JP2000269314A - Wafer cassette - Google Patents

Wafer cassette

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JP2000269314A
JP2000269314A JP11076571A JP7657199A JP2000269314A JP 2000269314 A JP2000269314 A JP 2000269314A JP 11076571 A JP11076571 A JP 11076571A JP 7657199 A JP7657199 A JP 7657199A JP 2000269314 A JP2000269314 A JP 2000269314A
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JP
Japan
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wafer
stage
cassette
view
outer peripheral
Prior art date
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JP11076571A
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Japanese (ja)
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Kimitoshi Mieno
公利 三重野
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NIPPON DENSHI ENG
Jeol Ltd
Jeol Engineering Co Ltd
Original Assignee
NIPPON DENSHI ENG
Jeol Ltd
Jeol Engineering Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to automatically put wafers into a wafer cassette or take them out. SOLUTION: A wafer cassette is constituted of an annular wafer outer periphery contact member 8; cassette cases 2 to 11 which are provided with the member 8 on their upper surfaces, are formed with a wafer insertion hole 5 in each of the side surfaces on one side of the side surfaces vertical to their upper surfaces, are formed with each operating member insertion hole 6 in their lower surfaces and have each space capable of housing one wafer in their interiors; a wafer stage 17 formed with wafer support surfaces 19a which are supported in a vertically movable manner in the interiors of the cases 2 to 11, and support the lower surfaces of the wafers inserted from the holes 5 into the cases 2 to 11, and carrying member housing spaces 19b which can make a wafer carrying member H for supporting the lower surface of each wafer pass through, stage guide members 11 for guiding the vertically movable wafer stage 17 in the vertical directions; and stage energizing springs 24 for making a force to always move upward the stage 17 act on the stage 17.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム装置や
イオンビーム装置により描画、検査、観察を行うウエハ
(シリコンウエハ)を保持するためのウエハカセットに
関する。前記ウエハカセットは、ウエハを保持した状態
でウエハを搬送するのに使用されたり、または、ウエハ
を保持した状態でウエハの描画、検査、観察等を行うス
テージに装着されて使用される。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a wafer cassette for holding a wafer (silicon wafer) to be drawn, inspected, and observed by an electron beam apparatus or an ion beam apparatus. The wafer cassette is used to transfer a wafer while holding the wafer, or is mounted and used on a stage for drawing, inspecting, and observing the wafer while holding the wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】前記種類のウエハカセットとしては次の
(J01)の技術が知られている。 (J01)実開昭62−172149号公報記載の技術 この公報に記載の技術は、カセットケースの上面には、
ウエハ表面の外周部分が当接するウエハ外周当接部材が
設けられ、その内側にはウエハ表面露出開口が設けられ
ている。前記カセットケースの下面はウエハを装着する
ために開放されており、ウエハを装着するためには前記
カセットケースを裏返して下面を上に向ける。その状態
で前記ウエハ外周当接部材の裏面にウエハを載せて、ウ
エハのオリフラまたはVノッチ(位置決めの基準)の位
置を定めてクランプし、ウエハの裏面側を押え板により
落下しないように固定する。
2. Description of the Related Art The following technique (J01) is known as a wafer cassette of the kind described above. (J01) Technique described in Japanese Utility Model Application Laid-Open No. 62-172149
A wafer outer peripheral contact member is provided for contacting the outer peripheral portion of the wafer surface, and a wafer surface exposure opening is provided inside the wafer outer peripheral contact member. The lower surface of the cassette case is open for mounting a wafer. To mount a wafer, the cassette case is turned over and the lower surface is directed upward. In this state, the wafer is placed on the back surface of the wafer outer peripheral contact member, the position of the wafer orientation flat or V notch (reference position) is determined and clamped, and the back surface of the wafer is fixed by a holding plate so as not to fall. .

【0003】その後、前記ウエハカセットを反転させ
て、描画装置の搬送テーブルに置く。その後、ウエハを
保持したウエハカセットは描画装置内に搬送され、描画
される。描画終了後、前記ウエハカセットは搬送テーブ
ルへ搬送され、次に、作業者がウエハカセットからウエ
ハを取り出す作業を行っていた。
After that, the wafer cassette is turned over and placed on a transfer table of a drawing apparatus. Thereafter, the wafer cassette holding the wafer is transported into the drawing apparatus and drawn. After the drawing, the wafer cassette is transferred to the transfer table, and then the operator takes out the wafer from the wafer cassette.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】(前記(J01)の問題
点)前記従来技術(J01)は、ウエハカセットへのウエ
ハの着脱に人手を必要とするため自動化ができないとい
う問題点があった。本発明は、前述の事情に鑑み、下記
の記載内容を課題とする。 (O01)ウエハカセットへのウエハの着脱を自動的に行
えるようにすること。
[Problems to be Solved by the Invention] (Problem of (J01)) The prior art (J01) has a problem in that automation is not possible because a human is required to attach and detach a wafer to and from a wafer cassette. The present invention has been made in view of the above circumstances, and has the following content as an object. (O01) To automatically attach and detach a wafer to and from a wafer cassette.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。ま
た、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。
Next, the present invention devised to solve the above-mentioned problems will be described. Elements of the present invention are used to facilitate correspondence with elements of the embodiments described later. , The reference numerals of the elements of the embodiment are enclosed in parentheses. The reason why the present invention is described in correspondence with the reference numerals of the embodiments described below is to facilitate understanding of the present invention and not to limit the scope of the present invention to the embodiments.

【0006】(本発明)前記課題を解決するために、本
発明のウエハカセットは、下記の要件を備えたことを特
徴とする、(A01)ウエハ表面の外周部分が当接するリ
ング状のウエハ外周当接部材(8)および前記ウエハ外
周当接部材(8)の内側に形成されたウエハ表面露出開
口(3,8a)が上面に設けられ、前記上面に垂直な一
側面にウエハ挿入口(5)が形成され、下面に操作部材
挿入口(6)が形成され、内部にウエハ(W)を収納可
能な空間を有するカセットケース(2〜15)、(A0
2)前記カセットケース(2〜15)内部に上下移動可
能に支持されたウエハステージ(17)であって、前記
ウエハ挿入口(5)から挿入されたウエハ(W)の下面
を支持するウエハ支持面(19a)が上面に形成され、
前記ウエハ挿入口(5)から挿入されるウエハ下面を支
持するウエハ搬送部材(H)が通過可能な搬送部材収容
空間(19b)が形成され、下部に昇降用被係止部材
(23)が設けられた前記ウエハステージ(17)、
(A03)前記上下移動可能なウエハステージ(17)を
上下方向にガイドするステージガイド部材(11)、
(A04)前記ウエハステージ(17)を常時上方に移動
させる力を前記ウエハステージ(17)に作用させるス
テージ付勢ばね(24)。
(A) The wafer cassette according to the present invention has the following requirements to solve the above-mentioned problems. (A01) A ring-shaped wafer outer periphery in contact with an outer peripheral portion of a wafer surface An abutment member (8) and a wafer surface exposure opening (3, 8a) formed inside the wafer outer peripheral abutment member (8) are provided on the upper surface, and a wafer insertion port (5) is provided on one side surface perpendicular to the upper surface. ) Is formed, an operation member insertion opening (6) is formed on the lower surface, and a cassette case (2 to 15) having a space in which a wafer (W) can be stored therein, (A0
2) A wafer stage (17) movably supported inside the cassette cases (2 to 15), which supports a lower surface of the wafer (W) inserted from the wafer insertion opening (5). A surface (19a) is formed on the upper surface,
A transfer member accommodating space (19b) through which a wafer transfer member (H) supporting a lower surface of a wafer inserted from the wafer insertion opening (5) can pass is formed, and a vertically locked member (23) is provided below. Said wafer stage (17),
(A03) a stage guide member (11) for vertically guiding the vertically movable wafer stage (17);
(A04) A stage biasing spring (24) for applying a force for constantly moving the wafer stage (17) upward to the wafer stage (17).

