JP2000255178A - 印刷用ブランケットおよびその製造方法 - Google Patents
印刷用ブランケットおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オフセット印刷用ブランケットにおいて、発
塵を防止し、さらには受理性転移性を向上し、耐久劣化
の少ないブランケットを提供する。 【解決手段】 原版である凹版のパターンを被印刷物上
に転写印刷するオフセット印刷用ブランケットにおい
て、インキ受理転移を行うための最表面層、緩衝用の中
間層および補強用の最下層からなる３層を設ける。
塵を防止し、さらには受理性転移性を向上し、耐久劣化
の少ないブランケットを提供する。 【解決手段】 原版である凹版のパターンを被印刷物上
に転写印刷するオフセット印刷用ブランケットにおい
て、インキ受理転移を行うための最表面層、緩衝用の中
間層および補強用の最下層からなる３層を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は印刷凹版に形成され
た原版パターン（インキパターン）を被印刷物の上に高
精度に転写印刷する凹版印刷、特にオフセット印刷方法
および印刷装置に用いる精密印刷用ブランケットに関す
るものである。
た原版パターン（インキパターン）を被印刷物の上に高
精度に転写印刷する凹版印刷、特にオフセット印刷方法
および印刷装置に用いる精密印刷用ブランケットに関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に凹版印刷においては凹版面上にイ
ンキを供給し、ドクターブレードで掻いて凹部以外（凸
部）に付着したインキを除去し、凹部のインキセル内に
充填されたインキを被印刷体に直接印刷するダイレクト
方式かまたは凹部のインキセル内に充填されたインキを
ブランケットに転写しそのブランケット上のインキを被
印刷体に転写するオフセット方式がある。
ンキを供給し、ドクターブレードで掻いて凹部以外（凸
部）に付着したインキを除去し、凹部のインキセル内に
充填されたインキを被印刷体に直接印刷するダイレクト
方式かまたは凹部のインキセル内に充填されたインキを
ブランケットに転写しそのブランケット上のインキを被
印刷体に転写するオフセット方式がある。
【０００３】この様な従来の凹版印刷、特にオフセット
印刷において、インキセル内のインキをブランケットに
いったん転写する為、このブランケットの面精度は印刷
の品位に大きく影響する。そこで、従来、研磨等により
ブランケット表面の面粗度を決めていたものをポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の鏡面と金型
内の基材の間にシリコン樹脂を注入し、架橋成形するこ
とにより鏡面を転写する方法（特開平０８−１１２９８
１号公報）、および、基材上にシリコン樹脂を塗布した
後、ＰＥＴフィルム等の鏡面を圧着させ、その後架橋さ
せることにより転写する方法（特開平０６−１２２１８
６号公報）が開示されている。これらは、シリコンブラ
ンケット表面の面粗さについての開示であり、鏡面によ
る印刷品位の向上は達成された。
印刷において、インキセル内のインキをブランケットに
いったん転写する為、このブランケットの面精度は印刷
の品位に大きく影響する。そこで、従来、研磨等により
ブランケット表面の面粗度を決めていたものをポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の鏡面と金型
内の基材の間にシリコン樹脂を注入し、架橋成形するこ
とにより鏡面を転写する方法（特開平０８−１１２９８
１号公報）、および、基材上にシリコン樹脂を塗布した
後、ＰＥＴフィルム等の鏡面を圧着させ、その後架橋さ
せることにより転写する方法（特開平０６−１２２１８
６号公報）が開示されている。これらは、シリコンブラ
ンケット表面の面粗さについての開示であり、鏡面によ
る印刷品位の向上は達成された。
【０００４】また、印刷時のブランケットから被印刷物
（ガラス基板等）への転移性向上について最表面層のｔ
ａｎδ（ゴムの弾性）を不架橋型シリコン樹脂により低
下させ、ゴム硬度としても小さくし、凹版からブランケ
ットへの受理性向上について中間層のｔａｎδをシリカ
の添加により高上させ、ゴム硬度としても大きくする方
法（特開平０８−２６７９５２号公報）が開示されてい
る。更に、この開示では基布材の長繊維化による発塵防
止も開示されている。
（ガラス基板等）への転移性向上について最表面層のｔ
ａｎδ（ゴムの弾性）を不架橋型シリコン樹脂により低
下させ、ゴム硬度としても小さくし、凹版からブランケ
ットへの受理性向上について中間層のｔａｎδをシリカ
の添加により高上させ、ゴム硬度としても大きくする方
法（特開平０８−２６７９５２号公報）が開示されてい
る。更に、この開示では基布材の長繊維化による発塵防
