JP2000185028A - Ｍｒトモグラフィ装置の磁石システムをシミングするための方法およびこの方法を実行するためのｍｒトモグラフィ装置 - Google Patents
Ｍｒトモグラフィ装置の磁石システムをシミングするための方法およびこの方法を実行するためのｍｒトモグラフィ装置Info
- Publication number
- JP2000185028A JP2000185028A JP11363039A JP36303999A JP2000185028A JP 2000185028 A JP2000185028 A JP 2000185028A JP 11363039 A JP11363039 A JP 11363039A JP 36303999 A JP36303999 A JP 36303999A JP 2000185028 A JP2000185028 A JP 2000185028A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shim
- current
- magnetic field
- gradient
- tomography device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3875—Compensation of inhomogeneities using correction coil assemblies, e.g. active shimming
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シム電流を与えられる少なくとも１つのシム
チャネルを有するＭＲトモグラフィ装置における磁石シ
ステムのシミングを行う方法において、多くの同時に存
在するｋ空間経路において、測定される核共鳴信号への
基本磁界の不均一性の影響を減ずる。 【解決手段】 シム電流がｋ空間経路の寿命の間に変更
される。
チャネルを有するＭＲトモグラフィ装置における磁石シ
ステムのシミングを行う方法において、多くの同時に存
在するｋ空間経路において、測定される核共鳴信号への
基本磁界の不均一性の影響を減ずる。 【解決手段】 シム電流がｋ空間経路の寿命の間に変更
される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＭＲトモグラフィ
装置の磁石システムをシミングするための方法およびこ
の方法を実行するためのＭＲトモグラフィ装置に関す
る。
装置の磁石システムをシミングするための方法およびこ
の方法を実行するためのＭＲトモグラフィ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ＭＲトモグラフィ装置では、基本磁界の
均等性が決定的な因子である。相応の磁石設計および固
定的なシム装置、例えば適当な個所に取付けられた強磁
性材料により画定された体積の中で、所定の磁界均等性
が達成される。以下では測定体積と呼ぶこの体積は、典
型的に５０ｃｍと６０ｃｍとの間の直径を有する球であ
る。それとならんでＭＲトモグラフィ装置には、通常シ
ムコイルが存在しており、それにより像データ測定の直
前に磁界のもう一度改善されたシミングが達成される。
通常その際に、存在する不均等性を測定するため、局所
化されない励起の後に、核共鳴装置のアンテナにより受
信される全ての核共鳴信号が利用される。このようなシ
ミングは以下で“グローバルな”シミングとも呼ばれ
る。
均等性が決定的な因子である。相応の磁石設計および固
定的なシム装置、例えば適当な個所に取付けられた強磁
性材料により画定された体積の中で、所定の磁界均等性
が達成される。以下では測定体積と呼ぶこの体積は、典
型的に５０ｃｍと６０ｃｍとの間の直径を有する球であ
る。それとならんでＭＲトモグラフィ装置には、通常シ
ムコイルが存在しており、それにより像データ測定の直
前に磁界のもう一度改善されたシミングが達成される。
通常その際に、存在する不均等性を測定するため、局所
化されない励起の後に、核共鳴装置のアンテナにより受
信される全ての核共鳴信号が利用される。このようなシ
ミングは以下で“グローバルな”シミングとも呼ばれ
る。
【０００３】米国特許第 4,700,136号明細書から、均等
性を設定するために、後に本来の測定も行われる領域か
らの信号のみが利用されるならば、均等性が局所的にな
お一層改善されることは知られている。この領域は、以
下では目的領域と呼ばれる。基本磁界の局所的なシミン
グのために適する方法は、例えば米国特許第 5,614,827
号明細書から知られている。シミングの目的はこれま
で、全ての像データ測定の間に基本磁界の中の不均等性
をシムコイルにより発生される磁界により補償すること
であった。しかし局所的なシミングは特定の領域にしか
作用しない。すなわち特定のシム電流設定により、特定
の領域内の基本磁界中の不均等性は補償できるが、他の
領域内の基本磁界中の不均等性は補償できない。
性を設定するために、後に本来の測定も行われる領域か
らの信号のみが利用されるならば、均等性が局所的にな
お一層改善されることは知られている。この領域は、以
下では目的領域と呼ばれる。基本磁界の局所的なシミン
グのために適する方法は、例えば米国特許第 5,614,827
号明細書から知られている。シミングの目的はこれま
で、全ての像データ測定の間に基本磁界の中の不均等性
をシムコイルにより発生される磁界により補償すること
であった。しかし局所的なシミングは特定の領域にしか
作用しない。すなわち特定のシム電流設定により、特定
の領域内の基本磁界中の不均等性は補償できるが、他の
領域内の基本磁界中の不均等性は補償できない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、多く
の同時に存在するｋ空間経路において、測定される核共
鳴信号への基本磁界の不均等性の影響を減ずることであ
る。
の同時に存在するｋ空間経路において、測定される核共
鳴信号への基本磁界の不均等性の影響を減ずることであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題は、本発明によ
れば、請求項１の特徴により解決される。ｋ空間経路の
寿命の間のシム電流が変更可能性により、種々の同時に
存在するｋ空間経路に、励起または読出し時点またはｋ
空間経路が相異なっているかぎり、個別に影響を与える
