処理状態Ｂで流れ、処理炉８に供給され、蓄熱した還元
蓄熱部２で予熱され、バーナ４によって加熱され、還元
蓄熱部１に熱を与え、排出される。このように、処理方
向切換機構６を例えば約２分間隔で切り換えることによ
り、図１（イ）、（ロ）の状態を繰り返し、還元蓄熱部
１、２に次第に熱が蓄積され、還元触媒層１ｂ、２ｂの
上部の温度が約３５５℃になるまでこれを繰り返す。こ
のことにより、次に処理ガス１３として排ガス１１を流
したときは、初期段階においても、すでに還元蓄熱部
１、２に熱が貯えられており、処理ガス１３は十分に加
熱され、ＮＯｘやダイオキシン類を確実かつ高効率に除
去することができる。
の準備運転の手順を、図１に基いて説明する。排ガス処
理初期段階にて、処理炉８の還元触媒層１ｂ、２ｂが活
性温度以下の状態で排ガスを処理すると、充分にＮＯｘ
やダイオキシン類を除去することができず、性能が低下
する。初期段階のみバーナ４を高負荷にする方法がある
が、この場合、高負荷のバーナを備える必要がある。し
かし、排ガスを処理する前に以下に示す手順で準備運転
を行うと、処理初期段階において、還元触媒層１ｂ、２
ｂが活性温度以上にすることができ、排ガスのＮＯｘや
ダイオキシン類を確実かつ高効率に除去することができ
る。すなわち、図１に示すように、処理ガス切換機構７
で、切換ダンパ７ａを閉、７ｂを開にし、外気１２を処
理ガス１３とし、処理炉８に供給している状態で準備運
転は行われる。まず、図１（イ）に示すように、処理方
向切換機構６において、処理ガス１３は第１処理状態Ａ
で流れ、処理炉８に供給された処理ガス１３は、還元蓄
熱部１を介し、バーナ４によって加熱され、還元蓄熱部
２に熱を与え排出される。次に、図１（ロ）に示すよう
に、処理方向切換機構６において、処理ガス１３は第２
処理状態Ｂで流れ、処理炉８に供給され、蓄熱した還元
蓄熱部２で予熱され、バーナ４によって加熱され、還元
蓄熱部１に熱を与え、排出される。このように、処理方
向切換機構６を例えば約２分間隔で切り換えることによ
り、図１（イ）、（ロ）の状態を繰り返し、還元蓄熱部
１、２に次第に熱が蓄積され、還元触媒層１ｂ、２ｂの
上部の温度が約３５５℃になるまでこれを繰り返す。こ
のことにより、次に処理ガス１３として排ガス１１を流
したときは、初期段階においても、すでに還元蓄熱部
１、２に熱が貯えられており、処理ガス１３は十分に加
熱され、ＮＯｘやダイオキシン類を確実かつ高効率に除
去することができる。
【０００７】次に、焼却炉から排出された排ガスを処理
する手順を、図２に基いて説明する。前述のように準備
運転された後、還元蓄熱部１、２に熱が貯えられた状態
で、処理ガス切換機構７で、切換ダンパ７ａを開、７ｂ
を閉にし、排ガス１１を処理ガス１３とし、処理炉８に
供給している状態で行われる。図２（イ）に示すよう
に、処理方向切換機構６により、処理ガス１３が第１処
理状態Ａで流れているときは、処理炉８に供給された処
理ガス１３は、蓄熱した還元蓄熱部１により約３５５℃
まで加熱され、バーナ４により約３７０℃まで加熱され
た後、還元触媒層２ｂで還元されＮＯｘ及びダイオキシ
ン類が除去され、還元蓄熱部２に熱を与え、約１９５℃
になり排出される。また、図２（ロ）に示すように、処
理ガス１３が第２処理状態Ｂで流れているときは、処理
炉８に供給された処理ガス１３は、蓄熱した還元蓄熱部
２により約３５５℃まで加熱され、バーナ４により約３
７０℃まで加熱された後、還元触媒層１ｂで還元されＮ
Ｏｘ及びダイオキシン類が除去され、還元蓄熱部１に熱
を与え、約１９５℃になり排出される。上記のように処
理方向切換機構６を例えば約２分間隔で切り換えること
により、図２（イ）、（ロ）の状態を繰り返し、処理ガ
ス１３を処理炉８にて処理することにより、処理炉８に
供給される前には１８０℃程度の処理ガス１３は、常に
活性温度以上の３７０℃程度まで加熱され後に還元触媒
層１ｂ、２ｂと接触させることが可能で、さらに、処理
後の処理ガス１３の熱を還元蓄熱部１、２に貯え、処理
前の処理ガスを加熱することができることで、バーナ４
は処理ガスを約３５５℃から約３７０℃の１５℃程度の
加熱にのみに使用される。この構成により、本願の目的
である、低温になった排ガスを少量のエネルギーで触媒
の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類を高
効率で除去することができる、省エネルギーかつ高効率
の排ガス処理システムを提供することができるのであ
る。
する手順を、図２に基いて説明する。前述のように準備
運転された後、還元蓄熱部１、２に熱が貯えられた状態
で、処理ガス切換機構７で、切換ダンパ７ａを開、７ｂ
を閉にし、排ガス１１を処理ガス１３とし、処理炉８に
供給している状態で行われる。図２（イ）に示すよう
に、処理方向切換機構６により、処理ガス１３が第１処
理状態Ａで流れているときは、処理炉８に供給された処
理ガス１３は、蓄熱した還元蓄熱部１により約３５５℃
まで加熱され、バーナ４により約３７０℃まで加熱され
た後、還元触媒層２ｂで還元されＮＯｘ及びダイオキシ
ン類が除去され、還元蓄熱部２に熱を与え、約１９５℃
になり排出される。また、図２（ロ）に示すように、処
理ガス１３が第２処理状態Ｂで流れているときは、処理
炉８に供給された処理ガス１３は、蓄熱した還元蓄熱部
２により約３５５℃まで加熱され、バーナ４により約３
７０℃まで加熱された後、還元触媒層１ｂで還元されＮ
Ｏｘ及びダイオキシン類が除去され、還元蓄熱部１に熱
