JP2000213999A - Ｘ線応力測定方法 - Google Patents
Ｘ線応力測定方法Info
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- JP2000213999A JP2000213999A JP11015014A JP1501499A JP2000213999A JP 2000213999 A JP2000213999 A JP 2000213999A JP 11015014 A JP11015014 A JP 11015014A JP 1501499 A JP1501499 A JP 1501499A JP 2000213999 A JP2000213999 A JP 2000213999A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線応力測定装置を安価に作成でき、しかも
狭い空間内でＸ線応力測定を行うことを可能とするＸ線
応力測定方法を提供する。 【構成】 特性Ｘ線Ｒを一定の入射角度φで試料１へ入
射し、試料１内に存在する方位の異なった複数の結晶格
子面（１１１），（２００），（２２０），…，（ｈｋ
ｌ）で回折する回折Ｘ線を検出し、検出した各回折Ｘ線
に基づいて各結晶格子面の格子定数（ｄ値）を求め、そ
の格子定数の無ひずみ状態時の格子定数に対する変化率
からひずみ量εを算出し、算出された各ひずみ量εから
個々に応力値σを算出し、算出された各応力値σの平均
値を算出してそれを目標の応力値とする。入射Ｘ線Ｒの
入射角度φを変化させる必要がないので、そのための走
査移動機構が不要となり、装置の構造が簡単になり、さ
らに安価になる。また、細管内部等といった狭い空間内
に設置できる。
狭い空間内でＸ線応力測定を行うことを可能とするＸ線
応力測定方法を提供する。 【構成】 特性Ｘ線Ｒを一定の入射角度φで試料１へ入
射し、試料１内に存在する方位の異なった複数の結晶格
子面（１１１），（２００），（２２０），…，（ｈｋ
ｌ）で回折する回折Ｘ線を検出し、検出した各回折Ｘ線
に基づいて各結晶格子面の格子定数（ｄ値）を求め、そ
の格子定数の無ひずみ状態時の格子定数に対する変化率
からひずみ量εを算出し、算出された各ひずみ量εから
個々に応力値σを算出し、算出された各応力値σの平均
値を算出してそれを目標の応力値とする。入射Ｘ線Ｒの
入射角度φを変化させる必要がないので、そのための走
査移動機構が不要となり、装置の構造が簡単になり、さ
らに安価になる。また、細管内部等といった狭い空間内
に設置できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線を用いて試料
の内部応力を測定するＸ線応力測定方法に関する。
の内部応力を測定するＸ線応力測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】測定対象である試料に１つの波長の特性
Ｘ線を照射し、その試料で回折した回折Ｘ線を検出し、
その検出した回折Ｘ線に基づいて試料の内部応力を非破
壊で測定するようにしたＸ線応力測定方法は広く知られ
ている。このようなＸ線応力測定方法として、ｓｉｎ2
ψ−２θ法と呼ばれる方法がある。以下、このｓｉｎ2
ψ−２θ法について簡単に説明する。
Ｘ線を照射し、その試料で回折した回折Ｘ線を検出し、
その検出した回折Ｘ線に基づいて試料の内部応力を非破
壊で測定するようにしたＸ線応力測定方法は広く知られ
ている。このようなＸ線応力測定方法として、ｓｉｎ2
ψ−２θ法と呼ばれる方法がある。以下、このｓｉｎ2
ψ−２θ法について簡単に説明する。
【０００３】図３の（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）におい