可能性が生ずる。ｋ空間経路とはその際に下記のように
定義されているｋ空間の中の信号位置の時間的な経過を
意味する： ｋx＝γ∫Ｇｘ・ｘ・ｄｔ ｋy＝γ∫Ｇｙ・ｙ・ｄｔ ｋy＝γ∫Ｇｚ・ｚ・ｄｔ その際にＧｘ、Ｇｙ、Ｇｚは勾配システムにより発生さ
れる（所望の）勾配を表すだけでなく、磁界の不均等性
を一緒に含んでいる。ｘ、ｙ、ｚは直角座標系の中の座
標を表し、またγは磁気回転定数である。本発明は、基
本磁界の均等性がＭＲシーケンスの励起および読出し位
相の間のみ重要であるという認識から出発する。励起お
よび読出しなしの時間間隔の中では、どの時間的展開の
中でスピンデフェージングが影響されるかは重要でな
い。一般に、読出し時点でシム磁界により基本磁界の不
均等性により惹起されるデフェージングが励起と読出し
との間の時間間隔にわたる時間積分として補償されてい
ることに注意しさえすればよい。
れば、請求項１の特徴により解決される。ｋ空間経路の
寿命の間のシム電流が変更可能性により、種々の同時に
存在するｋ空間経路に、励起または読出し時点またはｋ
空間経路が相異なっているかぎり、個別に影響を与える
可能性が生ずる。ｋ空間経路とはその際に下記のように
定義されているｋ空間の中の信号位置の時間的な経過を
意味する： ｋx＝γ∫Ｇｘ・ｘ・ｄｔ ｋy＝γ∫Ｇｙ・ｙ・ｄｔ ｋy＝γ∫Ｇｚ・ｚ・ｄｔ その際にＧｘ、Ｇｙ、Ｇｚは勾配システムにより発生さ
れる（所望の）勾配を表すだけでなく、磁界の不均等性
を一緒に含んでいる。ｘ、ｙ、ｚは直角座標系の中の座
標を表し、またγは磁気回転定数である。本発明は、基
本磁界の均等性がＭＲシーケンスの励起および読出し位
相の間のみ重要であるという認識から出発する。励起お
よび読出しなしの時間間隔の中では、どの時間的展開の
中でスピンデフェージングが影響されるかは重要でな
い。一般に、読出し時点でシム磁界により基本磁界の不
均等性により惹起されるデフェージングが励起と読出し
との間の時間間隔にわたる時間積分として補償されてい
ることに注意しさえすればよい。
【０００６】本発明の有利な実施態様は従属請求項にあ
げられている。
げられている。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図１ないし４により
一層詳細に説明する。
一層詳細に説明する。
【０００８】図１による概要図はそのつどの勾配の方向
を表すべき同じく記入されている直角座標系ｘ、ｙ、ｚ
によるｙ方向に磁界勾配Ｇｙを発生するための勾配コイ
ルの配置を示す。勾配コイルは保持管１の上に固定され
ている鞍形コイルとして構成されている。導体部分２ａ
により球状の検査体積１１の内側にｙ方向のほぼ一定な
磁界勾配Ｇｙが発生される。戻り導体は、検査体積１１
からの距離がより大きいので、そこに無視可能な成分の
みを発生する。ｘ磁界勾配に対する勾配コイルはｙ磁界
勾配に対する勾配コイル２と同一に構成されており、ま
た単に保持管１の上で９０°だけ方位方向に回転されて
いる。従って、図面を見易くするため、それらは図１中
に示されていない。
を表すべき同じく記入されている直角座標系ｘ、ｙ、ｚ
によるｙ方向に磁界勾配Ｇｙを発生するための勾配コイ
ルの配置を示す。勾配コイルは保持管１の上に固定され
ている鞍形コイルとして構成されている。導体部分２ａ
により球状の検査体積１１の内側にｙ方向のほぼ一定な
磁界勾配Ｇｙが発生される。戻り導体は、検査体積１１
からの距離がより大きいので、そこに無視可能な成分の
みを発生する。ｘ磁界勾配に対する勾配コイルはｙ磁界
勾配に対する勾配コイル２と同一に構成されており、ま
た単に保持管１の上で９０°だけ方位方向に回転されて
いる。従って、図面を見易くするため、それらは図１中
に示されていない。
【０００９】図１中にはさらに、同じく鞍形コイルとし
て構成されているシムコイル４ないし６の概要が示され
ている。シムコイルの設計に関する実施例は、例えば米
国特許第3,569,823号明細書に示されている。各々のシ
ムコイル４ないし６に、各シムコイル４ないし６に電流
Ｉ１ないしＩ３を供給するそれぞれ電流供給源ＳＨ１な
いしＳＨ３が対応付けられている。電流Ｉ１ないしＩ３
は計算ユニットＣを介して制御可能である。
て構成されているシムコイル４ないし６の概要が示され
ている。シムコイルの設計に関する実施例は、例えば米
国特許第3,569,823号明細書に示されている。各々のシ
ムコイル４ないし６に、各シムコイル４ないし６に電流
Ｉ１ないしＩ３を供給するそれぞれ電流供給源ＳＨ１な
いしＳＨ３が対応付けられている。電流Ｉ１ないしＩ３
は計算ユニットＣを介して制御可能である。
【００１０】ｚ方向の磁界勾配に対する勾配コイル３
は、図２中に概要を示されている。これらのコイルはリ
ング状に構成されており、また検査体積１１の中心点に
対して対称に配置されている。両方の個別コイル３ａお
よび３ｂは図２中に示されている方法で逆向きの方向に
流されており、それらはｚ方向の磁界勾配を惹起する。
さらに図２中には、この場合にはリング状の別のシムコ
イル７ないし９が再び概要図で示されており、これらの
シムコイルは同じく電流供給源ＳＨ４ないしＳＨ６を介
して電流Ｉ４ないしＩ６を与えられる。電流Ｉ４ないし
Ｉ６は再び計算ユニットＣにより制御可能である。
は、図２中に概要を示されている。これらのコイルはリ
ング状に構成されており、また検査体積１１の中心点に
対して対称に配置されている。両方の個別コイル３ａお
よび３ｂは図２中に示されている方法で逆向きの方向に
流されており、それらはｚ方向の磁界勾配を惹起する。
さらに図２中には、この場合にはリング状の別のシムコ
イル７ないし９が再び概要図で示されており、これらの
シムコイルは同じく電流供給源ＳＨ４ないしＳＨ６を介
して電流Ｉ４ないしＩ６を与えられる。電流Ｉ４ないし
Ｉ６は再び計算ユニットＣにより制御可能である。
【００１１】図１および２にはさらに勾配コイル２、３
に対する電流供給源Ｖが示されている。そのつどの勾配
コイル２、３を通る電流Ｉは測定シーケンスを予め定め
るパルス発生器Ｐおよび電流に対する発生器Ｏにより決
定され、その際にパルス発生器Ｐおよび発生器Ｏの出力
信号はオフセット電流を重畳するために加算される。発
生器Ｏは同じく計算ユニットＣにより制御される。
に対する電流供給源Ｖが示されている。そのつどの勾配
コイル２、３を通る電流Ｉは測定シーケンスを予め定め
るパルス発生器Ｐおよび電流に対する発生器Ｏにより決
