JP2000204398A - 洗浄剤 - Google Patents
洗浄剤Info
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- JP2000204398A JP2000204398A JP11003586A JP358699A JP2000204398A JP 2000204398 A JP2000204398 A JP 2000204398A JP 11003586 A JP11003586 A JP 11003586A JP 358699 A JP358699 A JP 358699A JP 2000204398 A JP2000204398 A JP 2000204398A
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- JP
- Japan
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- cleaning agent
- organopolysiloxane
- cleaning
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- detergency
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 カウリブタノール値が１０以上であり、
かつ沸点が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又は分
岐状オルガノポリシロキサンを含有することを特徴とす
る洗浄剤。 【効果】 本発明の洗浄剤は、オゾン層を破壊せず、被
洗浄物を変質させることなく優れた洗浄能力を有するの
で、機械部品、電気電子部品、精密部品、光学部品及び
繊維に対して、浸漬洗浄の他、蒸気洗浄、手ふき用の洗
浄剤として優れた効果を発揮する。
かつ沸点が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又は分
岐状オルガノポリシロキサンを含有することを特徴とす
る洗浄剤。 【効果】 本発明の洗浄剤は、オゾン層を破壊せず、被
洗浄物を変質させることなく優れた洗浄能力を有するの
で、機械部品、電気電子部品、精密部品、光学部品及び
繊維に対して、浸漬洗浄の他、蒸気洗浄、手ふき用の洗
浄剤として優れた効果を発揮する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩素系洗浄剤や石
油系溶剤の代替洗浄剤として、光学部品や電子部品、金
属部品、プラスチック部品、更には衣類等の繊維の洗浄
に用いることができる洗浄剤に関する。
油系溶剤の代替洗浄剤として、光学部品や電子部品、金
属部品、プラスチック部品、更には衣類等の繊維の洗浄
に用いることができる洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、レンズなどの光学部品、鉄などの金属部品、シリコ
ンウエハーなどの半導体部品及び衣類などのドライクリ
ーニングの洗浄剤として、フロン、パークロロエチレ
ン、トリクロロエタンに代表される塩素系溶剤や、パラ
フィン、ナフテンに代表される石油系溶剤を使用するこ
とが知られている。いずれの溶剤を使用するかは使用目
的もしくは対象によって適宜選択されている。
り、レンズなどの光学部品、鉄などの金属部品、シリコ
ンウエハーなどの半導体部品及び衣類などのドライクリ
ーニングの洗浄剤として、フロン、パークロロエチレ
ン、トリクロロエタンに代表される塩素系溶剤や、パラ
フィン、ナフテンに代表される石油系溶剤を使用するこ
とが知られている。いずれの溶剤を使用するかは使用目
的もしくは対象によって適宜選択されている。
【０００３】しかしながら、塩素系溶剤は不燃性でかつ
乾燥速度が早い等の優れた性質を有しているものの、オ
ゾン層破壊及び地下水汚染の原因物質となっており、地
球環境保護の立場からその使用は厳しく制限される方向
にある。また、石油系溶剤は作業環境の観点から許容濃
度勧告値１００ｐｐｍ（ガソリン）が設定されており、
溶剤中毒に対して充分な注意を払わなければならない。
乾燥速度が早い等の優れた性質を有しているものの、オ
ゾン層破壊及び地下水汚染の原因物質となっており、地
球環境保護の立場からその使用は厳しく制限される方向
にある。また、石油系溶剤は作業環境の観点から許容濃
度勧告値１００ｐｐｍ（ガソリン）が設定されており、
