JP2000180598A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置Info
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- JP2000180598A JP2000180598A JP10355613A JP35561398A JP2000180598A JP 2000180598 A JP2000180598 A JP 2000180598A JP 10355613 A JP10355613 A JP 10355613A JP 35561398 A JP35561398 A JP 35561398A JP 2000180598 A JP2000180598 A JP 2000180598A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理物を確実にしかも効率良く洗浄できる
紫外線照射装置を提供することにある。 【解決手段】 容器1内部に真空紫外光を放射する紫外
線ランプ2が配置され、該容器1に前記紫外線ランプ2
から放射される真空紫外光を取り出す窓部材3が形成さ
れて、該窓部材3から放射された真空紫外光によって被
処理物を処理する紫外線照射装置において、前記窓部材
3は、真空紫外光を放射する放射面31の一部が、被処
理物方向に突出していることを特徴とする紫外線照射装
置。
紫外線照射装置を提供することにある。 【解決手段】 容器1内部に真空紫外光を放射する紫外
線ランプ2が配置され、該容器1に前記紫外線ランプ2
から放射される真空紫外光を取り出す窓部材3が形成さ
れて、該窓部材3から放射された真空紫外光によって被
処理物を処理する紫外線照射装置において、前記窓部材
3は、真空紫外光を放射する放射面31の一部が、被処
理物方向に突出していることを特徴とする紫外線照射装
置。
Description
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、紫外線ランプから
放射される真空紫外光、具体的には波長200nm以下
の紫外光と、この真空紫外光によって同時に生成するオ
ゾンによって乾式洗浄するための紫外線照射装置に関す
るものである。
放射される真空紫外光、具体的には波長200nm以下
の紫外光と、この真空紫外光によって同時に生成するオ
ゾンによって乾式洗浄するための紫外線照射装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来から紫外線ランプである低圧水銀灯
や誘電体バリア放電ランプを用いた紫外線照射装置によ
る乾式洗浄技術が知られており、この紫外線照射装置に
よって、液晶パネルのパネル電極表面の洗浄を行なって
いた。
や誘電体バリア放電ランプを用いた紫外線照射装置によ
る乾式洗浄技術が知られており、この紫外線照射装置に
よって、液晶パネルのパネル電極表面の洗浄を行なって
いた。
【0003】詳細に説明すると、図2に示すように、被
処理物である液晶パネルPは、大きさの異なった厚さ
0.7mmのガラス基板A,Bを貼り合わせて作成され
ており、このガラス基板A,Bの間に不図示のTFTが
配置されている。そして、ガラス基板Aの露出表面A1
には、不図示のTFTにつながるパネル電極Cが印刷さ
れている。
処理物である液晶パネルPは、大きさの異なった厚さ
0.7mmのガラス基板A,Bを貼り合わせて作成され
ており、このガラス基板A,Bの間に不図示のTFTが
配置されている。そして、ガラス基板Aの露出表面A1
には、不図示のTFTにつながるパネル電極Cが印刷さ
れている。
【0004】このパネル電極Cには、TFTを駆動させ
るためのドライバICが接続されている。この接続方法
は、一般的に、先ず、パネル電極Cの表面に異方性導電
膜Dを配置し低温低圧状態で仮圧着する。この仮圧着さ
れた状態の異方性導電膜D上にドライバICを配置して
アライメントを行ない、所定の位置関係が出たところで
高温高圧状態で本圧着を行なう。
るためのドライバICが接続されている。この接続方法
は、一般的に、先ず、パネル電極Cの表面に異方性導電
膜Dを配置し低温低圧状態で仮圧着する。この仮圧着さ
れた状態の異方性導電膜D上にドライバICを配置して
アライメントを行ない、所定の位置関係が出たところで
高温高圧状態で本圧着を行なう。
【0005】上記工程において、パネル電極Cと異方性
導電膜Dとの仮圧着を行なう場合、パネル電極Cと異方
性導電膜Dとの密着性が悪く、剥がれやすいという問題
があるので、図3に示すように紫外線照射装置Eを用い
て、パネル電極Cの表面を真空紫外光と、真空紫外光に
よって同時に生成されるオゾンによって乾式洗浄して密
着性を上げることが行われている。
導電膜Dとの仮圧着を行なう場合、パネル電極Cと異方
性導電膜Dとの密着性が悪く、剥がれやすいという問題
があるので、図3に示すように紫外線照射装置Eを用い
て、パネル電極Cの表面を真空紫外光と、真空紫外光に
よって同時に生成されるオゾンによって乾式洗浄して密
着性を上げることが行われている。
【0006】図3を用いて詳細に説明すると、紫外線照
射装置Eは、ステンレス製の容器1の内部に、172n
mにピーク波長を有する誘電体バリア放電ランプ2が複
数配置されており、容器1の前方には真空紫外光を透過
するための合成石英ガラスよりなる窓部材3が配置され
ている。この容器1は、密閉されており、誘電体バリア
放電ランプ2は大気と隔離され、容器1内には、誘電体
バリア放電ランプ2から放射される光に対して透過性で
あり真空紫外光を吸収しない不活性体、例えば窒素、ア
ルゴン、ネオン等のガスが充満されている。4は、必要
によって設けられる誘電体バリア放電ランプ2から放射
される真空紫外光を効率良く窓部材3の方向に反射させ
る反射鏡である。
射装置Eは、ステンレス製の容器1の内部に、172n
mにピーク波長を有する誘電体バリア放電ランプ2が複
数配置されており、容器1の前方には真空紫外光を透過
するための合成石英ガラスよりなる窓部材3が配置され
ている。この容器1は、密閉されており、誘電体バリア
放電ランプ2は大気と隔離され、容器1内には、誘電体
バリア放電ランプ2から放射される光に対して透過性で
あり真空紫外光を吸収しない不活性体、例えば窒素、ア
ルゴン、ネオン等のガスが充満されている。4は、必要
によって設けられる誘電体バリア放電ランプ2から放射
される真空紫外光を効率良く窓部材3の方向に反射させ
る反射鏡である。
【0007】そして、窓部材3から放射された真空紫外
光が、ガラス基板Aの露出表面A1に形成されたパネル
電極Cに照射されることにより、パネル電極Cの表面を
洗浄して、異方性導電膜Dとの密着性を向上させるもの
である。
光が、ガラス基板Aの露出表面A1に形成されたパネル
電極Cに照射されることにより、パネル電極Cの表面を
洗浄して、異方性導電膜Dとの密着性を向上させるもの
である。
【0008】一方、前述したように、誘電体バリア放電
ランプ2から放射される真空紫外光は、172nmにピ
ーク波長を有するものであり、この172nmの真空紫
外光は、空気中の酸素に非常に良く吸収される。
ランプ2から放射される真空紫外光は、172nmにピ
ーク波長を有するものであり、この172nmの真空紫
外光は、空気中の酸素に非常に良く吸収される。
【0009】ここで、酸素による真空紫外光の吸収と被
処理物上での真空紫外光強度との関係を、その原理に基
づいて図3を用いて説明する。誘電体バリア放電ランプ
2から放射された真空紫外光による窓部材3の放射面3
1における真空紫外光強度をI、空気が存在する窓部材
3の放射面31から被処理物であるパネル電極Cまでの
距離をL(cm)、特定波長(この場合、172nm)
における酸素の光吸収係数をα(cm-1)、空気中の酸
素濃度をx(%)とすると、パネル電極C上での真空紫
外光強度Iaとの関係は下記の式1に示すようになる。 Ia=Ie―α XL/100・・・・<式1> この式1から分かるように、空気による真空紫外光の吸
収を小さくするために、空気が存在する窓部材3の放射
面31からパネル電極Cまでの距離Lを小さくしなけれ
ばならない。
処理物上での真空紫外光強度との関係を、その原理に基
づいて図3を用いて説明する。誘電体バリア放電ランプ
2から放射された真空紫外光による窓部材3の放射面3
1における真空紫外光強度をI、空気が存在する窓部材
3の放射面31から被処理物であるパネル電極Cまでの
距離をL(cm)、特定波長(この場合、172nm)
における酸素の光吸収係数をα(cm-1)、空気中の酸
素濃度をx(%)とすると、パネル電極C上での真空紫
外光強度Iaとの関係は下記の式1に示すようになる。 Ia=Ie―α XL/100・・・・<式1> この式1から分かるように、空気による真空紫外光の吸
収を小さくするために、空気が存在する窓部材3の放射
面31からパネル電極Cまでの距離Lを小さくしなけれ
ばならない。
【0010】従って、被処理物である液晶パネルPは窓
部材3にできるだけ近づけて配置される必要がある。
部材3にできるだけ近づけて配置される必要がある。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、液晶パ
ネルPは前述したように、大きさの異なった2枚のガラ
ス基板A、Bを貼り合わせたものであり、真空紫外光に
よって洗浄処理されるパネル電極Cは、少なくとも窓部
材3からガラス基板Bの厚さぶんの距離だけ離れたとこ
ろに位置するようになる。
ネルPは前述したように、大きさの異なった2枚のガラ
ス基板A、Bを貼り合わせたものであり、真空紫外光に
よって洗浄処理されるパネル電極Cは、少なくとも窓部
材3からガラス基板Bの厚さぶんの距離だけ離れたとこ
ろに位置するようになる。
【0012】具体的に説明すると、窓部材3の真空紫外
光を放射する放射面31にガラス基板Bが接触した状態
でも、ガラス基板Bの厚さは0.7mmあるので、窓部
材3の放射面31とパネル電極Cまでの距離は、0.7
mm離れていることになる。しかし、実際には、液晶パ
ネルPの搬送や破損を考慮して、窓部材3の放射面31
にガラス基板Bが接触することはなく、0.3mm以上
離れているので、窓部材3の放射面31とパネル電極C
までの距離は、1.0mm以上離れていることになる。
光を放射する放射面31にガラス基板Bが接触した状態
でも、ガラス基板Bの厚さは0.7mmあるので、窓部
材3の放射面31とパネル電極Cまでの距離は、0.7
mm離れていることになる。しかし、実際には、液晶パ
ネルPの搬送や破損を考慮して、窓部材3の放射面31
にガラス基板Bが接触することはなく、0.3mm以上
離れているので、窓部材3の放射面31とパネル電極C
までの距離は、1.0mm以上離れていることになる。
【0013】このように、窓部材3の放射面31とパネ
ル電極Cが大きく離れているので、この空間に存在する
空気中の酸素によって172nmの真空紫外光が吸収さ
れてしまい、所望の洗浄効果を得るためには、真空紫外
光の照射時間を長くしなければなず、場合によっては、
洗浄効果が得られない場合もあった。
ル電極Cが大きく離れているので、この空間に存在する
空気中の酸素によって172nmの真空紫外光が吸収さ
れてしまい、所望の洗浄効果を得るためには、真空紫外
光の照射時間を長くしなければなず、場合によっては、
洗浄効果が得られない場合もあった。
【0014】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、その目的は、被処理物を確実にし
かも効率良く洗浄できる紫外線照射装置を提供すること
にある。
されたものであって、その目的は、被処理物を確実にし
かも効率良く洗浄できる紫外線照射装置を提供すること
にある。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に記載の紫外線照射装置は、容器内部に真
空紫外光を放射する紫外線ランプが配置され、該容器に
前記紫外線ランプから放射される真空紫外光を取り出す
窓部材が形成されて、該窓部材から放射された真空紫外
光によって被処理物を処理する紫外線照射装置におい
て、前記窓部材は、真空紫外光を放射する放射面の一部
が、被処理物方向に突出していることを特徴とする。
に、請求項1に記載の紫外線照射装置は、容器内部に真
空紫外光を放射する紫外線ランプが配置され、該容器に
前記紫外線ランプから放射される真空紫外光を取り出す
窓部材が形成されて、該窓部材から放射された真空紫外
光によって被処理物を処理する紫外線照射装置におい
て、前記窓部材は、真空紫外光を放射する放射面の一部
が、被処理物方向に突出していることを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の紫外線照射装置
と被処理物である液晶パネルとの位置関係を示す説明図
である。紫外線照射装置E1は、ステンレス製の容器1
の内部に、172nmにピーク波長を有する真空紫外光
を放射するための誘電体バリア放電ランプ2が複数配置
されており、容器1の前方には真空紫外光を透過するた
めの合成石英ガラスよりなる窓部材3が配置されてい
る。なお、図2、図3と同一符号は、同一部分を示す。
本実施例において、紫外線ランプとして誘電体バリア放
電ランプを用いたが、低圧水銀灯、ホロカソードラン
プ、マイクロ波放電ランプ、高周波放電ランプなど真空
紫外光を放射する紫外線ランプであれば、どのようなラ
ンプでも良い。
と被処理物である液晶パネルとの位置関係を示す説明図
である。紫外線照射装置E1は、ステンレス製の容器1
の内部に、172nmにピーク波長を有する真空紫外光
を放射するための誘電体バリア放電ランプ2が複数配置
されており、容器1の前方には真空紫外光を透過するた
めの合成石英ガラスよりなる窓部材3が配置されてい
る。なお、図2、図3と同一符号は、同一部分を示す。
本実施例において、紫外線ランプとして誘電体バリア放
電ランプを用いたが、低圧水銀灯、ホロカソードラン
プ、マイクロ波放電ランプ、高周波放電ランプなど真空
紫外光を放射する紫外線ランプであれば、どのようなラ
ンプでも良い。
【0017】この窓部材3は、被処理物である液晶パネ
ルPに対向する表面が、真空紫外光を放射する放射面3
1になっており、この放射面31の一部が液晶パネルP
の方向に突出して突出放射面311になっている。本実
施例の場合、ガラス基板Bの厚さは0.7mmであり、
放射面31から突出放射面311の突出長Lは2mmで
ある。そして、突出放射面311からガラス基板Aの露
出面A1に形成されたパネル電極Cまでの距離L1は
0.3mmである。なお、ガラス基板Bと放射面31と
は、接触しておらず、1.6mm離れている。また、こ
の突出放射面311の形成方法は、窓部材3の厚みを大
きくすることによって形成されている。
ルPに対向する表面が、真空紫外光を放射する放射面3
1になっており、この放射面31の一部が液晶パネルP
の方向に突出して突出放射面311になっている。本実
施例の場合、ガラス基板Bの厚さは0.7mmであり、
放射面31から突出放射面311の突出長Lは2mmで
ある。そして、突出放射面311からガラス基板Aの露
出面A1に形成されたパネル電極Cまでの距離L1は
0.3mmである。なお、ガラス基板Bと放射面31と
は、接触しておらず、1.6mm離れている。また、こ
の突出放射面311の形成方法は、窓部材3の厚みを大
きくすることによって形成されている。
【0018】本実施例において、突出放射面の形成方法
は、窓部材の一部の厚みを変えた一体物で形成されてい
るが、一定の厚みを有する窓部材に、この窓部材と同じ
材質のものを別途貼り合わせて形成してもよい。
は、窓部材の一部の厚みを変えた一体物で形成されてい
るが、一定の厚みを有する窓部材に、この窓部材と同じ
材質のものを別途貼り合わせて形成してもよい。
【0019】窓部材3の突出放射面311から放射され
る真空紫外光は、突出長だけ窓部材3を通過する距離が
長くなるが、この窓部材3自体による真空紫外光の吸収
は少なく、具体的には、放射面31から放射される真空
紫外光の強度を100%とした場合、突出放射面311
から放射される真空紫外光の強度は98%であり、窓部
材3に被処理物方向に突出するように突出放射面311
を設けても、突出放射面311から放射される真空紫外
光の強度の低下がほとんどない。
る真空紫外光は、突出長だけ窓部材3を通過する距離が
長くなるが、この窓部材3自体による真空紫外光の吸収
は少なく、具体的には、放射面31から放射される真空
紫外光の強度を100%とした場合、突出放射面311
から放射される真空紫外光の強度は98%であり、窓部
材3に被処理物方向に突出するように突出放射面311
を設けても、突出放射面311から放射される真空紫外
光の強度の低下がほとんどない。
【0020】液晶パネルPを窓部材3の下方に配置する
場合、ガラス基板Aの露出表面A1に形成されたパネル
電極Cがこの突出放射面311と対向するように配置す
る。
場合、ガラス基板Aの露出表面A1に形成されたパネル
電極Cがこの突出放射面311と対向するように配置す
る。
【0021】したがって、窓部材3の突出放射面311
とパネル電極Cとの離間距離は、ガラス基板Bの厚さで
ある0.7mmより短くなり、この場合0.3mmであ
り、突出放射面311から放射された真空紫外光は、
0.3mmという極薄い空気が存在する空間を通過して
パネル電極Cに照射される。この結果、突出放射面31
1から放射された真空紫外光は、空気中の酸素によって
吸収されることがほんとんどなく、パネル電極Cを確実
に洗浄することができる。
とパネル電極Cとの離間距離は、ガラス基板Bの厚さで
ある0.7mmより短くなり、この場合0.3mmであ
り、突出放射面311から放射された真空紫外光は、
0.3mmという極薄い空気が存在する空間を通過して
パネル電極Cに照射される。この結果、突出放射面31
1から放射された真空紫外光は、空気中の酸素によって
吸収されることがほんとんどなく、パネル電極Cを確実
に洗浄することができる。
【0022】突出放射面とパネル電極との距離が0.3
mmの図1に示す本願発明の紫外線照射装置における、
パネル電極表面の真空紫外光の強度を測定すると4.6
(mW/cm2)であった。一方、比較例として、窓部
材に突出放射面を設けず、窓部材の放射面とパネル電極
との距離が1.0mmであって、その他は図1と同じ紫
外線照射装置における、パネル電極表面の真空紫外光の
強度を測定すると3.8(mW/cm2)であった。
mmの図1に示す本願発明の紫外線照射装置における、
パネル電極表面の真空紫外光の強度を測定すると4.6
(mW/cm2)であった。一方、比較例として、窓部
材に突出放射面を設けず、窓部材の放射面とパネル電極
との距離が1.0mmであって、その他は図1と同じ紫
外線照射装置における、パネル電極表面の真空紫外光の
強度を測定すると3.8(mW/cm2)であった。
【0023】この結果より、本願発明の紫外線照射装置
は、比較例の紫外線照射装置に比べ、パネル電極表面の
真空紫外光の強度が20%も向上したことが分かる。従
って、本願発明の紫外線照射装置は、窓部材をパネル電
極に近づけることにより、パネル電極表面の真空紫外光
の強度を大きくすることができるので、確実にパネル電
極を洗浄できる。また、本願発明の紫外線照射装置は、
比較例の紫外線照射装置に比べパネル電極表面での真空
紫外光の強度が大きいので、同じ洗浄効果を得るまでの
処理時間を短くすることができ、効率良くパネル電極を
洗浄できる。
は、比較例の紫外線照射装置に比べ、パネル電極表面の
真空紫外光の強度が20%も向上したことが分かる。従
って、本願発明の紫外線照射装置は、窓部材をパネル電
極に近づけることにより、パネル電極表面の真空紫外光
の強度を大きくすることができるので、確実にパネル電
極を洗浄できる。また、本願発明の紫外線照射装置は、
比較例の紫外線照射装置に比べパネル電極表面での真空
紫外光の強度が大きいので、同じ洗浄効果を得るまでの
処理時間を短くすることができ、効率良くパネル電極を
洗浄できる。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の紫外線照
射装置は、容器内部に真空紫外光を放射する紫外線ラン
プが配置され、容器に形成された窓部材から真空紫外光
が放射されて被処理物を処理する紫外線照射装置であっ
て、この窓部材は、真空紫外光を放射する放射面の一部