定され、その際にパルス発生器Ｐおよび発生器Ｏの出力
信号はオフセット電流を重畳するために加算される。発
生器Ｏは同じく計算ユニットＣにより制御される。
【００１２】図２中にはさらに、図１中では図面を見易
くするため省略した信号取得のための要素が、その概要
を示されている。アンテナ１５により高周波信号が検査
対象物の上に入射され、また核共鳴信号がこのアンテナ
により受信される。送信−受信ユニット１６の中で送信
信号が発生され、そして受信された核共鳴信号が位相に
相応して復調される。復調された核共鳴信号は、評価回
路１７の中で評価される。詳細には、一方ではモニター
１８の上に表示される像情報を得るため、また他方では
計算ユニットＣの中でシム電流に変換される必要なシミ
ングに関する情報を得るために評価される。
くするため省略した信号取得のための要素が、その概要
を示されている。アンテナ１５により高周波信号が検査
対象物の上に入射され、また核共鳴信号がこのアンテナ
により受信される。送信−受信ユニット１６の中で送信
信号が発生され、そして受信された核共鳴信号が位相に
相応して復調される。復調された核共鳴信号は、評価回
路１７の中で評価される。詳細には、一方ではモニター
１８の上に表示される像情報を得るため、また他方では
計算ユニットＣの中でシム電流に変換される必要なシミ
ングに関する情報を得るために評価される。
【００１３】磁界は、球状の調波関数に基づいて表示可
能である。ここで専ら関心のある軸線方向の磁界の成分
ＢZに対しては：
能である。ここで専ら関心のある軸線方向の磁界の成分
ＢZに対しては：
【数１】 が当てはまる。ここでｒ、ΘおよびφはベクトルＶｅの
球座標、Ｒは撮像すべき体積の半径、Ｐ（ｎ，ｍ）はグ
レードｎの相応のＬｅｇｅｎｄｒｅ多項式、そして次数
ｍおよびＡ（ｎ，ｍ）およびＢ（ｎ，ｍ）は球状の調波
関数の係数である。係数（０，０）は均等な基本磁界を
特徴付け、全ての他の係数は均等性の偏差を記述する。
既に引用した米国特許第 3,569,823号明細書に説明され
ているように、シムパルスは本質的にこれらの係数の１
つに影響を与えるように、すなわちこれらの係数に相応
する磁界の乱れを補償するように、形成される。
球座標、Ｒは撮像すべき体積の半径、Ｐ（ｎ，ｍ）はグ
レードｎの相応のＬｅｇｅｎｄｒｅ多項式、そして次数
ｍおよびＡ（ｎ，ｍ）およびＢ（ｎ，ｍ）は球状の調波
関数の係数である。係数（０，０）は均等な基本磁界を
特徴付け、全ての他の係数は均等性の偏差を記述する。
既に引用した米国特許第 3,569,823号明細書に説明され
ているように、シムパルスは本質的にこれらの係数の１
つに影響を与えるように、すなわちこれらの係数に相応
する磁界の乱れを補償するように、形成される。
【００１４】均等性の偏差の直線的な項は、直線項の各
方向に各直線項を補償するのに適したオフセット電流
を、予め定められた勾配電流に加えることにより補償さ
れる。特定の次数までの均等性の偏差のより高い次数の
項は、特別なシムパルスにより補償される。
方向に各直線項を補償するのに適したオフセット電流
を、予め定められた勾配電流に加えることにより補償さ
れる。特定の次数までの均等性の偏差のより高い次数の
項は、特別なシムパルスにより補償される。
【００１５】シミングのためには、存在する磁界経過を
確かめることがもちろん必要である。そのための方法
は、既に引用した米国特許第 5,614,827号明細書に記載
されている。
確かめることがもちろん必要である。そのための方法
は、既に引用した米国特許第 5,614,827号明細書に記載
されている。
【００１６】これまでシミングは常に、考察対象の体積
に対し、測定または全測定系列の開始前に磁界の不均等
性が決定され、またシム電流（勾配コイルに対するオフ
セット電流をも含む）の相応の設定により補償されるよ
うに実行されてきた。しかしながらその際に、正確なシ
ミングが全測定体積の一部分に対してしか可能でないと
いう問題が生ずる。従って測定過程で多くの互いに隔て
られた層を次々と励起するならば、考察される層の１つ
に対してしかシミングを正確に設定することができな
い。他の層では不十分なシムに基づいて、状況によって
は有害な基本磁界の不均等性が残る。層の中でも正確な
シミングが部分範囲に対してしか可能でない。
に対し、測定または全測定系列の開始前に磁界の不均等
性が決定され、またシム電流（勾配コイルに対するオフ
セット電流をも含む）の相応の設定により補償されるよ
うに実行されてきた。しかしながらその際に、正確なシ
ミングが全測定体積の一部分に対してしか可能でないと
いう問題が生ずる。従って測定過程で多くの互いに隔て
られた層を次々と励起するならば、考察される層の１つ
に対してしかシミングを正確に設定することができな
い。他の層では不十分なシムに基づいて、状況によって
は有害な基本磁界の不均等性が残る。層の中でも正確な
シミングが部分範囲に対してしか可能でない。
【００１７】このような多層励起は、例として図３中に
示されている。その際に層選択励起のために必要な層選
択勾配は、図面を見易くするため図示を省略されてい
る。典型的な勾配エコーシーケンスでは、高周波パルス
ＲＦ１が第１の層の上に入射され、続いて勾配Ｇｐによ
り位相コーディングが位相コーディング方向に、また勾
配パルスＧｒ- によりプリフェージングが負の読出し方
向に行われる。読出し勾配パルスＧｒ- の作用のもとに
最後に生ずる勾配エコー信号Ｓ１が読出される。反復時
間ＴＲによりシーケンスが相異なる位相コーディング勾
配Ｇｐにより繰り返される。すなわち別の高周波パルス
ＲＦ１が入射され、そして別の勾配エコー信号Ｓ１が読
出される。反復時間ＴＲは、すぐ次の高周波パルスＲＦ
２が直接に読出し位相に続くほど短くはできない。すな
わち、さもなければスピンの飽和が生ずるであろう。す
なわち、基本磁界の方向に十分なスピンを励起のために
利用できず、従ってまた得られた核共鳴信号が強く低下
する結果となる。しかし２つの励起間の中間空間は、一
般に検査対象物の別の層を励起するために利用される。
そのために読出し勾配パルスＧｒ- の終了後に別の高周
波パルスＲＦ２が入射され、その際にしかしここでは、
励起がいま第１の層と重ならない第２の層の中で行われ
るように、他の層選択勾配が有効である。ここでもスピ
ンは再び位相コーディング勾配Ｇｐにより位相コーディ
ングされ、そして読出し勾配パルスＧｒの作用のもとに
読出される。一般に反復時間の中で、２つよりも多い層