【0007】(本発明の作用)前記構成を備えた本発明
のウエハカセット(1)では、カセットケース(2〜1
5)は、内部にウエハ(W)を収納可能な空間を有し、
上面にウエハ表面の外周部分が当接するリング状のウエ
ハ外周当接部材(8)および前記ウエハ外周当接部材
(8)の内側に形成されたウエハ表面露出開口(3,8
a)が設けられ、前記上面に垂直な一側面にウエハ挿入
口(5)が形成され、下面に操作部材挿入口(6)が形
成されている。前記カセットケース(2〜15)は、そ
の内部にウエハステージ(17)を上下移動可能に支持
する。ステージガイド部材(11)は、前記上下移動可
能なウエハステージ(17)を上下方向にガイドする。
ステージ付勢ばね(24)は、前記ウエハステージ(1
7)を常時上方に移動させる力を前記ウエハステージ
(17)に作用させる。前記ウエハステージ(17)は
その下部に昇降用被係止部材(23)が設けられてい
る。
(Operation of the Present Invention) In the wafer cassette (1) of the present invention having the above configuration, the cassette cases (2 to 1)
5) has a space in which a wafer (W) can be stored,
A ring-shaped wafer outer peripheral contact member (8) in which the outer peripheral portion of the wafer surface contacts the upper surface, and a wafer surface exposed opening (3, 8) formed inside the wafer outer peripheral contact member (8).
a) is provided, a wafer insertion opening (5) is formed on one side surface perpendicular to the upper surface, and an operation member insertion opening (6) is formed on the lower surface. The cassette cases (2 to 15) support the wafer stage (17) therein so as to be vertically movable. The stage guide member (11) vertically guides the vertically movable wafer stage (17).
The stage biasing spring (24) is connected to the wafer stage (1).
7) is applied to the wafer stage (17) to constantly move the wafer stage upward. The wafer stage (17) is provided with a vertically locked member (23) at its lower part.

【0008】したがって、前記昇降用被係止部材(2
3)に昇降用係止部材(Sa)を係止させて、前記昇降
用係止部材(Sa)を昇降させることにより、前記ウエ
ハステージ(17)を上下移動させることが可能であ
る。前記ウエハステージ(17)には搬送部材収容空間
(19b)が形成されており、前記ウエハステージ(1
7)が下降した状態で、ウエハ搬送部材収容空間(19
b)を通過可能なウエハ搬送部材(H)は、前記ウエハ
下面を支持してウエハ挿入口(5)から挿入される。そ
して前記ウエハステージ(17)は、上面にウエハ支持
面(19a)が形成されており、前記ウエハ挿入口
(5)から挿入されたウエハ搬送部材(H)により搬送
されたウエハ(W)は、その下面が前記ウエハ支持面
(19a)に支持される。その後、前記昇降用係止部材
(Sa)を上昇させることにより、前記ウエハステージ
(17)のウエハ支持面(19a)に支持されたウエハ
上面の外周部分をウエハ外周当接部材(8)下面に当接
させる。次に前記昇降用係止部材(Sa)を昇降用被係
止部材(23)から離脱させると、前記ステージ付勢ば
ね(24)により前記ウエハステージ(17)は上昇位
置に保持されるので、前記ウエハ(W)は前記ウエハ外
周当接部材(8)下面に当接した位置に保持される。す
なわち、ウエハ(W)はウエハカセット(1)に装着さ
れる。
Therefore, the raised and lowered locked member (2)
The wafer stage (17) can be moved up and down by locking the lifting locking member (Sa) to 3) and raising and lowering the lifting locking member (Sa). A transfer member accommodating space (19b) is formed in the wafer stage (17).
7), the wafer transfer member accommodating space (19) is lowered.
The wafer transfer member (H) that can pass through b) is inserted from the wafer insertion port (5) while supporting the lower surface of the wafer. The wafer stage (17) has a wafer support surface (19a) formed on the upper surface, and the wafer (W) transferred by the wafer transfer member (H) inserted from the wafer insertion port (5) is The lower surface is supported by the wafer support surface (19a). Thereafter, the lifting member (Sa) is raised to move the outer peripheral portion of the upper surface of the wafer supported by the wafer supporting surface (19a) of the wafer stage (17) to the lower surface of the wafer outer peripheral contact member (8). Abut. Next, when the lifting / lowering locking member (Sa) is released from the lifting / lowering locked member (23), the wafer stage (17) is held at the raised position by the stage urging spring (24). The wafer (W) is held at a position in contact with the lower surface of the wafer outer peripheral contact member (8). That is, the wafer (W) is mounted on the wafer cassette (1).