て、試料１に対する試料面法線をＮで示し、内部の結晶
格子面に対する格子面法線をＮ’で示す。試料面法線Ｎ
と格子面法線Ｎ’との成す角度ψ（一般にψ角と呼ばれ
ている）を（ａ）→（ｂ）→（ｃ）で示すように変化さ
せ、その各々のψ角においてＸ線Ｒ１を入射させ、そし
て結晶格子面で回折する回折Ｘ線Ｒ２をＸ線カウンタ
（図示せず）によって検出し、各回折Ｘ線の回折角度２
θを求める。
て、試料１に対する試料面法線をＮで示し、内部の結晶
格子面に対する格子面法線をＮ’で示す。試料面法線Ｎ
と格子面法線Ｎ’との成す角度ψ（一般にψ角と呼ばれ
ている）を（ａ）→（ｂ）→（ｃ）で示すように変化さ
せ、その各々のψ角においてＸ線Ｒ１を入射させ、そし
て結晶格子面で回折する回折Ｘ線Ｒ２をＸ線カウンタ
（図示せず）によって検出し、各回折Ｘ線の回折角度２
θを求める。
【０００４】測定において用いたψをｓｉｎ2ψに換算
し、そのｓｉｎ2ψ値と、各ψに対応して測定された２
θ値とをグラフ上にプロットすると、図４に示すような
直線状のｓｉｎ2ψ−２θ線が得られる。このｓｉｎ2ψ
−２θ線に関して最小二乗法を用いて勾配を求め、求め
られた勾配に定数Ｋを乗ずることにより目的とする応力
値が求められる。定数Ｋは、試料の材質及び測定に供さ
れるＸ線の波長によって決まる定数である。
し、そのｓｉｎ2ψ値と、各ψに対応して測定された２
θ値とをグラフ上にプロットすると、図４に示すような
直線状のｓｉｎ2ψ−２θ線が得られる。このｓｉｎ2ψ
−２θ線に関して最小二乗法を用いて勾配を求め、求め
られた勾配に定数Ｋを乗ずることにより目的とする応力
値が求められる。定数Ｋは、試料の材質及び測定に供さ
れるＸ線の波長によって決まる定数である。
【０００５】図４において、直線（Ａ）は圧縮応力が作
用している状態を示しており、ｄ１＞ｄ２＞ｄ３＞ｄ４
である。但し、ｄ１〜ｄ４は結晶格子定数を示してい
る。直線（Ｂ）は応力ゼロの状態を示しており、ｄ１＝
ｄ２＝ｄ３＝ｄ４である。さらに、直線（Ｃ）は引張り
応力が作用している状態を示しており、ｄ１＜ｄ２＜ｄ
３＜ｄ４である。
用している状態を示しており、ｄ１＞ｄ２＞ｄ３＞ｄ４
である。但し、ｄ１〜ｄ４は結晶格子定数を示してい
る。直線（Ｂ）は応力ゼロの状態を示しており、ｄ１＝
ｄ２＝ｄ３＝ｄ４である。さらに、直線（Ｃ）は引張り
応力が作用している状態を示しており、ｄ１＜ｄ２＜ｄ
３＜ｄ４である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のｓｉｎ2ψ−２
θ法によれば、試料の内部応力を非破壊で精度良く求め
ることができるという特長がある。しかしながら、ψ角
を変化させなければならないので、Ｘ線を放射するＸ線
源を試料を中心として回動させるための回転駆動機構が
必要不可欠となり、よって装置全体が高価になり、さら
にその回転駆動機構を設置及び走査移動するための広い
空間が必要となる。広い空間が必要になるということ
は、測定対象としての試料のまわりに空間的な余裕がな
い場合、例えば細管の内壁面を測定対象とする場合は実
質的に測定ができないということである。
θ法によれば、試料の内部応力を非破壊で精度良く求め
ることができるという特長がある。しかしながら、ψ角
を変化させなければならないので、Ｘ線を放射するＸ線
源を試料を中心として回動させるための回転駆動機構が
必要不可欠となり、よって装置全体が高価になり、さら
にその回転駆動機構を設置及び走査移動するための広い
空間が必要となる。広い空間が必要になるということ
は、測定対象としての試料のまわりに空間的な余裕がな
い場合、例えば細管の内壁面を測定対象とする場合は実
