JP2000234048A - Semiconductor sealing epoxy resin composition and semiconductor device - Google Patents

Semiconductor sealing epoxy resin composition and semiconductor device

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JP2000234048A
JP2000234048A JP11036495A JP3649599A JP2000234048A JP 2000234048 A JP2000234048 A JP 2000234048A JP 11036495 A JP11036495 A JP 11036495A JP 3649599 A JP3649599 A JP 3649599A JP 2000234048 A JP2000234048 A JP 2000234048A
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epoxy resin
resin composition
semiconductor
curing accelerator
composition
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Tatsuyoshi Wada
辰佳 和田
Takanori Kushida
孝則 櫛田
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor sealing epoxy resin composition which improves the shelf stability at ordinary temperatures without microcapsulation of curing accelerators. SOLUTION: A semiconductor sealing epoxy resin composition contains as essential components an epoxy resin, a hardener, an accelerator and an inorganic filler. Here, the epoxy resin is an o-cresol novolak epoxy resin, the hardener is a phenol novolak resin, and the curing accelerator is a compound having a skeleton of the formula. In the formula, R1-R7 are each hydrogen, methyl or hydroxyethyl.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物及びこの半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を用いた半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor and a semiconductor device using the epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、ダイオード、トランジスタ
ー、集積回路等の電気・電子部品や、半導体装置等の封
止方法として、例えばエポキシ樹脂やシリコン樹脂等に
よる封止方法や、ガラス、金属、セラミック等を用いた
ハーメチックシール法が採用されているが、近年では、
信頼性の向上と共に大量生産が可能であり、またコスト
メリットのあるエポキシ樹脂を用いた低圧トランスファ
ー成形による樹脂封止が主流を占めるようになってい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of sealing electric / electronic parts such as diodes, transistors, integrated circuits, etc., semiconductor devices, etc., for example, a method of sealing with epoxy resin or silicon resin, glass, metal, ceramic, etc. Hermetic sealing method using
Resin encapsulation by low-pressure transfer molding using an epoxy resin, which has the merit of being able to improve reliability and is cost-effective, has become the mainstream.

【0003】そしてこのエポキシ樹脂を用いる封止法に
おいては、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂を
樹脂成分とし、硬化剤としてフェノールノボラック樹
脂、硬化促進剤として有機リン化合物、3級アミン類、
イミダゾール類を含有するエポキシ樹脂組成物が一般に
使用されている。
In a sealing method using this epoxy resin, an o-cresol novolak type epoxy resin is used as a resin component, a phenol novolak resin as a curing agent, an organic phosphorus compound as a curing accelerator, tertiary amines,
Epoxy resin compositions containing imidazoles are commonly used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、エポキシ樹脂
組成物は常温において硬化反応が進行し、材料劣化が発
生するため、エポキシ樹脂組成物の輸送及び保管は5℃
程度の冷蔵が必要とされており、またエポキシ樹脂組成
物を常温に戻した後の可使時間は24〜72時間程度が
一般的である。従って、エポキシ樹脂組成物は輸送や保
管、使用に際して多くの制約があるという問題があっ
た。そこで、特開平10−182949号公報等では、
硬化促進剤を熱可塑性樹脂で被覆してマイクロカプセル
化して用いることによって、エポキシ樹脂の貯蔵安定性
を高めるようにしているが、このものではコスト上の問
題等が生じるものであった。
However, since the curing reaction of the epoxy resin composition proceeds at room temperature and the material deteriorates, the transportation and storage of the epoxy resin composition are performed at 5 ° C.
A certain degree of refrigeration is required, and the pot life after returning the epoxy resin composition to room temperature is generally about 24 to 72 hours. Therefore, there is a problem that the epoxy resin composition has many restrictions in transportation, storage and use. Therefore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-182949,
By using a curing accelerator coated with a thermoplastic resin and microencapsulated, the storage stability of the epoxy resin is enhanced, but this has caused problems such as cost.