を励起することさえ可能である。
示されている。その際に層選択励起のために必要な層選
択勾配は、図面を見易くするため図示を省略されてい
る。典型的な勾配エコーシーケンスでは、高周波パルス
ＲＦ１が第１の層の上に入射され、続いて勾配Ｇｐによ
り位相コーディングが位相コーディング方向に、また勾
配パルスＧｒ- によりプリフェージングが負の読出し方
向に行われる。読出し勾配パルスＧｒ- の作用のもとに
最後に生ずる勾配エコー信号Ｓ１が読出される。反復時
間ＴＲによりシーケンスが相異なる位相コーディング勾
配Ｇｐにより繰り返される。すなわち別の高周波パルス
ＲＦ１が入射され、そして別の勾配エコー信号Ｓ１が読
出される。反復時間ＴＲは、すぐ次の高周波パルスＲＦ
２が直接に読出し位相に続くほど短くはできない。すな
わち、さもなければスピンの飽和が生ずるであろう。す
なわち、基本磁界の方向に十分なスピンを励起のために
利用できず、従ってまた得られた核共鳴信号が強く低下
する結果となる。しかし２つの励起間の中間空間は、一
般に検査対象物の別の層を励起するために利用される。
そのために読出し勾配パルスＧｒ- の終了後に別の高周
波パルスＲＦ２が入射され、その際にしかしここでは、
励起がいま第１の層と重ならない第２の層の中で行われ
るように、他の層選択勾配が有効である。ここでもスピ
ンは再び位相コーディング勾配Ｇｐにより位相コーディ
ングされ、そして読出し勾配パルスＧｒの作用のもとに
読出される。一般に反復時間の中で、２つよりも多い層
を励起することさえ可能である。
【００１８】しかし従来通常のシム方法では、基本磁界
が層の中でしか正確にシムされ得ず、他方においてシミ
ングが全ての他の層中で不完全であるという前記の問題
が生ずる。本発明によればこの問題は、いま、シム電流
（オフセット電流を含む）を測定の開始前に固定的に設
定するのではなく、それらを測定の間に、相異なるｋ空
間経路が相異なる影響を受けるように、パルス状に制御
することで解決される。
が層の中でしか正確にシムされ得ず、他方においてシミ
ングが全ての他の層中で不完全であるという前記の問題
が生ずる。本発明によればこの問題は、いま、シム電流
（オフセット電流を含む）を測定の開始前に固定的に設
定するのではなく、それらを測定の間に、相異なるｋ空
間経路が相異なる影響を受けるように、パルス状に制御
することで解決される。
【００１９】図３中に示されている多層方法に応用され
る相応の例を、以下に図４により一層詳細に説明する。
前記のように問題は、相異なる層の中で相異なる磁界不
均等性が支配的であることにある。例えば、層１の中で
は項Ａｘにより示されるｘ方向の不均等性が、第２の層
の中では項Ａｚにより示されるｚ方向の不均等性が支配
的であると仮定される。実際には確かに多くの方向の相
異なる不均等性を考慮に入れなければならないが、作用
の説明のためには、種々の方向のそれぞれの項について
の簡単化された記述で十分である。
る相応の例を、以下に図４により一層詳細に説明する。
前記のように問題は、相異なる層の中で相異なる磁界不
均等性が支配的であることにある。例えば、層１の中で
は項Ａｘにより示されるｘ方向の不均等性が、第２の層
の中では項Ａｚにより示されるｚ方向の不均等性が支配
的であると仮定される。実際には確かに多くの方向の相
異なる不均等性を考慮に入れなければならないが、作用
の説明のためには、種々の方向のそれぞれの項について
の簡単化された記述で十分である。
【００２０】励起位相の間、すなわち高周波パルスＲＦ
１の入射の間は、この層の中の不均等性は、相応のシム
パルスを介してｘ方向の不均等性を等化する電流パルス
Ｉｘ１により補償される。それによって、結果として生
ずる層選択勾配のベクトルが、選択された層が正確に位
置決めされるように、正しい方向を指し、また正しい大
きさを有することが保証される。
１の入射の間は、この層の中の不均等性は、相応のシム
パルスを介してｘ方向の不均等性を等化する電流パルス
Ｉｘ１により補償される。それによって、結果として生
ずる層選択勾配のベクトルが、選択された層が正確に位
置決めされるように、正しい方向を指し、また正しい大
きさを有することが保証される。
【００２１】励起位相の終了後に、時点ｔ２で電流パル
スＩｘ２がスイッチングされる。これは下記のようにデ
ィメンジョニングされている。即ち時点ｔ２から時点ｔ
７での読出し間隔の開始時まで、励起された層の中に、
励起された核スピンのデフェージングを惹起する磁界不
均等性Ａｘが有効である。このデフェージングは磁界誤
差に関する時間積分に比例している。電流パルスＩｘ２
はいま、この電流Ｉｘ２により惹起されるシム磁界の磁
界‐時間積分が磁界不均等性に関する時間積分と逆向き
に等しいように寸法決めされる。それによって時点ｔ７
での読出し間隔の開始時に、スピンが従来通常の方法と
同様にリフェージングされており、そこで磁界不均等性
が一貫して補償されている。時点ｔ７とｔ８との間の読
出し間隔自体の中では、結果として生ずる読出し勾配の
振幅変化または回転を避けるために、読出された層の中
に存在する磁界不均等性が電流パルスＩｘ３により一貫
して補償される。
スＩｘ２がスイッチングされる。これは下記のようにデ
ィメンジョニングされている。即ち時点ｔ２から時点ｔ
７での読出し間隔の開始時まで、励起された層の中に、
励起された核スピンのデフェージングを惹起する磁界不
均等性Ａｘが有効である。このデフェージングは磁界誤
差に関する時間積分に比例している。電流パルスＩｘ２
はいま、この電流Ｉｘ２により惹起されるシム磁界の磁
界‐時間積分が磁界不均等性に関する時間積分と逆向き
に等しいように寸法決めされる。それによって時点ｔ７
での読出し間隔の開始時に、スピンが従来通常の方法と
同様にリフェージングされており、そこで磁界不均等性
が一貫して補償されている。時点ｔ７とｔ８との間の読
出し間隔自体の中では、結果として生ずる読出し勾配の
振幅変化または回転を避けるために、読出された層の中
に存在する磁界不均等性が電流パルスＩｘ３により一貫
して補償される。
【００２２】時点ｔ３とｔ５との間で高周波パルスＲＦ
２により励起される第２の層の中では下記のように進行
する：励起自体の間は係数Ａｚにより示されるｚ方向の
不均等性が、負の電流パルスＩｚ１により完全に補償さ
れる。続いて、電流パルスＩｚ１と逆向きの時間積分を
有する正の電流方向の電流パルスＩｚ２が続く。電流パ