質的に測定ができないということである。
【０００７】本発明は、上記問題点を解消するために成
されたものであって、Ｘ線応力測定装置を安価に作製で
き、しかも狭い空間内でＸ線応力測定を行うことを可能
とするＸ線応力測定方法を提供することを目的とする。
されたものであって、Ｘ線応力測定装置を安価に作製で
き、しかも狭い空間内でＸ線応力測定を行うことを可能
とするＸ線応力測定方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線応力測定方法は、１つ又は複数の
波長を有するＸ線を一定の入射角度で試料へ入射し、試
料内に存在する方位の異なった複数の結晶格子面で回折
する回折Ｘ線を検出し、検出した各回折Ｘ線に基づいて
各結晶格子面の格子定数（ｄ値）の変化を求め、その格
子定数の変化からひずみ量を算出し、算出された各ひず
み量から個々に応力値を算出し、算出された各応力値の
平均値を算出してそれを目標の応力値とすることを特徴
とする。
め、本発明に係るＸ線応力測定方法は、１つ又は複数の
波長を有するＸ線を一定の入射角度で試料へ入射し、試
料内に存在する方位の異なった複数の結晶格子面で回折
する回折Ｘ線を検出し、検出した各回折Ｘ線に基づいて
各結晶格子面の格子定数（ｄ値）の変化を求め、その格
子定数の変化からひずみ量を算出し、算出された各ひず
み量から個々に応力値を算出し、算出された各応力値の
平均値を算出してそれを目標の応力値とすることを特徴
とする。
【０００９】各結晶格子面で回折する回折Ｘ線を異なる
回折角度ごとに検出する方法としては、例えば、ゼロ次
元Ｘ線カウンタを試料のまわりに走査移動させる方法
や、１次元Ｘ線カウンタを試料に対向して固定配置して
回折Ｘ線を回折角度ごとに検出する方法等を採用でき
る。ゼロ次元Ｘ線カウンタというのは、比例計数管（Ｐ
Ｃ：Proportional Counter）や、シンチレーション計数
管（ＳＣ：ScintillationCounter）等のカウンタのよう
に、ある１点においてＸ線を検出するＸ線カウンタであ
る。１次元Ｘ線カウンタというのは、テープ状のＸ線フ
ィルムや、ＰＳＰＣ（位置感応型Ｘ線カウンタ：Positi
on Sensitive Proportional Counter）や、ＣＣＤ（Cha
rge Coupled Device）カウンタ等といった各種Ｘ線カウ
ンタのように、直線に沿ったある長さの範囲内のＸ線を
微小な単位領域ごとに個別に検出するＸ線カウンタであ
る。
回折角度ごとに検出する方法としては、例えば、ゼロ次
元Ｘ線カウンタを試料のまわりに走査移動させる方法
や、１次元Ｘ線カウンタを試料に対向して固定配置して
回折Ｘ線を回折角度ごとに検出する方法等を採用でき
る。ゼロ次元Ｘ線カウンタというのは、比例計数管（Ｐ
Ｃ：Proportional Counter）や、シンチレーション計数
管（ＳＣ：ScintillationCounter）等のカウンタのよう
に、ある１点においてＸ線を検出するＸ線カウンタであ
る。１次元Ｘ線カウンタというのは、テープ状のＸ線フ
ィルムや、ＰＳＰＣ（位置感応型Ｘ線カウンタ：Positi
on Sensitive Proportional Counter）や、ＣＣＤ（Cha
rge Coupled Device）カウンタ等といった各種Ｘ線カウ
ンタのように、直線に沿ったある長さの範囲内のＸ線を
微小な単位領域ごとに個別に検出するＸ線カウンタであ
る。
【００１０】本発明のＸ線応力測定方法においては、試
料に一本のＸ線を入射させたときに方位の異なる複数の
結晶格子面で回折する複数の回折Ｘ線を個別に検出し、
それらの回折Ｘ線に基づいて応力を求める。試料への入
射Ｘ線を試料に対して回動させる必要がないので、Ｘ線