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に図面を参照しながら、本発明
のウエハカセットの実施の形態の例(実施例)を説明す
るが、本発明は以下の実施例に限定されるものではな
い。 (実施例1)図1は本発明の実施例1のウエハカセット
の説明図であり、図1Aはウエハカセットの上面図、図
1Bは前記図1Aの矢印IBから見た図、図1Cは前記
図1Aの矢印ICから見た図である。図2は前記図1の
ウエハカセットの説明図であり、図2Aは同ウエハカセ
ットの平断面図で図2CのIIA−IIA線断面図、図2B
は前記図1AのIIB−IIB線断面図、図2Cは前記図1
AのIIC−IIC線断面図である。図3は搬送テーブル上
に置かれたウエハカセットの断面を示す図で、図3Aは
ウエハ搬送部材により搬送されるウエハを装着する前の
ウエハカセットの断面図、図3Bはウエハ搬送部材によ
り搬送されたウエハが装着されたウエハカセットの断面
図、図3Cは前記図3Bの矢印IIICから見た図でウエ
ハ搬送部材を示す図、図3Dは前記ウエハが装着されて
いないときのウエハ支持部の状態を示す拡大図である。
図4は図2Aの矢印IVで示す部分の拡大図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, with reference to the drawings, an embodiment (embodiment) of a wafer cassette of the present invention will be described, but the present invention is not limited to the following embodiment. (Embodiment 1) FIG. 1 is an explanatory view of a wafer cassette according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 1A is a top view of the wafer cassette, FIG. 1B is a view from the arrow IB of FIG. 1A, and FIG. It is the figure seen from arrow IC of FIG. 1A. FIG. 2 is an explanatory view of the wafer cassette of FIG. 1, FIG. 2A is a plan sectional view of the wafer cassette, and FIG. 2B is a sectional view taken along line IIA-IIA of FIG.
1A is a sectional view taken along the line IIB-IIB in FIG. 1A, and FIG.
FIG. 2A is a sectional view taken along line IIC-IIC of FIG. FIG. 3 is a view showing a cross section of the wafer cassette placed on the transfer table, FIG. 3A is a cross sectional view of the wafer cassette before mounting a wafer transferred by the wafer transfer member, and FIG. 3B is transferred by the wafer transfer member. 3C is a cross-sectional view of the wafer cassette on which the loaded wafer is mounted, FIG. 3C is a view showing the wafer transfer member as viewed from the arrow IIIC of FIG. 3B, and FIG. 3D is a state of the wafer support unit when the wafer is not mounted. FIG.
FIG. 4 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow IV in FIG. 2A.

【0010】図5はウエハカセットのケース本体の説明
図で、図5Aはケース本体の平面図、図5Bは前記図5
Aの矢印VBから見た図、図5Cは前記図5Aの矢印V
Cから見た図である。図6はウエハ外周当接部材の説明
図で、図6Aは上面図、図6Bは前記図6AのVIB−
VIB線断面図である。図7はケース底壁の説明図で、
図7Aは上面図、図7Bは前記図7AのVIIB−VIIB
線断面図である。図1〜図3において、ウエハカセット
1は、ケース本体2を有している。図3、図5におい
て、前記ケース本体2は上面にウエハ表面露出開口3が
形成され、前記ウエハ表面露出開口3の周囲にはリング
状のウエハ外周当接部材装着面4が形成されている。ケ
ース本体2の側面にはウエハ挿入口5が形成されてい
る。ケース本体2の下面は円形に開口しており、その開
口により操作部材挿入口6(図3参照)が形成されてい
る。前記操作部材挿入口6の周囲にはリング状のケース
底壁装着面7(図3参照)が形成されている。
FIG. 5 is an explanatory view of a case main body of the wafer cassette, FIG. 5A is a plan view of the case main body, and FIG.
FIG. 5C is a view from the arrow VB of A, and FIG.
It is the figure seen from C. 6A and 6B are explanatory views of a wafer outer peripheral contact member, FIG. 6A is a top view, and FIG.
It is a VIB sectional view. FIG. 7 is an explanatory view of the case bottom wall.
7A is a top view, and FIG. 7B is VIIB-VIIB of FIG. 7A.
It is a line sectional view. 1 to 3, the wafer cassette 1 has a case main body 2. 3 and 5, the case body 2 has a wafer surface exposed opening 3 formed on the upper surface, and a ring-shaped wafer outer peripheral contact member mounting surface 4 is formed around the wafer surface exposed opening 3. A wafer insertion opening 5 is formed on a side surface of the case body 2. The lower surface of the case main body 2 is circularly opened, and the opening forms an operation member insertion port 6 (see FIG. 3). A ring-shaped case bottom wall mounting surface 7 (see FIG. 3) is formed around the operation member insertion opening 6.

【0011】図1〜図3において、前記ケース本体2上
面の前記ウエハ外周当接部材装着面4にはリング状のウ
エハ外周当接部材8(図6参照)が固定されている。図
6において、リング状のウエハ外周当接部材8にはウエ
ハ表面露出開口8aが形成されている。図2、図3にお
いて、ケース本体2下面の前記ケース底壁装着面7には
リング状のケース底壁9(図7参照)が固定されてい
る。図7において、ケース底壁9には、操作部材挿入口
9aが形成されており、ケース底壁9上面には3個のば
ね受座9bが形成されている。
1 to 3, a ring-shaped wafer outer peripheral contact member 8 (see FIG. 6) is fixed to the wafer outer peripheral contact member mounting surface 4 on the upper surface of the case main body 2. In FIG. 6, a wafer surface exposure opening 8a is formed in the ring-shaped wafer outer peripheral contact member 8. 2 and 3, a ring-shaped case bottom wall 9 (see FIG. 7) is fixed to the case bottom wall mounting surface 7 on the lower surface of the case body 2. In FIG. 7, an operation member insertion opening 9a is formed in the case bottom wall 9, and three spring receiving seats 9b are formed on the upper surface of the case bottom wall 9.

【0012】図8は本発明のウエハカセットの実施例1
で使用するガイドローラ支持部材の説明図で、図8Aは
平面図で図8Bの矢印VIIIAから見た図、図8Bは前
記図8Aの矢印VIIIBから見た図、図8Cは前記図8
Aの矢印VIIICから見た図である。図9は前記図8に
示すローラ支持部材により支持されるローラ支持軸の説
明図である。図2〜図4において、前記ケース底壁9上
面には複数のステージガイド部材11(図2A、図4参
照)が固定されている。図4において、前記ステージガ
イド部材11はガイドローラ支持部材12(図8参照)
と、前記ガイドローラ支持部材12に支持されるローラ
支持軸13と、前記ローラ支持軸13に支持されるガイ
ドローラ14とにより構成されている。
FIG. 8 shows a first embodiment of the wafer cassette of the present invention.
8A is a plan view of the guide roller support member used in FIG. 8A, as viewed from the arrow VIIIA in FIG. 8B, FIG. 8B is a view as viewed from the arrow VIIIB in FIG. 8A, and FIG.
FIG. 8 is a diagram viewed from an arrow VIIIC of A. FIG. 9 is an explanatory view of a roller support shaft supported by the roller support member shown in FIG. 2 to 4, a plurality of stage guide members 11 (see FIGS. 2A and 4) are fixed to the upper surface of the case bottom wall 9. 4, the stage guide member 11 is a guide roller support member 12 (see FIG. 8).
And a roller support shaft 13 supported by the guide roller support member 12, and a guide roller 14 supported by the roller support shaft 13.