溶剤中毒に対して充分な注意を払わなければならない。
【０００４】そのため、代替洗浄剤として揮発性シリコ
ーン油を用いた溶剤系が検討されている。例えば、特開
平８−３０２３９７号公報には、オクタメチルシクロテ
トラシロキサンと乳酸ブチル等との共沸様組成物が洗浄
剤として有効である旨の記載がある。しかしながら、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンは環状シロキサンで
あるため、酸又はアルカリにより開環重合が起こり、高
分子シロキサンが生成してしまう問題がある。更に、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンは融点が１７℃と比
較的高いため、冬季には保管中に凍結して作業性が非効
率になることも考えられる。一方、特開平６−９３２９
４号公報にはオクタメチルトリシロキサンとプロピレン
グリコールエチルエーテルアセテートとの共沸組成物に
よる洗浄剤が開示されている。オクタメチルトリシロキ
サンは表面張力が小さいため浸透性に優れており、更に
直鎖状ポリシロキサンであるため、前述の開環重合が生
じないものの、洗浄力を表すカウリブタノール値（ＫＢ
値）が小さく、ほとんど洗浄力を有していない。そのた
め、ＫＢ値の大きい他の有機化合物との混合物、更には
蒸留再使用時に液組成が変わらないようにするために共
沸組成物にする必要があり、その実現のためには存在割
合を共沸組成±０．５％と極めて狭い範囲に調製しなく
てはならない。
ーン油を用いた溶剤系が検討されている。例えば、特開
平８−３０２３９７号公報には、オクタメチルシクロテ
トラシロキサンと乳酸ブチル等との共沸様組成物が洗浄
剤として有効である旨の記載がある。しかしながら、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンは環状シロキサンで
あるため、酸又はアルカリにより開環重合が起こり、高
分子シロキサンが生成してしまう問題がある。更に、オ
クタメチルシクロテトラシロキサンは融点が１７℃と比
較的高いため、冬季には保管中に凍結して作業性が非効
率になることも考えられる。一方、特開平６−９３２９
４号公報にはオクタメチルトリシロキサンとプロピレン
グリコールエチルエーテルアセテートとの共沸組成物に
よる洗浄剤が開示されている。オクタメチルトリシロキ
サンは表面張力が小さいため浸透性に優れており、更に
直鎖状ポリシロキサンであるため、前述の開環重合が生
じないものの、洗浄力を表すカウリブタノール値（ＫＢ
値）が小さく、ほとんど洗浄力を有していない。そのた
め、ＫＢ値の大きい他の有機化合物との混合物、更には
蒸留再使用時に液組成が変わらないようにするために共
沸組成物にする必要があり、その実現のためには存在割
合を共沸組成±０．５％と極めて狭い範囲に調製しなく
てはならない。
【０００５】以上のように、従来から代替洗浄剤として
種々検討されてきてはいるものの、未だ決定的な代替溶
剤が見つかっていないのが現状である。
種々検討されてきてはいるものの、未だ決定的な代替溶
剤が見つかっていないのが現状である。
【０００６】本発明は上記問題点を改善するためになさ
れたもので、プラスチック、繊維等の被洗浄物を変質さ
せることなく、優れた洗浄力を有し、オゾン層を破壊す
ることなく、安全性に優れた洗浄剤を提供することを目
的とする。
れたもので、プラスチック、繊維等の被洗浄物を変質さ
せることなく、優れた洗浄力を有し、オゾン層を破壊す
ることなく、安全性に優れた洗浄剤を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、カウリブタノール値（ＫＢ値）が１０以上で、沸点
が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又は分岐状オル
ガノポリシロキサン、特に下記式（１）で表されるオル
ガノポリシロキサンが、金属、シリコン、プラスチッ
ク、繊維などを浸し、変質させることがなく、これらの
被洗浄物の汚れに対する浸透性に優れ、高い洗浄力を発
揮し、またオゾン層を破壊する等の不都合もなく、安全
性に優れていることを知見し、本発明をなすに至った。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、カウリブタノール値（ＫＢ値）が１０以上で、沸点
が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又は分岐状オル