を与え、約１９５℃になり排出される。上記のように処
理方向切換機構６を例えば約２分間隔で切り換えること
により、図２（イ）、（ロ）の状態を繰り返し、処理ガ
ス１３を処理炉８にて処理することにより、処理炉８に
供給される前には１８０℃程度の処理ガス１３は、常に
活性温度以上の３７０℃程度まで加熱され後に還元触媒
層１ｂ、２ｂと接触させることが可能で、さらに、処理
後の処理ガス１３の熱を還元蓄熱部１、２に貯え、処理
前の処理ガスを加熱することができることで、バーナ４
は処理ガスを約３５５℃から約３７０℃の１５℃程度の
加熱にのみに使用される。この構成により、本願の目的
である、低温になった排ガスを少量のエネルギーで触媒
の活性温度まで昇温させ、ＮＯｘやダイオキシン類を高
効率で除去することができる、省エネルギーかつ高効率
の排ガス処理システムを提供することができるのであ
る。
【０００８】また、本願に係る排ガス処理システムの実
施の形態として、処理ガス切換機構及び処理方向切換機
構を複数のダンパを使用したが、その他に切り換える方
法として回転切換弁や、３方切換弁等で流路を切り換え
る等の方法が考えられ、これらはすべて本願の請求の範
囲に含まれるものである。さらに、加熱部として実施の
形態はバーナを使用したが、電熱等による加熱も可能で
あり、本願の請求の範囲に含まれるものである。
施の形態として、処理ガス切換機構及び処理方向切換機
構を複数のダンパを使用したが、その他に切り換える方
法として回転切換弁や、３方切換弁等で流路を切り換え
る等の方法が考えられ、これらはすべて本願の請求の範
囲に含まれるものである。さらに、加熱部として実施の
形態はバーナを使用したが、電熱等による加熱も可能で
あり、本願の請求の範囲に含まれるものである。
【０００９】
【発明の効果】本願に係る排ガス処理システムにおいて
は、例えば、都市ごみや産業廃棄物等の焼却炉に付設
し、これらの焼却炉から排出されるＮＯｘやダイオキシ
ン類を除去する排ガス処理システムとして使用され、排
ガスを少量のエネルギーを加えることで触媒の活性温度
まで加熱することができ、高効率にＮＯｘやダイオキシ
ン類を除去することが可能になる。例えば、ＮＯｘ濃度
２０ｐｐｍ（Ｏ2 ＝１２％換算）、ダイオキシン類濃度
約０．１ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3（Ｏ2 ＝１２％換算)に低
減でき、従来に比べそれぞれ１／５程度となった。さら
に、処理後の排ガスの熱エネルギーを処理前の排ガスの
加熱に再利用することができ、大気へ放出する熱が少な
い高熱効率の構成になっている。
は、例えば、都市ごみや産業廃棄物等の焼却炉に付設
し、これらの焼却炉から排出されるＮＯｘやダイオキシ
ン類を除去する排ガス処理システムとして使用され、排
ガスを少量のエネルギーを加えることで触媒の活性温度
まで加熱することができ、高効率にＮＯｘやダイオキシ
ン類を除去することが可能になる。例えば、ＮＯｘ濃度
２０ｐｐｍ（Ｏ2 ＝１２％換算）、ダイオキシン類濃度
約０．１ｎｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3（Ｏ2 ＝１２％換算)に低
減でき、従来に比べそれぞれ１／５程度となった。さら
に、処理後の排ガスの熱エネルギーを処理前の排ガスの
加熱に再利用することができ、大気へ放出する熱が少な
い高熱効率の構成になっている。
【図１】本願に係る排ガス処理システムを説明する系統
図
図
【図２】本願に係る排ガス処理システムを説明する系統
図
図
１、２ 還元蓄熱部 ６ 処理方向切換機構 ７ 処理ガス切換機構 ８ 処理炉 １１ 排ガス １２ 外気 １４ 加熱部 Ａ 第１処理状態 Ｂ 第２処理状態
Claims (4)
- 【請求項１】 排ガスに還元剤を添加する還元剤添加手
段を備え、 前記還元剤が添加された排ガスを処理ガスとして加熱可
能な加熱部と、前記処理ガスの流通方向における前記加
熱部の両側に、還元触媒層と蓄熱層の積層で前記還元触
媒層を前記加熱部側に形成した還元蓄熱部と、前記加熱
部に対して前記還元蓄熱部の反対側に、前記処理ガスを
供給又は排出する２つの取合口をそれぞれ設けた処理炉
を備え、 前記処理炉内を流れる前記処理ガスの方向を切り換える
処理方向切換機構を備えた排ガス処理システム。 - 【請求項２】 前記蓄熱層をセラミック製ハニカム状の
蓄熱体で構成した請求項１記載の排ガス処理システム。 - 【請求項３】 前記排ガスと外気を切り換えて前記処理
ガスとする処理ガス切換機構を備えた請求項１又は２記
載の排ガス処理システム。 - 【請求項４】 前記排ガスの煤塵を除去する集塵器を備
えた請求項１から３いずれか記載の排ガス処理システ
ム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11081159A JP2000274643A (ja) | 1999-03-25 | 1999-03-25 | 排ガス処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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1999
- 1999-03-25 JP JP11081159A patent/JP2000274643A/ja active Pending
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