JP2000208386A - 露光装置および露光装置の照度均一性調整方法 - Google Patents
露光装置および露光装置の照度均一性調整方法Info
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- JP2000208386A JP2000208386A JP11003038A JP303899A JP2000208386A JP 2000208386 A JP2000208386 A JP 2000208386A JP 11003038 A JP11003038 A JP 11003038A JP 303899 A JP303899 A JP 303899A JP 2000208386 A JP2000208386 A JP 2000208386A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】照度均一性を定量的に調整でき、照度均一性を
安定化しかつ向上できる露光装置および露光装置の照度
均一性調整方法を提供する。 【解決手段】複数の領域に分割された所定の露光面の露
光領域の各分割領域における照度を検出する照度検出器
１２と、露光用光源１の照明光学系５に対する位置を変
更する位置調整部２と、露光用光源１の複数位置におけ
る露光領域の各分割領域の照度データに基づいて、露光
領域内の照度均一性を最小化する露光用光源の位置を算
出する光源位置決定手段としての照度均一性解析装置２
１とを有する。
安定化しかつ向上できる露光装置および露光装置の照度
均一性調整方法を提供する。 【解決手段】複数の領域に分割された所定の露光面の露
光領域の各分割領域における照度を検出する照度検出器
１２と、露光用光源１の照明光学系５に対する位置を変
更する位置調整部２と、露光用光源１の複数位置におけ
る露光領域の各分割領域の照度データに基づいて、露光
領域内の照度均一性を最小化する露光用光源の位置を算
出する光源位置決定手段としての照度均一性解析装置２
１とを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置および露
光装置の照度均一性調整方法に関する。
光装置の照度均一性調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩ(Large Scale Integration Circu
it) の集積度が進むとともに、そのデザインルールは小
さくなり、半導体ウエハ上に形成されたフォトレジスト
にパターンニングを行う工程でのパターン線幅の均一性
の向上が一層要求されている。従来において、パターン
線幅の均一性を向上させるための手段として、露光装置
の露光量を制御していた。図５は、縮小投影露光装置の
概略構成の一例を示す図である。図５において、超高圧
水銀ランプ１０１から放射された光は、照明光学系１０
２の有するフライアイレンズ１０３を通過した後、レチ
クル１０５、投影光学系１０６を通って縮小され、ステ
ージ１０７上に保持されたウェハＷ１０８に露光され
る。露光量を制御するために、照明光学系１０２にはシ
ャッタ１０４が設けられており、ウェハステージ１０７
上に取り付けられた図示しない積算露光計で投影光学系
１０６からの光の光強度を計測し、光エネルギが一定に
保持されるように、シャッター１０４の開閉を制御して
いる。このような構成とすることにより、ウェハＷへの
露光量が一定に制御され、パターン線幅の均一性を向上
することができる。
it) の集積度が進むとともに、そのデザインルールは小
さくなり、半導体ウエハ上に形成されたフォトレジスト
にパターンニングを行う工程でのパターン線幅の均一性
の向上が一層要求されている。従来において、パターン
線幅の均一性を向上させるための手段として、露光装置
の露光量を制御していた。図５は、縮小投影露光装置の
概略構成の一例を示す図である。図５において、超高圧
水銀ランプ１０１から放射された光は、照明光学系１０
２の有するフライアイレンズ１０３を通過した後、レチ
クル１０５、投影光学系１０６を通って縮小され、ステ
ージ１０７上に保持されたウェハＷ１０８に露光され
る。露光量を制御するために、照明光学系１０２にはシ
ャッタ１０４が設けられており、ウェハステージ１０７
上に取り付けられた図示しない積算露光計で投影光学系