ガノポリシロキサン、特に下記式（１）で表されるオル
ガノポリシロキサンが、金属、シリコン、プラスチッ
ク、繊維などを浸し、変質させることがなく、これらの
被洗浄物の汚れに対する浸透性に優れ、高い洗浄力を発
揮し、またオゾン層を破壊する等の不都合もなく、安全
性に優れていることを知見し、本発明をなすに至った。
【０００８】
【化２】 （式中、ＲはＣnＨ2n+1（ｎは１〜４の整数）で示され
るアルキル基であるが、Ｒのうち少なくとも１個はｎが
２〜４であるアルキル基である。ｍは０又は１であ
る。）
るアルキル基であるが、Ｒのうち少なくとも１個はｎが
２〜４であるアルキル基である。ｍは０又は１であ
る。）
【０００９】以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の洗浄剤は、カウリブタノール値が１０以上であ
り、かつ沸点が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又
は分岐状オルガノポリシロキサンを含有するものであ
る。
本発明の洗浄剤は、カウリブタノール値が１０以上であ
り、かつ沸点が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又
は分岐状オルガノポリシロキサンを含有するものであ
る。
【００１０】ここで、カウリブタノール値（ＫＢ値）は
溶剤の樹脂に対する溶解力を示す指標であり、洗浄性の
目安として使われる。数値の大きいものほど油脂や樹脂
に対する溶解力が大きいことを表す。ＫＢ値の測定方法
はＡＳＴＭ Ｄ１１３３−６１に記載があり、カウリ樹
脂のブタノール溶液にサンプル溶剤を滴下し、カウリ樹
脂を析出させるのに要した溶剤の量（ｍｌ）を求めるも
のである。従って、ＫＢ値は大きい方が汚れを除去する
には良い結果を与えるが、洗浄剤として使用するために
は１０以上が好ましい。これより小さいＫＢ値では良好
な洗浄力を期待できない。
溶剤の樹脂に対する溶解力を示す指標であり、洗浄性の
目安として使われる。数値の大きいものほど油脂や樹脂
に対する溶解力が大きいことを表す。ＫＢ値の測定方法
はＡＳＴＭ Ｄ１１３３−６１に記載があり、カウリ樹
脂のブタノール溶液にサンプル溶剤を滴下し、カウリ樹
脂を析出させるのに要した溶剤の量（ｍｌ）を求めるも
のである。従って、ＫＢ値は大きい方が汚れを除去する
には良い結果を与えるが、洗浄剤として使用するために
は１０以上が好ましい。これより小さいＫＢ値では良好
な洗浄力を期待できない。
【００１１】また、洗浄剤として使用するためには乾燥
性が良好であること、及び経済的に蒸留再使用すること
を考慮すると沸点の範囲は１気圧において２１０℃以下
が望ましい。
性が良好であること、及び経済的に蒸留再使用すること
を考慮すると沸点の範囲は１気圧において２１０℃以下
が望ましい。
【００１２】本発明の洗浄剤おけるオルガノポリシロキ
サンの構造は直鎖状又は分岐状のオルガノポリシロキサ
ンである。トリメチルシロキシ等の末端基を有しないオ
クタメチルポリシロキサン等の環状シロキサンでは酸も
しくはアルカリの混入で開環反応が起こり、次々と環状
シロキサンが重合して粘度の高い不揮発性のオルガノポ
リシロキサンが生成するため、被洗浄物をかえって汚染
してしまう結果となる。直鎖状又は分岐状のシロキサン
は末端基を有しているので、被洗浄物を汚染するような
オルガノポリシロキサンは生成せず、蒸留再使用が容易
に可能な洗浄剤となり得る。
サンの構造は直鎖状又は分岐状のオルガノポリシロキサ
ンである。トリメチルシロキシ等の末端基を有しないオ
クタメチルポリシロキサン等の環状シロキサンでは酸も
しくはアルカリの混入で開環反応が起こり、次々と環状
シロキサンが重合して粘度の高い不揮発性のオルガノポ
リシロキサンが生成するため、被洗浄物をかえって汚染
してしまう結果となる。直鎖状又は分岐状のシロキサン
は末端基を有しているので、被洗浄物を汚染するような
オルガノポリシロキサンは生成せず、蒸留再使用が容易
に可能な洗浄剤となり得る。
【００１３】本発明において、洗浄剤として用いる直鎖
状又は分岐状のオルガノポリシロキサンとしては、上記
ＫＢ値及び沸点を有しているものであればいずれのもの
でもよいが、特に下記式（１）で表されるものが好まし
い。
状又は分岐状のオルガノポリシロキサンとしては、上記
ＫＢ値及び沸点を有しているものであればいずれのもの
でもよいが、特に下記式（１）で表されるものが好まし
い。