応力測定装置を簡単且つ安価に作製でき、その装置を狭
い空間内に設置できる。
料に一本のＸ線を入射させたときに方位の異なる複数の
結晶格子面で回折する複数の回折Ｘ線を個別に検出し、
それらの回折Ｘ線に基づいて応力を求める。試料への入
射Ｘ線を試料に対して回動させる必要がないので、Ｘ線
応力測定装置を簡単且つ安価に作製でき、その装置を狭
い空間内に設置できる。
【００１１】仮に、１つの波長だけでは同一結晶面に関
して試料平面に対する方位差の異なった結晶粒から回折
線が得られない場合は、複数の波長を同時に入射させ
て、格子面間隔の分布を求める。
して試料平面に対する方位差の異なった結晶粒から回折
線が得られない場合は、複数の波長を同時に入射させ
て、格子面間隔の分布を求める。
【００１２】また、Ｘ線カウンタとして１次元Ｘ線カウ
ンタを用いた場合には、Ｘ線カウンタを走査移動させる
必要もなくなるので、より一層狭い空間内にある試料に
対して応力測定を行うことができる。
ンタを用いた場合には、Ｘ線カウンタを走査移動させる
必要もなくなるので、より一層狭い空間内にある試料に
対して応力測定を行うことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るＸ線応力測定
方法の一実施形態を模式的に示している。同図におい
て、試料１が内部応力を測定すべき測定対象であり、例
えば、γ−層の炭素鋼が考えられる。また、平面（ＰＯ
Ｑ）が試料面であり、そしてＮ0 が試料面法線である。
Ｘ線を放射するＸ線焦点Ｆは試料１に対して位置固定状
態で配置されている。そのＸ線焦点Ｆから放射されたＸ
線ビームＲは、発散制限スリット２によって発散を制限
された状態で一定の入射角φで試料１に入射する。
方法の一実施形態を模式的に示している。同図におい
て、試料１が内部応力を測定すべき測定対象であり、例
えば、γ−層の炭素鋼が考えられる。また、平面（ＰＯ
Ｑ）が試料面であり、そしてＮ0 が試料面法線である。
Ｘ線を放射するＸ線焦点Ｆは試料１に対して位置固定状
態で配置されている。そのＸ線焦点Ｆから放射されたＸ
線ビームＲは、発散制限スリット２によって発散を制限
された状態で一定の入射角φで試料１に入射する。
【００１４】なお、Ｘ線焦点Ｆは、特性Ｘ線を発生させ
るためのターゲットと呼ばれる純金属、例えばＣｕ，Ｃ
ｒ，Ｆｅ，Ｃｏ等が用いられており、それぞれの波長を
有する特性Ｘ線が放射される。また、仮にこのターゲッ
トの材質が純金属の複数の混合であれば、その混合に応
じた複数の波長を有する特性Ｘ線が放射される。
るためのターゲットと呼ばれる純金属、例えばＣｕ，Ｃ
ｒ，Ｆｅ，Ｃｏ等が用いられており、それぞれの波長を
有する特性Ｘ線が放射される。また、仮にこのターゲッ
トの材質が純金属の複数の混合であれば、その混合に応
じた複数の波長を有する特性Ｘ線が放射される。
【００１５】今、試料１の内部に存在する３個の結晶格
子面、すなわち（１１１）面、（２００）面、（２２
０）面を考え、そして、それぞれの結晶格子面法線をＮ
1 ，Ｎ 2 ，Ｎ3 で示す。試料１にＸ線、特に特定波長の
特性Ｘ線Ｒを照射し、ゼロ次元Ｘ線カウンタ、例えばＰ
Ｃ（比例計数管）３を矢印Ａ方向へＸ線照射点Ｏを中心
として往復回転走査移動させて各結晶格子面の格子定数
の変化を求める。ブラッグの回折条件式によれば、 λ＝２ｄｓｉｎθ 但し、λ：Ｘ線波長 ｄ：結晶の格子定数 θ：ブラッグ角（回折角２θの半分） であるから、θを測定することにより格子定数ｄが求め
られる。
子面、すなわち（１１１）面、（２００）面、（２２
０）面を考え、そして、それぞれの結晶格子面法線をＮ
1 ，Ｎ 2 ，Ｎ3 で示す。試料１にＸ線、特に特定波長の