１０６からの光の光強度を計測し、光エネルギが一定に
保持されるように、シャッター１０４の開閉を制御して
いる。このような構成とすることにより、ウェハＷへの
露光量が一定に制御され、パターン線幅の均一性を向上
することができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、さらに
高いパターン線幅の均一性が要求される場合には、シャ
ッターの開閉制御によって光エネルギを一定制御したの
では、パターン線幅の変動（ばらつき）の抑制が十分で
はなかった。すなわち、パターニングを行う際のレジス
トに与える光エネルギの一定制御を、積算露光計によっ
て検出された光強度のみに基づいて行ったのでは、パタ
ーン線幅のばらつきを十分に抑制することができない。
高いパターン線幅の均一性が要求される場合には、シャ
ッターの開閉制御によって光エネルギを一定制御したの
では、パターン線幅の変動（ばらつき）の抑制が十分で
はなかった。すなわち、パターニングを行う際のレジス
トに与える光エネルギの一定制御を、積算露光計によっ
て検出された光強度のみに基づいて行ったのでは、パタ
ーン線幅のばらつきを十分に抑制することができない。
【０００４】一方、パターン線幅のばらつきを発生させ
る要因の一つとして、縮小露光投影装置の露光領域内の
照度均一性が知られている。照度均一性は、種々の要因
によって左右されるが、上記した縮小露光投影装置の超
高圧水銀ランプ１０１と照明光学系１０２との位置によ
って照度均一性が影響を受ける。このため、従来におい
ては、超高圧水銀ランプ１０１の位置調整部の調節つま
みを操作して超高圧水銀ランプ１０１の位置調整を調整
し、ステージ１０７上に設けた照度検出器で露光領域の
照度均一性を測定し、照度均一性が規格値を満たす超高
圧水銀ランプ１０１の位置を捜し出していた。しかし、
この方法では、調整した超高圧水銀ランプ１０１での露
光領域の照度均一性が最適かどうかはわからず、また、
調整が定量的でなく時間も要するという不利益があっ
た。
る要因の一つとして、縮小露光投影装置の露光領域内の
照度均一性が知られている。照度均一性は、種々の要因
によって左右されるが、上記した縮小露光投影装置の超
高圧水銀ランプ１０１と照明光学系１０２との位置によ
って照度均一性が影響を受ける。このため、従来におい
ては、超高圧水銀ランプ１０１の位置調整部の調節つま
みを操作して超高圧水銀ランプ１０１の位置調整を調整
し、ステージ１０７上に設けた照度検出器で露光領域の
照度均一性を測定し、照度均一性が規格値を満たす超高
圧水銀ランプ１０１の位置を捜し出していた。しかし、
この方法では、調整した超高圧水銀ランプ１０１での露
光領域の照度均一性が最適かどうかはわからず、また、
調整が定量的でなく時間も要するという不利益があっ
た。
【０００５】本発明は、上述した問題に鑑みてなされた
ものであって、照度均一性を定量的に調整でき、照度均
一性を安定化しかつ向上できる露光装置および露光装置
の照度均一性調整方法を提供することを目的とする。
ものであって、照度均一性を定量的に調整でき、照度均
一性を安定化しかつ向上できる露光装置および露光装置
の照度均一性調整方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の露光装置の照度
均一性調整方法は、露光用光源と、前記露光用光源から
の光をレチクルパターンに与えるための照明光学系と、
前記照明光学系からの光をレチクルパターンを通じて所
定の露光面に投影露光する投影光学系とを有する露光装
置の照度均一性調整方法であって、前記露光用光源の前
記照明光学系に対する位置と前記所定の露光面の露光領
域内での照度均一性との相関関係を求め、前記相関関係
に基づいて照度均一性を最小化する前記露光用光源の前
記照明光学系に対する最適位置を算出し、前記最適位置
に前記露光用光源を移動調整する。
均一性調整方法は、露光用光源と、前記露光用光源から
の光をレチクルパターンに与えるための照明光学系と、
前記照明光学系からの光をレチクルパターンを通じて所
定の露光面に投影露光する投影光学系とを有する露光装
置の照度均一性調整方法であって、前記露光用光源の前
記照明光学系に対する位置と前記所定の露光面の露光領
域内での照度均一性との相関関係を求め、前記相関関係