【００１４】
【化３】
【００１５】ここで、ＲはＣnＨ2n+1（ｎは１〜４の整
数）で示されるアルキル基、即ちメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、又はｔｅｒｔ−ブチル基であるが、Ｒの少なくとも
１個はｎが２〜４であるアルキル基、即ち上記のうちメ
チル基以外のアルキル基である。また、ｍは０又は１で
ある。
数）で示されるアルキル基、即ちメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル
基、又はｔｅｒｔ−ブチル基であるが、Ｒの少なくとも
１個はｎが２〜４であるアルキル基、即ち上記のうちメ
チル基以外のアルキル基である。また、ｍは０又は１で
ある。
【００１６】具体的には、本発明における分岐状シロキ
サンとして、３−トリメチルシロキシヘプタメチルトリ
シロキサン等が挙げられ、直鎖状シロキサンとしては、
３−エチルヘプタメチルトリシロキサン、１−エチルヘ
プタメチルトリシロキサン、１−プロピルヘプタメチル
トリシロキサン、１−ブチルヘプタメチルトリシロキサ
ン、１，５−ジエチル−１，１，３，３，５，５−ヘキ
サメチルトリシロキサン、１，３−ジエチル−１，１，
３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−プロピ
ルヘプタメチルトリシロキサン、３−ブチルヘプタメチ
ルトリシロキサン、ペンタメチルプロピルジシロキサ
ン、ペンタメチルブチルジシロキサン、ペンタメチルヘ
キシルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−
１，３−ジプロピルジシロキサン、１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジエチルジシロキサン、１，３−
ジメチル−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサ
ン、１，１，１−トリメチル−３，３，３−トリエチル
ジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３
−ジイソブチルジシロキサン等が挙げられる。上記のオ
ルガノポリシロキサンは、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンとオレフィンとのヒドロシリレーション、シラ
ノールとクロロシランとの脱塩酸反応もしくはクロロシ
ランの共加水分解等に代表される公知の合成法により得
ることができる。
サンとして、３−トリメチルシロキシヘプタメチルトリ
シロキサン等が挙げられ、直鎖状シロキサンとしては、
３−エチルヘプタメチルトリシロキサン、１−エチルヘ
プタメチルトリシロキサン、１−プロピルヘプタメチル
トリシロキサン、１−ブチルヘプタメチルトリシロキサ
ン、１，５−ジエチル−１，１，３，３，５，５−ヘキ
サメチルトリシロキサン、１，３−ジエチル−１，１，
３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、３−プロピ
ルヘプタメチルトリシロキサン、３−ブチルヘプタメチ
ルトリシロキサン、ペンタメチルプロピルジシロキサ
ン、ペンタメチルブチルジシロキサン、ペンタメチルヘ
キシルジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−
１，３−ジプロピルジシロキサン、１，１，３，３−テ
トラメチル−１，３−ジエチルジシロキサン、１，３−
ジメチル−１，１，３，３−テトラエチルジシロキサ
ン、１，１，１−トリメチル−３，３，３−トリエチル
ジシロキサン、１，１，３，３−テトラメチル−１，３
−ジイソブチルジシロキサン等が挙げられる。上記のオ
ルガノポリシロキサンは、メチルハイドロジェンポリシ
ロキサンとオレフィンとのヒドロシリレーション、シラ
ノールとクロロシランとの脱塩酸反応もしくはクロロシ
ランの共加水分解等に代表される公知の合成法により得
ることができる。
【００１７】本発明の洗浄剤の洗浄力向上及び体積抵抗
率低下のために界面活性剤を添加しても良く、洗浄剤の
長期に渡る性能維持のために酸化安定剤、腐食抑制剤を
加えても良い。
率低下のために界面活性剤を添加しても良く、洗浄剤の
長期に渡る性能維持のために酸化安定剤、腐食抑制剤を
加えても良い。
【００１８】本発明の洗浄剤は、上記シロキサンを主成