【0005】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、硬化促進剤をマイクロカプセル化する必要なく、
常温での保存性を高めることができる半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物及び半導体装置を提供することを目的と
するものである。
[0005] The present invention has been made in view of the above points, without the need to microencapsulate the curing accelerator,
An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and a semiconductor device that can enhance the storage stability at room temperature.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬
化剤、硬化促進剤、無機充填材を必須成分として含有す
る半導体封止用エポキシ樹脂組成物において、エポキシ
樹脂としてo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
を、硬化剤としてフェノールノボラック樹脂を、硬化促
進剤として下記式(1)の骨格を有する化合物をそれぞ
れ配合して成ることを特徴とするものである。
The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to claim 1 of the present invention comprises an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components. In the epoxy resin composition, an o-cresol novolak type epoxy resin is used as an epoxy resin, a phenol novolak resin is used as a curing agent, and a compound having a skeleton of the following formula (1) is used as a curing accelerator. Is what you do.

【0007】[0007]

【化2】 Embedded image

【0008】また請求項2の発明は、上記式(1)の骨
格を有する硬化促進剤を全樹脂量に対して1.0〜20
重量%配合して成ることを特徴とするものである。
Further, the invention of claim 2 provides a curing accelerator having a skeleton of the above formula (1) in an amount of from 1.0 to 20% based on the total amount of the resin.
% By weight.

【0009】また請求項3の発明は、無機充填材を組成
物全量に対して60〜93重量%配合して成ることを特
徴とするものである。
The invention according to claim 3 is characterized in that the inorganic filler is blended in an amount of 60 to 93% by weight based on the total amount of the composition.

【0010】本発明の請求項4に係る半導体装置は、上
記請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成
物で半導体が封止されて成ることを特徴とするものであ
る。
A semiconductor device according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that a semiconductor is sealed with the epoxy resin composition according to any one of the first to third aspects.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below.

【0012】本発明においてエポキシ樹脂としては、o
−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂を用いるが、こ
のo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂以外に用い
ることのできるエポキシ樹脂として、ビフェニル型エポ
キシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリ
フェニルメタン型エポキシ樹脂、ブロム含有エポキシ樹
脂、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂等がある。o−
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂
組成物中のエポキシ樹脂の総量のうち50〜100重量
%を占めるように配合するのが好ましい。
In the present invention, the epoxy resin may be o
-A cresol novolak type epoxy resin is used, and other epoxy resins that can be used other than the o-cresol novolak type epoxy resin include biphenyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, and bromide-containing epoxy resin. Resin, an epoxy resin having a naphthalene ring, and the like. o-
The cresol novolak type epoxy resin is preferably blended so as to account for 50 to 100% by weight of the total amount of the epoxy resin in the epoxy resin composition.

【0013】また本発明において硬化剤としては、フェ
ノールノボラック樹脂を用いるが、フェノールノボラッ
ク樹脂以外にも、1分子中に2個以上のフェノール性水
酸基を有するものであれば硬化剤として配合することが
でき、例えばフェノールザイロック樹脂、ナフトール樹
脂、フェノールアラルキル樹脂等がある。フェノールノ
ボラック樹脂は、硬化剤の総量のうち50〜100重量
%を占めるように配合するのが好ましい。
In the present invention, a phenol novolak resin is used as a curing agent. In addition to the phenol novolak resin, a compound having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule may be blended as a curing agent. For example, there are phenol ziloc resin, naphthol resin, phenol aralkyl resin and the like. The phenol novolak resin is preferably blended so as to account for 50 to 100% by weight of the total amount of the curing agent.