に基づいて照度均一性を最小化する前記露光用光源の前
記照明光学系に対する最適位置を算出し、前記最適位置
に前記露光用光源を移動調整する。
【０００７】前記最適位置の基準位置からの移動すべき
移動量を算出し、当該移動量に基づいて前記露光用光源
を移動調整する。
移動量を算出し、当該移動量に基づいて前記露光用光源
を移動調整する。
【０００８】前記露光用光源は当該露光用光源の前記照
明光学系に対する位置を調整する調整つまみを有してお
り、前記最適位置の基準位置からの移動すべき移動量を
前記調整つまみの調整量に換算し、当該調整量に基づい
て前記調整つまみを操作する。
明光学系に対する位置を調整する調整つまみを有してお
り、前記最適位置の基準位置からの移動すべき移動量を
前記調整つまみの調整量に換算し、当該調整量に基づい
て前記調整つまみを操作する。
【０００９】前記所定の露光面の露光領域を複数の領域
に分割し、前記露光用光源の位置を種々変更して前記各
分割領域の照度値を測定し、前記露光用光源の位置と前
記各分割領域の照度とに基づいて前記相関関係を求め
る。
に分割し、前記露光用光源の位置を種々変更して前記各
分割領域の照度値を測定し、前記露光用光源の位置と前
記各分割領域の照度とに基づいて前記相関関係を求め
る。
【００１０】本発明の露光装置は、露光用光源と、前記
露光用光源からの光をレチクルパターンに与えるための
照明光学系と、前記照明光学系からの光をレチクルパタ
ーンを通じて所定の露光面に投影露光する投影光学系と
を有する露光装置であって、複数の領域に分割された前
記所定の露光面の露光領域の各分割領域における照度を
検出する照度検出手段と、前記露光用光源の前記照明光
学系に対する位置を変更する位置調整手段と、前記露光
用光源の複数位置における前記各分割領域の照度データ
に基づいて、前記露光領域内の照度均一性を最小化する
前記露光用光源の位置を算出する光源位置決定手段とを
有する。
露光用光源からの光をレチクルパターンに与えるための
照明光学系と、前記照明光学系からの光をレチクルパタ
ーンを通じて所定の露光面に投影露光する投影光学系と
を有する露光装置であって、複数の領域に分割された前
記所定の露光面の露光領域の各分割領域における照度を
検出する照度検出手段と、前記露光用光源の前記照明光
学系に対する位置を変更する位置調整手段と、前記露光
用光源の複数位置における前記各分割領域の照度データ
に基づいて、前記露光領域内の照度均一性を最小化する
前記露光用光源の位置を算出する光源位置決定手段とを
有する。
【００１１】前記光源位置決定手段は、前記露光用光源
の基準位置から前記照度均一性を最小化する前記露光用
光源の位置への移動すべき移動量を算出し、当該移動量
を前記位置調整手段の調整量に換算して出力する。
の基準位置から前記照度均一性を最小化する前記露光用
光源の位置への移動すべき移動量を算出し、当該移動量
を前記位置調整手段の調整量に換算して出力する。
【００１２】本発明では、露光用光源の照明光学系に対
する位置を、露光用光源の複数位置における露光領域の
各分割領域の照度データから露光用光源の照明光学系に
対する位置と露光領域内での照度均一性との相関関係を
求め、この相関関係に基づいて照度均一性を最小化する
露光用光源の照明光学系に対する最適位置を算出する。
したがって、照度均一性の調整が定量化され、かつ、常
に最適化される。
する位置を、露光用光源の複数位置における露光領域の
各分割領域の照度データから露光用光源の照明光学系に
対する位置と露光領域内での照度均一性との相関関係を
求め、この相関関係に基づいて照度均一性を最小化する
露光用光源の照明光学系に対する最適位置を算出する。
したがって、照度均一性の調整が定量化され、かつ、常
に最適化される。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形
態に係る露光装置の概略構成図である。図１において、
露光装置は、露光用光源１と、位置調整部２と、位置検
出器３と、照明光学系５と、レチクル９と、投影光学系
１０と、ステージ１２と、照度検出器１２と、照度均一
性解析装置２１とを有している。
て図面を参照して説明する。図１は、本発明の一実施形
態に係る露光装置の概略構成図である。図１において、
露光装置は、露光用光源１と、位置調整部２と、位置検
