JP2000183500A - パターン形成装置およびパターン形成方法 - Google Patents
パターン形成装置およびパターン形成方法Info
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- JP2000183500A JP2000183500A JP10361263A JP36126398A JP2000183500A JP 2000183500 A JP2000183500 A JP 2000183500A JP 10361263 A JP10361263 A JP 10361263A JP 36126398 A JP36126398 A JP 36126398A JP 2000183500 A JP2000183500 A JP 2000183500A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フレキシブルプリント配線板等の製造に用い
る量産性を有するパターン形成装置およびパターン形成
方法を提供する。 【解決手段】 支持体３を送りロール４からガイドロー
ル５ａ，５ｂおよび５ｃを経由して巻取りロール６に走
行移動させるようになし、この支持体３に対向してマス
ク１０を配置して、この移動される支持体３に、減圧雰
囲気中においてパターン形成源９の動作によるスパッタ
或いはエッチングにより所要のパターンを連続的に形成
する。
る量産性を有するパターン形成装置およびパターン形成
方法を提供する。 【解決手段】 支持体３を送りロール４からガイドロー
ル５ａ，５ｂおよび５ｃを経由して巻取りロール６に走
行移動させるようになし、この支持体３に対向してマス
ク１０を配置して、この移動される支持体３に、減圧雰
囲気中においてパターン形成源９の動作によるスパッタ
或いはエッチングにより所要のパターンを連続的に形成
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子フィルム等
の支持体にパターンを形成する、例えば、高分子フィル
ムの支持体に電極パターンを形成するフレキシブルプリ
ント配線板の形成装置としてのパターン形成装置および
パターン形成方法に関する。
の支持体にパターンを形成する、例えば、高分子フィル
ムの支持体に電極パターンを形成するフレキシブルプリ
ント配線板の形成装置としてのパターン形成装置および
パターン形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フレキシブルプリント配線板にお
ける配線の形成や各種の支持板に対するパターン形成
は、エッチングといったパターン形成法が採用されてい
る。このパターン形成法には、通常、高真空中でのバッ
チプロセスが使用されている。
ける配線の形成や各種の支持板に対するパターン形成
は、エッチングといったパターン形成法が採用されてい
る。このパターン形成法には、通常、高真空中でのバッ
チプロセスが使用されている。
【０００３】このフレキシブルプリント配線板は、先
ず、ポリエステル、ポリイミド、塩化ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂・ガラス積層板などのプラスチックフィルムに
銅箔またはその他の金属箔を接着して金属箔張り積層板
を製造する。この積層板を適当なクリーニングやその他
の準備の後に、金属箔面に所要の回路図形をネガティブ
・レジストのパターンで印刷する。
ず、ポリエステル、ポリイミド、塩化ビニル樹脂、エポ
キシ樹脂・ガラス積層板などのプラスチックフィルムに
銅箔またはその他の金属箔を接着して金属箔張り積層板
を製造する。この積層板を適当なクリーニングやその他
の準備の後に、金属箔面に所要の回路図形をネガティブ
・レジストのパターンで印刷する。
【０００４】つぎの段階で、レジストで保護されていな
い金属箔の部分を全てエッチング液によって取り除く。
このエッチングにつづいて、印刷板からのレジストの剥
離、すなわち、レジストの除去を行い、エッチング液が
残留しないようにクリーニングすることによりフレキシ
ブルプリント配線板が形成される。
い金属箔の部分を全てエッチング液によって取り除く。
このエッチングにつづいて、印刷板からのレジストの剥
離、すなわち、レジストの除去を行い、エッチング液が
残留しないようにクリーニングすることによりフレキシ
ブルプリント配線板が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このようにバッチプロ
セスにより形成されるフレキシブルプリント配線板は、
１度に作製できる数量が限られ、結果として高価になっ
ていた。
セスにより形成されるフレキシブルプリント配線板は、
１度に作製できる数量が限られ、結果として高価になっ
ていた。
【０００６】本発明はかかる点に鑑み、フレキシブルプ
リント配線板等のパターン形成において量産性が可能と
なるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供す
ることを目的とする。
リント配線板等のパターン形成において量産性が可能と
なるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明によるパターン形成装置は、少なくとも支持体
を巻着する送りロールと、送りロールから送り出される
支持体を巻取る巻取りロールと、送りロールと巻取りロ
ールとの間に配されるパターン形成用マスクを介して支
持体にパターンを形成する手段とを具備し、支持体を送
りロールから巻取りロールに送りつつ、減圧雰囲気中で
支持体上に前記手段によりパターンを形成するように構