止も開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、実際の印刷に
おいて、印刷パターンの欠陥やショートは歩留まりを低
下させる最大の要因である。この原因を分析すると、凹
版の欠陥や、ガラス基板の汚れと同等にシリコーンブラ
ンケット表面の欠陥（製造時のゴミや気泡によるシリコ
ーンブランケット表面の欠陥および発塵による欠陥）が
あることがわかった。また、硬い中間層の上にｔａｎδ
を小さくしゴム硬度も極端に小さくした最表面層を形成
すると最表面層に応力が集中し微細パターン形状がつぶ
れるという問題点があった。さらにシリカ等の充填剤を
多く入れると、印刷の繰り返しにより最表面層のシリコ
ーンポリマー分が減少しシリカ等の表面が露出し、転移
性の劣化が促進されるという問題点があった。
おいて、印刷パターンの欠陥やショートは歩留まりを低
下させる最大の要因である。この原因を分析すると、凹
版の欠陥や、ガラス基板の汚れと同等にシリコーンブラ
ンケット表面の欠陥（製造時のゴミや気泡によるシリコ
ーンブランケット表面の欠陥および発塵による欠陥）が
あることがわかった。また、硬い中間層の上にｔａｎδ
を小さくしゴム硬度も極端に小さくした最表面層を形成
すると最表面層に応力が集中し微細パターン形状がつぶ
れるという問題点があった。さらにシリカ等の充填剤を
多く入れると、印刷の繰り返しにより最表面層のシリコ
ーンポリマー分が減少しシリカ等の表面が露出し、転移
性の劣化が促進されるという問題点があった。
【０００６】本発明は、このような従来の問題点を解決
する為になされたもので、発塵が無く、欠陥が無く、さ
らには受理性転移性が良く、耐久劣化の少ないシリコー
ンブランケットを提供することを目的とする。
する為になされたもので、発塵が無く、欠陥が無く、さ
らには受理性転移性が良く、耐久劣化の少ないシリコー
ンブランケットを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、原版である凹版のパターンを被印刷物上
に転写印刷するオフセット印刷用ブランケットにおい
て、インキ受理転移を行うための最表面層、緩衝用の中
間層および補強用の最下層からなる３層を有することを
特徴とする。
め、本発明は、原版である凹版のパターンを被印刷物上
に転写印刷するオフセット印刷用ブランケットにおい
て、インキ受理転移を行うための最表面層、緩衝用の中
間層および補強用の最下層からなる３層を有することを
特徴とする。
【０００８】本発明のブランケットの具体的な構成は、
通常、最表面層に超微粒子シリコーンゴムを添加または
無添加のシリコーン樹脂を用いたシリコーンブランケッ
トにおいて、最表面層を厚さ５０μｍ〜５００μｍ、硬
度４０°以上７０°以下、面粗さ０．３μｍ以下で形成
し、中間層に緩衝ゴムを厚さ１０００μｍ〜３０００μ
ｍ、硬度２０°以上４０°未満で形成し、補強用の最下
層を厚さ５００μｍ以下のフィルムまたは箔とするもの
である。なお、本明細書において特に断りがない場合
は、硬度はＪＩＳ Ｋ６３０１に規定する硬度を意味す
るものとする。
通常、最表面層に超微粒子シリコーンゴムを添加または
無添加のシリコーン樹脂を用いたシリコーンブランケッ
トにおいて、最表面層を厚さ５０μｍ〜５００μｍ、硬
度４０°以上７０°以下、面粗さ０．３μｍ以下で形成
し、中間層に緩衝ゴムを厚さ１０００μｍ〜３０００μ
ｍ、硬度２０°以上４０°未満で形成し、補強用の最下
層を厚さ５００μｍ以下のフィルムまたは箔とするもの
である。なお、本明細書において特に断りがない場合
は、硬度はＪＩＳ Ｋ６３０１に規定する硬度を意味す
るものとする。
【０００９】また、本発明の製造方法は、上記本発明の
凹版オフセット印刷用ブランケットを製造する方法であ
って、最下層のフィルムまたは箔に中間の緩衝層をコー
ティングする工程と、セパレーターフィルムに最表面の
インキ受理転移層をコーティングする工程と、緩衝層と
インキ受理転移層を合わせるように貼り合わせ、熱架橋
後セパレーターフィルムを剥離する工程とを有すること
を特徴とする。
凹版オフセット印刷用ブランケットを製造する方法であ
って、最下層のフィルムまたは箔に中間の緩衝層をコー
ティングする工程と、セパレーターフィルムに最表面の
インキ受理転移層をコーティングする工程と、緩衝層と
インキ受理転移層を合わせるように貼り合わせ、熱架橋
後セパレーターフィルムを剥離する工程とを有すること
を特徴とする。
【００１０】本発明の製造方法において、好ましくは、
少なくとも一部の工程または全ての工程を清浄度クラス
１０００以下のクリーンルーム内で行う。
少なくとも一部の工程または全ての工程を清浄度クラス
１０００以下のクリーンルーム内で行う。
【００１１】
【作用】上記構成を有する本発明のブランケットにおい
て、シリコーン樹脂からなる最表面層は転移性および耐
久性の向上、中間層は受理性および耐久性の向上、最下
層はブランケット強度および防塵性の向上に寄与してお
り、このため本発明のブランケットは精密印刷に特に好
適に用いられる。また、本発明のブランケット製造方法
によれば、ブランケット製造時における欠陥の発生を防
止することができる。
て、シリコーン樹脂からなる最表面層は転移性および耐
久性の向上、中間層は受理性および耐久性の向上、最下
層はブランケット強度および防塵性の向上に寄与してお
り、このため本発明のブランケットは精密印刷に特に好
適に用いられる。また、本発明のブランケット製造方法
によれば、ブランケット製造時における欠陥の発生を防
止することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態について述
べる。シリコーンブランケットにおいて使用されるシリ
コーンゴムとしては、例えばメチルビニル系シリコーン
ゴム、トリフロロプロピル基を有するフロロシリコーン
ゴムおよびフェニル基を有するフェニルシリコーンゴム
からなる群より選ばれる１種または２種以上の混合物が
あげられるが、これらのみに限定されるものではない。
べる。シリコーンブランケットにおいて使用されるシリ
コーンゴムとしては、例えばメチルビニル系シリコーン
ゴム、トリフロロプロピル基を有するフロロシリコーン
ゴムおよびフェニル基を有するフェニルシリコーンゴム
からなる群より選ばれる１種または２種以上の混合物が
あげられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００１３】また、シリコーンゴムは従来公知の種々の
形態で使用可能であり、例えば混練可能なシリコーンゴ
ム、室温にて架橋する室温加硫型シリコーンゴム（ＲＴ
Ｖゴム）、射出成形可能なＬＩＭ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｉｎ
ｊｅｃｔｉｏｎ Ｍｏｌｄｉｎｇ）シリコーンゴム等が
使用可能である。なお、シリコーンゴムは、ポリジメチ
ルシロキサンで重合度１００〜８００の低重合度の液状
シリコーンゴムをベースとしたＲＴＶシリコーンゴムや
重合度６０００〜１００００のゲル状のシリコーン生ゴ
ムをベースとしたミラブルシリコーンゴム等が考えられ
るが、いずれも生ゴムにエアロジル等の無水シリカ系ま
たはシリコーンゴムの超微粒子等の補強性充填剤、タル
ク、マイカ等の増量充填剤、分散促進剤等が配合された
ゴムコンパウンドとして供給されている。ＲＴＶシリコ
ーンゴムは一般的にはポリジメチルシロキサンが多い。
ミラブルシリコーンゴムは架橋性と物性とのバランスを
とるためにメチルビニル基を０．１〜０．５モル％程度
導入されたものが用いられている。また、トリフロロプ
ロピル基を導入したフロロシリコーンゴムやフェニル基
を導入したフェニルシリコーンゴム等も使用可能であ
り、またこれらの混合物も同様に使用可能である。
形態で使用可能であり、例えば混練可能なシリコーンゴ
ム、室温にて架橋する室温加硫型シリコーンゴム（ＲＴ
Ｖゴム）、射出成形可能なＬＩＭ（Ｌｉｑｕｉｄ Ｉｎ
ｊｅｃｔｉｏｎ Ｍｏｌｄｉｎｇ）シリコーンゴム等が
使用可能である。なお、シリコーンゴムは、ポリジメチ
ルシロキサンで重合度１００〜８００の低重合度の液状
シリコーンゴムをベースとしたＲＴＶシリコーンゴムや
重合度６０００〜１００００のゲル状のシリコーン生ゴ
ムをベースとしたミラブルシリコーンゴム等が考えられ
るが、いずれも生ゴムにエアロジル等の無水シリカ系ま
たはシリコーンゴムの超微粒子等の補強性充填剤、タル
ク、マイカ等の増量充填剤、分散促進剤等が配合された
ゴムコンパウンドとして供給されている。ＲＴＶシリコ
ーンゴムは一般的にはポリジメチルシロキサンが多い。
ミラブルシリコーンゴムは架橋性と物性とのバランスを
とるためにメチルビニル基を０．１〜０．５モル％程度
導入されたものが用いられている。また、トリフロロプ
ロピル基を導入したフロロシリコーンゴムやフェニル基
を導入したフェニルシリコーンゴム等も使用可能であ
り、またこれらの混合物も同様に使用可能である。
【００１４】本発明の好ましい実施形態において、最表
面層は、上記シリコーンゴムに架橋剤（加硫剤）を混合
し、最表面シリコーンゴム層に成形した後、架橋するこ
とで形成される。上記配合ゴム中に含まれる架橋剤とし
ては、例えば有機過酸化物系の架橋剤を使用することも
できる。かかる有機過酸化物系の架橋剤としては、例え
ばベンゾイルパーオキサイド、ビス２，４−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−モノクロルベ
ンゾイルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒ
ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等があげられる。
面層は、上記シリコーンゴムに架橋剤（加硫剤）を混合
し、最表面シリコーンゴム層に成形した後、架橋するこ
とで形成される。上記配合ゴム中に含まれる架橋剤とし
ては、例えば有機過酸化物系の架橋剤を使用することも
できる。かかる有機過酸化物系の架橋剤としては、例え
ばベンゾイルパーオキサイド、ビス２，４−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−モノクロルベ
ンゾイルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒ
ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等があげられる。
【００１５】このシリコーンゴムの充填剤として、例え
ば無水珪酸、炭酸カルシウム、ハードクレー、硫酸バリ
ウム、タルク、マイカ、アスベスト、グラファイト等の
無機充填剤、および再生ゴム、超微粒子粉末ゴム、アス
ファルト類、スチレン樹脂、にかわ等の有機充填剤が挙
げられる。
ば無水珪酸、炭酸カルシウム、ハードクレー、硫酸バリ
ウム、タルク、マイカ、アスベスト、グラファイト等の
無機充填剤、および再生ゴム、超微粒子粉末ゴム、アス
ファルト類、スチレン樹脂、にかわ等の有機充填剤が挙
げられる。
【００１６】最表面層の硬度は、ＪＩＳ Ｋ６３０１に
規定するスプリング式硬さ試験機で２０〜４０°のもの
が良い、硬度がこれを下回ると、印刷中にゴムが変化し
てパターンを正確に転写できなくなり、一方、硬度がこ
れを超えるとインキをゴムが受け取りにくくなり、また
ガラス等への転移も充分でなくなる。
規定するスプリング式硬さ試験機で２０〜４０°のもの
が良い、硬度がこれを下回ると、印刷中にゴムが変化し
てパターンを正確に転写できなくなり、一方、硬度がこ
れを超えるとインキをゴムが受け取りにくくなり、また
ガラス等への転移も充分でなくなる。
【００１７】また、最表面層の表面粗度は印刷パターン
の形状に大きな影響を与えるので、できるかぎり細かい
ほうが望ましい。１０点平均粗さ（ＲＺ）で０．３μｍ
以下が良い。
の形状に大きな影響を与えるので、できるかぎり細かい
ほうが望ましい。１０点平均粗さ（ＲＺ）で０．３μｍ
以下が良い。
【００１８】最表面層のシリコーンゴムはセパレーター
フィルム上に形成する。セパレーターフィルムは精密光
学グレードのＰＥＴフィルムまたはこれらのフィルムに
離型処理を施したもの等を用いる。このセパレーターフ
ィルムにシリコーンゴム層を形成する方法としてはロー
ルコーター（リバース）やスリットコーター等を用い
る。さらにこの方法により、規定の膜厚（５０〜５００
μｍ）を得ることが出来る。
フィルム上に形成する。セパレーターフィルムは精密光
学グレードのＰＥＴフィルムまたはこれらのフィルムに
離型処理を施したもの等を用いる。このセパレーターフ
ィルムにシリコーンゴム層を形成する方法としてはロー
ルコーター（リバース）やスリットコーター等を用い
る。さらにこの方法により、規定の膜厚（５０〜５００
μｍ）を得ることが出来る。
【００１９】中間層としては、例えば最表面層のシリコ
ーンゴムと同じ物にシリカ等の充填剤を最表面層よりも
多く充填したものや、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合ゴムやクロロプレンゴム等を用いることができる。
これらのゴムは所定量の架橋剤、架橋促進剤および要す
れば増粘剤等を含有する。そして、最下層のフィルムや
箔に押し出しコーティングやブレードコーティング法等
の適当な塗布手段にて上記ゴム剤をコーティングする。
さらにこの方法により、規定の膜厚（１０００〜３００
０μｍ）を得ることが出来る。また、中間層と最下層の
フィルムや箔との接着力をあげる為にシランカップリン
グ剤等の接着層を最下層の表面にコーティングしても良
い。さらに中間層と最表面層の接着力をあげる為にシラ
ンカップリング剤等の接着層を中間層の表面にコーティ
ングしても良い。最下層のフィルムや箔としては、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、アル
ミニウム箔、ステンレス箔等のフィルムやシート等があ
げられる。
ーンゴムと同じ物にシリカ等の充填剤を最表面層よりも
多く充填したものや、アクリロニトリル−ブタジエン共
重合ゴムやクロロプレンゴム等を用いることができる。
これらのゴムは所定量の架橋剤、架橋促進剤および要す
れば増粘剤等を含有する。そして、最下層のフィルムや
箔に押し出しコーティングやブレードコーティング法等
の適当な塗布手段にて上記ゴム剤をコーティングする。
さらにこの方法により、規定の膜厚（１０００〜３００
０μｍ）を得ることが出来る。また、中間層と最下層の
フィルムや箔との接着力をあげる為にシランカップリン
グ剤等の接着層を最下層の表面にコーティングしても良
い。さらに中間層と最表面層の接着力をあげる為にシラ
ンカップリング剤等の接着層を中間層の表面にコーティ
ングしても良い。最下層のフィルムや箔としては、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリイミド、アル
ミニウム箔、ステンレス箔等のフィルムやシート等があ
げられる。
【００２０】これらにより得られた積層シートをゴム面
を合わせて貼り合わせる。この時、所定の圧力と温度で
加熱（常温でも良い）加圧して接着させ、さらにセパレ
ーターを剥離して、オフセット印刷用ブランケットを得
る。この時の製造環境をクラス１０００以下のクリーン
ルームで行う。出来ればコーティング部分および貼り合
わせ部分はクラス１００以下のブースで囲みさらにクリ
ーン度を高上させると良い。
を合わせて貼り合わせる。この時、所定の圧力と温度で
加熱（常温でも良い）加圧して接着させ、さらにセパレ
ーターを剥離して、オフセット印刷用ブランケットを得
る。この時の製造環境をクラス１０００以下のクリーン
ルームで行う。出来ればコーティング部分および貼り合
わせ部分はクラス１００以下のブースで囲みさらにクリ
ーン度を高上させると良い。
【００２１】以下に、本発明の実施形態を図１、２およ
び３を用いて説明する。図１は本発明のシリコーンブラ
ンケットの特徴を最も良く表す一実施形態を示す図であ
る。同図において、１は最表面層、２は中間層、３は最
下層である。
び３を用いて説明する。図１は本発明のシリコーンブラ
ンケットの特徴を最も良く表す一実施形態を示す図であ
る。同図において、１は最表面層、２は中間層、３は最
下層である。
【００２２】図２は本発明のシリコーンブランケットの
製造方法における、途中工程の一形態を示す図である。
同図に示すように、セパレーター４には最表面層１が形
成され、最下層３上には中間層２が形成されている。こ
れらの積層シートを図４に示すように最表面層１と中間
層２が対向する向きで貼り合わせて、ブランケットとす
る。
製造方法における、途中工程の一形態を示す図である。
同図に示すように、セパレーター４には最表面層１が形
成され、最下層３上には中間層２が形成されている。こ
れらの積層シートを図４に示すように最表面層１と中間
層２が対向する向きで貼り合わせて、ブランケットとす
る。
【００２３】図３は、本発明のシリコンブランケットの
製造方法における、途中工程の他の形態を示す図であ
る。図３に示す実施形態によれば、最表面層１と中間層
２の間および中間層２と最下層３の間に各々接着層５お
よび６が形成されている。この接着層５および６により
各層間の接着強度の向上が得られる。
製造方法における、途中工程の他の形態を示す図であ
る。図３に示す実施形態によれば、最表面層１と中間層
２の間および中間層２と最下層３の間に各々接着層５お
よび６が形成されている。この接着層５および６により
各層間の接着強度の向上が得られる。
【００２４】
【実施例】実施例および比較例のブランケットを、各々
以下の組成および厚みに従って作製した。 （実施例１） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度７０°、熱加硫型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 最下層 ： ２００μｍ、ステンレスシート。
以下の組成および厚みに従って作製した。 （実施例１） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度７０°、熱加硫型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 最下層 ： ２００μｍ、ステンレスシート。
【００２５】（実施例２） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度７０°、熱加硫型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度３５°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＣＹ５２−２０５：東レダウコー
ニングシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度３５°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＣＹ５２−２０５：東レダウコー
ニングシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００２６】（実施例３） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度５０°、熱加硫型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４５Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
ジメチルシロキサン（ＳＨ７４５Ｕ：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００２７】 （実施例４） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度５０°、 ２液型ポリジメチルシロキサン ・・・ １００重量部 （ＣＹ５２−２０５：東レダウコーニングシリコーン社製） シリコーンゴムパウダー ・・・ ５０重量部 （Ｅ−５００：東レダウコーニングシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、 ２液型ポリジメチルシロキサン （ＳＥ１８２１：東レダウコーニングシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００２８】（比較例１） 最表面層：厚さ２３００μｍ、硬度２１°、２液型ポリ
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：無し、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
ジメチルシロキサン（ＳＥ１８２１：東レダウコーニン
グシリコーン社製）、 中間層 ：無し、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００２９】（比較例２） 最表面層：厚さ２３００μｍ、硬度７０°、熱加硫型ポ
リジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニ
ングシリコーン社製）、 中間層 ：無し、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
リジメチルシロキサン（ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニ
ングシリコーン社製）、 中間層 ：無し、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００３０】 （比較例３） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度１０°、 ２液型ポリジメチルシロキサン ・・・ １００重量部 （ＳＥ１７４０：東レダウコーニングシリコーン社製） シリコーンゴムパウダー ・・・ ２０重量部 （Ｅ−５００：東レダウコーニングシリコーン社製）、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度７０°、 熱加硫型ポリジメチルシロキサン （ＳＨ７４７Ｕ：東レダウコーニングシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００３１】 （比較例４） 最表面層：厚さ３００μｍ、硬度５０°、 ２液型ポリジメチルシロキサン ・・・ １００重量部 （ＣＹ５２−２０５：東レダウコーニングシリコーン社製） 無水シリカパウダー ・・・ ５０重量部、 中間層 ：厚さ２０００μｍ、硬度２１°、 ２液型ポリジメチルシロキサン （ＳＥ１８２１：東レダウコーニングシリコーン社製）、 最下層 ：２００μｍ、ステンレスシート。
【００３２】（試験例）以上のようにして作製した、各
実施例および比較例のブランケットを用いて印刷特性に
関する試験を行った。以下に記す評価基準により受理
性、転移性、形状安定性および耐久性の評価を行った。
評価結果を表１に示す。 受理性：版からブランケットにインキが移った時のブラ
ンケット上での未受理画素の比率が０％のものを○とし
た。 転移性：ブランケットからガラス板にインキが移った時
のガラス板上での未転移画素の比率が０％のものを○と
した。 形状安定性：版の画素形状と印刷形状が同一なものを○
とした。 耐久性：１枚目の印刷形状と１００枚目の印刷形状が同
一のものを○とした。
実施例および比較例のブランケットを用いて印刷特性に
関する試験を行った。以下に記す評価基準により受理
性、転移性、形状安定性および耐久性の評価を行った。
評価結果を表１に示す。 受理性：版からブランケットにインキが移った時のブラ
ンケット上での未受理画素の比率が０％のものを○とし
た。 転移性：ブランケットからガラス板にインキが移った時
のガラス板上での未転移画素の比率が０％のものを○と
した。 形状安定性：版の画素形状と印刷形状が同一なものを○
とした。 耐久性：１枚目の印刷形状と１００枚目の印刷形状が同
一のものを○とした。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明はシリコー
ンブランケットの基本構成を３層構成とすることによ
り、従来のブランケットに対して、受理性・転移性・形
状安定性・耐久性に優れたブランケットを供給できる。
ンブランケットの基本構成を３層構成とすることによ
り、従来のブランケットに対して、受理性・転移性・形
状安定性・耐久性に優れたブランケットを供給できる。
【００３５】また、最表面層のシリコーン樹脂を厚さ５
０μｍ〜５００μｍ、硬度４０°以上７０°以下、面粗
さ０．３μｍ以下で形成することにより、転移性と耐久
性がより向上する。さらに、超微粒子シリコーンゴムを
添加することにより、転移耐久性がより向上する。
０μｍ〜５００μｍ、硬度４０°以上７０°以下、面粗
さ０．３μｍ以下で形成することにより、転移性と耐久
性がより向上する。さらに、超微粒子シリコーンゴムを
添加することにより、転移耐久性がより向上する。
【００３６】また、中間層に緩衝ゴムを厚さ１０００μ
ｍ〜３０００μｍ、硬度２０°以上４０°未満で形成す
ることにより、受理性と形状安定性がより向上する。ま
た、最下層の補強層を厚さ５００μｍ以下のフィルムま
たは箔とすることにより発塵防止と厚さばらつきによる
受理転移性の安定化が得られる。
ｍ〜３０００μｍ、硬度２０°以上４０°未満で形成す
ることにより、受理性と形状安定性がより向上する。ま
た、最下層の補強層を厚さ５００μｍ以下のフィルムま
たは箔とすることにより発塵防止と厚さばらつきによる
受理転移性の安定化が得られる。
【００３７】また、表面層および中間層をそれぞれコー
ティングにより形成後貼り合わせる工程をクラス１００
０以下のクリーンルーム内で行うことによりゴミの巻き
込みや汚れによるブランケットの欠陥を防止できる。
ティングにより形成後貼り合わせる工程をクラス１００
０以下のクリーンルーム内で行うことによりゴミの巻き
込みや汚れによるブランケットの欠陥を防止できる。
【図１】 本発明のシリコーンブランケットの一実施形
態を示す図である。
態を示す図である。
【図２】 本発明のシリコーンブランケットの製造方法
の一形態における途中工程を示す図である。
の一形態における途中工程を示す図である。
【図３】 本発明のシリコーンブランケットの製造方法
の他の形態における途中工程を示す図である。
の他の形態における途中工程を示す図である。
１：最表面層、２：中間層、３：最下層、４：セパレー
ター、５，６：接着層。
ター、５，６：接着層。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 緑川 理子 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノ ン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H114 AA02 CA01 CA03 CA04 DA04 DA46 DA62 DA73 FA01 FA02 GA12 GA34
Claims (9)
- 【請求項１】 原版である凹版のパターンを被印刷物上
に転写印刷するオフセット印刷用ブランケットにおい
て、インキ受理転移を行うための最表面層、緩衝用の中
間層および補強用の最下層からなる３層を有することを
特徴とするブランケット。 - 【請求項２】 前記最表面層が、シリコーン樹脂からな
ることを特徴とする請求項１に記載のブランケット。 - 【請求項３】 前記最表面層が、厚さ５０μｍ〜５００
μｍ、硬度４０°以上７０°以下、面粗さ０．３μｍ以
下であることを特徴とする請求項１または２に記載のブ
ランケット。 - 【請求項４】 前記シリコーン樹脂が、さらにシリコー
ンゴムパウダーを添加分散したものであることを特徴と
する請求項２または３に記載のブランケット。 - 【請求項５】 前記中間層が、厚さ１０００μｍ〜３０
００μｍ、硬度２０°以上４０°未満のゴム層であるこ
とを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のブラン
ケット。 - 【請求項６】 前記最下層が、厚さ５００μｍ以下のフ
ィルムまたは箔であることを特徴とする請求項１〜５の
いずれかに記載のブランケット。 - 【請求項７】 最下層のフィルムまたは箔に緩衝用の中
間層をコーティングする工程と、セパレーターフィルム
に最表面層をコーティングする工程と、前記中間層と前
記最表面層を合わせるように貼り合わせ、熱架橋後前記
セパレーターフィルムを剥離する工程とを有することを
特徴とする凹版オフセット印刷用ブランケットの製造方
法。 - 【請求項８】 前記ブランケットの製造方法において、
少なくとも一部の工程を清浄度クラス１０００以下のク
リーンルーム内で行うことを特徴とする請求項８に記載
の製造方法。 - 【請求項９】 前記ブランケットの製造方法において、