出器３と、照明光学系５と、レチクル９と、投影光学系
１０と、ステージ１２と、照度検出器１２と、照度均一
性解析装置２１とを有している。
【００１４】露光用光源１は、露光用の光を放射する光
源であり、たとえば、超高圧水銀ランプを用いることが
できる。
源であり、たとえば、超高圧水銀ランプを用いることが
できる。
【００１５】位置調整部２は、露光用光源１に対して設
けられており、露光用光源２の照明光学系３に対する位
置をＸ、Ｙ、Ｚ方向に調整可能となっている。なお、Ｙ
方向は、露光用光源１の光の放射方向であり、Ｘ方向お
よびＺ方向はＹ方向に直交している。位置調整部２に
は、露光用光源１のＸ、Ｙ、Ｚ方向の各位置を検出する
位置検出器３が設けられている。位置検出器３は、照度
均一性解析装置２１に接続されている。
けられており、露光用光源２の照明光学系３に対する位
置をＸ、Ｙ、Ｚ方向に調整可能となっている。なお、Ｙ
方向は、露光用光源１の光の放射方向であり、Ｘ方向お
よびＺ方向はＹ方向に直交している。位置調整部２に
は、露光用光源１のＸ、Ｙ、Ｚ方向の各位置を検出する
位置検出器３が設けられている。位置検出器３は、照度
均一性解析装置２１に接続されている。
【００１６】図２は、位置調整部２の外観を示す斜視図
である。図２に示すように、位置調整部２には、露光用
光源１のそれぞれＸ、Ｙ、Ｚ方向の位置調整を行うため
の調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚが設けられている。調整
つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚをそれぞれ回動操作することに
より、露光用光源１は調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの回
転量に応じた移動量で照明光学系２に対して移動する。
たとえば、調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの一回転によっ
て、露光用光源１はそれぞれの方向に１μｍ移動する。
である。図２に示すように、位置調整部２には、露光用
光源１のそれぞれＸ、Ｙ、Ｚ方向の位置調整を行うため
の調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚが設けられている。調整
つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚをそれぞれ回動操作することに
より、露光用光源１は調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの回
転量に応じた移動量で照明光学系２に対して移動する。
たとえば、調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの一回転によっ
て、露光用光源１はそれぞれの方向に１μｍ移動する。
【００１７】照明光学系３は、露光用光源２からの光の
照度均一性を向上させ、露光量を制御する。照明光学系
３は、シャッタ４、フライアイレンズ７を有しており、
この他に、たとえば、波長フィルタや、コンデンサレン
ズや、マスキングブレード、リレーレンズ等の要素によ
って構成されるが具体的構成についての説明は省略す
る。
照度均一性を向上させ、露光量を制御する。照明光学系
３は、シャッタ４、フライアイレンズ７を有しており、
この他に、たとえば、波長フィルタや、コンデンサレン
ズや、マスキングブレード、リレーレンズ等の要素によ
って構成されるが具体的構成についての説明は省略す
る。
【００１８】投影光学系１０は、レチクルを通過する照
明光学系３からの光を、等倍または縮小してステージ１
５上に載置された被露光対象物の露光面に露光する。ス
テージ１５は、たとえば、被露光対象物としてのレジス
トが塗布されたウェハＷを保持し、ウェハＷを任意の位
置に位置制御可能となっている。
明光学系３からの光を、等倍または縮小してステージ１
５上に載置された被露光対象物の露光面に露光する。ス
テージ１５は、たとえば、被露光対象物としてのレジス
トが塗布されたウェハＷを保持し、ウェハＷを任意の位
置に位置制御可能となっている。
【００１９】照度検出器１２は、投影光学系１０を通じ
てステージ１１上に露光された光の露光領域の照度を検
出する。照度検出器１２は、たとえば、露光領域を複数
分割した各分割領域に対応して受光面が分割されたフォ
トディテクタを用いることができる。したがって、照度
検出器１２では露光領域の各分割領域の照度値が検出さ
れる。照度検出器１２は、照度均一性解析装置２１に接
続されている。
てステージ１１上に露光された光の露光領域の照度を検
出する。照度検出器１２は、たとえば、露光領域を複数
分割した各分割領域に対応して受光面が分割されたフォ
トディテクタを用いることができる。したがって、照度
検出器１２では露光領域の各分割領域の照度値が検出さ
れる。照度検出器１２は、照度均一性解析装置２１に接
続されている。
【００２０】照度均一性解析装置２１は、露光用光源１
の各方向の位置情報が位置検出器３から入力されるとと
もに、照度検出器１２の検出した露光領域の各分割領域
の照度値が入力される。照度均一性解析装置２１は、上
記の位置情報および各分割領域の照度データに基づい
て、露光領域内の照度均一性を最小化する露光用光源の
位置を算出し、露光用光源１の基準位置から照度均一性
を最小化する露光用光源１の位置への移動すべき移動量
を算出し、当該移動量を位置調整部２の調整量に換算し
て出力する。
の各方向の位置情報が位置検出器３から入力されるとと
もに、照度検出器１２の検出した露光領域の各分割領域
の照度値が入力される。照度均一性解析装置２１は、上
記の位置情報および各分割領域の照度データに基づい
て、露光領域内の照度均一性を最小化する露光用光源の
位置を算出し、露光用光源１の基準位置から照度均一性
を最小化する露光用光源１の位置への移動すべき移動量
を算出し、当該移動量を位置調整部２の調整量に換算し
て出力する。
【００２１】次に、上記構成の露光装置での照度均一性
の調整方法の一例について図３に示すフローチャートに
基づいて説明する。まず、露光用光源１を複数の位置に
移動して各位置における露光領域内での各分割領域の照
度を測定する（ステップＳ１）。すなわち、露光用光源
１を位置調整部２の調節つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚをそれ
ぞれ回転させて、露光用光源１を複数位置に移動させ、
各位置においてステージ１１上の照度検出器１２上に露
光し、露光された露光領域内の各分割領域の照度を検出
する。
の調整方法の一例について図３に示すフローチャートに
基づいて説明する。まず、露光用光源１を複数の位置に
移動して各位置における露光領域内での各分割領域の照
度を測定する（ステップＳ１）。すなわち、露光用光源
１を位置調整部２の調節つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚをそれ
ぞれ回転させて、露光用光源１を複数位置に移動させ、
各位置においてステージ１１上の照度検出器１２上に露
光し、露光された露光領域内の各分割領域の照度を検出
する。
【００２２】図４は、基準位置における露光領域内の各
分割領域の照度分布と、調節つまみＴｘを正逆方向に３
６０度回転して露光用光源１を基準位置から±Ｘ方向に
それぞれ移動した位置での各分割領域の照度分布の一例
を示す図であり、（ａ）が−Ｘ方向位置、（ｂ）が基準
位置、（ｃ）＋Ｘ方向位置の場合である。図４におい
て、露光領域Ｒは、１３×１１の分割領域に分割されて
おり、照度の比較的高い領域をＲｈ、照度の中程度の領
域をＲｍ、照度の比較的低い領域をＲｌで示している。
図４から分かるように、照度分布が変化するとともに、
照度均一性(Illumination Uniformity) ＵＮＩも変化す
る。
分割領域の照度分布と、調節つまみＴｘを正逆方向に３
６０度回転して露光用光源１を基準位置から±Ｘ方向に
それぞれ移動した位置での各分割領域の照度分布の一例
を示す図であり、（ａ）が−Ｘ方向位置、（ｂ）が基準
位置、（ｃ）＋Ｘ方向位置の場合である。図４におい
て、露光領域Ｒは、１３×１１の分割領域に分割されて
おり、照度の比較的高い領域をＲｈ、照度の中程度の領
域をＲｍ、照度の比較的低い領域をＲｌで示している。
図４から分かるように、照度分布が変化するとともに、
照度均一性(Illumination Uniformity) ＵＮＩも変化す
る。
【００２３】照度均一性ＵＮＩは、露光領域Ｒ内の各分
割領域における照度の最大値Ｉmaxと最小値Ｉmin とか
ら次式（１）によって表される。
割領域における照度の最大値Ｉmaxと最小値Ｉmin とか
ら次式（１）によって表される。
【００２４】 ＵＮＩ＝（Ｉmax −Ｉmin ）／（Ｉmax ＋Ｉmin ）×１００（％）…（１）
【００２５】（１）式から分かるように、照度均一性Ｕ
ＮＩは、照度の最大値Ｉmax と最小値Ｉmin との差が小
さいほど小さい値となり、照度むらが抑制される。
ＮＩは、照度の最大値Ｉmax と最小値Ｉmin との差が小
さいほど小さい値となり、照度むらが抑制される。
【００２６】上記のように、露光用光源１をそれぞれ
Ｘ，Ｙ，Ｚの各方向の複数位置に移動させ、各位置での
露光領域Ｒ内の照度情報を取得する。照度均一性解析装
置２１には、露光用光源１の位置情報と各位置での露光
領域Ｒ内の照度情報が入力され、これらの情報に基づい
て、露光用光源１の位置と照度均一性ＵＮＩとの相関関
係が求められる（ステップＳ２）。露光用光源１の位置
と照度均一性ＵＮＩとの相関関係は、照度均一性解析装
置２１に入力された上記情報を統計処理することにより
得られる。
Ｘ，Ｙ，Ｚの各方向の複数位置に移動させ、各位置での
露光領域Ｒ内の照度情報を取得する。照度均一性解析装
置２１には、露光用光源１の位置情報と各位置での露光
領域Ｒ内の照度情報が入力され、これらの情報に基づい
て、露光用光源１の位置と照度均一性ＵＮＩとの相関関
係が求められる（ステップＳ２）。露光用光源１の位置
と照度均一性ＵＮＩとの相関関係は、照度均一性解析装
置２１に入力された上記情報を統計処理することにより
得られる。
【００２７】次いで、照度均一性解析装置２１では、得
られた露光用光源１の位置と照度均一性ＵＮＩとの相関
関係データから、照度均一性ＵＮＩを最小化する最適位
置が算出される（ステップＳ３）。照度均一性ＵＮＩを
最小化する最適位置をより精度のよいものとするために
は、上記の露光用光源１をＸ，Ｙ，Ｚの各方向の多数の
位置に移動させて照度情報を取得することが望ましい。
られた露光用光源１の位置と照度均一性ＵＮＩとの相関
関係データから、照度均一性ＵＮＩを最小化する最適位
置が算出される（ステップＳ３）。照度均一性ＵＮＩを
最小化する最適位置をより精度のよいものとするために
は、上記の露光用光源１をＸ，Ｙ，Ｚの各方向の多数の
位置に移動させて照度情報を取得することが望ましい。
【００２８】次いで、露光用光源１の基準位置から求め
た最適位置への各方向の移動量を算出する（ステップＳ
４）。この移動量の算出は、位置検出器３から得られる
露光用光源１の位置情報に基づいて行われる。
た最適位置への各方向の移動量を算出する（ステップＳ
４）。この移動量の算出は、位置検出器３から得られる
露光用光源１の位置情報に基づいて行われる。
【００２９】次いで、露光用光源１の基準位置から求め
た最適位置への移動量に基づいて各調整つまみＴｘ，Ｔ
ｙ，Ｔｚの各調整量（回転量）が算出される（ステップ
Ｓ５）。すなわち、ステップＳ４で算出される露光用光
源１の基準位置から最適位置への移動量から、調整つま
みＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの調整量を直接かつ即座に特定する
ことは難しいが、移動量が各調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔ
ｚの各調整量に換算されていると、調整作業が非常に容
易となる。
た最適位置への移動量に基づいて各調整つまみＴｘ，Ｔ
ｙ，Ｔｚの各調整量（回転量）が算出される（ステップ
Ｓ５）。すなわち、ステップＳ４で算出される露光用光
源１の基準位置から最適位置への移動量から、調整つま
みＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚの調整量を直接かつ即座に特定する
ことは難しいが、移動量が各調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔ
ｚの各調整量に換算されていると、調整作業が非常に容
易となる。
【００３０】次いで、得られた調整量にしたがって、各
調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚを回転させ、露光用光源１
を移動調整する（ステップＳ６）。この調整された露光
用光源１での露光領域Ｒ内の照度均一性は、最小値をと
り、この状態でステージ１１上に保持されたレジストが
塗布されたウェハにレチクル９に形成されたパターンを
露光する。
調整つまみＴｘ，Ｔｙ，Ｔｚを回転させ、露光用光源１
を移動調整する（ステップＳ６）。この調整された露光
用光源１での露光領域Ｒ内の照度均一性は、最小値をと
り、この状態でステージ１１上に保持されたレジストが
塗布されたウェハにレチクル９に形成されたパターンを
露光する。
【００３１】以上のように、本実施形態によれば、照度
均一性解析装置２１によって、露光用光源１での露光領
域Ｒ内の照度均一性を最小化する調整つまみＴｘ，Ｔ
ｙ，Ｔｚの調整量が定量的に求められる。この結果、露
光領域Ｒ内の照度均一性を安定、向上させることがで
き、パターン線幅の均一性のさらなる向上が可能とな
る。
均一性解析装置２１によって、露光用光源１での露光領
域Ｒ内の照度均一性を最小化する調整つまみＴｘ，Ｔ
ｙ，Ｔｚの調整量が定量的に求められる。この結果、露
光領域Ｒ内の照度均一性を安定、向上させることがで
き、パターン線幅の均一性のさらなる向上が可能とな
る。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、露光面における照度均
一性を定量的に調整することができ、かつ、照度均一性
を最小化する露光用光源の位置を容易に決定することが
できる。この結果、露光領域内での照度均一性を安定化
でき、かつ、照度均一性を最小化でき、露光装置を用い
てレジストにパターニングを行ったときのパターン線幅
のばらつきをさらに抑制することが可能となる。
一性を定量的に調整することができ、かつ、照度均一性
を最小化する露光用光源の位置を容易に決定することが
できる。この結果、露光領域内での照度均一性を安定化
でき、かつ、照度均一性を最小化でき、露光装置を用い
てレジストにパターニングを行ったときのパターン線幅
のばらつきをさらに抑制することが可能となる。
【図１】本発明の一実施形態に係る露光装置の概略構成
図である。
図である。
【図２】位置調整部の一構成例を示す斜視図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る露光装置での照度均
一性の調整方法の一例を説明するためのフローチャート
である。
一性の調整方法の一例を説明するためのフローチャート
である。
【図４】露光用光源の位置を移動した場合の露光領域内
の照度分布の変化の一例を示す図である。
の照度分布の変化の一例を示す図である。
【図５】従来の露光装置の一例を示す図である。
１…露光用光源、２…位置調整部、３…位置検出器、５
…照明光学系、６…シャッタ、７…フライアイレンズ、
９…レチクル、１０…投影光学系、１１…ステージ、１
２…照度検出器、２１…照度均一性解析装置。
…照明光学系、６…シャッタ、７…フライアイレンズ、
９…レチクル、１０…投影光学系、１１…ステージ、１
２…照度検出器、２１…照度均一性解析装置。
Claims (6)
- 【請求項１】露光用光源と、前記露光用光源からの光を
レチクルパターンに与えるための照明光学系と、前記照
明光学系からの光をレチクルパターンを通じて所定の露
光面に投影露光する投影光学系とを有する露光装置の照
度均一性調整方法であって、 前記露光用光源の前記照明光学系に対する位置と前記所
定の露光面の露光領域内での照度均一性との相関関係を
求め、前記相関関係に基づいて照度均一性を最小化する
前記露光用光源の前記照明光学系に対する最適位置を算
出し、前記最適位置に前記露光用光源を移動調整する露
光装置の照度均一性調整方法。 - 【請求項２】前記最適位置の基準位置からの移動すべき
移動量を算出し、当該移動量に基づいて前記露光用光源
を移動調整する請求項１に記載の露光装置の照度均一性
調整方法。 - 【請求項３】前記露光用光源は当該露光用光源の前記照
明光学系に対する位置を調整する調整つまみを有してお
り、 前記最適位置の基準位置からの移動すべき移動量を前記
調整つまみの調整量に換算し、当該調整量に基づいて前
記調整つまみを操作する請求項２に記載の露光装置の照
度均一性調整方法。 - 【請求項４】前記所定の露光面の露光領域を複数の領域