【0014】また、硬化促進剤(硬化助剤)としては、
上記式(1)の骨格を有するものを用いるが、この式
(1)のもの以外に用いることのできる硬化促進剤とし
て、トリフェニルホスフィン、トリメタトリルホスフィ
ン、トリパラトリルホスフィン等の有機リン化合物、
1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7
(DBU)等の3級アミン、2−フェニルイミダゾール
(2PZ)等のイミダゾール類などがある。上記式
(1)の骨格を有する硬化促進剤は、エポキシ樹脂組成
物中の硬化促進剤の総量のうち50〜100重量%を占
めるように配合するのが好ましい。
Further, as a curing accelerator (curing aid),
A compound having a skeleton represented by the above formula (1) is used. As a curing accelerator that can be used in addition to the compound represented by the formula (1), an organic phosphorus compound such as triphenylphosphine, trimetatrilephosphine, triparatolylphosphine, etc.
1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-7
Examples include tertiary amines such as (DBU) and imidazoles such as 2-phenylimidazole (2PZ). The curing accelerator having the skeleton of the above formula (1) is preferably blended so as to account for 50 to 100% by weight of the total amount of the curing accelerator in the epoxy resin composition.

【0015】さらに本発明において無機充填材として
は、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素等を
用いることができるものであり、これらのなかでも溶融
シリカが好ましい。
Further, in the present invention, as the inorganic filler, fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride and the like can be used, and among these, fused silica is preferable.

【0016】そして、上記のエポキシ樹脂、硬化剤、硬
化促進剤、無機充填材を必須成分として配合し、さらに
必要に応じてカップリング剤、難燃剤、顔料、シリコー
ン可撓剤などを配合し、これをミキサー、ブレンダー等
で均一に混合した後、ニーダーやロール等で加熱混練す
ることによって、本発明に係る半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得ることができるものである。このように混
練した後、必要に応じて冷却固化し、粉砕して粉状など
にして使用するようにしてもよい。
The epoxy resin, the curing agent, the curing accelerator, and the inorganic filler are blended as essential components, and further, if necessary, a coupling agent, a flame retardant, a pigment, a silicone flexible agent, and the like are blended. This is uniformly mixed with a mixer, a blender, or the like, and then heated and kneaded with a kneader, a roll, or the like, whereby the epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to the present invention can be obtained. After kneading in this manner, the mixture may be cooled and solidified as required, and may be pulverized and used in the form of powder.

【0017】ここで、エポキシ樹脂に対する硬化剤の配
合量は、エポキシ樹脂のエポキシ基のモル数(X)と硬
化剤のフェノール性水酸基のモル数(Y)の比(X/
Y)が0.7〜1.3になるように設定するのが好まし
く、この範囲を外れると硬化の際の硬化性や硬化物の低
応力性において不利になる場合がある。また硬化促進剤
の配合量は、エポキシ樹脂と硬化剤の合計100重量部
に対して0.3〜30重量部の範囲が好ましいが、上記
式(1)の骨格を有する硬化促進剤はエポキシ樹脂組成
物中の全樹脂量に対して1.0〜20重量%配合するの
が好ましい。この全樹脂量は具体的には、エポキシ樹脂
組成物中のエポキシ樹脂及び硬化剤として配合される樹
脂の合計量である。上記式(1)の骨格を有する硬化促
進剤の配合量が全樹脂量に対して1.0重量%未満であ
ると、硬化促進剤として上記式(1)のものを用いるこ
とによる保存安定性向上の効果が十分に得られなくな
る。また20重量%を超えると、エポキシ樹脂組成物を
成形する際の流動性が悪くなるために好ましくない。
Here, the compounding amount of the curing agent to the epoxy resin is determined by the ratio (X / mol) of the number of moles of epoxy group (X) of the epoxy resin to the number of moles of phenolic hydroxyl group (Y) of the curing agent.
Y) is preferably set to be 0.7 to 1.3, and if it is out of this range, it may be disadvantageous in the curability at the time of curing or the low stress property of the cured product. The compounding amount of the curing accelerator is preferably in the range of 0.3 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of the epoxy resin and the curing agent, but the curing accelerator having the skeleton of the above formula (1) is preferably an epoxy resin. It is preferable to mix 1.0 to 20% by weight with respect to the total amount of the resin in the composition. Specifically, the total amount of the resin is the total amount of the epoxy resin in the epoxy resin composition and the resin blended as the curing agent. When the compounding amount of the curing accelerator having the skeleton of the above formula (1) is less than 1.0% by weight based on the total amount of the resin, the storage stability by using the one of the above formula (1) as the curing accelerator. The effect of improvement cannot be obtained sufficiently. On the other hand, if it exceeds 20% by weight, the fluidity during molding of the epoxy resin composition deteriorates, which is not preferable.

【0018】さらに無機充填材の配合量は、エポキシ樹
脂組成物全量に対して60〜93重量%の範囲が好まし
い。無機充填材の配合量がエポキシ樹脂組成物全量に対
して60重量%未満であると、エポキシ樹脂組成物を用
いた封止成形品の吸湿量が多くなり、耐吸湿性が悪くな
る。また93重量%を超えると、エポキシ樹脂組成物を
成形する際の流動性が悪くなるために好ましくない。
The amount of the inorganic filler is preferably in the range of 60 to 93% by weight based on the total weight of the epoxy resin composition. If the blending amount of the inorganic filler is less than 60% by weight based on the total amount of the epoxy resin composition, the molded article using the epoxy resin composition will have a large amount of moisture absorption, resulting in poor moisture absorption resistance. On the other hand, if the content exceeds 93% by weight, the fluidity during molding of the epoxy resin composition deteriorates, which is not preferable.

【0019】また、上記のようにして得られるエポキシ
樹脂組成物を低圧トランスファー成形してIC等の半導
体を封止することによって、半導体装置を得ることがで
きるものである。
Further, a semiconductor device can be obtained by sealing the semiconductor such as an IC by low pressure transfer molding the epoxy resin composition obtained as described above.

【0020】[0020]

【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0021】表1及び表2の配合物をミキサーで均一に
混合した後、ニーダーで加熱混練することによって、実
施例1〜9及び比較例1〜4の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物を得た。
The compounds shown in Tables 1 and 2 were uniformly mixed by a mixer, and then heated and kneaded with a kneader to obtain epoxy resin compositions for semiconductor encapsulation of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 4. Was.

【0022】ここで表1及び表2において、o−クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂として住友化学社製「E
SCN195XL」(エポキシ当量195)を、ビフェ
ニル型エポキシ樹脂として油化シェル社製「YX400
0H」(エポキシ当量192)を、ブロム化エポキシ樹
脂として住友化学工業社製「ESB400」(エポキシ
当量400)を、フェノールノボラック樹脂として荒川
化学社製「タマノール752」(水酸基当量105)
を、フェノールアラルキ樹脂として住金ケミカル社製
「HE100C」(水酸基当量169)を、式(1)の
骨格を有する硬化促進剤としてサンアプロ社製「350
3N」を用いた。また無機充填材としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランで処理した溶融シリカを
用いた。
Here, in Tables 1 and 2, "E" manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. was used as an o-cresol novolak type epoxy resin.
SCN195XL "(epoxy equivalent 195) as a biphenyl type epoxy resin" YX400 "manufactured by Yuka Shell Co., Ltd.
"OH" (epoxy equivalent 192), "ESB400" (epoxy equivalent 400) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. as a brominated epoxy resin, and "Tamanol 752" (hydroxyl equivalent 105) manufactured by Arakawa Chemical Co. as a phenol novolak resin.
And “HE100C” (hydroxyl equivalent 169) manufactured by Sumikin Chemical Co., Ltd. as a phenol aralkyl resin, and “350” manufactured by San Apro Co. as a curing accelerator having a skeleton of the formula (1).
3N "was used. Fused silica treated with γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used as an inorganic filler.