全ての工程をクラス１０００以下のクリーンルーム内で
行うことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6253999A JP2000255178A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 印刷用ブランケットおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6253999A JP2000255178A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 印刷用ブランケットおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000255178A true JP2000255178A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13203138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6253999A Pending JP2000255178A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 印刷用ブランケットおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000255178A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003039849A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 印刷用ブランケットおよび印刷方法 |
| EP1445098A1 (en) * | 2003-02-04 | 2004-08-11 | Kba-Giori S.A. | Blanket cylinder for an intaglio printing machine |
| JP2006103153A (ja) * | 2004-10-05 | 2006-04-20 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | シリコーンブランケットとその製造方法 |
| GB2419848A (en) * | 2004-11-04 | 2006-05-10 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Blanket for printing roll |
| JP2006159822A (ja) * | 2004-12-10 | 2006-06-22 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷用ブランケット及びその製造方法 |
| JP2006240115A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷用ブランケット |
| JP2007237413A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Toppan Printing Co Ltd | 印刷物の製造方法 |
| CN101947897A (zh) * | 2009-07-10 | 2011-01-19 | 乐金显示有限公司 | 用于印刷辊的辊套及其制造方法 |
| JP2016182729A (ja) * | 2015-03-26 | 2016-10-20 | 国立大学法人山形大学 | 印刷装置 |
| JPWO2017199344A1 (ja) * | 2016-05-17 | 2019-02-28 | 株式会社秀峰 | 印刷用ブランケット |
-
1999
- 1999-03-10 JP JP6253999A patent/JP2000255178A/ja active Pending
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003039849A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Sumitomo Rubber Ind Ltd | 印刷用ブランケットおよび印刷方法 |
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| US7464642B2 (en) | 2003-02-04 | 2008-12-16 | Kba-Giori S.A. | Blanket cylinder for an intaglio printing machine |
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