【0013】図8において、前記ガイドローラ支持部材
12は一対の軸支持部12a,12aと前記軸支持部12
a,12aに形成された軸貫通孔12b,12bを有してい
る。図4において、前記軸貫通孔12b,12b(図8参
照)によりローラ支持軸13が回転可能に支持されてお
り、前記ローラ支持軸13にガイドローラ14が支持さ
れている。前記ステージガイド部材11は隣接して互い
に90°の角度をなすように配置されている。図2Aに
おいて、前記ケース本体2にはカセット搬送用連結部材
15が固定されている。前記カセット搬送用連結部材1
5はカセット搬送部材(図示せず)が着脱可能に連結さ
れる。なお、前記カセット搬送用連結部材15としては
従来公知の種々の構成のものを使用可能である。前記符
号2〜15で示された要素によりカセットケース(2〜
15)が構成されている。
In FIG. 8, the guide roller support member 12 includes a pair of shaft support portions 12a, 12a and the shaft support portion 12a.
a, 12a are provided with shaft through holes 12b, 12b. In FIG. 4, a roller support shaft 13 is rotatably supported by the shaft through holes 12b, 12b (see FIG. 8), and a guide roller 14 is supported by the roller support shaft 13. The stage guide members 11 are arranged adjacently at an angle of 90 ° to each other. In FIG. 2A, a cassette carrying connecting member 15 is fixed to the case main body 2. The connecting member 1 for transporting cassettes
Reference numeral 5 denotes a detachably connected cassette transport member (not shown). Incidentally, as the cassette transport connecting member 15, various conventionally known components can be used. The cassette case (2 to 15)
15) is configured.

【0014】図10は本発明のウエハカセットの実施例
1で使用するウエハステージ本体の説明図で、図10A
は平面図、図10Bは前記図10AのXB−XB線断面
図、図10Cは前記図10AのXC−XC線断面図であ
る。図11は前記図10のウエハステージ本体の側面に
装着する被ガイド部材の説明図で、図11Aは上面図
で、図11Bの矢印XIAから見た図、図11Bは前記
図11Aの矢印XIBから見た図、図11Cは前記図1
1Bの矢印XICから見た図である。図12は前記図1
0に示すウエハステージ本体の下部に装着する昇降用被
係止部材の説明図で、図12Aは上面図、図12Bは前
記図12Aの矢印XIIBから見た図である。図13は本
発明のウエハカセットが搬送テーブル上に固定された状
態を上からみた図である。図2B、図2C、図3におい
て、前記カセットケース(2〜15)の内部には、ウエ
ハステージ17が配置されている。前記ウエハステージ
17はウエハステージ本体18を有している。
FIG. 10 is an explanatory view of a wafer stage main body used in the first embodiment of the wafer cassette of the present invention.
10B is a plan view, FIG. 10B is a sectional view taken along the line XB-XB of FIG. 10A, and FIG. 10C is a sectional view taken along the line XC-XC of FIG. 10A. 11 is an explanatory view of a guided member mounted on the side surface of the wafer stage main body of FIG. 10, FIG. 11A is a top view, a view from arrow XIA of FIG. 11B, and FIG. 11B is a view from arrow XIB of FIG. 11A. FIG. 11C is a view of FIG.
It is the figure seen from arrow XIC of 1B. FIG.
FIG. 12A is an explanatory view of a lifting and lowering locked member attached to the lower portion of the wafer stage main body shown in FIG. 12A. FIG. 12A is a top view, and FIG. 12B is a view seen from the arrow XIIB in FIG. 12A. FIG. 13 is a top view showing a state where the wafer cassette of the present invention is fixed on the transfer table. 2B, 2C, and 3, a wafer stage 17 is disposed inside the cassette case (2 to 15). The wafer stage 17 has a wafer stage body 18.

【0015】図10においてウエハステージ本体18
は、上部の円形プレートにより構成されるウエハ支持部
19および下部の円筒部20を有している。ウエハ支持
部19の上面にはウエハ支持面19aが形成されてい
る。前記ウエハ支持部19の上面には凹溝により形成さ
れた搬送部材収容空間19bが設けられている。また、
ウエハ支持部19の下面には3個のばね受座19cが形
成されている。前記ウエハ支持部19には上下方向に貫
通するねじ孔19dが形成されている。前記ウエハ支持
面19aの外周部には上方に突出する突出部19eが形成
されている。図3Aから分かるように前記搬送部材収容
空間19bは、ウエハWを支持するウエハ搬送部材Hが
前記ウエハ挿入口5から進入してさらに所定の位置(ウ
エハをウエハ支持面19aに載せる位置)まで移動して
から下降したときに、前記ウエハ搬送部材Hを収容する
ための空間である。すなわち、ウエハ搬送部材H上のウ
エハWは、前記ウエハ搬送部材Hが前記所定位置に移動
してから、前記搬送部材収容空間19bに収容される位
置まで下降したときに、前記ウエハ支持面19a上に載
置される。
Referring to FIG. 10, wafer stage body 18
Has a wafer support portion 19 composed of an upper circular plate and a lower cylindrical portion 20. A wafer support surface 19 a is formed on the upper surface of the wafer support 19. A transfer member housing space 19b formed by a concave groove is provided on an upper surface of the wafer support portion 19. Also,
On the lower surface of the wafer support 19, three spring seats 19c are formed. A screw hole 19d is formed in the wafer support 19 so as to penetrate in the vertical direction. A projecting portion 19e projecting upward is formed on an outer peripheral portion of the wafer support surface 19a. As can be seen from FIG. 3A, the transfer member housing space 19b moves to a predetermined position (a position where the wafer is placed on the wafer support surface 19a) after the wafer transfer member H supporting the wafer W enters from the wafer insertion port 5. This is a space for accommodating the wafer transfer member H when it is moved down. That is, when the wafer W on the wafer transfer member H moves down to the position where the wafer transfer member H is moved to the predetermined position and then is stored in the transfer member housing space 19b, the wafer W is positioned on the wafer support surface 19a. Placed on

【0016】図2、図3において、前記ウエハステージ
本体18の前記円筒部20の側面には、装着孔20a
(図3参照)が形成されている。図11において、被ガ
イド部材21は、被装着突起21a、固定用ねじ貫通孔
21b、および一対の被ガイド面21c,21cおよびね
じ孔21dを有している。前記被ガイド部材21の円筒
部20への装着は、前記被装着突起21aを前記円筒部
20の装着孔20a(図3参照)に嵌合させ、前記固定
用ねじ貫通孔21bを貫通する固定用ねじ(図示せず)
を前記円筒部20のねじ孔(図示せず)に固定すること
により行う。また、前記ねじ孔21dには、前記ウエハ
支持部19のねじ孔19dを貫通する固定用ねじ(図示
せず)が螺合する。図4において、前記一対の被ガイド
面21c,21cは互いに90°の角度をなしており、前
記隣接して配置された一対のステージガイド部材11,
11のガイドローラ14,14により上下方向にガイド
される。
2 and 3, a mounting hole 20a is formed in a side surface of the cylindrical portion 20 of the wafer stage main body 18.
(See FIG. 3). In FIG. 11, the guided member 21 has a mounting projection 21a, a fixing screw through hole 21b, a pair of guided surfaces 21c, 21c, and a screw hole 21d. The mounting of the guided member 21 on the cylindrical portion 20 is performed by fitting the mounted projection 21a into the mounting hole 20a (see FIG. 3) of the cylindrical portion 20 and fixing the mounting member 21 through the fixing screw through hole 21b. Screw (not shown)
Is fixed to a screw hole (not shown) of the cylindrical portion 20. A fixing screw (not shown) that passes through the screw hole 19d of the wafer support 19 is screwed into the screw hole 21d. In FIG. 4, the pair of guided surfaces 21c, 21c form an angle of 90 ° with each other, and the pair of stage guide members 11,
The guide rollers are guided in the vertical direction by 11 guide rollers 14,.

