JP2000191604A - （メタ）アクリレ―ト及びその製造方法 - Google Patents
（メタ）アクリレ―ト及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 固体電解質電池用モノマーとして有用な分子
内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレ
ート及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記の一般式（１）で示される分子内に
２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレー
ト。 【化１】 （式中、ｎは０又は１であり、Ｒ1 は水素原子又はメチ
ル基を示し、Ｒ2 及びＲ 3 は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基を示し、それらは置換基としてアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を有して
いてもよい。） 上記一般式で示される（メタ）アクリレートはグリセリ
ル（メタ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプロ
ピルオキシエチル（メタ）アクリレートとハロギ酸エス
テルをアミンの存在下で反応させることによって得られ
る。
内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレ
ート及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 下記の一般式（１）で示される分子内に
２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレー
ト。 【化１】 （式中、ｎは０又は１であり、Ｒ1 は水素原子又はメチ
ル基を示し、Ｒ2 及びＲ 3 は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基を示し、それらは置換基としてアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を有して
いてもよい。） 上記一般式で示される（メタ）アクリレートはグリセリ
ル（メタ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプロ
ピルオキシエチル（メタ）アクリレートとハロギ酸エス
テルをアミンの存在下で反応させることによって得られ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、固体電解質電池、
粘着剤、レジスト等多方面の用途が期待される（メタ）
アクリレート及びその製造方法に関する。
粘着剤、レジスト等多方面の用途が期待される（メタ）
アクリレート及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カーボネート構造を有する（メタ）アク
リレートの製造方法としては以下の方法が知られてい
る。 （１）アクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキ
ルエステルとクロロホーメートを塩酸受容体の存在下に
反応させてアルキルカーボネートアルキル（メタ）アク
リレートを得る方法（特公昭４２−８２９２号公報）。 （２）メタクリル酸ヒドロキシエチルエステルと炭酸ジ
メチルを炭酸カリウムを触媒として用いて生成するメタ
ノールを除きながら反応させてメチルカーボネートエチ
ルメタクリレートを得る方法（ＷＯ９７／０８２１５号
公報）。 （３）グリシジルメタクリレート等のエポキシ基にβ−
ブチロラクトンを反応させることにより５員環の環状カ
ーボネート構造を構築する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ（１９８６），２７（３２），３７
４１−３７４４）。 （４）グリセリル（メタ）アクリレートとホスゲンある
いはクロロギ酸アルキルエステルとを塩酸受容体の存在
下に反応させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４
−イル−メチル（メタ）アクリレートを得る方法（米国
特許２，９７９，５１４号明細書）。 （５）グリセリンカーボネートとアクリル酸クロライド
あるいはアクリル酸無水物を塩酸受容体の存在下で反応
させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−
メチル（メタ）アクリレートを得る方法（Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．（１９６７），５（２），３０７−３２１）。 （６）グリセリンカーボネートとメチルメタクリレート
とをナトリウムメチラートの存在下でエステル交換反応
させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−
メチル（メタ）アクリレートを得る方法（米国特許２，
９７９，５１４号明細書）。 （７）グリシジルメタクリレートと二酸化炭素とをアミ
ン又はホスフィン等の触媒及びアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属のハロゲン化物又は炭酸塩の存在下で反応さ
せて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メ
チル（メタ）アクリレートを得る方法（特開昭６２−４
５５８４号公報）。
リレートの製造方法としては以下の方法が知られてい
る。 （１）アクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキ
ルエステルとクロロホーメートを塩酸受容体の存在下に
反応させてアルキルカーボネートアルキル（メタ）アク
リレートを得る方法（特公昭４２−８２９２号公報）。 （２）メタクリル酸ヒドロキシエチルエステルと炭酸ジ
メチルを炭酸カリウムを触媒として用いて生成するメタ
ノールを除きながら反応させてメチルカーボネートエチ
ルメタクリレートを得る方法（ＷＯ９７／０８２１５号
公報）。 （３）グリシジルメタクリレート等のエポキシ基にβ−
ブチロラクトンを反応させることにより５員環の環状カ
ーボネート構造を構築する方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ（１９８６），２７（３２），３７
４１−３７４４）。 （４）グリセリル（メタ）アクリレートとホスゲンある
いはクロロギ酸アルキルエステルとを塩酸受容体の存在
下に反応させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４
−イル−メチル（メタ）アクリレートを得る方法（米国
特許２，９７９，５１４号明細書）。 （５）グリセリンカーボネートとアクリル酸クロライド
あるいはアクリル酸無水物を塩酸受容体の存在下で反応
させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−
メチル（メタ）アクリレートを得る方法（Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．（１９６７），５（２），３０７−３２１）。 （６）グリセリンカーボネートとメチルメタクリレート
とをナトリウムメチラートの存在下でエステル交換反応
させて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−
メチル（メタ）アクリレートを得る方法（米国特許２，
９７９，５１４号明細書）。 （７）グリシジルメタクリレートと二酸化炭素とをアミ
ン又はホスフィン等の触媒及びアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属のハロゲン化物又は炭酸塩の存在下で反応さ
せて２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メ
チル（メタ）アクリレートを得る方法（特開昭６２−４
５５８４号公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記先行技術の中
（１）及び（２）は、直鎖状で分子内に１個のカーボネ
ート構造を有する（メタ）アクリレートの製造方法に関
するものであり、（３）〜（７）は５員環カーボネート
構造を有する（メタ）アクリレートの製造方法に関する
ものであって、前記一般式（１）で示されるような分子
内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレ
ートはこれまで知られていない。
（１）及び（２）は、直鎖状で分子内に１個のカーボネ
ート構造を有する（メタ）アクリレートの製造方法に関
するものであり、（３）〜（７）は５員環カーボネート
構造を有する（メタ）アクリレートの製造方法に関する
ものであって、前記一般式（１）で示されるような分子
内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレ
ートはこれまで知られていない。
【０００４】近年、カーボネート構造を有する（メタ）
アクリレートは、固体電解質電池用モノマーとして注目
されており、分子内に２個のカーボネート構造を有する
（メタ）アクリレートの性能は興味深いものがある。そ
こで、本発明は、分子内に２個のカーボネート構造を有
する有用な（メタ）アクリレート、及びその効率的な合
成方法を提供することを目的とする。
アクリレートは、固体電解質電池用モノマーとして注目
されており、分子内に２個のカーボネート構造を有する
（メタ）アクリレートの性能は興味深いものがある。そ
こで、本発明は、分子内に２個のカーボネート構造を有