ルスＩｚ２は、単に第１の層中の信号を考慮してスイッ
チングされ、このことは後で相応のｋ空間経路の考察に
より一層明らかになる。時点ｔ８とｔ９との間の読出し
間隔の前に、負の電流パルスＩｚ３がスイッチングされ
る。これは、発生されるシム磁界の時間に関する積分が
時点ｔ５から時点ｔ９までの第２の層中の磁界誤差Ａｚ
に関する積分と、電流パルスＩｚ２により発生されるシ
ム磁界に関する積分との和と逆向きに等しいようにディ
メンジョニングされる。それによって第２の層からの読
出し間隔の開始時に、すなわち時点ｔ９において、磁界
不均等性により惹起されるデフェージングが再び補償さ
れる。時点ｔ９とｔ１０との間の読出し間隔の間は、電
流パルスＩｚ４がスイッチングされ、その際にそれによ
り発生されるシム磁界が磁界不均等性Ａｚを補償する。
２により励起される第２の層の中では下記のように進行
する：励起自体の間は係数Ａｚにより示されるｚ方向の
不均等性が、負の電流パルスＩｚ１により完全に補償さ
れる。続いて、電流パルスＩｚ１と逆向きの時間積分を
有する正の電流方向の電流パルスＩｚ２が続く。電流パ
ルスＩｚ２は、単に第１の層中の信号を考慮してスイッ
チングされ、このことは後で相応のｋ空間経路の考察に
より一層明らかになる。時点ｔ８とｔ９との間の読出し
間隔の前に、負の電流パルスＩｚ３がスイッチングされ
る。これは、発生されるシム磁界の時間に関する積分が
時点ｔ５から時点ｔ９までの第２の層中の磁界誤差Ａｚ
に関する積分と、電流パルスＩｚ２により発生されるシ
ム磁界に関する積分との和と逆向きに等しいようにディ
メンジョニングされる。それによって第２の層からの読
出し間隔の開始時に、すなわち時点ｔ９において、磁界
不均等性により惹起されるデフェージングが再び補償さ
れる。時点ｔ９とｔ１０との間の読出し間隔の間は、電
流パルスＩｚ４がスイッチングされ、その際にそれによ
り発生されるシム磁界が磁界不均等性Ａｚを補償する。
【００２３】ここに示されているパルスシム過程の作用
は、磁界不均等性およびシム磁界の結果として生ずるｋ
空間経路の考察の際に最も明らかになる。これらはｋｘ
およびｋｚに対して別個に考察される。両方の考察され
る層１および２の中の磁界不均等性は、相異なった作用
をするので、全体として４つのｋ空間経路、すなわち層
１の中のｋ空間経路ｋｘ１およびｋｚ１および層２の中
のｋ空間経路ｋｘ２およびｋｚ２が考察される。
は、磁界不均等性およびシム磁界の結果として生ずるｋ
空間経路の考察の際に最も明らかになる。これらはｋｘ
およびｋｚに対して別個に考察される。両方の考察され
る層１および２の中の磁界不均等性は、相異なった作用
をするので、全体として４つのｋ空間経路、すなわち層
１の中のｋ空間経路ｋｘ１およびｋｚ１および層２の中
のｋ空間経路ｋｘ２およびｋｚ２が考察される。
【００２４】層１の中では、励起位相中にｋ空間経路ｋ
ｘ１も、ｋ空間経路ｋｚ１も先ず零線の上を延びてい
る。なぜならば、層１の中に存在する磁界不均等性Ａｘ
が、電流パルスＩｘ１により完全に補償されているから
である。電流パルスＩｘ２によりｋ空間経路は先ず強く
負の方向に延びる。時点ｔ３とｔ７との間では磁界不均
等性Ａｘが作用し、ｋ空間経路が正の方向に延び、また
時点ｔ７で再び零線に達する。時点ｔ７とｔ８との間の
読出し間隔の間、ｋ空間経路は再び零線の上に延びてい
る。なぜならば、この時間間隔の中では、磁界不均等性
Ａｘが電流パルスＩｘ３により再び完全に補償されてい
るからである。
ｘ１も、ｋ空間経路ｋｚ１も先ず零線の上を延びてい
る。なぜならば、層１の中に存在する磁界不均等性Ａｘ
が、電流パルスＩｘ１により完全に補償されているから
である。電流パルスＩｘ２によりｋ空間経路は先ず強く
負の方向に延びる。時点ｔ３とｔ７との間では磁界不均
等性Ａｘが作用し、ｋ空間経路が正の方向に延び、また
時点ｔ７で再び零線に達する。時点ｔ７とｔ８との間の
読出し間隔の間、ｋ空間経路は再び零線の上に延びてい
る。なぜならば、この時間間隔の中では、磁界不均等性
Ａｘが電流パルスＩｘ３により再び完全に補償されてい
るからである。
【００２５】ｚ方向に関しては、層１の中で不均等性は
支配的でなく，従ってｋ空間経路は本来的に零線の上を
延びるであろう。しかしながら電流パルスＩｚ１により
発生されるシム磁界は層１にも作用し、またこうしてそ
こでｋ空間経路を負のｚ方向に延びさせる。
支配的でなく，従ってｋ空間経路は本来的に零線の上を
延びるであろう。しかしながら電流パルスＩｚ１により
発生されるシム磁界は層１にも作用し、またこうしてそ
こでｋ空間経路を負のｚ方向に延びさせる。
【００２６】正の電流パルスＩｚ２により、ｋ空間経路
ｋｚ１はしかしながら再び零線に達する。それによって
スピンは核スピンの読出し窓ＡＱ１の間は層１の中で完
全にリフェージングされている。
ｋｚ１はしかしながら再び零線に達する。それによって
スピンは核スピンの読出し窓ＡＱ１の間は層１の中で完
全にリフェージングされている。
【００２７】層２については下記のように考察される：
即ち励起の間は層２の中の高周波パルスＲＦ２により、
この層の中で支配的である磁界不均等性は完全に補償さ
れており、従ってｋ空間経路ｋｚ２は零線の上にとどま
る。続いてｋ空間経路ｋｚ２は、層２の中で支配的であ
る不均等性Ａｚの作用により、それが時点ｔ８で電流パ
ルスＩｚ３により再び零線の上に達するまで上昇する。
読出し間隔ＡＱ２の間は、ｋ空間経路ｋｚ２は零線の上
にとどまる。
即ち励起の間は層２の中の高周波パルスＲＦ２により、
この層の中で支配的である磁界不均等性は完全に補償さ
れており、従ってｋ空間経路ｋｚ２は零線の上にとどま
る。続いてｋ空間経路ｋｚ２は、層２の中で支配的であ
る不均等性Ａｚの作用により、それが時点ｔ８で電流パ
ルスＩｚ３により再び零線の上に達するまで上昇する。
読出し間隔ＡＱ２の間は、ｋ空間経路ｋｚ２は零線の上
にとどまる。
【００２８】ｘ方向に関しては、最初の仮定に相応して
不均等性が支配的でないが、電流パルスＩｘ３により第
２の層の中にデフェージングされたシム磁界が発生され
る。これはｋ空間経路を負の方向に延びさせる。しかし
電流パルスＩｘ４により読出し間隔の開始までにｋ空間
経路は再び零線の上に復帰する。
不均等性が支配的でないが、電流パルスＩｘ３により第
２の層の中にデフェージングされたシム磁界が発生され
る。これはｋ空間経路を負の方向に延びさせる。しかし
電流パルスＩｘ４により読出し間隔の開始までにｋ空間