【0017】図2、図3において、前記ウエハステージ
本体18下面には、昇降用被係止部材23が固定されて
いる。図12において、昇降用被係止部材23は被係止
面23aを有している。前記符号18〜23で示された
要素によりウエハステージ17が構成されている。図3
において、前記ケース底壁9上面のばね受座9b(図7
参照)と前記ウエハステージ17のウエハステージ本体
18下面のばね受座19cとの間にはステージ付勢ばね
(圧縮ばね)24が設けられており、ステージ付勢ばね
24は、前記ウエハステージ17を常時上方に移動させ
る力を前記ウエハステージ17に作用させている。前記
ウエハカセット1は、前記符号2〜24で示された要素
により構成されている。
In FIGS. 2 and 3, a vertically movable locked member 23 is fixed to the lower surface of the wafer stage main body 18. In FIG. 12, the lifting locked member 23 has a locked surface 23a. The wafer stage 17 is constituted by the elements indicated by the reference numerals 18 to 23. FIG.
7, a spring seat 9b on the upper surface of the case bottom wall 9 (FIG. 7)
) And a spring seat 19c on the lower surface of the wafer stage main body 18 of the wafer stage 17, a stage biasing spring (compression spring) 24 is provided. A force for constantly moving the wafer stage 17 is applied to the wafer stage 17. The wafer cassette 1 is composed of the elements indicated by the reference numerals 2 to 24.

【0018】図13において、搬送テーブルTの上面に
は、前記搬送テーブルT上に装着されるウエハカセット
1を受け止めるローラ26,26,26と、前記ウエハ
カセツト1を前記ローラ26側に押圧する押圧部材27
と、前記ウエハカセット1を押圧して固定するカセット
固定部材28とが設けられている。前記カセット固定部
材28は、搬送テーブルTの上の回転軸28aに回転可
能に支持されている。前記カセット固定部材28のウエ
ハカセット1への押圧側は、前記ウエハカセット1が搬
送テーブルTの上面に装着される際には、ソレノイドS
Lがオンの状態となり退避している。前記ウエハカセッ
ト1が搬送テーブルTの上面に装着されると前記ソレノ
イドSLがオフの状態となって、前記カセット固定部材
28の押圧側はバネ29により前記ウエハカセット1側
に回動するようになっている。前記ローラ26,26,
26、押圧部材27、カセット固定部材28により前記
ウエハカセット1は前記搬送テーブルT上の所定の位置
に固定される。
In FIG. 13, rollers 26, 26, 26 for receiving the wafer cassette 1 mounted on the transfer table T, and a pressing device for pressing the wafer cassette 1 toward the roller 26 are provided on the upper surface of the transfer table T. Member 27
And a cassette fixing member 28 for pressing and fixing the wafer cassette 1. The cassette fixing member 28 is rotatably supported on a rotating shaft 28a above the transport table T. When the wafer cassette 1 is mounted on the upper surface of the transfer table T, the solenoid S
L is in the ON state and retreats. When the wafer cassette 1 is mounted on the upper surface of the transfer table T, the solenoid SL is turned off, and the pressing side of the cassette fixing member 28 is rotated toward the wafer cassette 1 by a spring 29. ing. The rollers 26, 26,
The wafer cassette 1 is fixed at a predetermined position on the transfer table T by a pressing member 26, a pressing member 27, and a cassette fixing member 28.

【0019】図3において、搬送テーブルTは中央部に
操作部材収容孔Taが形成されており、操作部材収容孔
Ta内には操作部材Sが昇降可能且つ回転可能に収容さ
れている。操作部材Sの上端には係止部材Saが設けら
れている。前記ウエハカセット1を搬送テーブルT上に
支持した場合、通常は図3Bに示すように圧縮ばね24
によりウエハステージ17は上昇位置に保持される。前
記上昇位置とは次の位置(1),(2)である。 (1)ウエハステージ17にウエハWが支持されている
場合はウエハWの上面が前記ウエハ外周当接部材8下面
に当接する位置(図3B参照)。 (2)ウエハステージ17にウエハWが支持されていな
い場合は前記突出部19eが前記ウエハ外周当接部材8
下面に当接する位置(図3D参照)。
In FIG. 3, the transfer table T has an operation member accommodation hole Ta formed in the center thereof, and the operation member S is accommodated in the operation member accommodation hole Ta in a vertically movable and rotatable manner. At the upper end of the operation member S, a locking member Sa is provided. When the wafer cassette 1 is supported on the transfer table T, usually, as shown in FIG.
Thereby, wafer stage 17 is held at the raised position. The ascending position is the following positions (1) and (2). (1) When the wafer W is supported on the wafer stage 17, a position where the upper surface of the wafer W contacts the lower surface of the wafer outer peripheral contact member 8 (see FIG. 3B). (2) When the wafer W is not supported by the wafer stage 17, the projecting portion 19e is connected to the wafer outer peripheral contact member 8
Position where it contacts the lower surface (see FIG. 3D).

【0020】前記昇降可能且つ回転可能な操作部材S
は、前記係止部材Saを、前記昇降用被係止部材23の
被係止面23aに係止させた状態で昇降することによ
り、前記ウエハステージ17を昇降させることができ
る。そして前記ウエハステージ17が下降した状態で前
記ウエハ支持面19aとウエハ搬送部材Hとの間でウエ
ハWを、自動的に(人手を必要とせずに)移動させるこ
とができる。また、前記ウエハ外周当接部材8の下面
は、前記ウエハWがないとき、図3Dに示すように前記
突出部19eが当接するので前記ウエハ支持面19aに当
たらず、前記ウエハ支持面19aには不要な傷やゴミが
付かない。
The vertically movable and rotatable operating member S
The wafer stage 17 can be raised and lowered by raising and lowering the locking member Sa while being locked to the locked surface 23a of the lifting locked member 23. Then, the wafer W can be automatically moved (without manual operation) between the wafer support surface 19a and the wafer transfer member H with the wafer stage 17 lowered. When the wafer W is not present, the lower surface of the wafer outer peripheral contact member 8 does not hit the wafer supporting surface 19a because the projecting portion 19e contacts as shown in FIG. 3D. Unnecessary scratches and debris do not stick.

【0021】前記ウエハWを収容したウエハカセット1
は、描画装置(図示せず)へ搬送される。次にウエハカ
セット1を描画装置へ運搬する理由について説明する。
ウエハW表面に描画装置で描画する際、ウエハWの表面
のどこからでも描画していいわけではなく所定の位置を
基準にしている。このためウエハWを正確な位置に保持
する必要がある。また、描画装置からみるとウエハWと
の距離は一定でないと描画できず、描画装置の自動焦点
は数ミクロンしか許されない。本発明のウエハカセット
1によれば、ウエハカセット1に収容されたウエハWは
前記ウエハ外周当接部材8の下面に押圧されて正確な位
置精度とウエハW表面に密着されて平面度が保持され
る。また、ウエハWをウエハカセット1の所定の位置に
位置決めした状態で、描画ステージ(図示せず)に搬送
するので、前記ウエハカセットを描画ステージに位置決
めしてセットすることにより、ウエハWを描画ステージ
の所定の位置に容易にセットすることができる。
Wafer cassette 1 containing wafer W
Is transported to a drawing apparatus (not shown). Next, the reason for transporting the wafer cassette 1 to the drawing apparatus will be described.
When drawing on the surface of the wafer W by the drawing apparatus, drawing from anywhere on the surface of the wafer W is not necessary, and a predetermined position is used as a reference. Therefore, it is necessary to hold the wafer W at an accurate position. Further, from the viewpoint of the drawing apparatus, drawing cannot be performed unless the distance to the wafer W is constant, and the autofocus of the drawing apparatus is allowed only to a few microns. According to the wafer cassette 1 of the present invention, the wafer W accommodated in the wafer cassette 1 is pressed against the lower surface of the wafer outer peripheral abutting member 8 to maintain accurate positional accuracy and close contact with the surface of the wafer W to maintain flatness. You. Since the wafer W is transferred to a drawing stage (not shown) in a state where the wafer W is positioned at a predetermined position of the wafer cassette 1, the wafer W is positioned and set on the drawing stage, so that the wafer W is drawn. Can be easily set at a predetermined position.

【0022】(実施例2)図14は本発明の実施例2の
説明図で、図14Aは平断面図で図14BのXIVA−
XIVA線断面図、図14Bは図14AのXIVB−XI
VB線断面図、図14Cは図14Aの矢印XIVCから
見た図である。なお、この実施例2の説明において、前
記実施例1の構成要素に対応する構成要素には同一の符
号を付して、その詳細な説明を省略する。この実施例2
は、下記の点で前記実施例1と相違しているが、他の点
では前記実施例1と同様に構成されている。ウエハステ
ージ17′は、円形プレートにより構成されており、上
面にはウエハ支持面17a′が形成されている。前記ウ
エハ支持面17a′には凹溝により形成された搬送部材
収容空間17b′が設けられている。また、ウエハステ
ージ17′の下面には3個のばね受座17c′が形成さ
れ、側面には3個の被ガイド面17d′が形成されてい
る。
(Embodiment 2) FIG. 14 is an explanatory view of Embodiment 2 of the present invention, and FIG. 14A is a plan sectional view of FIG.
FIG. 14B is a cross-sectional view taken along the line XIVA, and FIG.
FIG. 14C is a cross-sectional view taken along line VB, and FIG. 14C is a view as viewed from the arrow XIVC in FIG. In the description of the second embodiment, components corresponding to the components of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. Example 2
Is different from the first embodiment in the following points, but is configured similarly to the first embodiment in other points. The wafer stage 17 'is formed of a circular plate, and has a wafer support surface 17a' formed on the upper surface. The wafer support surface 17a 'is provided with a transfer member housing space 17b' formed by a concave groove. Further, three spring seats 17c 'are formed on the lower surface of the wafer stage 17', and three guided surfaces 17d 'are formed on the side surfaces.

【0023】図14Aから分かるように前記搬送部材収
容空間17b′は、ウエハWを支持するウエハ搬送部材
Hが前記ウエハ挿入口5から進入してさらに所定の位置
(ウエハWをウエハ支持面17a′に載せる位置)まで
移動してから下降したときに、前記ウエハ搬送部材Hを
収容するための空間である。すなわち、ウエハ搬送部材
H上のウエハWは、前記ウエハ搬送部材Hが前記所定位
置に移動してから、前記搬送部材収容空間17b′に収
容される位置まで下降したときに、前記ウエハ支持面1
7a′上に載置される。
As can be seen from FIG. 14A, in the transfer member housing space 17b ', a wafer transfer member H supporting the wafer W enters from the wafer insertion port 5 and is further moved to a predetermined position (the wafer W is transferred to the wafer support surface 17a'). This is a space for accommodating the wafer transfer member H when it is moved down to the position where the wafer transfer member H is placed. That is, when the wafer W on the wafer transfer member H is lowered to a position where the wafer transfer member H is moved to the predetermined position and is then stored in the transfer member storage space 17b ', the wafer supporting surface 1
7a '.

【0024】図14において、前記ウエハステージ1
7′の側面に形成された前記3個の被ガイド面17d′
の中の2個は、ステージガイド11のガイドローラ14
により上下にガイドされている。残りの1個の被ガイド
面17d′は位置決めガイド部材36により位置決めし
てガイドされる。
In FIG. 14, the wafer stage 1
The three guided surfaces 17d 'formed on the side surface of 7'
Are the guide rollers 14 of the stage guide 11.
Are guided up and down. The remaining one guided surface 17d 'is positioned and guided by the positioning guide member 36.

【0025】図15は本発明のウエハカセットの実施例
2で使用する位置決めガイド部材の説明図で、図15A
は上面図、図15Bは前記図15AのXVB−XVB線
断面図、図15Cは前記図15Aの矢印XVCから見た
図である。図15において、位置決めガイド部材36
は、ベース部材37を有している。ベース部材37は前
記ケース底壁9上面にねじで固定されている。ベース部
材37は、バネ受穴37aとガイド孔37bとを有してい
る。ローラ支持軸38は、ガイド孔37bを貫通して軸
方向にスライド可能に支持されている。前記ローラ支持
軸38の前端部には被ガイド部材39が設けられてお
り、前記被ガイド部材39にはローラ41が回転可能に
支持されている。前記ローラ支持軸38の後部にはばね
受座42が固定されている。前記ばね受穴37aと前記
ばね受座42との間には圧縮ばね43が設けられてい
る。ローラ支持部材46は、ケース底壁9上面にねじで
固定されている。ガイドローラ47は、前記ローラ支持
部材46に回転可能に支持されている。前記ガイドロー
ラ47は、前記被ガイド部材39が前記ガイド孔37b
に沿って移動するのをガイドする。
FIG. 15 is an explanatory view of a positioning guide member used in the second embodiment of the wafer cassette of the present invention.
15B is a top view, FIG. 15B is a cross-sectional view taken along the line XVB-XVB in FIG. 15A, and FIG. 15C is a view seen from the arrow XVC in FIG. 15A. In FIG. 15, the positioning guide member 36
Has a base member 37. The base member 37 is fixed to the upper surface of the case bottom wall 9 with screws. The base member 37 has a spring receiving hole 37a and a guide hole 37b. The roller support shaft 38 is slidably supported in the axial direction through the guide hole 37b. A guided member 39 is provided at a front end of the roller support shaft 38, and a roller 41 is rotatably supported by the guided member 39. A spring seat 42 is fixed to a rear portion of the roller support shaft 38. A compression spring 43 is provided between the spring receiving hole 37a and the spring receiving seat 42. The roller support member 46 is fixed to the upper surface of the case bottom wall 9 with screws. The guide roller 47 is rotatably supported by the roller support member 46. The guide roller 47 is configured such that the guided member 39 is formed in the guide hole 37b.
Guide you to move along.

【0026】したがって、ローラ41は前記ウエハステ
ージ17′の被ガイド面17d′を、圧縮ばね43の力
で押圧しながら、上下方向にガイドする。実施例2のウ
エハカセット1のその他の構成は前記実施例1と同様で
ある。この実施例2も前記実施例1と同様に、前記ウエ
ハステージ17′が下降した状態で前記ウエハ支持面1
7a′とウエハ搬送部材Hとの間でウエハWを、自動的
に(人手を必要とせずに)移動させることができる。
Therefore, the roller 41 guides the guided surface 17d 'of the wafer stage 17' in the vertical direction while pressing it by the force of the compression spring 43. Other configurations of the wafer cassette 1 of the second embodiment are the same as those of the first embodiment. In the second embodiment, similarly to the first embodiment, when the wafer stage 17 'is lowered, the wafer support surface 1
The wafer W can be automatically moved (without manual operation) between the wafer transfer member 7a 'and the wafer transfer member H.

【0027】(変更例)以上、本発明の実施例を詳述し
たが、本発明は、前記実施例に限定されるものではな
く、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内
で、種々の変更を行うことが可能である。
(Modifications) Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but falls within the scope of the present invention described in the appended claims. Thus, various changes can be made.

【0028】[0028]

【発明の効果】前述の本発明のウエハカセットは、下記
の効果を奏することができる。(E01)ウエハカセット
へのウエハの着脱を自動的に行うことができる。
The above-described wafer cassette of the present invention has the following effects. (E01) It is possible to automatically attach and detach a wafer to and from a wafer cassette.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は本発明の実施例1のウエハカセットの
説明図であり、図1Aはウエハカセットの上面図、図1
Bは前記図1Aの矢印IBから見た図、図1Cは前記図
1Aの矢印ICから見た図である。
FIG. 1 is an explanatory view of a wafer cassette according to a first embodiment of the present invention; FIG. 1A is a top view of the wafer cassette;
B is a view from the arrow IB in FIG. 1A, and FIG. 1C is a view from the arrow IC in FIG. 1A.

【図2】 図2は前記図1のウエハカセットの説明図で
あり、図2Aは同ウエハカセットの平断面図で図2Cの
IIA−IIA線断面図、図2Bは前記図1AのIIB−IIB
線断面図、図2Cは前記図1AのIIC−IIC線断面図で
ある。
FIG. 2 is an explanatory view of the wafer cassette of FIG. 1; FIG. 2A is a plan sectional view of the wafer cassette of FIG. 2C;
FIG. 2B is a sectional view taken along the line IIA-IIA, and FIG.
2C is a sectional view taken along the line IIC-IIC in FIG. 1A.

【図3】 図3は搬送テーブル上に置かれたウエハカセ
ットの断面を示す図で、図3Aはウエハ搬送部材により
搬送されるウエハを装着する前のウエハカセットの断面
図、図3Bはウエハ搬送部材により搬送されたウエハが
装着されたウエハカセットの断面図、図3Cは前記図3
Bの矢印IIICから見た図でウエハ搬送部材を示す図、
図3Dは前記ウエハが装着されていないときのウエハ支
持部の状態を示す拡大図である。
3 is a view showing a cross section of a wafer cassette placed on a transfer table, FIG. 3A is a cross sectional view of the wafer cassette before mounting a wafer transferred by a wafer transfer member, and FIG. 3B is a wafer transfer. FIG. 3C is a cross-sectional view of a wafer cassette loaded with wafers transferred by the members, and FIG.
The figure which shows the wafer conveyance member in the figure seen from arrow IIIC of B,
FIG. 3D is an enlarged view showing a state of the wafer support when the wafer is not mounted.

【図4】 図4は図2Aの矢印IVで示す部分の拡大図
である。
FIG. 4 is an enlarged view of a portion indicated by an arrow IV in FIG. 2A.

【図5】 図5はウエハカセットのケース本体の説明図
で、図5Aはケース本体の平面図、図5Bは前記図5A
の矢印VBから見た図、図5Cは前記図5Aの矢印VC
から見た図である。
FIG. 5 is an explanatory view of a case main body of the wafer cassette, FIG. 5A is a plan view of the case main body, and FIG.
FIG. 5C is a view from the arrow VB of FIG.
FIG.

【図6】 図6はウエハ外周当接部材の説明図で、図6
Aは上面図、図6Bは前記図6AのVIB−VIB線断面
図である。
FIG. 6 is an explanatory view of a wafer outer peripheral contact member.
6A is a top view, and FIG. 6B is a sectional view taken along the line VIB-VIB in FIG. 6A.

【図7】 図7はケース底壁の説明図で、図7Aは上面
図、図7Bは前記図7AのVIIB−VIIB線断面図であ
る。
7 is an explanatory view of a case bottom wall, FIG. 7A is a top view, and FIG. 7B is a sectional view taken along the line VIIB-VIIB of FIG. 7A.

【図8】 図8は本発明のウエハカセットの実施例1で
使用するガイドローラ支持部材の説明図で、図8Aは平
面図で図8Bの矢印VIIIAから見た図、図8Bは前記
図8Aの矢印VIIIBから見た図、図8Cは前記図8A
の矢印VIIICから見た図である。
FIG. 8 is an explanatory view of a guide roller supporting member used in the first embodiment of the wafer cassette of the present invention. FIG. 8A is a plan view as viewed from an arrow VIIIA of FIG. 8B, and FIG. FIG. 8C is a view from arrow VIIIB of FIG.
FIG. 8 is a view as viewed from arrow VIIIC.