特性Ｘ線Ｒを照射し、ゼロ次元Ｘ線カウンタ、例えばＰ
Ｃ（比例計数管）３を矢印Ａ方向へＸ線照射点Ｏを中心
として往復回転走査移動させて各結晶格子面の格子定数
の変化を求める。ブラッグの回折条件式によれば、 λ＝２ｄｓｉｎθ 但し、λ：Ｘ線波長 ｄ：結晶の格子定数 θ：ブラッグ角（回折角２θの半分） であるから、θを測定することにより格子定数ｄが求め
られる。
【００１６】上記の各結晶格子面の無歪状態での格子定
数（ｄ値）は既知であり、これをそれぞれｄ0（１１
１），ｄ0（２００），ｄ0（２２０）とし、観測された
格子定数をｄ（１１１），ｄ（２００），ｄ（２２０）
とし、そして各ひずみ量をε（１１１），ε（２０
０），ε（２２０）とすれば、 ε（１１１）＝ ｛ｄ（１１１）−ｄ0（１１１）｝の絶対値／ｄ0（１１１）の絶対値 （１） ε（２００）＝ ｛ｄ（２００）−ｄ0（２００）｝の絶対値／ｄ0（２００）の絶対値 （２） ε（２２０）＝ ｛ｄ（２２０）−ｄ0（２２０）｝の絶対値／ｄ0（２２０）の絶対値 （３） が得られる。
数（ｄ値）は既知であり、これをそれぞれｄ0（１１
１），ｄ0（２００），ｄ0（２２０）とし、観測された
格子定数をｄ（１１１），ｄ（２００），ｄ（２２０）
とし、そして各ひずみ量をε（１１１），ε（２０
０），ε（２２０）とすれば、 ε（１１１）＝ ｛ｄ（１１１）−ｄ0（１１１）｝の絶対値／ｄ0（１１１）の絶対値 （１） ε（２００）＝ ｛ｄ（２００）−ｄ0（２００）｝の絶対値／ｄ0（２００）の絶対値 （２） ε（２２０）＝ ｛ｄ（２２０）−ｄ0（２２０）｝の絶対値／ｄ0（２２０）の絶対値 （３） が得られる。
【００１７】ここで、入射Ｘ線ビームＲと各回折線との
成す角度をそれぞれ２η（１１１），２η（２００），
２η（２２０）とすると、上式（１）〜（３）で表され
る各ひずみ量の試料面（ＰＯＱ）と平行な方向の成分
は、それぞれ ε’（１１１）＝ε（１１１）×ＣＯＳ（η（１１１）＋φ） （１）’ ε’（２００）＝ε（２００）×ＣＯＳ（η（２００）＋φ） （２）’ ε’（２２０）＝ε（２２０）×ＣＯＳ（η（２２０）＋φ） （３）’ となる。
成す角度をそれぞれ２η（１１１），２η（２００），
２η（２２０）とすると、上式（１）〜（３）で表され
る各ひずみ量の試料面（ＰＯＱ）と平行な方向の成分
は、それぞれ ε’（１１１）＝ε（１１１）×ＣＯＳ（η（１１１）＋φ） （１）’ ε’（２００）＝ε（２００）×ＣＯＳ（η（２００）＋φ） （２）’ ε’（２２０）＝ε（２２０）×ＣＯＳ（η（２２０）＋φ） （３）’ となる。
【００１８】従って、各回折面のヤング率をＥ（１１
１），Ｅ（２００），Ｅ（２２０）として定数を用いれ
ば、試料面（ＰＯＱ）方向の応力は、それぞれ σ（１１１）＝ Ｅ（１１１）×ε（１１１）×ＣＯＳ（η（１１１）＋φ） （４） σ（２００）＝ Ｅ（２００）×ε（２００）×ＣＯＳ（η（２００）＋φ） （５） σ（２２０）＝ Ｅ（２２０）×ε（２２０）×ＣＯＳ（η（２２０）＋φ） （６） となる。
１），Ｅ（２００），Ｅ（２２０）として定数を用いれ
ば、試料面（ＰＯＱ）方向の応力は、それぞれ σ（１１１）＝ Ｅ（１１１）×ε（１１１）×ＣＯＳ（η（１１１）＋φ） （４） σ（２００）＝ Ｅ（２００）×ε（２００）×ＣＯＳ（η（２００）＋φ） （５） σ（２２０）＝ Ｅ（２２０）×ε（２２０）×ＣＯＳ（η（２２０）＋φ） （６） となる。
【００１９】炭素鋼等といった多結晶体は、一般に、異
方性すなわち結晶粒が特定方向に揃う性質を有している
ので、各方向の機械的強度にばらつきが考えられる。よ
って、上記の（４）〜（６）式を単純平均して次の平均
応力σZ σZ ＝｛σ（１１１）＋σ（２００）＋σ（２２０）｝／３ （７） を算出すれば、このσZ が求める応力ということにな