分とするものであるが、被洗浄物としては、金属、シリ
コン、プラスチック、セラミック、ガラス、繊維など、
いずれの材質のものでも良く、また洗浄法としては、浸
漬法、蒸気洗浄法、スプレー法、手ふきなど、公知の洗
浄法を採用することができる。
分とするものであるが、被洗浄物としては、金属、シリ
コン、プラスチック、セラミック、ガラス、繊維など、
いずれの材質のものでも良く、また洗浄法としては、浸
漬法、蒸気洗浄法、スプレー法、手ふきなど、公知の洗
浄法を採用することができる。
【００１９】
【実施例】以下、合成例及び実施例と比較例を示し、本
発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制
限されるものではない。
発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制
限されるものではない。
【００２０】［合成例１］３−エチルヘプタメチルトリ
シロキサンの合成 ２Ｌの４つ口フラスコにトリエチルアミン２０２ｇ（２
ｍｏｌ）、ヘキサン１００ｍｌ及びメチルエチルケトン
１００ｍｌを加え、氷水浴に浸した。フラスコ中にトリ
メチルシラノール２１６ｇ（２．４ｍｏｌ）メチルエチ
ルケトン溶液とエチルメチルジクロロシラン１４３ｇ
（１．０ｍｏｌ）ヘキサン溶液をそれぞれ同時に滴下し
た。滴下後、水洗中和し、濃縮、常圧蒸留して、３−エ
チルヘプタメチルトリシロキサンを得た。沸点１７４
℃。
シロキサンの合成 ２Ｌの４つ口フラスコにトリエチルアミン２０２ｇ（２
ｍｏｌ）、ヘキサン１００ｍｌ及びメチルエチルケトン
１００ｍｌを加え、氷水浴に浸した。フラスコ中にトリ
メチルシラノール２１６ｇ（２．４ｍｏｌ）メチルエチ
ルケトン溶液とエチルメチルジクロロシラン１４３ｇ
（１．０ｍｏｌ）ヘキサン溶液をそれぞれ同時に滴下し
た。滴下後、水洗中和し、濃縮、常圧蒸留して、３−エ
チルヘプタメチルトリシロキサンを得た。沸点１７４
℃。
【００２１】［合成例２］３−プロピルヘプタメチルト
リシロキサンの合成 １Ｌの４つ口フラスコに１，１，１，３，５，５，５−
ヘプタメチルトリシロキサン２２２ｇ（１．０ｍｏｌ）
とトルエン３００ｇ及び塩化白金酸５０ｍｇを加えた。
そこへプロピレンガスを吹き込み、ガスクロマトグラフ
ィーにて反応を追跡した。原料の１，１，１，３，５，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサンが消失した時点で
反応を終了し、濃縮、蒸留し、目的物を得た。沸点１８
９℃。
リシロキサンの合成 １Ｌの４つ口フラスコに１，１，１，３，５，５，５−
ヘプタメチルトリシロキサン２２２ｇ（１．０ｍｏｌ）
とトルエン３００ｇ及び塩化白金酸５０ｍｇを加えた。
そこへプロピレンガスを吹き込み、ガスクロマトグラフ
ィーにて反応を追跡した。原料の１，１，１，３，５，
５，５−ヘプタメチルトリシロキサンが消失した時点で
反応を終了し、濃縮、蒸留し、目的物を得た。沸点１８
９℃。
【００２２】［合成例３］３−ブチルヘプタメチルトリ
シロキサンの合成 １Ｌの４つ口フラスコに１，１，１，３，５，５，５−
ヘプタメチルトリシロキサン２２２ｇ（１．０ｍｏｌ）
とトルエン３００ｇ及び塩化白金酸５０ｍｇを加えた。
そこへブテンガスを吹き込み、ガスクロマトグラフィー
にて反応を追跡した。原料の１，１，１，３，５，５，
５−ヘプタメチルトリシロキサンが消失した時点で反応
を終了し、濃縮、蒸留し、目的物を得た。沸点２０４
℃。
シロキサンの合成 １Ｌの４つ口フラスコに１，１，１，３，５，５，５−
ヘプタメチルトリシロキサン２２２ｇ（１．０ｍｏｌ）
とトルエン３００ｇ及び塩化白金酸５０ｍｇを加えた。
そこへブテンガスを吹き込み、ガスクロマトグラフィー
にて反応を追跡した。原料の１，１，１，３，５，５，
５−ヘプタメチルトリシロキサンが消失した時点で反応
を終了し、濃縮、蒸留し、目的物を得た。沸点２０４
℃。
【００２３】上記シロキサンのＫＢ値、表面張力、及び
沸点の結果を表１に示す。なお、ＫＢ値はＡＳＴＭ Ｄ
１１３３−６１の方法によって測定した。
沸点の結果を表１に示す。なお、ＫＢ値はＡＳＴＭ Ｄ
１１３３−６１の方法によって測定した。
【００２４】
【表１】
【００２５】［実施例、比較例］ガラス板、銅板、ポリ
プロピレン（ＰＰ）、ポリエステル布及び綿布にモータ
ー油を塗布し、以下の方法にて洗浄した。合成例１〜３
で得られた洗浄液を各々第１槽に充填し、撹拌しながら
洗浄した後、第２槽にも第１槽と同じ種類の洗浄液を充
填し、撹拌しながら更に洗浄した。被洗浄物を６０℃の
乾燥機にて６０分乾燥後、モーター油の残り具合を観察
した。比較例として、ヘキサメチルジシロキサン及びオ
クタメチルトリシロキサンを用いて、同じ方法で洗浄を
行った。結果を表２に示す。 評価結果 ○：モーター油残存せず ×：モーター油残存
プロピレン（ＰＰ）、ポリエステル布及び綿布にモータ
ー油を塗布し、以下の方法にて洗浄した。合成例１〜３
で得られた洗浄液を各々第１槽に充填し、撹拌しながら
洗浄した後、第２槽にも第１槽と同じ種類の洗浄液を充
填し、撹拌しながら更に洗浄した。被洗浄物を６０℃の
乾燥機にて６０分乾燥後、モーター油の残り具合を観察
した。比較例として、ヘキサメチルジシロキサン及びオ
クタメチルトリシロキサンを用いて、同じ方法で洗浄を
行った。結果を表２に示す。 評価結果 ○：モーター油残存せず ×：モーター油残存
【００２６】
【表２】 注：ＰＰはポリプロピレンを示す。
【００２７】洗浄後の素材の変質はいずれの場合も観察
されなかった。
されなかった。
【００２８】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、オゾン層を破壊せ
ず、被洗浄物を変質させることなく優れた洗浄能力を有
するので、機械部品、電気電子部品、精密部品、光学部
品及び繊維に対して、浸漬洗浄の他、蒸気洗浄、手ふき
用の洗浄剤として優れた効果を発揮する。
ず、被洗浄物を変質させることなく優れた洗浄能力を有
するので、機械部品、電気電子部品、精密部品、光学部
品及び繊維に対して、浸漬洗浄の他、蒸気洗浄、手ふき
用の洗浄剤として優れた効果を発揮する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H006 DA09 4H003 DA01 DA05 DA09 DA12 DA14 DA15 DA16 DC01 DC03 EB25 EB37 ED32 FA01 FA03 FA15 4K053 PA01 PA06 PA17 QA04 RA08 RA31 SA08 TA13
Claims (2)
- 【請求項１】 カウリブタノール値が１０以上であり、
かつ沸点が１気圧において２１０℃以下の直鎖状又は分
岐状オルガノポリシロキサンを含有することを特徴とす
る洗浄剤。 - 【請求項２】 オルガノポリシロキサンが、下記式
（１） 【化１】 （式中、ＲはＣnＨ2n+1（ｎは１〜４の整数）で示され
るアルキル基であるが、Ｒのうち少なくとも１個はｎが
２〜４であるアルキル基である。ｍは０又は１であ
る。）で表されるものである請求項１記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00358699A JP3748004B2 (ja) | 1999-01-11 | 1999-01-11 | 洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00358699A JP3748004B2 (ja) | 1999-01-11 | 1999-01-11 | 洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000204398A true JP2000204398A (ja) | 2000-07-25 |
| JP3748004B2 JP3748004B2 (ja) | 2006-02-22 |
Family
ID=11561573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00358699A Expired - Fee Related JP3748004B2 (ja) | 1999-01-11 | 1999-01-11 | 洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3748004B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000313900A (ja) * | 1999-04-09 | 2000-11-14 | General Electric Co <Ge> | クリーニング組成物並びに方法 |
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1999
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