に分割し、前記露光用光源の位置を種々変更して前記各
分割領域の照度値を測定し、前記露光用光源の位置と前
記各分割領域の照度とに基づいて前記相関関係を求める
請求項１に記載の露光装置の照度均一性調整方法。 - 【請求項５】露光用光源と、前記露光用光源からの光を
レチクルパターンに与えるための照明光学系と、前記照
明光学系からの光をレチクルパターンを通じて所定の露
光面に投影露光する投影光学系とを有する露光装置であ
って、 複数の領域に分割された前記所定の露光面の露光領域の
各分割領域における照度を検出する照度検出手段と、 前記露光用光源の前記照明光学系に対する位置を変更す
る位置調整手段と、 前記露光用光源の複数位置における前記各分割領域の照
度データに基づいて、前記露光領域内の照度均一性を最
小化する前記露光用光源の位置を算出する光源位置決定
手段とを有する露光装置。 - 【請求項６】前記光源位置決定手段は、前記露光用光源
の基準位置から前記照度均一性を最小化する前記露光用
光源の位置への移動すべき移動量を算出し、当該移動量
を前記位置調整手段の調整量に換算して出力する請求項
５に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11003038A JP2000208386A (ja) | 1999-01-08 | 1999-01-08 | 露光装置および露光装置の照度均一性調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11003038A JP2000208386A (ja) | 1999-01-08 | 1999-01-08 | 露光装置および露光装置の照度均一性調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000208386A true JP2000208386A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=11546153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11003038A Pending JP2000208386A (ja) | 1999-01-08 | 1999-01-08 | 露光装置および露光装置の照度均一性調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000208386A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002222753A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Canon Inc | 露光装置及び露光装置の光源位置調整方法 |
| KR101050285B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2011-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 노광장치의 빔 얼라인먼트 조정시스템 |
-
1999
- 1999-01-08 JP JP11003038A patent/JP2000208386A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002222753A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-09 | Canon Inc | 露光装置及び露光装置の光源位置調整方法 |
| JP4585697B2 (ja) * | 2001-01-26 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び光源の位置調整方法 |
| KR101050285B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2011-07-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 노광장치의 빔 얼라인먼트 조정시스템 |
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