JP2000195808A - 熱処理炉 - Google Patents

熱処理炉

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JP2000195808A
JP2000195808A JP10372654A JP37265498A JP2000195808A JP 2000195808 A JP2000195808 A JP 2000195808A JP 10372654 A JP10372654 A JP 10372654A JP 37265498 A JP37265498 A JP 37265498A JP 2000195808 A JP2000195808 A JP 2000195808A
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JP
Japan
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heater
heat
fan
intake
air
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JP10372654A
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English (en)
Inventor
Yuji Yoshida
祐治 吉田
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】熱処理炉に於いて、成膜処理中の熱の漏出を防
止し温度制御性能の向上を図ると共に省電力化を図る。 【解決手段】ヒータ2内部に連通する排気管6に、上流
側より熱遮蔽シャッタ7、ラジエタ8、ファン用バルブ
19、吸気ファン9を設けた熱処理炉に係り、前記ファ
ン用バルブは熱遮蔽シャッタからの熱の漏出を防止し、
成膜処理中の部分冷却を抑制し、又ファン用バルブは冷
却停止時の炉内雰囲気空気の流出を瞬時に停止し、吸気
ファンの停止時の過渡状態がロスタイムをなくする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はシリコンウェーハに
酸化膜、或は単結晶膜を成膜する熱処理炉、特に熱処理
炉の冷却装置の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の熱処理炉について図4により説明
する。
【0003】上端が閉塞された反応管1の周囲を囲繞す
る円筒状のヒータ2が前記反応管1と同心に立設され、
前記反応管1とヒータ2との間には間隙10が形成さ
れ、前記ヒータ2の上端はヒータ上アタッチメント3に
より閉塞されている。該ヒータ上アタッチメント3には
前記反応管1の上端に対向した位置にテーパ状の排気導
口4が穿設され、更に該排気導口4に水平方向から連通
する排気連通路5が穿設されている。該排気連通路5に
排気管6が連通され、該排気管6には上流側から熱遮蔽
シャッタ7、ラジエタ8、吸気ファン9が設けられてい
る。
【0004】成膜処理は前記熱遮蔽シャッタ7が閉塞さ
れ、炉内の熱が漏れない様にし、前記ヒータ2に電力を
供給してヒータ温度を上昇させる。前記ヒータ2によ
り、前記反応管1内が加熱され、成膜温度となった状態
でウェーハ(図示せず)が装入される。成膜処理される
ウェーハは水平姿勢で多段にボート(図示せず)に支持
された状態で前記反応管1内に装入される。前記ヒータ
2内に反応ガスが導入され、成膜処理がなされる。
【0005】成膜処理が完了すると、前記熱遮蔽シャッ
タ7が開放され、前記吸気ファン9が駆動して強制空冷
を行う。前記間隙10の高温の炉内雰囲気空気が吸引排
気され、前記ヒータ2の下端部より外部の冷たい空気が
前記間隙10内に流入し、更に前記間隙10を上昇し、
前記排気導口4、排気連通路5を経て前記排気管6より
排気される。前記ラジエタ8に至る前記炉内雰囲気空気
の温度は400℃〜500℃であり、前記ラジエタ8を
通過することで40℃〜50℃迄冷却されて外部に排出
される。
【0006】前記ヒータ2、反応管1、ウェーハが所定
の温度迄冷却されると、前記熱遮蔽シャッタ7が閉じら
れ、前記熱遮蔽シャッタ7が停止された後、前記ボート
が引出される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前記熱遮蔽シャッタ7
は炉内の熱を遮断する役目を持っているが、前記した様
に前記熱遮蔽シャッタ7を通過する炉内雰囲気空気は4
00℃〜500℃と高温であり、この様な高温に耐える
シール材はないので、前記熱遮蔽シャッタ7の閉塞状態