成したものである。
に本発明によるパターン形成装置は、少なくとも支持体
を巻着する送りロールと、送りロールから送り出される
支持体を巻取る巻取りロールと、送りロールと巻取りロ
ールとの間に配されるパターン形成用マスクを介して支
持体にパターンを形成する手段とを具備し、支持体を送
りロールから巻取りロールに送りつつ、減圧雰囲気中で
支持体上に前記手段によりパターンを形成するように構
成したものである。
【０００８】また、本発明によるパターン形成方法は、
少なくとも、支持体を巻着する送りロールと、送りロー
ルから送り出される支持体を巻取る巻取りロールと、送
りロールと巻取りロールとの間に配されるパターン形成
用マスクを介して支持体にパターンを形成する手段とを
具備し、支持体を送りロールから巻取りロールに送りつ
つ、減圧雰囲気中で支持体上に前記手段によりパターン
を形成する工程を有して構成するものである。
少なくとも、支持体を巻着する送りロールと、送りロー
ルから送り出される支持体を巻取る巻取りロールと、送
りロールと巻取りロールとの間に配されるパターン形成
用マスクを介して支持体にパターンを形成する手段とを
具備し、支持体を送りロールから巻取りロールに送りつ
つ、減圧雰囲気中で支持体上に前記手段によりパターン
を形成する工程を有して構成するものである。
【０００９】以上のように構成される本発明によれば、
支持体を送りロールから巻取りロールへ走行移動させな
がらこの支持体上にパターンを形成するので、支持体に
対してパターンが連続的に形成される。
支持体を送りロールから巻取りロールへ走行移動させな
がらこの支持体上にパターンを形成するので、支持体に
対してパターンが連続的に形成される。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【００１１】この実施の形態は本発明に係るパターン形
成装置をフレキシブルプリント配線板を製造する装置と
して構成したものである。
成装置をフレキシブルプリント配線板を製造する装置と
して構成したものである。
【００１２】図１は、本発明に係るパターン形成装置の
第１の実施の形態例の概略断面図を示す。この図１にお
けるパターン形成装置１は、真空排気装置２を備えた装
置室１ａ内に、高分子フィルムあるいは薄ガラスおよび
鋼板である支持体３を送りロール４からガイドロール５
ａ，５ｂおよび５ｃを経由して巻取りロール６に一定速
度で走行させる走行移動機構７を配設してある。この走
行移動機構７のガイドロール５ａ〜５ｃのうち、中央の
ガイドロール５ｂは、大径で装置室１ａのほぼ中央に位
置して配置され、この大径ガイドロール５ｂに支持体３
が送りロール４と巻取りロール６との間において逆Ω状
に巻回されて走行されるように構成されている。
第１の実施の形態例の概略断面図を示す。この図１にお
けるパターン形成装置１は、真空排気装置２を備えた装
置室１ａ内に、高分子フィルムあるいは薄ガラスおよび
鋼板である支持体３を送りロール４からガイドロール５
ａ，５ｂおよび５ｃを経由して巻取りロール６に一定速
度で走行させる走行移動機構７を配設してある。この走
行移動機構７のガイドロール５ａ〜５ｃのうち、中央の
ガイドロール５ｂは、大径で装置室１ａのほぼ中央に位
置して配置され、この大径ガイドロール５ｂに支持体３
が送りロール４と巻取りロール６との間において逆Ω状
に巻回されて走行されるように構成されている。
【００１３】この大径ガイドロール５ｂに対向、詳しく
は、大径ガイドロール５ｂの支持体巻回側に対向してパ
ターン形成機構８が配設されている。このパターン形成
機構８は、例えばスパッタリング装置等の蒸発源もしく
はエッチング源のパターン形成源９を大径ガイドロール
５ｂの支持体巻回側に対向して配設し、このパターン形
成源９と大径ガイドロール５ｂに巻回される支持体３と
の間に、例えば図２に示すように鋼板等から成る可撓性
基板に所要形状の透孔状部１０ａを形成したマスク１０
を配して構成されている。このマスク１０は、輪状に無
端連続して形成されて４個のガイドロール１１ａ，１１
ｂ，１１ｃ，１１ｄに巻回支持され、前記大径ガイドロ
ール５ｂに対向されるガイドロール１１ａと１１ｂの間
において大径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回
状に対応されるようになっている。
は、大径ガイドロール５ｂの支持体巻回側に対向してパ
ターン形成機構８が配設されている。このパターン形成
機構８は、例えばスパッタリング装置等の蒸発源もしく
はエッチング源のパターン形成源９を大径ガイドロール
５ｂの支持体巻回側に対向して配設し、このパターン形
成源９と大径ガイドロール５ｂに巻回される支持体３と
の間に、例えば図２に示すように鋼板等から成る可撓性
基板に所要形状の透孔状部１０ａを形成したマスク１０
を配して構成されている。このマスク１０は、輪状に無
端連続して形成されて４個のガイドロール１１ａ，１１
ｂ，１１ｃ，１１ｄに巻回支持され、前記大径ガイドロ
ール５ｂに対向されるガイドロール１１ａと１１ｂの間
において大径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回
状に対応されるようになっている。
【００１４】また、このマスク１０が巻回支持されるガ
イドロール１１ａ〜１１ｄのうちの１個、例えば、大径
ガイドロール５ｂに対する近傍側の一方のガイドロール
１１ａは図示を省略するが、大径ガイドロール５ｂと同
期して運動することが可能な駆動機構が備えられてい
る。
イドロール１１ａ〜１１ｄのうちの１個、例えば、大径
ガイドロール５ｂに対する近傍側の一方のガイドロール