経路は再び零線の上に復帰する。
【００２９】自明のとおり、核スピンのパルス状のリフ
ェージングによって、２つの同時に存在するｋ空間経路
の目的にかなったリフェージングが可能であり、他方に
おいてシム電流が測定の全継続時間中一定に設定された
従来通常の方法ではｋ空間経路のみが零線の上を導かれ
た。その際に、最後の励起の際および読出しの際のｋ空
間位置のみが重要であり、他方においてその間に位置す
るｋ空間位置は重要でないという事実を利用する。２つ
の同時に存在するｋ空間経路を有する上記の例は、より
多くの、同時に存在するｋ空間経路に容易に拡張でき
る。一般的に言って、より多くの、同時に存在するｋ空
間経路のパルスシミングにより可能な個別的な影響は、
ｋ空間軌道が勾配エコー、スピンエコーおよび刺激され
たエコー経路の列の中で区別されるときに常に利用でき
る。従ってこれは例えば核共鳴信号の励起および／また
は読出し時点が区別されることに由来する。
ェージングによって、２つの同時に存在するｋ空間経路
の目的にかなったリフェージングが可能であり、他方に
おいてシム電流が測定の全継続時間中一定に設定された
従来通常の方法ではｋ空間経路のみが零線の上を導かれ
た。その際に、最後の励起の際および読出しの際のｋ空
間位置のみが重要であり、他方においてその間に位置す
るｋ空間位置は重要でないという事実を利用する。２つ
の同時に存在するｋ空間経路を有する上記の例は、より
多くの、同時に存在するｋ空間経路に容易に拡張でき
る。一般的に言って、より多くの、同時に存在するｋ空
間経路のパルスシミングにより可能な個別的な影響は、
ｋ空間軌道が勾配エコー、スピンエコーおよび刺激され
たエコー経路の列の中で区別されるときに常に利用でき
る。従ってこれは例えば核共鳴信号の励起および／また
は読出し時点が区別されることに由来する。
【００３０】ハードウェアとしては、従来通常の装置に
比べて僅かな変更で足りる。シムコイル４ないし９の電
流供給源ＳＨ１ないしＳＨ６は、従来通常の装置では、
ここで必要な速度を持ったパルス状のスイッチングに適
するよう構成されていない。しかしそれらは、大きな費
用なしに、この要求を満たすように構成可能である。
比べて僅かな変更で足りる。シムコイル４ないし９の電
流供給源ＳＨ１ないしＳＨ６は、従来通常の装置では、
ここで必要な速度を持ったパルス状のスイッチングに適
するよう構成されていない。しかしそれらは、大きな費
用なしに、この要求を満たすように構成可能である。
【図１】ＭＲトモグラフィ装置の基本磁界磁石に対する
シムチャネルの、それ自体は公知の配置の概要を示す
図。
シムチャネルの、それ自体は公知の配置の概要を示す
図。
【図２】ＭＲトモグラフィ装置の基本磁界磁石に対する
シムチャネルの、それ自体は公知の配置の概要を示す
図。
シムチャネルの、それ自体は公知の配置の概要を示す
図。
【図３】本発明の利点を説明するために、それ自体は公
知の多層励起に対する例を示す図。
知の多層励起に対する例を示す図。
【図４】シム電流のパルス状の制御を有する測定シーケ
ンスの進行に対する例を示す図。
ンスの進行に対する例を示す図。
１ 保持管、層 ２、３ 勾配コイル ２ａ 導体部分 ３ａ、３ｂ 個別コイル ４〜９ シムコイル １１ 検査体積 １５ アンテナ １６ 送信‐受信ユニット １７ 評価回路 １８ モニター ＡＱ 読出し間隔 Ａｘ 磁界不均等性 Ａｚ 磁界誤差 ＢＺ 成分 Ｃ 計算ユニット Ｇ 勾配 Ｉ 電流 Ｏ 発生器 Ｐ パルス発生器 ＲＦ 高周波パルス Ｓ 勾配エコー信号 ＳＨ 電流供給源 ｔ 時点 Ｖ 電流供給源
Claims (5)
- 【請求項１】 シム電流を与えられる少なくとも１つの
シムチャネルを有するＭＲトモグラフィ装置の磁石シス
テムをシミングするための方法において、シム電流がｋ
空間経路の寿命の間に変更されることを特徴とする方
法。 - 【請求項２】 多くの同時に存在するｋ空間経路におい
てシム電流が、各々の核共鳴信号のリフェージング時点
でそれぞれ有効な磁界不均等性に関する時間積分とシム
チャネルにより発生されるシム磁界とが零になるように
制御されることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 ｋ空間経路が相異なる位置に対応付けら
れていることを特徴とする請求項１または２記載の方
法。 - 【請求項４】 シム電流が、核共鳴信号の励起および読
出し間隔の間は一定であることを特徴とする請求項１な
いし３の１つに記載の方法。 - 【請求項５】 少なくとも１つのセットのシムコイル
と、それに対応付けられており、制御装置により制御さ
れるシム電流供給源とを有するＭＲトモグラフィ装置に
おいて、シム電流供給源が、シム電流が核共鳴信号の励
起と読出しとの間の測定シーケンスの進行の間に変更さ
れるように予制御されることを特徴とするＭＲトモグラ
フィ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19859489.5 | 1998-12-22 | ||
| DE19859489A DE19859489C2 (de) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | Verfahren zur Shimmung eines Magnetsystems eines MR-Tomographiegeräts und MR-Tomographiegerät zur Durchführung des Verfahrens |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000185028A true JP2000185028A (ja) | 2000-07-04 |
| JP4331363B2 JP4331363B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=7892276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36303999A Expired - Lifetime JP4331363B2 (ja) | 1998-12-22 | 1999-12-21 | Ｍｒトモグラフィ装置の磁石システムのシミング方法およびｍｒトモグラフィ装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6545476B1 (ja) |