する有用な（メタ）アクリレート、及びその効率的な合
成方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題について、本発
明者は鋭意検討した結果、分子内に１，２−ジオール基
を有する（メタ）アクリレート（例えばグリセリル（メ
タ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプロピルオ
キシエチル（メタ）アクリレート）とハロギ酸エステル
をアミンの存在下で反応させることにより分子内に２個
のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレートを合
成できることを見出し、本発明に至った。
明者は鋭意検討した結果、分子内に１，２−ジオール基
を有する（メタ）アクリレート（例えばグリセリル（メ
タ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプロピルオ
キシエチル（メタ）アクリレート）とハロギ酸エステル
をアミンの存在下で反応させることにより分子内に２個
のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレートを合
成できることを見出し、本発明に至った。
【０００６】すなわち本発明は、下記の一般式（１）で
示される分子内に２個のカーボネート構造を有する（メ
タ）アクリレートにある。
示される分子内に２個のカーボネート構造を有する（メ
タ）アクリレートにある。
【０００７】
【化５】 （式中、ｎは０又は１であり、Ｒ1 は水素原子又はメチ
ル基を示し、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基を示し、それらは置換基としてアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を有して
いてもよい。）
ル基を示し、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基を示し、それらは置換基としてアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を有して
いてもよい。）
【０００８】さらに本発明は、上記一般式（１）におい
て、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がいずれもメチル基であるメタク
リレートにある。
て、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がいずれもメチル基であるメタク
リレートにある。
【０００９】また本発明は、下記の一般式（２）で示さ
れるグリセリル（メタ）アクリレート又は下記の一般式
（３）で示される２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ
エチル（メタ）アクリレートと下記の一般式（４）で示
されるハロギ酸エステルをアミンの存在下で反応させる
ことを特徴とする前記一般式（１）で示される（メタ）
アクリレートの製造方法にある。
れるグリセリル（メタ）アクリレート又は下記の一般式
（３）で示される２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ
エチル（メタ）アクリレートと下記の一般式（４）で示
されるハロギ酸エステルをアミンの存在下で反応させる
ことを特徴とする前記一般式（１）で示される（メタ）
アクリレートの製造方法にある。
【００１０】
【化６】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示す。）
【化７】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示す。）
【００１１】
【化８】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ4 は炭素数１〜８
のアルキル基、アリール基を示し、それらは置換基とし
てアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ
基を有していてもよい。）
のアルキル基、アリール基を示し、それらは置換基とし
てアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ
基を有していてもよい。）
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の前記一般式（１）記載の
分子内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アク
リレートは、ｎ＝０の化合物については、例えば前記一
般式（２）で示されるグリセリル（メタ）アクリレート
をアミンの存在下で前記一般式（４）で示されるハロギ
酸エステルと反応させる方法により製造することがで
き、ｎ＝１の化合物については、例えば前記一般式
（３）で示される２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ
エチル（メタ）アクリレートをアミンの存在下で前記一
般式（４）で示されるハロギ酸エステルと反応させる方
法により製造することができる。
分子内に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アク
リレートは、ｎ＝０の化合物については、例えば前記一
般式（２）で示されるグリセリル（メタ）アクリレート
をアミンの存在下で前記一般式（４）で示されるハロギ
酸エステルと反応させる方法により製造することがで
き、ｎ＝１の化合物については、例えば前記一般式
（３）で示される２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ
エチル（メタ）アクリレートをアミンの存在下で前記一
般式（４）で示されるハロギ酸エステルと反応させる方
法により製造することができる。
【００１３】上述の製造方法において原料として用いる
前記一般式（２）で示されるグリセリル（メタ）アクリ
レートは、グリシジル（メタ）アクリレートを酸触媒存
在下、水と反応させる方法（特開平７−２７８０５４号
公報）、２，３−Ｏ−イソプロピリデングリセリル（メ
タ）アクリレートを酸触媒存在下、水と反応させる方法
（米国特許３９５７３６２号明細書）によって容易に合
成することができる。
前記一般式（２）で示されるグリセリル（メタ）アクリ
レートは、グリシジル（メタ）アクリレートを酸触媒存
在下、水と反応させる方法（特開平７−２７８０５４号
公報）、２，３−Ｏ−イソプロピリデングリセリル（メ
タ）アクリレートを酸触媒存在下、水と反応させる方法
（米国特許３９５７３６２号明細書）によって容易に合
成することができる。
【００１４】また、前記一般式（３）で示される２，３
−ジヒドロキシプロピルオキシエチル（メタ）アクリレ
ートについても前記一般式（２）で示されるグリセリル
（メタ）アクリレートと同様の製造法にて、対応するエ
ポキシドあるいはジオキソラン化合物より容易に合成す
ることができる。
−ジヒドロキシプロピルオキシエチル（メタ）アクリレ
ートについても前記一般式（２）で示されるグリセリル
（メタ）アクリレートと同様の製造法にて、対応するエ
ポキシドあるいはジオキソラン化合物より容易に合成す
ることができる。
【００１５】また、本発明の製造方法において原料とし
て用いる前記一般式（４）で示されるハロギ酸エステル
としては、例えば、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチ
ル、クロロギ酸ｎ−プロピル、クロロギ酸イソプロピ
ル、クロロギ酸ｎ−ブチル、クロロギ酸イソブチル、ク
ロロギ酸２−エトキシエチル、クロロギ酸−ｓｅｃ−ブ
チル、クロロギ酸ベンジル、クロロギ酸２−エチルヘキ
シル、クロロギ酸アリル、クロロギ酸フェニル、クロロ
ギ酸−２−ブトキシエチル等が挙げられる。
て用いる前記一般式（４）で示されるハロギ酸エステル
としては、例えば、クロロギ酸メチル、クロロギ酸エチ
ル、クロロギ酸ｎ−プロピル、クロロギ酸イソプロピ
ル、クロロギ酸ｎ−ブチル、クロロギ酸イソブチル、ク
ロロギ酸２−エトキシエチル、クロロギ酸−ｓｅｃ−ブ
チル、クロロギ酸ベンジル、クロロギ酸２−エチルヘキ
シル、クロロギ酸アリル、クロロギ酸フェニル、クロロ
ギ酸−２−ブトキシエチル等が挙げられる。
【００１６】本発明の製造方法におけるハロギ酸エステ
ルの使用量は、前記一般式（２）又は（３）で示される
化合物に対して通常０．５〜１０倍モルの範囲である
が、分子内に１個のカーボネート構造を有する鎖状（メ
タ）アクリレートあるいは２−オキソ−１，３−ジオキ
ソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート又は２
−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メトキシ
エチル（メタ）アクリレートのような環状カーボネート
の生成を抑え、かつ、経済性を考慮すると、２〜６倍モ
ルが好ましく、さらに好ましくは２．５〜５倍モルの範
囲である。
ルの使用量は、前記一般式（２）又は（３）で示される
化合物に対して通常０．５〜１０倍モルの範囲である
が、分子内に１個のカーボネート構造を有する鎖状（メ
タ）アクリレートあるいは２−オキソ−１，３−ジオキ
ソラン−４−イル−メチル（メタ）アクリレート又は２
−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メトキシ
エチル（メタ）アクリレートのような環状カーボネート
の生成を抑え、かつ、経済性を考慮すると、２〜６倍モ
ルが好ましく、さらに好ましくは２．５〜５倍モルの範
囲である。
【００１７】本発明の製造方法において使用するアミン