は完全な気密状態とはなっていない。この為、前記間隙
10の炉内雰囲気空気は対流作用で前記熱遮蔽シャッタ
7から漏出し、炉内の熱が漏れるという現象を生じる。
炉内の熱が漏れることで、部分的な冷却が生じ、温度分
布の不均一が発生する。従って、温度分布の不均一を改
善する為の温度制御が必要となり、温度制御が複雑とな
る。又冷却分を補う熱の供給が必要となる為、消費電力
が増大するという問題があった。
【0008】又、前記吸気ファン9を停止した場合前記
熱遮蔽シャッタ7の密閉状態が完全でない為、前記吸気
ファン9自体の慣性力、炉内雰囲気空気の慣性力の為、
前記熱遮蔽シャッタ7から炉内雰囲気空気が漏出てしま
う。或は、前記吸気ファン9の起動、停止時に定常運転
に至る迄には所定の時間を要し、起動時間、制動時間が
温度制御のロスタイムとなると共に不確定要素となり温
度制御の精度向上の妨げとなる。
【0009】次に、前記吸気ファン9で吸引した場合、
外部の冷たい空気は前記ヒータ2の下端部より流入する
が、流入箇所が下端部に限られているので、前記ヒータ
2の下端ゾーンのみが局部的に冷却される状態となり、
前記ヒータ2全体が冷却されるには時間を要する。又、
局部的に冷却される結果、前記ヒータ2上下で温度差が
大きくなってしまい、ヒータ2の均熱領域が狭く、均質
な処理ができるウェーハの数が少なくなってしまう。従
って、一度に処理できるウェーハの数が少なくなり、生
産性が向上しない。
【0010】更に、前記ヒータ2下部ゾーンが局部的に
冷却されることからヒータ2上下の温度差を補正する
為、下部ゾーンを多く発熱させる必要があり、下部ゾー
ンに対して多くの電流が通電される。その為、電力の消
費が大きく、ヒータ素線の消耗が大きく断線し易くな
り、ヒータの寿命を短くする。又、下部ゾーンを他のゾ
ーンと同じ温度迄昇温させる時間が必要となり、スルー
プットに影響を及ぼす。
【0011】ヒータ2下端部の局部的な冷却を防止する
為には冷却空気の流速を大きく、大流量とすればよい
が、流路断面積を確保する為、前記間隙10を大きく、
即ち図5に示される様に前記ヒータ2の内径を大きくし
なければならない。このことは、熱処理炉の小型化の妨
げとなる。又、前記吸気ファン9は大容量である必要が
あり、コストアップの原因となる。
【0012】本発明は斯かる実情に鑑み、成膜処理中の
熱の漏出を防止し温度制御性能の向上を図ると共に省電
力化を図り、更に冷却時の局部的な冷却を防止して炉内
の均熱領域の拡大を図り、生産性の向上を図るものであ
る。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、ヒータ内部に
連通する排気管に、上流側より熱遮蔽シャッタ、ラジエ
タ、ファン用バルブ、吸気ファンを設けた熱処理炉に係
るものである。
【0014】ファン用バルブは熱遮蔽シャッタからの熱
の漏出を防止し、成膜処理中の部分冷却を抑制する。又
ファン用バルブは冷却停止時の炉内雰囲気空気の流出を
瞬時に停止し、吸気ファンの停止時の過渡状態がロスタ
イムをなくする。又、外部冷却空気がヒータの全体から
均等に流入し、ヒータは温度差を生じることなく強制空
冷され、導入口バルブ冷却停止時の外部冷却空気の流入
を即時に停止する。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
【0016】図1、図2中、図4中で示したものと同一
のものには同符号を付してある。
【0017】ヒータベース12に吸気マニホールド13
を介してヒータ2を立設し、該ヒータ2の上端はヒータ
上アタッチメント3により閉塞する。前記ヒータ2内に
は反応管1が同心に立設する。
【0018】前記吸気マニホールド13は中空のドーナ
ッツ形状をしており、該吸気マニホールド13には吸気
導管14が連通し、該吸気導管14は導入口バルブ15
を介して冷却源、例えば熱処理炉の外部空気と連通す
る。該導入口バルブ15は気密に閉塞可能となってい
る。
【0019】前記ヒータ2の外周所要等分(図示では8
等分)した位置に前記ヒータ2の母線に沿って吸気ダク
ト16が設けられ、該吸気ダクト16の下端部は前記吸
気マニホールド13の外周面に重合し、該重合部で前記
吸気ダクト16地と吸気マニホールド13とは連通す
る。又、前記吸気マニホールド13の内側面には所要箇
所、図中では中間部及び先端部の2箇所に給気口17が
穿設されている。該吸気口17は、前記ヒータ2の側壁
を水平方向に貫通して穿設された吸気連絡流路18によ
り、前記間隙10と連通している。従って、前記吸気連
絡流路18は図2に示される様に放射状に上下2段の計
16箇所に穿設されている。
【0020】排気管6は排気連通路5、排気導口4を介
して間隙10と連通し、前記排気管6には上流側より、
熱遮蔽シャッタ7、ラジエタ8、ファン用バルブ19、
吸気ファン9が順次設けられる。前記ファン用バルブ1
9は気密に閉塞可能となっている。
【0021】以下、作動を説明する。
【0022】前記導入口バルブ15、熱遮蔽シャッタ
7、ファン用バルブ19を閉じ、前記ヒータ2に電力を
供給してヒータ温度を上昇させる。所定温度に達した
ら、ウェーハが装填されたボート(図示せず)を前記反
応管1内に装入する。反応ガスを導入して成膜処理を行
う。前記ファン用バルブ19は気密に閉塞するので、成
膜処理中熱遮蔽シャッタ7から漏出した炉内雰囲気空気
が外部に流出することなく、前記ヒータ2の成膜処理中
の部分冷却がなくなる。又、前記熱遮蔽シャッタ7と前
記ファン用バルブ19間にはラジエタ8が存在するの
で、ファン用バルブ19に至る炉内雰囲気空気は冷却さ
れて40℃〜50℃となっており、ファン用バルブ19
のシール材を焼損することはない。
【0023】成膜処理が完了すると、前記吸気ファン9
を起動する。該吸気ファン9が所定回転に達したところ
で、前記導入口バルブ15、熱遮蔽シャッタ7、ファン
用バルブ19を開き、前記吸気ファン9を駆動する。該
吸気ファン9の駆動により、前記ラジエタ8、熱遮蔽シ
ャッタ7、排気連通路5、排気導口4を介して前記間隙
10の炉内雰囲気空気が吸引される。
【0024】前記導入口バルブ15、吸気導管14を介
して外部冷却空気が前記吸気マニホールド13に吸引さ
れ、吸引された外部冷却空気は該吸気マニホールド13
により前記8本の吸気ダクト16に分配され、該吸気ダ
クト16内を上昇し、2箇所の前記吸気口17より流出
し、更に前記吸気連絡流路18を通って前記間隙10に
流入する。又、前記ヒータ2の下端からも外部冷却空気
が流入する。従って、前記間隙10には前記ヒータ2の
下端部、中間部、上端部の3位置から外部冷却空気が流
入する。
【0025】前記間隙10の炉内雰囲気空気は前記排気
導口4、排気連通路5を介して吸引され、前記ラジエタ
8で冷却された後前記ファン用バルブ19、吸気ファン
9を経て排出される。
【0026】前述した様に、外部冷却空気が上下3位置
から流入することで、前記ヒータ2、反応管1は略全域
に亘って均等に強制冷却され、ヒータ温度は上下方向で
温度差が生じることなく所定温度迄降下する。
【0027】所定温度迄冷却された時点で、前記導入口
バルブ15、熱遮蔽シャッタ7、ファン用バルブ19を
閉塞する。前記反応管1からボートを引出す。
【0028】前記導入口バルブ15、ファン用バルブ1
9は気密に閉塞可能であるので、前記導入口バルブ15
からの空気の流入、前記ファン用バルブ19からの空気
の流出は直ちに停止され、空気の慣性力による流動が抑
止される。従って、冷却停止後も余剰な外部冷却空気が
流入することなく、又間隙10の空気の流れについては
吸気ファン9の起動から定常運転迄、定常運転から停止
迄の過渡状態がないので、無用の冷却或は熱の漏出が防
止される。
【0029】尚、前記吸気口17は前記ヒータ2の壁部
に上下2段に設けたが、3段以上設けることも可能であ
り、更に前記ヒータ2の下端からは外部空気が吸引しな
い様にしてもよい。
【0030】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、熱遮蔽
シャッタからの熱の漏出を防止でき、又成膜処理中の部
分冷却がなくなるので冷却部分に余分な電力を供給する
必要なくなり、熱効率が向上し、又温度制御が容易にな
る。更に、ファン用バルブ、導入口バルブにより、空気
の流入、流出を瞬時に停止できるので吸気ファンの起
動、停止時の過渡状態が冷却に影響しないので、吸気フ
ァンの起動、停止時の過渡状態がロスタイムとならず、
スループットが向上する。
【0031】又、外部冷却空気がヒータの全体から均等
に流入し、ヒータは温度差を生じることなく強制空冷さ
れるので、局部的に供給電力を増大させる必要がなく、
温度制御が容易となり、省電力化が図れると共に局部的
なヒータの劣化を防止でき、寿命を延ばすことができ
る。更に、局部的な冷却がなくなるのでヒータの均熱領
域が拡大し、ウェーハの処理枚数が増大し、生産性が向
上する。又、冷却空気の流速が従来より早くなくてよ
く、流量が少なくてよいので冷却空気流通に必要なスペ
ースを小さくでき熱処理炉の小型化が可能である等の優
れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す概略立断面図であ
る。