| JP (1) | JP4331363B2 (ja) |
| DE (1) | DE19859489C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103576113A (zh) * | 2012-07-26 | 2014-02-12 | 西门子(深圳)磁共振有限公司 | 一种超导磁体及其匀场装置和匀场方法 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102006006274B3 (de) * | 2006-02-10 | 2007-09-27 | Siemens Ag | Vefahren zur Korrektur von Bildartefakten |
| DE102009004896B4 (de) * | 2009-01-16 | 2010-10-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Magnetresonanzgerät und Verfahren zur Messung von Feldinhomogenitäten und Einstellung von Shim-Parametern |
| CA2780181C (en) * | 2009-12-02 | 2019-10-15 | Nanalysis Corp. | Method and apparatus for producing homogeneous magnetic fields |
| US9500731B2 (en) * | 2010-10-15 | 2016-11-22 | Eleazar Castillo | Shimming device and method to improve magnetic field homogeneity in magnetic resonance imaging devices |
| PL393899A1 (pl) * | 2011-02-09 | 2012-08-13 | Politechnika Poznańska | Sposób wytwarzania pól magnetycznych o dużej jednorodności w obrębie badanego obiektu i kompensacja zewnętrznego pola rozproszonego i układ do jego realizacji |
| JP5815384B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2015-11-17 | ジーイー・メディカル・システムズ・グローバル・テクノロジー・カンパニー・エルエルシー | 磁気共鳴装置 |
| EP3306336A1 (en) * | 2016-10-07 | 2018-04-11 | Ion Beam Applications S.A. | Hadron therapy device and mri device having magnetic field correcting means |
| EP3308834B1 (en) | 2016-10-11 | 2019-01-09 | Ion Beam Applications | Particle therapy apparatus comprising an mri |
| DE102019207907B3 (de) * | 2019-05-29 | 2020-07-30 | Siemens Healthcare Gmbh | Shimabhängige Spoilergradienten |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3569823A (en) * | 1968-10-18 | 1971-03-09 | Perkin Elmer Corp | Nuclear magnetic resonance apparatus |
| JPH0246882Y2 (ja) * | 1984-11-13 | 1990-12-11 | ||
| JPH0871054A (ja) * | 1994-09-02 | 1996-03-19 | Toshiba Corp | 磁気共鳴映像装置 |
| DE19511791C1 (de) * | 1995-03-30 | 1996-08-22 | Siemens Ag | Verfahren zur Shimmung eines Magnetsystems eines Kernspintomographen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE19604519A1 (de) * | 1996-02-08 | 1997-08-14 | Philips Patentverwaltung | MR-Verfahren zur Bestimmung der Magnetfeldinhomogenität im Untersuchungsbereich und MR-Gerät zur Durchführung des Verfahrens |
-
1998
- 1998-12-22 DE DE19859489A patent/DE19859489C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-12-21 JP JP36303999A patent/JP4331363B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-22 US US09/469,477 patent/US6545476B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103576113A (zh) * | 2012-07-26 | 2014-02-12 | 西门子(深圳)磁共振有限公司 | 一种超导磁体及其匀场装置和匀场方法 |
| CN103576113B (zh) * | 2012-07-26 | 2016-06-08 | 西门子(深圳)磁共振有限公司 | 一种超导磁体及其匀场装置和匀场方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19859489C2 (de) | 2000-10-05 |