としては、例えば、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコ
リン、γ−ピコリン、３，５−ルチジン、２，６−ルチ
ジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−
ルチジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、４−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、イミ
ダゾール、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンジ
アミン等が挙げられるが、塩基性の強いアミンを使用し
た場合は、２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル−メチル（メタ）アクリレート又は２−オキソ−１，
３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチル（メタ）
アクリレートのような環状カーボネートの生成量が多く
なる傾向があるので、塩基性の弱いアミンを使用するこ
とが好ましい。具体的にはｐＫａが１２以下のアミンで
あり、好ましくはｐＫａが１０以下、さらに好ましくは
ｐＫａが７以下のアミンである。その中でも汎用性、経
済性の点から特にピリジンが好ましい。
としては、例えば、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコ
リン、γ−ピコリン、３，５−ルチジン、２，６−ルチ
ジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−
ルチジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、４−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、イミ
ダゾール、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンジ
アミン等が挙げられるが、塩基性の強いアミンを使用し
た場合は、２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル−メチル（メタ）アクリレート又は２−オキソ−１，
３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチル（メタ）
アクリレートのような環状カーボネートの生成量が多く
なる傾向があるので、塩基性の弱いアミンを使用するこ
とが好ましい。具体的にはｐＫａが１２以下のアミンで
あり、好ましくはｐＫａが１０以下、さらに好ましくは
ｐＫａが７以下のアミンである。その中でも汎用性、経
済性の点から特にピリジンが好ましい。
【００１８】アミンの使用量は、使用するハロギ酸エス
テルに対して１．０〜２．０倍モルの範囲である。好ま
しくは１．０２〜１．３倍モルであり、さらに好ましく
は１．０４〜１．１倍モルの範囲である。
テルに対して１．０〜２．０倍モルの範囲である。好ま
しくは１．０２〜１．３倍モルであり、さらに好ましく
は１．０４〜１．１倍モルの範囲である。
【００１９】本発明の製造方法は、溶媒の存在下又は不
存在下のいずれでも実施できるが、原料の溶解性を高
め、副反応を抑制するためには溶媒の存在下で実施する
ほうが好ましい。使用する溶媒としては、原料に対して
実質的に不活性であり、原料の溶解性が高く、副反応が
起こりにくく、かつ、反応終了後に容易に分離除去でき
るものが好ましい。このような溶媒としては、例えばペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタ
ン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン等の鎖状もしくは環状飽和炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、エチ
ルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジ
オキサン等の鎖状若しくは環状エーテル等が挙げられ
る。
存在下のいずれでも実施できるが、原料の溶解性を高
め、副反応を抑制するためには溶媒の存在下で実施する
ほうが好ましい。使用する溶媒としては、原料に対して
実質的に不活性であり、原料の溶解性が高く、副反応が
起こりにくく、かつ、反応終了後に容易に分離除去でき
るものが好ましい。このような溶媒としては、例えばペ
ンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタ
ン、ノナン、デカン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン等の鎖状もしくは環状飽和炭
化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、エチ
ルベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素、塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭
化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジ
オキサン等の鎖状若しくは環状エーテル等が挙げられ
る。
【００２０】しかしながら、副反応の抑制、高純度製品
の取得の面から、鎖状若しくは環状エーテルあるいはト
ルエン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン等のハロゲン
化炭化水素が好ましい。また、溶媒は単一のみならず、
２種類以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、通常、
前記一般式（２）又は（３）で示される化合物に対して
０．１〜２０倍重量、好ましくは２〜１０倍重量、さら
に好ましくは４〜８倍重量である。本反応はアミン塩の
副生、析出を含むスラリー生成反応のため、溶媒量を少
なくすると攪拌に対する負荷が高くなり、溶媒量を多く
すると反応速度が遅くなる。
の取得の面から、鎖状若しくは環状エーテルあるいはト
ルエン等の芳香族炭化水素、塩化メチレン等のハロゲン
化炭化水素が好ましい。また、溶媒は単一のみならず、
２種類以上を併用してもよい。溶媒の使用量は、通常、
前記一般式（２）又は（３）で示される化合物に対して
０．１〜２０倍重量、好ましくは２〜１０倍重量、さら
に好ましくは４〜８倍重量である。本反応はアミン塩の
副生、析出を含むスラリー生成反応のため、溶媒量を少
なくすると攪拌に対する負荷が高くなり、溶媒量を多く
すると反応速度が遅くなる。
【００２１】反応温度は、使用する前記一般式（２）又
は（３）で示される化合物及び生成物の重合性、また、
使用する溶媒の種類、沸点、仕込み組成によって決定さ
れるので一概には言えないが、通常は、−１０〜８０
℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。このとき、前
記一般式（２）又は（３）で示される化合物へのハロギ
酸エステルの最初の１モルの付加反応は速いので、反応
初期の反応温度は比較的低い温度、具体的には０〜１０
℃で充分であるが、次のステップである２モル目のハロ
ギ酸エステルの付加反応は遅いので、反応を完結させる
ためには、反応後半には昇温してより高い温度で反応さ
せるようにするのがよい。その温度範囲は、通常１５〜
８０℃、好ましくは２０〜５０℃である。
は（３）で示される化合物及び生成物の重合性、また、
使用する溶媒の種類、沸点、仕込み組成によって決定さ
れるので一概には言えないが、通常は、−１０〜８０
℃、好ましくは０〜５０℃の範囲である。このとき、前
記一般式（２）又は（３）で示される化合物へのハロギ
酸エステルの最初の１モルの付加反応は速いので、反応
初期の反応温度は比較的低い温度、具体的には０〜１０
℃で充分であるが、次のステップである２モル目のハロ
ギ酸エステルの付加反応は遅いので、反応を完結させる
ためには、反応後半には昇温してより高い温度で反応さ
せるようにするのがよい。その温度範囲は、通常１５〜
８０℃、好ましくは２０〜５０℃である。
【００２２】前記一般式（２）又は（３）で示される化
合物をハロギ酸エステルと反応させる手段としては、例
えば、前記一般式（２）又は（３）で示される化合物、
アミン、溶媒の混合液中にハロギ酸エステルを滴下する
方法や、ハロギ酸エステル、アミン、溶媒の混合液中に
前記一般式（２）又は（３）で示される化合物を滴下す
る方法等が挙げられるが、ハロギ酸エステルの分解を考
慮すると、前者の方法が好ましい。
合物をハロギ酸エステルと反応させる手段としては、例
えば、前記一般式（２）又は（３）で示される化合物、
アミン、溶媒の混合液中にハロギ酸エステルを滴下する
方法や、ハロギ酸エステル、アミン、溶媒の混合液中に
前記一般式（２）又は（３）で示される化合物を滴下す
る方法等が挙げられるが、ハロギ酸エステルの分解を考
慮すると、前者の方法が好ましい。
【００２３】本発明の製造方法においては、反応中の
（メタ）アクリレートの重合を防止するために、重合防
止剤を予め添加しておくことが好ましく、また、必要に
応じてエアーを導入しながら反応を行うことが好まし
い。
（メタ）アクリレートの重合を防止するために、重合防
止剤を予め添加しておくことが好ましく、また、必要に
応じてエアーを導入しながら反応を行うことが好まし
い。
【００２４】反応終了後、反応によって生成したアミン
塩を除去するために、濾過、水洗等を行い、その後、減
圧等によって溶媒を除去する事によって目的とする前記
一般式（１）で示される分子内に２個のカーボネート構
造を有する（メタ）アクリレートを得ることができる。