１１ａは図示を省略するが、大径ガイドロール５ｂと同
期して運動することが可能な駆動機構が備えられてい
る。
【００１５】また、マスク１０は、図３に示すように、
大径ガイドロール５ｂに対して支持体３を介して巻回す
るように対応されるので、この巻回状態で透孔状部１０
ａの断面形状がストレートになるように、このマスク１
０は透孔状部１０ａの断面形状を図４に示すように、大
径ガイドロール５ｂに対面する側を幅広にしたテーパ状
に形成されている。
大径ガイドロール５ｂに対して支持体３を介して巻回す
るように対応されるので、この巻回状態で透孔状部１０
ａの断面形状がストレートになるように、このマスク１
０は透孔状部１０ａの断面形状を図４に示すように、大
径ガイドロール５ｂに対面する側を幅広にしたテーパ状
に形成されている。
【００１６】また、装置室１ａには、ガス導入バルブ１
２を設けて、支持体３に対するエッチング動作において
は、ＣＦ4 等のエッチングガスを、また、スパッタ成膜
動作においては、Ａｒガス等の反応ガスの導入流量を調
節できるようになされている。なお、大径ガイドロール
５ｂは、図示を省略するがエッチング時およびスパッタ
成膜時に支持体３の温度上昇を防止するために冷却され
る構造になっている。
２を設けて、支持体３に対するエッチング動作において
は、ＣＦ4 等のエッチングガスを、また、スパッタ成膜
動作においては、Ａｒガス等の反応ガスの導入流量を調
節できるようになされている。なお、大径ガイドロール
５ｂは、図示を省略するがエッチング時およびスパッタ
成膜時に支持体３の温度上昇を防止するために冷却され
る構造になっている。
【００１７】以上のように構成されるパターン形成装置
１をフレキシブル配線板の電極形成に適用する事例を説
明する。
１をフレキシブル配線板の電極形成に適用する事例を説
明する。
【００１８】先ず、例えば、厚さ１８８μｍのポリエチ
レンテレフタレートの支持体３を送りロール４にセット
して、この送りロール４から巻取りロール６の方向へ、
ガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃを経由して巻取りロール
に巻き取るようにする。一方、所要形状の透孔状部１０
ａを形成したマスク１０も４個のガイドロール１１ａ，
１１ｂ，１１ｃ，１１ｄを経由し、前記大径ガイドロー
ル５ｂに対向する位置で支持体３と対応するように無端
輪状に配設する。
レンテレフタレートの支持体３を送りロール４にセット
して、この送りロール４から巻取りロール６の方向へ、
ガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃを経由して巻取りロール
に巻き取るようにする。一方、所要形状の透孔状部１０
ａを形成したマスク１０も４個のガイドロール１１ａ，
１１ｂ，１１ｃ，１１ｄを経由し、前記大径ガイドロー
ル５ｂに対向する位置で支持体３と対応するように無端
輪状に配設する。
【００１９】次に、装置室１ａ内にガス導入バルブ１２
を通して、例えばＡｒガスを流量を調節しつつ流入さ
せ、例えばＡｌターゲットの蒸発源９をスパッタさせＡ
ｌをマスク１０の透孔状部１０ａを通して支持体３に付
着させて透孔状部１０ａに対応するパターンを成膜形成
する。この動作において支持体３とマスク１０が同期し
て運動することにより、支持体３には図５に示すように
パターンＰs を連続的に形成することが可能となる。
を通して、例えばＡｒガスを流量を調節しつつ流入さ
せ、例えばＡｌターゲットの蒸発源９をスパッタさせＡ
ｌをマスク１０の透孔状部１０ａを通して支持体３に付
着させて透孔状部１０ａに対応するパターンを成膜形成
する。この動作において支持体３とマスク１０が同期し
て運動することにより、支持体３には図５に示すように
パターンＰs を連続的に形成することが可能となる。
【００２０】また、支持体３として例えば、銅箔等の金
属箔を積層した支持体の場合は、装置室１ａ内にガス導
入バルブ１２を通して例えばＣＦ4 等のエッチングガス
を流量を調節しつつ流入させ、パターン形成源９として
の蒸発源に替えてエッチング源を使用することで、支持
体３にマスク１０の透孔状部１０ａに対応するパターン
をエッチング形成する。この動作の場合も支持体３とマ
スク１０を同期して運動することにより、支持体３には
図６に示すようにエッチング後のパターンＰeを連続的
に形成することが可能になる。
属箔を積層した支持体の場合は、装置室１ａ内にガス導
入バルブ１２を通して例えばＣＦ4 等のエッチングガス
を流量を調節しつつ流入させ、パターン形成源９として
の蒸発源に替えてエッチング源を使用することで、支持
体３にマスク１０の透孔状部１０ａに対応するパターン
をエッチング形成する。この動作の場合も支持体３とマ
スク１０を同期して運動することにより、支持体３には
図６に示すようにエッチング後のパターンＰeを連続的
に形成することが可能になる。
【００２１】このように、支持体３には、スパッタ或い
はエッチングによりパターンＰs 或いはＰe が連続的に
形成されると共に、パターンＰs ，Ｐe の形状を規定す
るマスク１０は、支持体３のガイドロール５ａ，５ｂ，
５ｃの大径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回状
態で対応し、支持体３とは密接状態になり、また、マス
ク１０の透孔状部１０ａは、前述のようにマスク１０の
大径ガイドロール５ｂに対する巻回状態で断面形状がス
トレートになるため、支持体３にはマスク１０の透孔状
部１０ａの形状に正確に対応したパターンＰs 或いはＰ
e が形成される。
はエッチングによりパターンＰs 或いはＰe が連続的に