| US6545476B1 (en) | 2003-04-08 |
| DE19859489A1 (de) | 2000-07-06 |
| JP4331363B2 (ja) | 2009-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3402916B2 (ja) | 核スピントモグラフ装置のマグネット装置のシム調整方法及び方法を実施する装置 | |
| JP3569520B2 (ja) | 核スピントモグラフィー装置の一定の主磁場における直線的磁場偏差を傾斜磁場コイルを用いて補償するための方法 | |
| US4339716A (en) | Nuclear magnetic resonance systems | |
| US7141970B2 (en) | Magnetic resonance imaging device | |
| US4672320A (en) | Imaging apparatus and method using nuclear magnetic resonance | |
| JPH04288136A (ja) | 磁石の高速補正法 | |
| US4472683A (en) | Imaging apparatus using nuclear magnetic resonance | |
| US5530352A (en) | Nuclear magnetic resonance tomography apparatus having dynamically localized shimming of the basic magnetic field | |
| US5592091A (en) | Method for shimming a magnetic field in an examination space of a nuclear magnetic resonance apparatus including use of fuzzy logic | |
| GB2052753A (en) | NMR systems | |
| JP4331363B2 (ja) | Ｍｒトモグラフィ装置の磁石システムのシミング方法およびｍｒトモグラフィ装置 | |
| US5451877A (en) | Method for the compensation of eddy currents caused by gradients in a nuclear magnetic resonance apparatus | |
| JPH09215672A (ja) | 磁界の生体内急速シム作用を行う方法 | |
| JPH03228744A (ja) | 核磁気共鳴を用いた流体イメージング装置 | |
| US4684892A (en) | Nuclear magnetic resonance apparatus | |
| WO2002013692A1 (fr) | Appareil d'imagerie par resonance magnetique | |
| EP0161366A2 (en) | Nuclear magnetic resonance methods and apparatus | |
| JPH0221808B2 (ja) | ||
| JP2000225105A (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 | |
| JPH03224538A (ja) | 一次の静磁場不均一を補正して計測する過程を備えたｍｒｉ装置 | |
| US4801884A (en) | Apparatus for the identification of nuclear magnetic spectra from spatially selectable regions of an examination subject | |
| JP4319035B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 | |
| US7206628B2 (en) | Method and apparatus for improving the vessel/tissue contrast in time-of-flight angiography of a magnetic resonance tomography measurement | |
| JP3887082B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 | |
| JP3449782B2 (ja) | 磁気共鳴イメージング装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050824 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080303 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080417 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080715 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080821 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081218 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090316 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090422 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090519 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090618 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4331363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130626 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |