JP2000173520A - 粒子線装置 - Google Patents

粒子線装置

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JP2000173520A JP11258546A JP25854699A JP2000173520A JP 2000173520 A JP2000173520 A JP 2000173520A JP 11258546 A JP11258546 A JP 11258546A JP 25854699 A JP25854699 A JP 25854699A JP 2000173520 A JP2000173520 A JP 2000173520A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粒子線装置において後方散乱電子及び/又は
2次電子の検出効率を改善すること目的とする。 【解決手段】 粒子線装置は1次粒子線を発生するソー
スと、1次粒子線を試験片上に集光させるための集光装
置と、ソースと集光装置の間に配置され試験片より放出
された後方散乱電子及び/又は2次電子を検出するため
の検出装置と、1次粒子線を第1のエネルギからそれよ
り高い第2のエネルギに加速するための加速装置と、1
次粒子線を最終ビームエネルギに減速するための減速装
置と、を有し、更に、検出装置の直前に設けられ1次粒
子線を減速するための第1の付加装置と、検出装置の直
後に設けられ1次粒子線を加速するための第2の付加装
置と、を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は請求項1の前提部に
記載された粒子線装置に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明は特に、低電圧を使用する走査型
電子顕微鏡に関する。低電圧型電子顕微鏡は高感度の非
導電性試験片の画像化において特に重要である。低電圧
(典型的には5keV以下)を使用すると、エネルギの
散逸量が少ないため、高感度の試験片が損傷されない。
絶縁性試験片の場合には歪み及び妨害無しに画像化がな
される。それは、絶縁体は低エネルギ領域においては約
1の2次電子生成を行うため、粒子線による露光の間、
チャージング効果を回避し又は最小化することができる
からである。従って、低電圧型電子顕微鏡は、半導体製
造工程における寸法測定及びデバイス構造の検査等にと
って極めて重要である。
【0003】現在、高解像度の低電圧型電子顕微鏡が上
述の分野にて使用されている。欧州特許EP−B−03
33018号に記載されている如き高性能電子顕微鏡は
最終の対物レンズとして電界浸レンズと磁界浸レンズの
組合せ使用する。界浸原理を使用することによって、1
次ビーム路は高エネルギとなる。最終の低ビームエネル
ギは試験片の直前にある対物レンズによる減速によって
生成される(欧州特許EP−B−0180723号)。
このような中間ビーム加速の概念を使用することによっ
て、ビームを拡げその結果解像度を減少させるコラム内
の電子同士の相互作用が著しく減少する。
【0004】1次粒子によって試験片より放出される後
方散乱電子及び/又は2次電子は対物レンズの前に配置
された検出器によって検出される。インレンズ型又はプ
レレンズ型の検出器を配置することによって、試験片を
レンズの近傍に配置することができる利点がある。その
ため、対物レンズの作動距離が短くなり、それに対応し
て対物レンズの焦点距離が短くなる。短焦点距離によっ
て対物レンズの色収差及び球面収差係数が低下する。こ
れは低電圧の場合に光学的に高性能が得られることを意
味する。
【0005】従来の高性能且つ低電圧型装置は良好な光
学特性を示すが、米国特許第5780859号に記載さ
れているように、電界減速レンズと磁気単極レンズの組
合せを使用する対物レンズを利用することによって光学
特性は更に改善される。しかしながら、これらの装置で
は2次電子の検出効率に欠点がある。2次電子は1次粒
子のための減速場によって加速されるため、そのエネル
ギは高く1次電子のエネルギと同様である。その結果、
その挙動は1次電子線の挙動と同様になる。従って、2
次電子の検出は困難であり、効率的でない。従って、従
来の解決法は、1次ビームが通るための小さな穴を有す
る共軸検出器(欧州特許EP−B−0333018号)