形成されると共に、パターンＰs ，Ｐe の形状を規定す
るマスク１０は、支持体３のガイドロール５ａ，５ｂ，
５ｃの大径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回状
態で対応し、支持体３とは密接状態になり、また、マス
ク１０の透孔状部１０ａは、前述のようにマスク１０の
大径ガイドロール５ｂに対する巻回状態で断面形状がス
トレートになるため、支持体３にはマスク１０の透孔状
部１０ａの形状に正確に対応したパターンＰs 或いはＰ
e が形成される。
【００２２】図７〜図１０は、他の実施の形態を示し、
以下、この他の実施の形態を説明するに、前述した実施
の形態（以下、第１の実施の形態という）において説明
した部材と同種の部材には同一符号を付してその説明は
省略する。
以下、この他の実施の形態を説明するに、前述した実施
の形態（以下、第１の実施の形態という）において説明
した部材と同種の部材には同一符号を付してその説明は
省略する。
【００２３】先ず、図７に示す第２の実施の形態は、第
１の実施の形態とパターン形成機構が異なるものであ
る。すなわち、この第２の実施の形態のパターン形成装
置２１は、装置室２１ａ内に配設された支持体３の走行
移動機構７に対向して配置されるパターン形成機構２２
は、マスク１０を送りロール２３からガイドロール２４
ａ，２４ｂを経由して巻取りロール２５に所要速度で走
行させるように構成し、マスク１０は有端帯状に形成し
たもので、所要パターン形状の透孔状部が前述のように
連続して形成されている。
１の実施の形態とパターン形成機構が異なるものであ
る。すなわち、この第２の実施の形態のパターン形成装
置２１は、装置室２１ａ内に配設された支持体３の走行
移動機構７に対向して配置されるパターン形成機構２２
は、マスク１０を送りロール２３からガイドロール２４
ａ，２４ｂを経由して巻取りロール２５に所要速度で走
行させるように構成し、マスク１０は有端帯状に形成し
たもので、所要パターン形状の透孔状部が前述のように
連続して形成されている。
【００２４】このマスク１０は、ガイドロール２４ａと
２４ｂとの間において、支持体３の走行移動機構７の大
径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回状に対応さ
れる。そして、マスク１０が巻取られる巻取りロール２
５には、大径ガイドロール５ｂと同期して運動すること
が可能なように駆動機構（図示せず）が備えられ、マス
ク１０は支持体３と同期して走行されるようになってい
る。また、このマスク１０に形成されるパターン形状の
透孔状部も、第１の実施の形態と同様に、マスク１０が
大径ガイドロール５ｂに巻回状に対応されて支持体３と
重ね合わされるので、この状態で断面形状がストレート
になるように偏平状態では断面形状がテーパ状になって
いる。
２４ｂとの間において、支持体３の走行移動機構７の大
径ガイドロール５ｂに支持体３を介して巻回状に対応さ
れる。そして、マスク１０が巻取られる巻取りロール２
５には、大径ガイドロール５ｂと同期して運動すること
が可能なように駆動機構（図示せず）が備えられ、マス
ク１０は支持体３と同期して走行されるようになってい
る。また、このマスク１０に形成されるパターン形状の
透孔状部も、第１の実施の形態と同様に、マスク１０が
大径ガイドロール５ｂに巻回状に対応されて支持体３と
重ね合わされるので、この状態で断面形状がストレート
になるように偏平状態では断面形状がテーパ状になって
いる。
【００２５】以上のように構成される第２の実施の形態
のパターン形成装置においても、第１の実施の形態のパ
ターン形成装置と同様に支持体３には、スパッタ或いは
エッチングにより所要のパターンが連続的にマスク１０
の透孔状部の形状に正確に対応して形成される。
のパターン形成装置においても、第１の実施の形態のパ
ターン形成装置と同様に支持体３には、スパッタ或いは
エッチングにより所要のパターンが連続的にマスク１０
の透孔状部の形状に正確に対応して形成される。
【００２６】次に、図８に示す第３の実施の形態のパタ
ーン形成装置は、支持体を直線状に走行させてマスクを
支持体の直線状走行部と平行に走行させるように構成し
たものである。
ーン形成装置は、支持体を直線状に走行させてマスクを
支持体の直線状走行部と平行に走行させるように構成し
たものである。
【００２７】すなわち、この第３の実施の形態のパター
ン形成装置３１は、装置室３１ａ内に、支持体３を送り
ロール４からガイドロール３２ａ，３２ｂを経由して巻
取りロール６に一定速度で走行させる走行移動機構３３
を配設してあり、この走行移動機構３３のガイドロール
３２ａと３２ｂの間において支持体３が直線状に走行移
動されるように構成されている。
ン形成装置３１は、装置室３１ａ内に、支持体３を送り
ロール４からガイドロール３２ａ，３２ｂを経由して巻
取りロール６に一定速度で走行させる走行移動機構３３
を配設してあり、この走行移動機構３３のガイドロール
３２ａと３２ｂの間において支持体３が直線状に走行移
動されるように構成されている。
【００２８】この支持体３の直線状走行部に対応してパ
ターン形成機構３４が配設されている。このパターン形
成機構３４において輪状に無端連続して形成されたマス
ク１０が４個のガイドロール３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，
３５ｄに巻回支持され、このマスク１０はガイドロール
３５ａと３５ｂとの間において支持体３の直線状走行部
と平行に走行されるようになっている。この支持体３と
マスク１０の平行走行部は、互いに接触した状態でも、
また、図示のように所要間隔で離れた状態でもよい。
ターン形成機構３４が配設されている。このパターン形
成機構３４において輪状に無端連続して形成されたマス
ク１０が４個のガイドロール３５ａ，３５ｂ，３５ｃ，
３５ｄに巻回支持され、このマスク１０はガイドロール
３５ａと３５ｂとの間において支持体３の直線状走行部
と平行に走行されるようになっている。この支持体３と
マスク１０の平行走行部は、互いに接触した状態でも、
また、図示のように所要間隔で離れた状態でもよい。
【００２９】このように、支持体３とマスク１０が直線
状に平行走行されるパターン形成装置３１においては、
マスク１０のパターン形状の透孔状部は前述した第１、
第２の実施の形態の場合のように断面形状をテーパ状に
形成することなくストレート状に形成する。
状に平行走行されるパターン形成装置３１においては、
マスク１０のパターン形状の透孔状部は前述した第１、
第２の実施の形態の場合のように断面形状をテーパ状に
形成することなくストレート状に形成する。
【００３０】以上のように構成される第３の実施の形態
のパターン形成装置３１においても、第１の実施の形態
のパターン形成装置１と同様に走行される支持体３に
は、パターン形成源９によるスパッタ或いはエッチング
により所要のパターンが連続的に形成される。
のパターン形成装置３１においても、第１の実施の形態
のパターン形成装置１と同様に走行される支持体３に
は、パターン形成源９によるスパッタ或いはエッチング
により所要のパターンが連続的に形成される。
【００３１】また、図９に示す第４の実施の形態のパタ
ーン形成装置は、走行される支持体に対してマスクを固
定状に配設して構成したものである。
ーン形成装置は、走行される支持体に対してマスクを固
定状に配設して構成したものである。
【００３２】すなわち、この第４の実施の形態のパター
ン形成装置４１は、装置室４１ａ内に、第１、第２の実
施の形態のパターン形成装置１，２１と同様に、支持体
３を送りロール４からガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃを
経由して巻取りロール６に一定速度で走行させるように
なし、中央部のガイドロール５ｂを大径に形成して構成
した走行移動機構４２を配設してある。
ン形成装置４１は、装置室４１ａ内に、第１、第２の実
施の形態のパターン形成装置１，２１と同様に、支持体
３を送りロール４からガイドロール５ａ，５ｂ，５ｃを
経由して巻取りロール６に一定速度で走行させるように
なし、中央部のガイドロール５ｂを大径に形成して構成
した走行移動機構４２を配設してある。
【００３３】そして、この走行移動機構４２に対応して
配設されるパターン形成機構４３のパターン形成用のマ
スク４４は、鋼板等の薄板状体に前述したマスク１０と
同様に所要パターン形状の透孔状部を形成して構成され
て、走行移動機構４２の大径ガイドロール５ｂの支持体
巻回部に沿うように対向して湾曲状に配置されている。
このマスク４４と大径ガイドロール５ｂとの間隔は、任
意に可変設定できるように構成されている。
配設されるパターン形成機構４３のパターン形成用のマ
スク４４は、鋼板等の薄板状体に前述したマスク１０と
同様に所要パターン形状の透孔状部を形成して構成され
て、走行移動機構４２の大径ガイドロール５ｂの支持体
巻回部に沿うように対向して湾曲状に配置されている。
このマスク４４と大径ガイドロール５ｂとの間隔は、任
意に可変設定できるように構成されている。
【００３４】このように構成される第４の実施の形態の
パターン形成装置４１においては、支持体３の走行移動
とパターン形成源９の動作とを交互に繰り返す間欠駆動
させることにより、支持体３には、パターン形成源９の
動作によるスパッタ或いはエッチングにより所要のパタ
ーンが連続的に形成される。
パターン形成装置４１においては、支持体３の走行移動
とパターン形成源９の動作とを交互に繰り返す間欠駆動
させることにより、支持体３には、パターン形成源９の
動作によるスパッタ或いはエッチングにより所要のパタ
ーンが連続的に形成される。
【００３５】さらに、図１０に示す第５の実施の形態の
パターン形成装置は、走行される支持体に対してマスク
を直線状に平行に配設して構成したものである。
パターン形成装置は、走行される支持体に対してマスク
を直線状に平行に配設して構成したものである。
【００３６】すなわち、この第５の実施の形態のパター
ン形成装置５１は、装置室５１ａ内に、第３の実施の形
態のパターン形成装置３１と同様に、支持体３を送りロ
ール４からガイドロール３２ａ，３２ｂを経由して巻取
りロール６に一定速度で走行させる走行移動機構５２を
配設してあり、この走行移動機構５２のガイドロール３
２ａと３２ｂの間において支持体３が直線状に走行され
るように構成されている。
ン形成装置５１は、装置室５１ａ内に、第３の実施の形
態のパターン形成装置３１と同様に、支持体３を送りロ
ール４からガイドロール３２ａ，３２ｂを経由して巻取
りロール６に一定速度で走行させる走行移動機構５２を
配設してあり、この走行移動機構５２のガイドロール３
２ａと３２ｂの間において支持体３が直線状に走行され
るように構成されている。
【００３７】この支持体３の直線状走行部に対応してパ
ターン形成機構５３が配設されている。このパターン形
成機構５３のパターン形成用のマスク５４は、鋼板等の
薄板状体に前述したマスク１０と同様に所要パターン形
状の透孔状部を形成して構成されて、支持体３の直線状
走行部に対応して直線状に平行に配置されている。この
マスク５４と支持体３との間隔は任意に可変設定できる
ように構成されている。
ターン形成機構５３が配設されている。このパターン形
成機構５３のパターン形成用のマスク５４は、鋼板等の
薄板状体に前述したマスク１０と同様に所要パターン形
状の透孔状部を形成して構成されて、支持体３の直線状
走行部に対応して直線状に平行に配置されている。この
マスク５４と支持体３との間隔は任意に可変設定できる
ように構成されている。
【００３８】このように構成される第５の実施の形態の
パターン形成装置５１においても、第４の実施の形態の
パターン形成装置４１と同様に支持体３の走行移動とパ
ターン形成源９の動作とを交互に繰り返す間欠駆動させ
ることにより、支持体３には、パターン形成源９の動作
によるスパッタ或いはエッチングによる所要のパターン
が連続的に形成される。
パターン形成装置５１においても、第４の実施の形態の
パターン形成装置４１と同様に支持体３の走行移動とパ
ターン形成源９の動作とを交互に繰り返す間欠駆動させ
ることにより、支持体３には、パターン形成源９の動作
によるスパッタ或いはエッチングによる所要のパターン
が連続的に形成される。
【００３９】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明はこれ等の実施の形態に限定されるものではな
く、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更てきるも
のである。
本発明はこれ等の実施の形態に限定されるものではな
く、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更てきるも
のである。
【００４０】例えば、マスクは鋼板に限ることなく、他
の材質の板材により形成でき、また、各部材の具体的構
成は任意に選定できるものである。
の材質の板材により形成でき、また、各部材の具体的構
成は任意に選定できるものである。
【００４１】そして、本発明によるパターン形成装置お
よびパターン形成方法は、フレキシブルプリント配線板
の電極パターン等の配線パターン形成のみに適用される
ものではなく、他物品の図形パターンの形成にも適用て
きるものである。
よびパターン形成方法は、フレキシブルプリント配線板
の電極パターン等の配線パターン形成のみに適用される
ものではなく、他物品の図形パターンの形成にも適用て
きるものである。
【００４２】
【発明の効果】以上のように本発明によるパターン形成
装置およびパターン形成方法によれば、支持体を送りロ
ールから巻取りロールへ走行移動させながら、この支持
体上にパターンを形成するので、支持体に対してパター
ンを連続的に形成できて、量産が可能になり、パターン
形成体を安価に提供できる。
装置およびパターン形成方法によれば、支持体を送りロ
ールから巻取りロールへ走行移動させながら、この支持
体上にパターンを形成するので、支持体に対してパター
ンを連続的に形成できて、量産が可能になり、パターン
形成体を安価に提供できる。
【００４３】特に、本発明は配線電極パターンを形成す
るプリントフレキシブル配線板の製造に適用してその効
果が大である。
るプリントフレキシブル配線板の製造に適用してその効
果が大である。
【図１】本発明によるパターン形成装置の第１例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】図１に示すパターン形成装置に用いるマスクの
一例を示す一部分の平面図である。
一例を示す一部分の平面図である。
【図３】図１に示すパターン形成装置における支持体と
マスクの重ね合わせ部分の拡大断面図である。
マスクの重ね合わせ部分の拡大断面図である。
【図４】図３に示すマスクの偏平状の断面図である。
【図５】パターン成膜形成後の支持体の一例の平面図で
ある。
ある。
【図６】パターンエッチング形成後の支持体の一例の平
面図である。
面図である。
【図７】本発明によるパターン形成装置の第２例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図８】本発明によるパターン形成装置の第３例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図９】本発明によるパターン形成装置の第４例を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図１０】本発明によるパターン形成装置の第５例を示
す概略断面図である。
す概略断面図である。
１，２１，３１，４１，５１‥‥パターン形成装置、２
‥‥真空排気装置、３‥‥支持体、４‥‥送りロール、
５ａ，５ｂ，５ｃ‥‥ガイドロール、６‥‥巻取りロー
ル、７‥‥走行移動機構、８‥‥パターン形成機構、９
‥‥パターン形成源、１０‥‥マスク、１０ａ‥‥透孔
状部、１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ‥‥ガイドロー
ル、１２‥‥ガス導入バルブ
‥‥真空排気装置、３‥‥支持体、４‥‥送りロール、
５ａ，５ｂ，５ｃ‥‥ガイドロール、６‥‥巻取りロー
ル、７‥‥走行移動機構、８‥‥パターン形成機構、９
‥‥パターン形成源、１０‥‥マスク、１０ａ‥‥透孔
状部、１１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１ｄ‥‥ガイドロー
ル、１２‥‥ガス導入バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河嶋 利孝 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 (72)発明者 大迫 純一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 Ｆターム(参考） 4K057 DB04 DE08 DM35 DM36 DN01 5E343 AA33 DD22 DD23 DD24 DD25 DD26 EE46 GG20
Claims (16)
- 【請求項１】 少なくとも、支持体を巻着する送りロー
ルと、前記送りロールから送り出される前記支持体を巻
取る巻取りロールと、前記送りロールと前記巻取りロー
ルとの間に配されるパターン形成用マスクを介して前記
支持体にパターンを形成する手段とを具備し、 前記支持体を前記送りロールから前記巻取りロールに送
りつつ、減圧雰囲気中で前記支持体上に前記手段により
パターンを形成することを特徴とするパターン形成装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体をパターン
エッチングする手段と、前記支持体と同期して運動する
パターン形成用マスクを具備していることを特徴とする
パターン形成装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体をエッチン
グする手段と、前記支持体に対応して配されるパターン
形成用マスクを具備し、前記支持体は前記パターン形成
用マスクに対して間欠運動されるようにしたことを特徴
とするパターン形成装置。 - 【請求項４】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体に対しパタ
ーン膜形成用原材料を蒸発させる手段と、前記支持体と
同期して運動するパターン形成用マスクを具備している
ことを特徴とするパターン形成装置。 - 【請求項５】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体に対しパタ
ーン膜形成用原材料を蒸発させる手段と、前記支持体に
対応して配されるパターン形成用マスクを具備し、前記
支持体は前記パターン形成用マスクに対して間欠運動さ
れるようにしたことを特徴とするパターン形成装置。 - 【請求項６】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記支持体が高分子フィルムあるいは薄ガラスおよび鋼
板のいずれかであることを特徴とするパターン形成装
置。 - 【請求項７】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、 前記パターン形成用マスクはパターン開口部の断面形状
が前記支持体に対面する側に広がるテーパー状であるこ
とを特徴とするパターン形成装置。 - 【請求項８】 請求項４又は請求項５に記載のパターン
形成装置において、 前記パターン膜形成用原材料を蒸発させる手段は、真空
蒸着装置、電子ビーム蒸着装置、スパッタリング装置、
イオンプレーティング装置および化学的気相成長装置の
うちのいずれかの装置であることを特徴とするパターン
形成装置。 - 【請求項９】 少なくとも、支持体を巻着する送りロー
ルと、前記送りロールから送り出される前記支持体を巻
取る巻取りロールと、前記送りロールと前記巻取りロー
ルとの間に配されるパターン形成用マスクを介して前記
支持体にパターンを形成する手段とを具備し、 前記支持体を前記送りロールから前記巻取りロールに送
りつつ、減圧雰囲気中で前記支持体上に前記手段により
パターンを形成する工程を有することを特徴とするパタ
ーン形成方法。 - 【請求項１０】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体をパターン
エッチングする手段と、前記支持体と同期して運動する
パターン形成用マスクを具備し、前記支持体を前記送り
ロールから前記巻取りロールに送りつつ、減圧雰囲気中
で前記手段により、前記パターン形成用マスクを前記支
持体と同期して運動することで前記支持体上にパターン
を形成する工程を有することを特徴とするパターン形成
方法。 - 【請求項１１】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体をエッチン
グする手段と、前記送りロールと前記巻取りロール間に
おいて支持体に対応して配されるパターン形成用マスク
を具備し、前記支持体を前記送りロールから前記巻取り
ロールに送りつつ、減圧雰囲気中で前記手段により、間
欠運動することで前記支持体上にパターンを形成する工
程を有することを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項１２】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体に対しパタ
ーン膜形成用原材料を蒸発させる手段と、前記支持体と
同期して運動するパターン形成用マスクを具備し、前記
支持体を前記送りロールから前記巻取りロールに送りつ
つ、減圧雰囲気中で、前記手段によりパターン形成用マ
スクを前記支持体と同期して運動することで前記支持体
上にパターンを形成する工程を有することを特徴とする
パターン形成方法。 - 【請求項１３】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記パターンを形成する手段は、前記支持体に対しパタ
ーン膜形成用原材料を蒸発させる手段と、前記支持体に
対応して配されるパターン形成用マスクを具備し、前記
支持体は前記パターン形成用マスクに対して間欠運動す
ることで前記支持体上にパターンを形成する工程を有す
ることを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項１４】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記支持体が高分子フィルムあるいは薄ガラスおよび鋼
板であることを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項１５】 請求項９に記載のパターン形成方法に
おいて、 前記パターン形成用マスクはパターン開口部の断面形状
が前記支持体に対面する側に広がるテーパー状であるこ
とを特徴とするパターン形成方法。 - 【請求項１６】 請求項１２又は請求項１３に記載のパ
ターン形成方法において、 前記パターン膜形成用原材料を蒸発させる手段は、真空
蒸着装置、電子ビーム蒸着装置、スパッタリング装置、
イオンプレーティング装置および化学的気相成長装置の
うちのいずれかの装置であることを特徴とするパターン
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10361263A JP2000183500A (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10361263A JP2000183500A (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000183500A true JP2000183500A (ja) | 2000-06-30 |
Family
ID=18472864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10361263A Pending JP2000183500A (ja) | 1998-12-18 | 1998-12-18 | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000183500A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011021622A1 (ja) * | 2009-08-20 | 2011-02-24 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | パターン薄膜形成方法 |
| JP2011512616A (ja) * | 2008-02-01 | 2011-04-21 | フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー．ヴィ． | 移動基材のプラズマ表面処理の方法及び装置 |
| US8305554B2 (en) | 2008-08-29 | 2012-11-06 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Roll-to-roll type apparatus for forming thin film pattern |
| WO2013099579A1 (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2013099578A1 (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| CN112226730A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-15 | 广州国显科技有限公司 | 柔性掩膜版和蒸镀装置 |
-
1998
- 1998-12-18 JP JP10361263A patent/JP2000183500A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011512616A (ja) * | 2008-02-01 | 2011-04-21 | フジフィルム マニュファクチュアリング ヨーロッパ ビー．ヴィ． | 移動基材のプラズマ表面処理の方法及び装置 |
| US8305554B2 (en) | 2008-08-29 | 2012-11-06 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Roll-to-roll type apparatus for forming thin film pattern |
| WO2011021622A1 (ja) * | 2009-08-20 | 2011-02-24 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | パターン薄膜形成方法 |
| WO2013099579A1 (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| WO2013099578A1 (ja) | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 日東電工株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置 |
| US8999735B2 (en) | 2011-12-27 | 2015-04-07 | Nitto Denko Corporation | Method and apparatus for manufacturing organic el device |
| CN112226730A (zh) * | 2020-09-30 | 2021-01-15 | 广州国显科技有限公司 | 柔性掩膜版和蒸镀装置 |
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