【0023】上記のようにして得たエポキシ樹脂組成物
についてゲルタイムを、日本合成ゴム社製「キュラスト
メーター」を用い、金型温度170℃の条件で測定し
た。また上記のようにして得たエポキシ樹脂組成物につ
いてスパイラルフローを、EMMIに準拠した金型を用
い、金型温度170℃の条件で測定した。さらに上記の
ようにして得たエポキシ樹脂組成物について、保存性を
測定した。保存性の測定は、25℃、60%RHの環境
下の恒温恒湿機にエポキシ樹脂組成物を96時間放置す
る前に測定した初期のスパイラルフロー値と、放置した
後に測定した試験後のスパイラルフロー値から次式のよ
うにスパイラルフロー劣化率を算出することによってお
こなった。
The gel time of the epoxy resin composition obtained as described above was measured at a mold temperature of 170 ° C. using “Culastometer” manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. The spiral flow of the epoxy resin composition obtained as described above was measured at a mold temperature of 170 ° C. using a mold conforming to EMMI. Further, the storage stability of the epoxy resin composition obtained as described above was measured. The shelf life was measured by measuring the initial spiral flow value measured before the epoxy resin composition was allowed to stand in a thermo-hygrostat at 25 ° C. and 60% RH for 96 hours, and the spiral after the test measured after the epoxy resin composition was allowed to stand. It was performed by calculating the spiral flow deterioration rate from the flow value as in the following equation.

【0024】スパイラルフロー劣化率=(試験後のスパ
イラルフロー値)/(初期のスパイラルフロー値)×1
00 これらの結果を表1及び表2に示す。
Spiral flow deterioration rate = (spiral flow value after test) / (initial spiral flow value) × 1
The results are shown in Tables 1 and 2.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】[0026]

【表2】 [Table 2]

【0027】表1及び表2のスパイラルフロー劣化率の
欄にみられるように、各実施例のものは、25℃、60
%RHの環境下にエポキシ樹脂組成物を96時間放置し
てもスパイラルフローの低下が少なく、常温での保存安
定性が優れると共に可使時間が長いことが確認される。
尚、比較例1,2のものはゲルタイムが長過ぎてスパイ
ラルフローを測定することができなかった。また、各実
施例のものでは保存安定性が優れる一方、ゲルタイムや
スパイラルフローについても良好な性能を有することが
確認される。
As can be seen from the column of spiral flow deterioration rate in Tables 1 and 2, the temperature of each of the Examples was 25 ° C., 60 ° C.
Even when the epoxy resin composition was left in an environment of% RH for 96 hours, the spiral flow was little reduced, and it was confirmed that the storage stability at room temperature was excellent and the pot life was long.
The gel times of Comparative Examples 1 and 2 were too long to measure the spiral flow. Further, it is confirmed that each of the examples has excellent storage stability, but also has good performance in gel time and spiral flow.

【0028】[0028]

【発明の効果】上記のように請求項1の発明は、エポキ
シ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材を必須成分と
して含有する半導体封止用エポキシ樹脂組成物におい
て、エポキシ樹脂としてo−クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂を、硬化剤としてフェノールノボラック樹脂
を、硬化促進剤として上記式(1)の骨格を有する化合
物をそれぞれ配合するようにしたので、エポキシ樹脂と
してo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂を、硬化
剤としてフェノールノボラック樹脂を、硬化促進剤とし
て上記式(1)の骨格を有する化合物を用いることによ
って、硬化促進剤をマイクロカプセル化する必要なく、
常温での保存安定性を高めることができると共に可使時
間を長くすることができるものである。
As described above, the first aspect of the present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components. Since a cresol novolak type epoxy resin, a phenol novolak resin as a curing agent, and a compound having a skeleton of the above formula (1) as a curing accelerator are respectively blended, an o-cresol novolak type epoxy resin is used as an epoxy resin. By using a phenol novolak resin as a curing agent and a compound having a skeleton of the above formula (1) as a curing accelerator, there is no need to microencapsulate the curing accelerator,
The storage stability at room temperature can be improved and the pot life can be extended.

【0029】また請求項2の発明は、上記式(1)の骨
格を有する硬化促進剤を全樹脂量に対して1.0〜20
重量%配合するようにしたので、保存安定性を高く得る
ことができると共に成形するのに必要な反応性を十分に
確保することができるものである。
Further, the invention of claim 2 provides a curing accelerator having a skeleton of the above formula (1) in an amount of from 1.0 to 20% based on the total amount of the resin.
Since the composition is blended by weight, high storage stability can be obtained and the reactivity required for molding can be sufficiently ensured.

【0030】また請求項3の発明は、無機充填材を組成
物全量に対して60〜93重量%配合するようにしたの
で、封止成形品の吸湿量を低減し、耐湿信頼性や耐リフ
ロー性を向上させることができるものである。
According to the third aspect of the present invention, the inorganic filler is blended in an amount of 60 to 93% by weight with respect to the total amount of the composition. It can improve the performance.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 Fターム(参考) 4J002 CC04X CD06W CE00X DE147 DJ007 DJ017 ET016 EU096 EU116 EW016 FD017 FD14X FD156 GQ05 4J036 AA04 AF08 DA01 DA02 DC25 DC40 DC46 DD07 FA01 FA03 FA05 FB08 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA03 EB03 EB04 EB06 EB07 EB08 EB12 EB13 EB19 EC01 EC03 EC14──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 23/29 H01L 23/30 R 23/31 F-term (Reference) 4J002 CC04X CD06W CE00X DE147 DJ007 DJ017 ET016 EU096 EU116 EW016 FD017 FD14X FD156 GQ05 4J036 AA04 AF08 DA01 DA02 DC25 DC40 DC46 DD07 FA01 FA03 FA05 FB08 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA03 EB03 EB04 EB06 EB07 EB08 EB12 EB13 EB19 EC01 EC03 EC14

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無
機充填材を必須成分として含有する半導体封止用エポキ
シ樹脂組成物において、エポキシ樹脂としてo−クレゾ
ールノボラック型エポキシ樹脂を、硬化剤としてフェノ
ールノボラック樹脂を、硬化促進剤として下記式(1)
の骨格を有する化合物をそれぞれ配合して成ることを特
徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 【化1】
1. An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing an epoxy resin, a curing agent, a curing accelerator, and an inorganic filler as essential components, wherein an o-cresol novolac type epoxy resin is used as an epoxy resin, and a phenol is used as a curing agent. Novolak resin is used as a curing accelerator in the following formula (1)
An epoxy resin composition for encapsulating a semiconductor, comprising a compound having a skeleton of the formula: Embedded image
【請求項2】 上記式(1)の骨格を有する硬化促進剤
を全樹脂量に対して1.0〜20重量%配合して成るこ
とを特徴とする請求項1に記載の半導体封止用エポキシ
樹脂組成物。
2. The semiconductor encapsulation according to claim 1, wherein a curing accelerator having a skeleton represented by the formula (1) is compounded in an amount of 1.0 to 20% by weight based on the total amount of the resin. Epoxy resin composition.
【請求項3】 無機充填材を組成物全量に対して60〜
93重量%配合して成ることを特徴とする請求項1又は
2に記載の半導体封止用エポキシ樹脂組成物。
3. An inorganic filler is used in an amount of 60 to 60% based on the total amount of the composition.
The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation according to claim 1, wherein the composition is 93% by weight.
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載のエポ
キシ樹脂組成物で半導体が封止されて成ることを特徴と
する半導体装置。
4. A semiconductor device comprising a semiconductor encapsulated with the epoxy resin composition according to claim 1.
JP11036495A 1999-02-15 1999-02-15 Semiconductor sealing epoxy resin composition and semiconductor device Pending JP2000234048A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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FR2829495A1 (en) * 2001-09-12 2003-03-14 Bosch Gmbh Robert Casting composition comprising an epoxy resin and an initiator, useful for encapsulating electronic and electrical devices, includes a silanized quartz filler
JP2010254819A (en) * 2009-04-24 2010-11-11 Panasonic Electric Works Co Ltd Epoxy resin composition, prepreg, laminate and multilayer board

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