又は1次電子線と2次電子線を分離する装置(米国特許
第5422486号)を使用する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、請求
項1の前提部に記載された粒子線装置において後方散乱
電子及び2次電子の検出効率を改善することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、特許請
求の範囲の請求項1の特徴部によって達成される。1次
粒子線を検出装置の領域にて加速し減速するための第1
及び第2の付加装置を利用することによって、様々な効
率的な検出システムが使用される。なぜなら、後方散乱
電子及び/又は2次電子は、検出器の領域にて、試験片
の電位に近い電位が印加されることによって元のエネル
ギ分布まで減速されるからである。
【0008】好ましくは、検出器は1次ビーム路のクロ
スオーバに配置される。この場合、1次ビームの特性に
対する第1及び第2の付加装置の光学的効果は重要でな
く無視することができる。なぜなら、クロスオーバ内の
又はその付近のレンズ又は光学要素はビームの特性に対
して重要な効果を有さないからである。
【0009】更に、本発明の利点及び例は、実施の形態
の説明及び図面を参照して以下に詳細に説明されよう。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の粒子線装置の第1の例が
図1に示されている。粒子線装置は基本的には1次粒子
線2を発生するソース1と、1次粒子線2を試験片4上
に集光させるための集光装置3と、ソース1と集光装置
3の間に配置され試験片4より放出された後方散乱電子
及び/又は2次電子6を検出するための検出装置5と、
1次粒子線2を第1のエネルギからそれより高い第2の
エネルギに加速するための加速装置7と、1次粒子線2
を最終ビームエネルギに減速するための減速装置8と、
を有する。
【0011】検出装置5はソース1と集光装置3の間に
配置されている。本発明によると、更に、1次粒子線2
を減速するための第1の付加装置9が検出装置5の直前
に設けられ、1次粒子線2を加速するための第2の付加
装置10が検出装置5の直後に設けられている。
【0012】この粒子線装置は特に低電圧を使用する走
査型電子顕微鏡に使用して好適である。
【0013】ソース1は例えば、電子銃1a、抽出器1
b及び陽極1cを含む。電子銃は好ましくは熱電界効果
型エミッタ、冷陰極エミッタ又は光電陰極であってよ
い。陽極1cは又、加速装置7を構成している。
【0014】減速装置8は集光装置3内の界浸レンズに
よって構成されている。界浸レンズは少なくとも2つの
電極3a、3bを含み、1次粒子の方向に第1の電極3
aは第2の電極3bより高い電位を有する。界浸レンズ
は1次粒子線のための減速場を生成する。
【0015】しかしながら、試験片4にて放出された後
方散乱電子及び/又は2次電子6は、界浸レンズによっ
て加速される。その結果、この2次電子は、界浸レンズ
を通過した後、1次粒子と略同一の高エネルギを有す
る。そのため、この2次電子を検出するのは困難であ
る。しかしながら、本発明によると、検出装置5の領域
にて1次粒子線を減速し加速する第1及び第2の付加装
置が設けられている。従って、検出装置5は低エネルギ
領域に配置されている。もし、検出器の領域に印加され
た電位が試験片にて印加された電位に対応するなら、後
方散乱電子及び/又は2次電子は検出装置にて元のエネ
ルギ分布、例えば、0から50eVまで減速されるであ
ろう。1次粒子も又検出器の領域にて減速されるが、そ
れでも未だ2次粒子のエネルギの数倍のエネルギを有す
る。その結果、2次粒子の検出のために2次粒子を1次
粒子より分離するのは極めて容易である。
【0016】1次粒子線を減速し加速するための第1及
び第2の付加装置は、どのような減速レンズ及び加速レ
ンズによって生成されてもよい。最も簡単な場合は、同
心穴よりなる又はグリッド電極によって形成された2つ
の電極レンズである。穴電極とグリッド電極を組みあわ
せても良い。更に、減速及び加速の効果を有する全ての
要素、例えば、アインゼルレンズが信号検出の概念に使
用され組み込まれてよい。
【0017】図1の例では、1次粒子線を減速するため
の付加装置9は穴電極9aとライナ管9bの下端を含
む。ライナ管9bは例えば、8kVの電位を有してよ
く、穴電極9aは接地電位を有する。1次粒子線を加速