る。容易に理解できるように、回折Ｘ線を採取すべき結
晶格子面の数を多く設定する程、精度が向上する。
方性すなわち結晶粒が特定方向に揃う性質を有している
ので、各方向の機械的強度にばらつきが考えられる。よ
って、上記の（４）〜（６）式を単純平均して次の平均
応力σZ σZ ＝｛σ（１１１）＋σ（２００）＋σ（２２０）｝／３ （７） を算出すれば、このσZ が求める応力ということにな
る。容易に理解できるように、回折Ｘ線を採取すべき結
晶格子面の数を多く設定する程、精度が向上する。
【００２０】図２は本発明に係るＸ線応力測定方法の他
の実施形態を示している。この実施形態は、円筒状で径
の細い管４の内壁面の内部応力を測定する場合の実施形
態である。この測定例では、細管４の外部に設置したＸ
線焦点ＦからＸ線Ｒを細管内壁面の測定位置Ｏへ照射
し、さらにそのＸ線照射位置Ｏに対向する細管内に１次
元Ｘ線カウンタとしてのＣＣＤカウンタ５を配置する。
の実施形態を示している。この実施形態は、円筒状で径
の細い管４の内壁面の内部応力を測定する場合の実施形
態である。この測定例では、細管４の外部に設置したＸ
線焦点ＦからＸ線Ｒを細管内壁面の測定位置Ｏへ照射
し、さらにそのＸ線照射位置Ｏに対向する細管内に１次
元Ｘ線カウンタとしてのＣＣＤカウンタ５を配置する。
【００２１】ＣＣＤ検出器は電荷結合素子とも呼ばれ
る、それ自体周知の電子機器であり、例えばシリコン基
板上に酸化膜絶縁層を介して電極アレイを直線状に並べ
ることによって形成される。この電極アレイがＸ線取込
み口に相当する。電極アレイを構成する個々の電極に対
応する位置にＸ線が当たると当該電極の下に電荷が蓄積
され、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えるこ
とによって、蓄積された電荷を転送してゆくものであ
る。
る、それ自体周知の電子機器であり、例えばシリコン基
板上に酸化膜絶縁層を介して電極アレイを直線状に並べ
ることによって形成される。この電極アレイがＸ線取込
み口に相当する。電極アレイを構成する個々の電極に対
応する位置にＸ線が当たると当該電極の下に電荷が蓄積
され、さらに電極と基板との間に電圧を次々に与えるこ
とによって、蓄積された電荷を転送してゆくものであ
る。
【００２２】ＣＣＤカウンタ５の電極アレイは細管４の
軸方向に延びるように配置されており、細管内面のＸ線
照射位置Ｏで回折した複数、図では３本の回折Ｘ線Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ３の回折角度がＣＣＤカウンタ５によって
同時に検出される。この後に目標の応力を求めるために
行われる演算は、図１に関連して説明した手順と同じ手
順とすることができる。この測定例によれば、ＣＣＤカ
ウンタ５が固定配置され、それを走査移動させる必要が
ないので、細管４の内壁面等といったきわめて狭い空間
内にある対象物を測定対象とすることができる。
軸方向に延びるように配置されており、細管内面のＸ線
照射位置Ｏで回折した複数、図では３本の回折Ｘ線Ｒ
１，Ｒ２，Ｒ３の回折角度がＣＣＤカウンタ５によって
同時に検出される。この後に目標の応力を求めるために
行われる演算は、図１に関連して説明した手順と同じ手
順とすることができる。この測定例によれば、ＣＣＤカ
ウンタ５が固定配置され、それを走査移動させる必要が
ないので、細管４の内壁面等といったきわめて狭い空間
内にある対象物を測定対象とすることができる。
【００２３】以上、好ましい実施形態をあげて本発明を
説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されるこ
となく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改
変できる。
説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されるこ
となく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改
変できる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によれば、試料に対するＸ線の入
射角度を変化させる必要がないので、Ｘ線源を走査移動
させるための駆動系を設ける必要もなく、よって測定装
置が簡単且つ安価になり、しかも狭い空間内にある試料
を測定対象とすることができる。
射角度を変化させる必要がないので、Ｘ線源を走査移動
させるための駆動系を設ける必要もなく、よって測定装
置が簡単且つ安価になり、しかも狭い空間内にある試料
を測定対象とすることができる。
【図１】本発明に係るＸ線応力測定方法の一実施形態を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図２】本発明に係るＸ線応力測定方法の他の一実施形
態を示す模式図である。
態を示す模式図である。
【図３】従来のＸ線応力測定方法であるｓｉｎ2ψ−２
θ法による測定例を模式的に示す図である。
θ法による測定例を模式的に示す図である。
【図４】上記ｓｉｎ2ψ−２θ法を用いた場合の測定結
果の一例を示すグラフである。
果の一例を示すグラフである。
１ 試料 ２ 発散制限スリット ３ Ｘ線カウンタ ４ 細管（試料） ５ ＣＣＤカウンタ
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線を一定の入射角度で試料へ入射し、
試料内に存在する方位の異なった複数の結晶格子面で回
折する回折Ｘ線を検出し、検出した各回折Ｘ線に基づい
て各結晶格子面の格子定数の変化を求め、その格子定数
の変化からひずみ量を算出し、算出された各ひずみ量か
ら個々に応力値を算出し、算出された各応力値の平均値
を算出してそれを目標の応力値とすることを特徴とする
Ｘ線応力測定方法。 - 【請求項２】 請求項１において、試料へ入射されるＸ
線は複数の波長を有することを特徴とするＸ線応力測定
方法。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、ゼロ次
元Ｘ線カウンタを試料のまわりに走査移動させることに
より、各結晶格子面で回折する回折Ｘ線を異なる回折角
度ごとに検出することを特徴とするＸ線応力測定方法。 - 【請求項４】 請求項１又は請求項２において、１次元
Ｘ線カウンタを試料に対向して固定配置し、その１次元
Ｘ線カウンタによって各結晶格子面で回折する回折Ｘ線
を異なる回折角度ごとに検出することを特徴とするＸ線
応力測定方法。 - 【請求項５】 請求項４において、１次元Ｘ線カウンタ
はテープ状のＸ線フィルム、ＰＳＰＣ又はＣＣＤカウン
タであることを特徴とするＸ線応力測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11015014A JP2000213999A (ja) | 1999-01-22 | 1999-01-22 | Ｘ線応力測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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-
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