【図2】同前本発明の実施の形態を示す概略平断面図で
ある。
【図3】同前本発明の実施の形態の要部を示す斜視図で
ある。
【図4】従来例を示す概略立断面図である。
【図5】従来例を示す概略立断面図である。
【符号の説明】
1 反応管 2 ヒータ 6 排気管 7 熱遮蔽シャッタ 8 ラジエタ 9 吸気ファン 10 間隙 13 吸気マニホールド 15 導入口バルブ 16 吸気ダクト 18 吸気連絡流路 19 ファン用バルブ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ヒータ内部に連通する排気管に、上流側
    より熱遮蔽シャッタ、ラジエタ、ファン用バルブ、吸気
    ファンを設けたことを特徴とする熱処理炉。
JP10372654A 1998-12-28 1998-12-28 熱処理炉 Pending JP2000195808A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002164298A (ja) * 2000-11-29 2002-06-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 熱処理装置
JP2007081428A (ja) * 2006-12-08 2007-03-29 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
WO2007097199A1 (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Tokyo Electron Limited 熱処理装置、ヒータ及びその製造方法
JP2008078196A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2011103469A (ja) * 2010-12-02 2011-05-26 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及び加熱装置及び断熱材
JP2014209569A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 株式会社日立国際電気 断熱構造体及び半導体装置の製造方法
JP7433632B2 (ja) 2020-01-22 2024-02-20 株式会社グローバルアライアンスパートナー 油分回収装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002164298A (ja) * 2000-11-29 2002-06-07 Hitachi Kokusai Electric Inc 熱処理装置
WO2007097199A1 (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Tokyo Electron Limited 熱処理装置、ヒータ及びその製造方法
US8253075B2 (en) 2006-02-20 2012-08-28 Tokyo Electron Limited Heat treatment apparatus, heater, and method for manufacturing the heater
JP2008078196A (ja) * 2006-09-19 2008-04-03 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP2007081428A (ja) * 2006-12-08 2007-03-29 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置
JP4495717B2 (ja) * 2006-12-08 2010-07-07 株式会社日立国際電気 基板処理装置及び半導体装置の製造方法
JP2011103469A (ja) * 2010-12-02 2011-05-26 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置及び半導体装置の製造方法及び加熱装置及び断熱材
JP2014209569A (ja) * 2013-03-25 2014-11-06 株式会社日立国際電気 断熱構造体及び半導体装置の製造方法
JP7433632B2 (ja) 2020-01-22 2024-02-20 株式会社グローバルアライアンスパートナー 油分回収装置

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