し2次粒子線を減速する第2の付加装置10はグリッド
電極10aとライナ管10bの上端を含む。グリッド電
極10aは、例えば、接地電位であるが、ライナ管10
bはライナ管9bと同一電位を有する。
【0018】図2に本発明の粒子線装置の第2の例を示
す。この例は第1の例と比較して、検出装置5の領域に
て、クロスオーバ(ビーム断面積の極小)を生成する付
加レンズ11、例えば、コンデンサレンズが設けられて
いる点が異なる。これによって次のような利点が得られ
る。クロスオーバにおける又はクロスオーバ近くのレン
ズ等の光学的要素はビーム特性にどのような重要な影響
も与えないために、1次粒子線の特性に対する付加装置
9、10の光学的影響は重要でなく無視することができ
る。
【0019】図3に示されている粒子線装置は集光装置
3内に減速場を有さないが、集光装置3と試験片の間に
て1次粒子線を最終ビームエネルギまで減速させること
ができる。集光装置3は高電位、例えば、8kVの電極
を有するが、試験片は接地電位である。しかしながら、
試験片にバイアスをかけることによって減速を実行する
ことも可能である。
【0020】図4に示す粒子線装置は、1次粒子線を最
終ビームエネルギに減速するための界浸レンズ8を有
し、これは2又はそれ以上の電極よりなる。集光装置3
の磁気レンズは単極レンズとして試験片の背後に配置さ
れている。
【0021】勿論、上述の例は更に他の構成要素、例え
ば、ビームの整合、スチグマチック結像、走査及び開口
制限のための要素を有するが、それについては詳細に説
明しない。
【0022】第2の付加装置10は1次粒子線を再度第
3のエネルギに加速するように構成されており、この第
3のエネルギは第2のエネルギに対応してよい。第2の
及び/又は第3のエネルギは最終エネルギより少なくと
も3倍、好ましくは5倍高い。最終エネルギは好ましく
は5keVより低い。
【0023】基本的には、多くの種類の効率的な検出シ
ステムが使用される。図5には、中央に1次粒子線が通
るための穴5aを有する環状検出器5の底面図が示され
ている。図6には、セグメント型検出器5が開示されて
いる。
【0024】しかしながら、1方向の軸外れ検出器(図
7)、2方向の軸外れ検出器(図8)又はより高次方向
の軸外れ検出器を備えることも可能である。軸外れ検出
器はウィーンフィルタを使用することによって支持され
ることができる。ウィーンフィルタは図7に示すように
交差する電界偏向場と磁界偏向場よりなり、1次粒子線
を妨害しないが後方散乱電子及び2次電子を軸外れ検出
器に偏向させる。もし2次ビーム粒子を2つの軸外れ検
出器に分割すべきであるなら、4極のウィーンフィルタ
を使用することができる。
【0025】この検出器の領域の付加的な利点は、フィ
ルタ電極12がこの領域に配置されることができること
である。図7は検出器5の前方にフィルタ電極12が設
けられた例を示し、図8は軸上フィルタ電極12を示
す。これらのフィルタ電極は信号電子(後方散乱電子及
び/又は2次電子)をエネルギ選択的に検出するために
使用されることができる。勿論、軸上(オンアキシャ
ル)検出器、軸外れ検出器及び/又は付加的なフィルタ
電極を組み合わせることもできる。これらは価値ある信
号を供給するが、この信号は単独で又は組み合わせて、
画像分析のために使用される。
【0026】1次粒子線を減速し加速する第1及び第2
の付加装置の間の距離は、1次粒子線の方向に測って、
30mmより小さい。
【0027】殆どの1次ビーム路は高エネルギレベルに
あるため、1次粒子線に対して高い光学特性が期待され
る。更に、プリレンズ検出器を配置することによって短
焦点距離及び低収差係数を提供することができる。検出
装置の領域を低エネルギレベルにすることによって、後
方散乱電子及び/又は2次電子に対する高検出効率がを
期待される。本発明の装置は試験片の穴(例えば、半導
体技術における接触穴)の底から信号を捕らえるために
特に有用である。
【0028】
【発明の効果】本発明によると、粒子線装置において、
検出装置の領域を低エネルギレベルにすることによっ
て、後方散乱電子及び/又は2次電子の検出効率を高く
することができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による粒子線装置の第1の例の概略図で
ある。
【図2】本発明による粒子線装置の第2の例の概略図で
ある。
【図3】本発明による粒子線装置の第3の例の概略図で
ある。
【図4】本発明による粒子線装置の第4の例の概略図で
ある。
【図5】本発明による粒子線装置の第1の例の検出装置
の底面図である。
【図6】本発明による粒子線装置の第2の例の検出装置
の底面図である。
【図7】本発明による粒子線装置の第3の例の検出装置
の概略図である。
【図8】本発明による粒子線装置の第4の例の検出装置
の概略図である。
【符号の説明】
1…ソース、 1a…電子銃、 1b…抽出器、 1c
…陽極、 2…1次粒子線、 3…集光装置、 3a,
3b…電極、 4…試験片、 5…検出装置、5a…
穴、 6…後方散乱電子及び/又は2次電子、 7…加
速装置、 8…減速装置、 9…付加装置、 9a…穴
電極、 9b…ライナ管、 10…付加装置、 10a
…グリッド電極、 10b…ライナ管、 12…フィル
タ電極

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1次粒子線(2) を発生するソース(1)
    と、上記1次粒子線(2) を試験片(4) 上に集光させるた
    めの集光装置(3) と、上記ソース(1) と上記集光装置
    (3) の間に配置され上記試験片(4) より放出された後方
    散乱電子及び/又は2次電子(6) を検出するための検出
    装置(5) と、上記1次粒子線(2) を第1のエネルギから
    それより高い第2のエネルギに加速するための加速装置
    (7) と、上記1次粒子線(2) を最終ビームエネルギに減
    速するための減速装置(8) と、を有する粒子線装置にお
    いて、 上記検出装置(5) の直前に設けられ上記1次粒子線(2)
    を減速するための第1の付加装置(9) と、上記検出装置
    (5) の直後に設けられ上記1次粒子線(2) を加速するた
    めの第2の付加装置(10)と、を有することを特徴とする
    粒子線装置。
  2. 【請求項2】 上記検出装置(5) は上記1次粒子線のク
    ロスオーバの領域に配置されていることを特徴とする請
    求項1記載の粒子線装置。
  3. 【請求項3】 上記第1の付加装置(9) は上記1次粒子
    線を上記第2のエネルギから上記最終ビームエネルギの
    領域のエネルギまで減速するように構成されていること
    を特徴とする請求項1記載の粒子線装置。
  4. 【請求項4】 上記第2の付加装置(10)は再度上記1次
    粒子線を第3のエネルギまで加速するように構成されて
    いることを特徴とする請求項1記載の粒子線装置。
  5. 【請求項5】 上記第1の付加装置と上記第2の付加装
    置の間の距離は、上記第1の粒子線の方向に測って、3
    0mmより小さいことを特徴とする請求項1記載の粒子
    線装置。
  6. 【請求項6】 上記集光装置(3) は電界減速場対物レン
    ズと磁気減速場対物レンズの組合せを含むことを特徴と
    する請求項1記載の粒子線装置。
  7. 【請求項7】 上記検出装置(5) は環状検出器であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の粒子線装置。
  8. 【請求項8】 上記検出装置(5) はセグメント形検出器
    であることを特徴とする請求項1記載の粒子線装置。
  9. 【請求項9】 上記検出装置(5) は1又はそれ以上の方
    向の軸外れ検出器であることを特徴とする請求項1記載
    の粒子線装置。
  10. 【請求項10】 上記第2のエネルギ及び/又は第3の
    エネルギは上記最終ビームエネルギより少なくとも3
    倍、好ましくは、5倍、高いことを特徴とする請求項4
    記載の粒子線装置。
  11. 【請求項11】 上記第2のエネルギ及び/又は第3の
    エネルギは少なくとも5keVであることを特徴とする
    請求項1記載の粒子線装置。
  12. 【請求項12】 上記最終ビームエネルギは5keVよ
    り低いことを特徴とする請求項1記載の粒子線装置。
  13. 【請求項13】 粒子線装置として低電圧を使用する走
    査型電子顕微鏡であることを特徴とする請求項1記載の
    粒子線装置。
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