が被処理物方向に突出しているので、窓部材を被処理物
に近づけることができ、窓部材から放射された真空紫外
光が空気中の酸素によってほとんど吸収されずに被処理
物に照射されるので、被処理物を確実にしかも効率良く
洗浄することができる。
射装置は、容器内部に真空紫外光を放射する紫外線ラン
プが配置され、容器に形成された窓部材から真空紫外光
が放射されて被処理物を処理する紫外線照射装置であっ
て、この窓部材は、真空紫外光を放射する放射面の一部
が被処理物方向に突出しているので、窓部材を被処理物
に近づけることができ、窓部材から放射された真空紫外
光が空気中の酸素によってほとんど吸収されずに被処理
物に照射されるので、被処理物を確実にしかも効率良く
洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の紫外線照射装置と被処理物である液晶
パネルとの位置関係を示す説明図である。
パネルとの位置関係を示す説明図である。
【図2】液晶パネルの説明図である。
【図3】従来の紫外線照射装置と被処理物である液晶パ
ネルとの位置関係を示す説明図である。
ネルとの位置関係を示す説明図である。
1 容器 2 誘電体バリア放電ランプ 3 窓部材 31 放射面 311 突出放射面 4 反射鏡 E 紫外線照射装置 E1 紫外線照射装置 P 液晶パネル A ガラス基板 A1 露出表面 B ガラス基板 C パネル電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤次 英樹 兵庫県姫路市別所町佐土1194番地 ウシオ 電機株式会社内 Fターム(参考) 2H090 JC19 LA01 LA04
Claims (1)
- 【請求項1】 容器内部に真空紫外光を放射する紫外線
ランプが配置され、該容器に前記紫外線ランプから放射
される真空紫外光を取り出す窓部材が形成されて、該窓
部材から放射された真空紫外光によって被処理物を処理
する紫外線照射装置において、 前記窓部材は、真空紫外光を放射する放射面の一部が、
被処理物方向に突出していることを特徴とする紫外線照
射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10355613A JP2000180598A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10355613A JP2000180598A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 紫外線照射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000180598A true JP2000180598A (ja) | 2000-06-30 |
Family
ID=18444888
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10355613A Pending JP2000180598A (ja) | 1998-12-15 | 1998-12-15 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000180598A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
KR20150122723A (ko) * | 2013-03-28 | 2015-11-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
-
1998
- 1998-12-15 JP JP10355613A patent/JP2000180598A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6468599B1 (en) | 1998-12-25 | 2002-10-22 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation |
US6756087B2 (en) | 1998-12-25 | 2004-06-29 | International Business Machines Corporation | Method for removing organic compound by ultraviolet radiation and apparatus therefor |
KR20150122723A (ko) * | 2013-03-28 | 2015-11-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
KR101689987B1 (ko) * | 2013-03-28 | 2016-12-26 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 광조사 장치 |
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