【図9】 図9は前記図8に示すローラ支持部材により
支持されるローラ支持軸の説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view of a roller support shaft supported by the roller support member shown in FIG.

【図10】 図10は本発明のウエハカセットの実施例
1で使用するウエハステージ本体の説明図で、図10A
は平面図、図10Bは前記図10AのXB−XB線断面
図、図10Cは前記図10AのXC−XC線断面図であ
る。
FIG. 10 is an explanatory view of a wafer stage main body used in the first embodiment of the wafer cassette of the present invention.
10B is a plan view, FIG. 10B is a sectional view taken along the line XB-XB of FIG. 10A, and FIG. 10C is a sectional view taken along the line XC-XC of FIG. 10A.

【図11】 図11は前記図10のウエハステージ本体
の側面に装着する被ガイド部材の説明図で、図11Aは
上面図で、図11Bの矢印XIAから見た図、図11B
は前記図11Aの矢印XIBから見た図、図11Cは前
記図11Bの矢印XICから見た図である。
11 is an explanatory view of a guided member mounted on the side surface of the wafer stage main body of FIG. 10; FIG. 11A is a top view, viewed from an arrow XIA in FIG. 11B;
11A is a diagram viewed from the arrow XIB in FIG. 11A, and FIG. 11C is a diagram viewed from the arrow XIC in FIG. 11B.

【図12】 図12は前記図10に示すウエハステージ
本体の下部に装着する昇降用被係止部材の説明図で、図
12Aは上面図、図12Bは前記図12Aの矢印XIIB
から見た図である。
12 is an explanatory view of a locked member for elevating mounted on the lower portion of the wafer stage main body shown in FIG. 10; FIG. 12A is a top view, and FIG. 12B is an arrow XIIB of FIG. 12A.
FIG.

【図13】 図13は本発明のウエハカセットが搬送テ
ーブル上に固定された状態を上からみた図である。
FIG. 13 is a top view of a state in which the wafer cassette of the present invention is fixed on a transfer table.

【図14】 図14は本発明の実施例2の説明図で、図
14Aは平断面図で図14BのXIVA−XIVA線断面
図、図14Bは図14AのXIVB−XIVB線断面図、
図14Cは図14Aの矢印XIVCから見た図である。
14 is an explanatory view of Embodiment 2 of the present invention, FIG. 14A is a plan sectional view, FIG. 14B is a sectional view taken along line XIVA-XIVA of FIG. 14B, FIG. 14B is a sectional view taken along line XIVB-XIVB of FIG.
FIG. 14C is a view from the arrow XIVC of FIG. 14A.

【図15】 図15は本発明のウエハカセットの実施例
2で使用する位置決めガイド部材の説明図で、図15A
は上面図、図15Bは前記図15AのXVB−XVB線
断面図、図15Cは前記図15Aの矢印XVCから見た
図である。
FIG. 15 is an explanatory view of a positioning guide member used in a second embodiment of the wafer cassette of the present invention.
15B is a top view, FIG. 15B is a cross-sectional view taken along the line XVB-XVB in FIG. 15A, and FIG. 15C is a view seen from the arrow XVC in FIG. 15A.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

H…ウエハ搬送部材、W…ウエハ 1…ウエハカセット、3,8a…ウエハ表面露出開口、
5…ウエハ挿入口、6…操作部材挿入口、8…ウエハ外
周当接部材、11…ステージガイド部材、17…ウエハ
ステージ、19a…ウエハ支持面、19b…搬送部材収容
空間、23…昇降用被係止部材、24…ステージ付勢ば
ね、2〜15カセットケース。
H: Wafer carrying member, W: Wafer 1: Wafer cassette, 3, 8a: Wafer surface exposed opening,
Reference numeral 5: Wafer insertion port, 6: Operation member insertion port, 8: Wafer outer peripheral contact member, 11: Stage guide member, 17: Wafer stage, 19a: Wafer support surface, 19b: Transport member accommodating space, 23: Lifting / lowering cover Locking member, 24 ... stage biasing spring, 2-15 cassette case.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F031 CA02 DA13 HA25 HA30 KA14 MA27 MA33 5F046 AA21 CC08 CD01 5F056 EA13 EA15  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5F031 CA02 DA13 HA25 HA30 KA14 MA27 MA33 5F046 AA21 CC08 CD01 5F056 EA13 EA15

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記の要件を備えたことを特徴とするウ
エハカセット、(A01)ウエハ表面の外周部分が当接す
るリング状のウエハ外周当接部材および前記ウエハ外周
当接部材の内側に形成されたウエハ表面露出開口が上面
に設けられ、前記上面に垂直な一側面にウエハ挿入口が
形成され、下面に操作部材挿入口が形成され、内部にウ
エハを収納可能な空間を有するカセットケース、(A0
2)前記カセットケース内部に上下移動可能に支持され
たウエハステージであって、前記ウエハ挿入口から挿入
されたウエハの下面を支持するウエハ支持面が上面に形
成され、前記ウエハ挿入口から挿入されるウエハ下面を
支持するウエハ搬送部材が通過可能な搬送部材収容空間
が形成され、下部に昇降用被係止部材が設けられた前記
ウエハステージ、(A03)前記上下移動可能なウエハス
テージを上下方向にガイドするステージガイド部材、
(A04)前記ウエハステージを常時上方に移動させる力
を前記ウエハステージに作用させるステージ付勢ばね。
1. A wafer cassette having the following requirements: (A01) a ring-shaped wafer outer peripheral contact member which is in contact with an outer peripheral portion of a wafer surface; and a wafer cassette formed inside the wafer outer peripheral contact member. A cassette case having a wafer surface exposure opening provided on the upper surface, a wafer insertion opening formed on one side surface perpendicular to the upper surface, an operation member insertion opening formed on the lower surface, and a space capable of accommodating a wafer therein; A0
2) A wafer stage supported vertically inside the cassette case and having a wafer support surface formed on an upper surface for supporting a lower surface of a wafer inserted from the wafer insertion port, and being inserted from the wafer insertion port. A transfer member accommodating space through which a wafer transfer member for supporting the lower surface of the wafer can be passed, and a lower stage provided with a locked member for raising and lowering; A stage guide member to guide the
(A04) A stage biasing spring for applying a force for constantly moving the wafer stage upward to the wafer stage.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005528786A (en) * 2002-05-23 2005-09-22 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Large board inspection system
JP2010165725A (en) * 2009-01-13 2010-07-29 Ebara Corp Substrate mounting device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005528786A (en) * 2002-05-23 2005-09-22 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド Large board inspection system
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