塩を除去するために、濾過、水洗等を行い、その後、減
圧等によって溶媒を除去する事によって目的とする前記
一般式（１）で示される分子内に２個のカーボネート構
造を有する（メタ）アクリレートを得ることができる。
【００２５】上述のようにして得られる本発明の分子内
に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレー
ト化合物としては、例えば、次のものが挙げられる。
２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメ
タクリレート、２，３−ビス（エトキシカルボニルオキ
シ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−プロ
ポキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、
２，３−ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）プロ
ピルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−ブトキシカル
ボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス
（２−メチルプロピルオキシカルボニルオキシ）プロピ
ルメタクリレート、２，３−ビス（２−エトキシエトキ
シカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３
−ビス（１−メチルプロピルオキシカルボニルオキシ）
プロピルメタクリレート、２，３−ビス（ベンジルオキ
シカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３
−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）
プロピルメタクリレート、２，３−ビス（アリルオキシ
カルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−
ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリ
レート、２，３−ビス（２−ブトキシエトキシカルボニ
ルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス（メ
トキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，
３−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プロピルアクリ
レート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキ
シ）プロピルアクリレート、２，３−ビス（イソプロポ
キシカルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３
−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）プロピルアク
リレート、２，３−ビス（２−メチルプロピルオキシカ
ルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビス
（２−エトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピルア
クリレート、２，３−ビス（１−メチルプロピルオキシ
カルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビ
ス（ベンジルオキシカルボニルオキシ）プロピルアクリ
レート、２，３−ビス（２−エチルヘキシルオキシカル
ボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビス
（アリルオキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレー
ト、２，３−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロ
ピルアクリレート、２，３−ビス（２−ブトキシエトキ
シカルボニルオキシ）プロピルアクリレート等。
に２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレー
ト化合物としては、例えば、次のものが挙げられる。
２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメ
タクリレート、２，３−ビス（エトキシカルボニルオキ
シ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−プロ
ポキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、
２，３−ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）プロ
ピルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−ブトキシカル
ボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス
（２−メチルプロピルオキシカルボニルオキシ）プロピ
ルメタクリレート、２，３−ビス（２−エトキシエトキ
シカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３
−ビス（１−メチルプロピルオキシカルボニルオキシ）
プロピルメタクリレート、２，３−ビス（ベンジルオキ
シカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３
−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキシ）
プロピルメタクリレート、２，３−ビス（アリルオキシ
カルボニルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−
ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリ
レート、２，３−ビス（２−ブトキシエトキシカルボニ
ルオキシ）プロピルメタクリレート、２，３−ビス（メ
トキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，
３−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プロピルアクリ
レート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキ
シ）プロピルアクリレート、２，３−ビス（イソプロポ
キシカルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３
−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）プロピルアク
リレート、２，３−ビス（２−メチルプロピルオキシカ
ルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビス
（２−エトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピルア
クリレート、２，３−ビス（１−メチルプロピルオキシ
カルボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビ
ス（ベンジルオキシカルボニルオキシ）プロピルアクリ
レート、２，３−ビス（２−エチルヘキシルオキシカル
ボニルオキシ）プロピルアクリレート、２，３−ビス
（アリルオキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレー
ト、２，３−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロ
ピルアクリレート、２，３−ビス（２−ブトキシエトキ
シカルボニルオキシ）プロピルアクリレート等。
【００２６】及び、２，３−ビス（メトキシカルボニル
オキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３
−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエ
チルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカ
ルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレー
ト、２，３−ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）
プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３−ビス
（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルメタクリレート、２，３−ビス（２−メチルプロピル
オキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタク
リレート、２，３−ビス（２−エトキシエトキシカルボ
ニルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、
２，３−ビス（１−メチルプロピルオキシカルボニルオ
キシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３−
ビス（ベンジルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルメタクリレート、２，３−ビス（２−エチルヘ
キシルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチル
メタクリレート、２，３−ビス（アリルオキシカルボニ
ルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，
３−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルメタクリレート、２，３−ビス（２−ブトキシ
エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタ
クリレート、２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビス
（エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルア
クリレート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカルボニル
オキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−
ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルアクリレート、２，３−ビス（ｎ−ブトキシカ
ルボニルオキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、
２，３−ビス（２−メチルプロピルオキシカルボニルオ
キシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビ
ス（２−エトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピル
オキシエチルアクリレート、２，３−ビス（１−メチル
プロピルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルアクリレート、２，３−ビス（ベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，
３−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビス
（アリルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルアクリレート、２，３−ビス（フェノキシカルボニル
オキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−
ビス（２−ブトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピ
ルオキシエチルアクリレート等。
オキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３
−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエ
チルメタクリレート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカ
ルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレー
ト、２，３−ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）
プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３−ビス
（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルメタクリレート、２，３−ビス（２−メチルプロピル
オキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタク
リレート、２，３−ビス（２−エトキシエトキシカルボ
ニルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、
２，３−ビス（１−メチルプロピルオキシカルボニルオ
キシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，３−
ビス（ベンジルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルメタクリレート、２，３−ビス（２−エチルヘ
キシルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチル
メタクリレート、２，３−ビス（アリルオキシカルボニ
ルオキシ）プロピルオキシエチルメタクリレート、２，
３−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルメタクリレート、２，３−ビス（２−ブトキシ
エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタ
クリレート、２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビス
（エトキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルア
クリレート、２，３−ビス（ｎ−プロポキシカルボニル
オキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−
ビス（イソプロポキシカルボニルオキシ）プロピルオキ
シエチルアクリレート、２，３−ビス（ｎ−ブトキシカ
ルボニルオキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、
２，３−ビス（２−メチルプロピルオキシカルボニルオ
キシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビ
ス（２−エトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピル
オキシエチルアクリレート、２，３−ビス（１−メチル
プロピルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルアクリレート、２，３−ビス（ベンジルオキシカルボ
ニルオキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，
３−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−ビス
（アリルオキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチ
ルアクリレート、２，３−ビス（フェノキシカルボニル
オキシ）プロピルオキシエチルアクリレート、２，３−
ビス（２−ブトキシエトキシカルボニルオキシ）プロピ
ルオキシエチルアクリレート等。
【００２７】これらの中、前記一般式（１）においてＲ
1 、Ｒ2 及びＲ3 が何れもメチル基である２，３−ビス
（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
及び２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピ
ルオキシエチルメタクリレートは汎用工業製品として安
価に入手できるクロロギ酸メチルを原料として経済的に
製造することができるので好ましく、その中でも、２，
３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタク
リレートは、グリシジルメタクリレートから容易に合成
できるグリセリルメタクリレートを原料とする点から、
さらに好ましい。
1 、Ｒ2 及びＲ3 が何れもメチル基である２，３−ビス
（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
及び２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピ
ルオキシエチルメタクリレートは汎用工業製品として安
価に入手できるクロロギ酸メチルを原料として経済的に
製造することができるので好ましく、その中でも、２，
３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタク
リレートは、グリシジルメタクリレートから容易に合成
できるグリセリルメタクリレートを原料とする点から、
さらに好ましい。
【００２８】このような本発明の化合物の用途として
は、例えば、固体電解質電池、粘着剤、レジスト等が挙
げられる。
は、例えば、固体電解質電池、粘着剤、レジスト等が挙
げられる。
【００２９】
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに説明す
るが、実施例によって本発明が限定されるものではな
い。説明中における化合物の濃度は、高速液体クロマト
グラフィー分析における相対面積濃度であり、収率は実
得収率である。なお、化合物濃度及び収率は次のように
して算出した。
るが、実施例によって本発明が限定されるものではな
い。説明中における化合物の濃度は、高速液体クロマト
グラフィー分析における相対面積濃度であり、収率は実
得収率である。なお、化合物濃度及び収率は次のように
して算出した。
【００３０】
【数１】濃度（％）＝Ａ／Ｂ×１００ ここに、Ａは当該化合物のピーク面積、Ｂは全ピークの
合計面積である。
合計面積である。
【００３１】
【数２】収率（％）＝Ｃ／Ｄ×１００ ここに、Ｃは当該化合物のモル数、Ｄは仕込んだグリセ
リル（メタ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプ
ロピルオキシエチル（メタ）アクリレートのモル数であ
る。
リル（メタ）アクリレート又は２，３−ジヒドロキシプ
ロピルオキシエチル（メタ）アクリレートのモル数であ
る。
【００３２】また、高速液体クロマトグラフィーによる
分析は以下の条件で行った。 装 置：島津製作所製ＬＣ−１０Ａ カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３ ４．６ｍｍφ
×２５０ｍｍ 移動相：ＣＨ3 ＣＮ：Ｈ2 Ｏ＝５００：５００ 流 速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検 出：ＵＶ検出器（波長２２０ｎｍ） 温 度：４０℃
分析は以下の条件で行った。 装 置：島津製作所製ＬＣ−１０Ａ カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−３ ４．６ｍｍφ
×２５０ｍｍ 移動相：ＣＨ3 ＣＮ：Ｈ2 Ｏ＝５００：５００ 流 速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 検 出：ＵＶ検出器（波長２２０ｎｍ） 温 度：４０℃
【００３３】［実施例１］攪拌機、攪拌モーター、温度
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルメタクリレート３２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピリ
ジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェ
ノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２ｇ
を加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちながら
クロロギ酸メチル７５．６ｇ（０．８ｍｏｌ）を２．５
時間にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で４時
間、さらに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却
した。副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌ
で５回洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃
縮することによって釜残として目的生成物である２，３
−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリ
レートを５２ｇ得た。目的生成物の濃度は９６．１％で
あり、実得収率は９０％であった。なお、副生物である
２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル
メタクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例
で得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰ
ＨＡは２３であった。実施例１で得られた２，３−ビス
（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、13Ｃ−ＮＭＲスペクトルを
それぞれ図１、図２に示す。
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルメタクリレート３２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピリ
ジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェ
ノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２ｇ
を加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちながら
クロロギ酸メチル７５．６ｇ（０．８ｍｏｌ）を２．５
時間にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で４時
間、さらに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却
した。副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌ
で５回洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃
縮することによって釜残として目的生成物である２，３
−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリ
レートを５２ｇ得た。目的生成物の濃度は９６．１％で
あり、実得収率は９０％であった。なお、副生物である
２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル
メタクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例
で得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰ
ＨＡは２３であった。実施例１で得られた２，３−ビス
（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、13Ｃ−ＮＭＲスペクトルを
それぞれ図１、図２に示す。
【００３４】［実施例２］アミンとしてピリジンの代り
にトリエチルアミン８５．００ｇ（０．８４ｍｏｌ）を
用いたほかは実施例１と同様に反応及び水洗、濃縮を行
い、釜残液３７．２４ｇを得た。この釜残液中には、目
的生成物である２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルメタクリレートが１８％の濃度で含まれて
いた。主成分は環状カーボネートである２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−イル−メチルメタクリレー
トであり、その濃度は８２％であった。
にトリエチルアミン８５．００ｇ（０．８４ｍｏｌ）を
用いたほかは実施例１と同様に反応及び水洗、濃縮を行
い、釜残液３７．２４ｇを得た。この釜残液中には、目
的生成物である２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルメタクリレートが１８％の濃度で含まれて
いた。主成分は環状カーボネートである２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−イル−メチルメタクリレー
トであり、その濃度は８２％であった。
【００３５】［実施例３］アミンとしてピリジンの代り
に１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７
−エン１２７．９ｇ（０．８４ｍｏｌ）を、また、トル
エンの代わりに塩化メチレン２６１ｇを用いたほかは実
施例１と同様に反応及び水洗、濃縮を行い、釜残液３
９．９４ｇを得た。この釜残液中には、目的生成物であ
る２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピル
メタクリレートが９％の濃度で含まれていた。主成分は
環状カーボネートである２−オキソ−１，３−ジオキソ
ラン−４−イル−メチルメタクリレートであり、その濃
度は７４％であった。
に１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７
−エン１２７．９ｇ（０．８４ｍｏｌ）を、また、トル
エンの代わりに塩化メチレン２６１ｇを用いたほかは実
施例１と同様に反応及び水洗、濃縮を行い、釜残液３
９．９４ｇを得た。この釜残液中には、目的生成物であ
る２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピル
メタクリレートが９％の濃度で含まれていた。主成分は
環状カーボネートである２−オキソ−１，３−ジオキソ
ラン−４−イル−メチルメタクリレートであり、その濃
度は７４％であった。
【００３６】［実施例４］攪拌機、攪拌モーター、温度
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルメタクリレート３２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピリ
ジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェ
ノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２ｇ
を加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちながら
クロロギ酸エチル８６．９ｇ（０．８ｍｏｌ）を２時間
にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で３時間、さ
らに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却した。
副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌで５回
洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃縮する
ことによって釜残として目的生成物である２，３−ビス
（エトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
を５７．９ｇ得た。目的生成物の濃度は９６．１％であ
り、実得収率は９２％であった。なお、副生物である２
−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチルメ
タクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で
得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨ
Ａは３０であった。
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルメタクリレート３２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピリ
ジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフェ
ノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２ｇ
を加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちながら
クロロギ酸エチル８６．９ｇ（０．８ｍｏｌ）を２時間
にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で３時間、さ
らに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却した。
副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌで５回
洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃縮する
ことによって釜残として目的生成物である２，３−ビス
（エトキシカルボニルオキシ）プロピルメタクリレート
を５７．９ｇ得た。目的生成物の濃度は９６．１％であ
り、実得収率は９２％であった。なお、副生物である２
−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチルメ
タクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で
得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨ
Ａは３０であった。
【００３７】［実施例５］攪拌機、攪拌モーター、温度
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルアクリレート２９．２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピ
リジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフ
ェノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２
ｇを加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちなが
らクロロギ酸メチル７５．６ｇ（０．８ｍｏｌ）を３時
間にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で３時間、
さらに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却し
た。副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌで
５回洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃縮
することによって釜残として目的生成物である２，３−
ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレー
トを４９．１ｇ得た。目的生成物の濃度は９５．０％で
あり、実得収率は８９％であった。なお、副生物である
２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル
アクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で
得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨ
Ａは２５であった。
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコにグ
リセリルアクリレート２９．２ｇ（０．２ｍｏｌ）、ピ
リジン６９．４ｇ（０．８４ｍｏｌ）、ｐ−メトキシフ
ェノール０．００６ｇを仕込み、これにトルエン１７２
ｇを加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に保ちなが
らクロロギ酸メチル７５．６ｇ（０．８ｍｏｌ）を３時
間にわたって滴下した。滴下終了後、２５℃で３時間、
さらに４０℃で２時間熟成を行った後、釜液を冷却し
た。副生したアミン塩酸塩を除くために水１００ｍｌで
５回洗浄した後、エアー導入下に有機層を減圧下で濃縮
することによって釜残として目的生成物である２，３−
ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルアクリレー
トを４９．１ｇ得た。目的生成物の濃度は９５．０％で
あり、実得収率は８９％であった。なお、副生物である
２−オキソ−１，３−ジオキソラン−４−イル−メチル
アクリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で
得られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨ
Ａは２５であった。
【００３８】［実施例６］攪拌機、攪拌モーター、温度
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコに
２，３−ジヒドロキシプロピルオキシエチルメタクリレ
ート（純度９５．０％）１０．７５ｇ（０．０５ｍｏ
ｌ）、ピリジン１６．６１ｇ（０．２１ｍｏｌ）、ｐ−
メトキシフェノール０．００２ｇを仕込み、これにトル
エン４３ｇを加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に
保ちながらクロロギ酸メチル１８．９０ｇ（０．２ｍｏ
ｌ）を１時間にわたって滴下した。滴下終了後、昇温
し、４０℃で７時間熟成を行った後、釜液を冷却した。
トルエン４３ｇを加えて希釈し、副生したアミン塩酸塩
を除くために水１００ｍｌで５回洗浄した後、エアー導
入下、減圧下で濃縮することによって釜残として目的生
成物である２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）
プロピルオキシエチルメタクリレートを１５．２９ｇ得
た。目的生成物の濃度は９５．４％であり、実得収率は
９１．１％であった。なお、副生物である２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチルメタ
クリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で得
られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡ
は２０であった。実施例６で得られた２，３−ビス（メ
トキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタク
リレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、13Ｃ−ＮＭＲスペ
クトルをそれぞれ図３、図４に示す。
計、ブラインコンデンサーを備えた４つ口フラスコに
２，３−ジヒドロキシプロピルオキシエチルメタクリレ
ート（純度９５．０％）１０．７５ｇ（０．０５ｍｏ
ｌ）、ピリジン１６．６１ｇ（０．２１ｍｏｌ）、ｐ−
メトキシフェノール０．００２ｇを仕込み、これにトル
エン４３ｇを加えて溶解させた後、内温を５〜１０℃に
保ちながらクロロギ酸メチル１８．９０ｇ（０．２ｍｏ
ｌ）を１時間にわたって滴下した。滴下終了後、昇温
し、４０℃で７時間熟成を行った後、釜液を冷却した。
トルエン４３ｇを加えて希釈し、副生したアミン塩酸塩
を除くために水１００ｍｌで５回洗浄した後、エアー導
入下、減圧下で濃縮することによって釜残として目的生
成物である２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）
プロピルオキシエチルメタクリレートを１５．２９ｇ得
た。目的生成物の濃度は９５．４％であり、実得収率は
９１．１％であった。なお、副生物である２−オキソ−
１，３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチルメタ
クリレートの濃度は、０．１％以下であった。本例で得
られた製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡ
は２０であった。実施例６で得られた２，３−ビス（メ
トキシカルボニルオキシ）プロピルオキシエチルメタク
リレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、13Ｃ−ＮＭＲスペ
クトルをそれぞれ図３、図４に示す。
【００３９】［実施例７］クロロギ酸メチルの代わりに
クロロギ酸エチルを２１．７３ｇ（０．２ｍｏｌ）用い
たほかは実施例６と同様に操作し、釜残として目的生成
物である２，３−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルオキシエチルメタクリレートを１６．６７ｇ得
た。目的生成物の濃度は９５．１％であり、実得収率は
９１％であった。なお、副生物である２−オキソ−１，
３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチルメタクリ
レートの濃度は、０．１％以下であった。本例で得られ
た製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡは２
５であった。
クロロギ酸エチルを２１．７３ｇ（０．２ｍｏｌ）用い
たほかは実施例６と同様に操作し、釜残として目的生成
物である２，３−ビス（エトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルオキシエチルメタクリレートを１６．６７ｇ得
た。目的生成物の濃度は９５．１％であり、実得収率は
９１％であった。なお、副生物である２−オキソ−１，
３−ジオキソラン−４−イル−メトキシエチルメタクリ
レートの濃度は、０．１％以下であった。本例で得られ
た製品は、ほとんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡは２
５であった。
【００４０】［実施例８］２，３−ジヒドロキシプロピ
ルオキシエチルメタクリレートの代わりに２，３−ジヒ
ドロキシプロピルオキシエチルアクリレート（純度９５
％）１０．０１ｇ（０．０５ｍｏｌ）を用いたほかは実
施例６と同様に操作し、釜残として目的生成物である
２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルオ
キシエチルアクリレートを１４．７８ｇ得た。目的生成
物の濃度は９５．３％であり、実得収率は９２％であっ
た。なお、副生物である２−オキソ−１，３−ジオキソ
ラン−４−イル−メトキシエチルアクリレートの濃度
は、０．１％以下であった。本例で得られた製品は、ほ
とんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡは２８であった。
ルオキシエチルメタクリレートの代わりに２，３−ジヒ
ドロキシプロピルオキシエチルアクリレート（純度９５
％）１０．０１ｇ（０．０５ｍｏｌ）を用いたほかは実
施例６と同様に操作し、釜残として目的生成物である
２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルオ
キシエチルアクリレートを１４．７８ｇ得た。目的生成
物の濃度は９５．３％であり、実得収率は９２％であっ
た。なお、副生物である２−オキソ−１，３−ジオキソ
ラン−４−イル−メトキシエチルアクリレートの濃度
は、０．１％以下であった。本例で得られた製品は、ほ
とんど着色しておらず、色数ＡＰＨＡは２８であった。
【００４１】
【発明の効果】本発明によれば、固体電解質電池、粘着
剤、レジスト等への用途が期待される分子内にカーボネ
ート構造を２個有する（メタ）アクリレート、特に２，
３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタク
リレート及び２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルメタクリレートを効率的、か
つ、経済的に合成することができる。
剤、レジスト等への用途が期待される分子内にカーボネ
ート構造を２個有する（メタ）アクリレート、特に２，
３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プロピルメタク
リレート及び２，３−ビス（メトキシカルボニルオキ
シ）プロピルオキシエチルメタクリレートを効率的、か
つ、経済的に合成することができる。
【図１】２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルメタクリレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
ロピルメタクリレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
【図２】２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルメタクリレートの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
ロピルメタクリレートの13Ｃ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
【図３】２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルオキシエチルメタクリレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルである。
ロピルオキシエチルメタクリレートの 1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルである。
【図４】２，３−ビス（メトキシカルボニルオキシ）プ
ロピルオキシエチルメタクリレートの13Ｃ−ＮＭＲスペ
クトルである。
ロピルオキシエチルメタクリレートの13Ｃ−ＮＭＲスペ
クトルである。
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の一般式（１）で示される分子内に
２個のカーボネート構造を有する（メタ）アクリレー
ト。 【化１】 （式中、ｎは０又は１であり、Ｒ1 は水素原子又はメチ
ル基を示し、Ｒ2 及びＲ3 は炭素数１〜８のアルキル
基、アリール基を示し、それらは置換基としてアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を有して
いてもよい。） - 【請求項２】 Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 がいずれもメチル基で
ある請求項１記載の分子内に２個のカーボネート構造を
有するメタクリレート。 - 【請求項３】 下記の一般式（２）で示されるグリセリ
ル（メタ）アクリレート又は下記の一般式（３）で示さ
れる２，３−ジヒドロキシプロピルオキシエチル（メ
タ）アクリレートと下記の一般式（４）で示されるハロ
ギ酸エステルをアミンの存在下で反応させることを特徴
とする請求項１記載の（メタ）アクリレートの製造方
法。 【化２】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示す。） 【化３】 （式中、Ｒ1 は水素原子又はメチル基を示す。） 【化４】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ4 は炭素数１〜８
のアルキル基、アリール基を示し、それらは置換基とし
てアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ
基を有していてもよい。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28949799A JP3838828B2 (ja) | 1998-10-20 | 1999-10-12 | （メタ）アクリレート及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-315374 | 1998-10-20 | ||
| JP31537498 | 1998-10-20 | ||
| JP28949799A JP3838828B2 (ja) | 1998-10-20 | 1999-10-12 | （メタ）アクリレート及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000191604A true JP2000191604A (ja) | 2000-07-11 |
| JP3838828B2 JP3838828B2 (ja) | 2006-10-25 |
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ID=26557621
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28949799A Expired - Fee Related JP3838828B2 (ja) | 1998-10-20 | 1999-10-12 | （メタ）アクリレート及びその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3838828B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021144996A1 (ja) * | 2020-01-15 | 2021-07-22 | 日油株式会社 | シクロカーボネート基含有（メタ）アクリレートモノマーおよび重合体 |
-
1999
- 1999-10-12 JP JP28949799A patent/JP3838828B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021144996A1 (ja) * | 2020-01-15 | 2021-07-22 | 日油株式会社 | シクロカーボネート基含有（メタ）アクリレートモノマーおよび重合体 |
| CN114846033A (zh) * | 2020-01-15 | 2022-08-02 | 日油株式会社 | 含环碳酸酯基的(甲基)丙烯酸酯单体及聚合物 |
| CN114846033B (zh) * | 2020-01-15 | 2024-01-30 | 日油株式会社 | 含环碳酸酯基的(甲基)丙烯酸酯单体及聚合物 |
| JP7486721B2 (ja) | 2020-01-15 | 2024-05-20 | 日油株式会社 | シクロカーボネート基含有（メタ）アクリレートモノマーおよび重合体 |
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| JP3838828B2 (ja) | 2006-10-25 |
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