JP2000171600A - 電磁波発生装置 - Google Patents

電磁波発生装置

Info

Publication number
JP2000171600A
JP2000171600A JP34259998A JP34259998A JP2000171600A JP 2000171600 A JP2000171600 A JP 2000171600A JP 34259998 A JP34259998 A JP 34259998A JP 34259998 A JP34259998 A JP 34259998A JP 2000171600 A JP2000171600 A JP 2000171600A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnetic wave
gas
electron beam
plasma
vacuum duct
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP34259998A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3602356B2 (ja
Inventor
Hirobumi Tanaka
博文 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP34259998A priority Critical patent/JP3602356B2/ja
Publication of JP2000171600A publication Critical patent/JP2000171600A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3602356B2 publication Critical patent/JP3602356B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • X-Ray Techniques (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁波のエネルギー強度より数桁から数10
桁エネルギー強度の高い電磁波を発生させることができ
ると共に、ビーム制御が簡便であり、且つ、大電流ビー
ムであっても不安定になりにくく、更に、ある特定の波
長領域のみを利用する場合に、大強度の電磁波を発生す
ることが可能となる電磁波発生装置を提供する。 【解決手段】 電子銃16より発せられた電子を電界に
より加速して電子ビームを周回させる真空ダクト15の
内部に気体又はプラズマを噴射する気体噴射器7備え、
前記電子ビームが前記気体又はプラズマに衝突した際に
放出される制動放射より電磁波を発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、特にX線等の波
長の短い電磁波を大強度で発生させる電磁波発生装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】図7は、例えば「加速器科学(パリティ
物理学コース)1993年、41頁」に記載されている
従来の電磁波発生装置の概略を示す構成図である。図7
において、1016は真空ダクト1015に電子を注入
する電子銃、1018はヨーク1014,磁極101
1,コイル1012で構成される電磁石に交流電流を供
給し、真空ダクト1015中に時間的に変化する磁界を
発生させる交流電源、1019は真空ダクト1015中
を周回する電子ビームの加速軌道を変更させる補正コイ
ル、1017は真空ダクト1015中に配置され、周回
する電子ビームを衝突させて制動放射による電磁波を発
生させるターゲット。1013はフラックス磁極であ
る。図8は図7における真空ダクト1015部分の断面
図であり、図において1016は真空ダクト1015内
に電子eを注入する電子銃、1017は電子ビームの周
回軌道上に設けられたターゲット、1021はターゲッ
ト1017に電子ビームが衝突した際に発生した制動放
射にて放出されるX線を含む電磁波である。
【0003】従来の電磁波発生装置は、電子銃1016
で電子eを発生させ、この電子eを電子ビームとして真
空ダクト1015中を周回させるところのヨーク101
4、磁極1011及びコイル1012で構成された電磁
石に交流電源1018から交流電流を供給し、真空ダク
ト1015中に時間的に変動する磁界を発生させる。
【0004】その結果、真空ダクト1015中で電子ビ
ームの進行方向に電界が発生し、その電界により電子ビ
ームが加速される。加速された電子ビームは、電子軌道
をずらす補正コイル1019を励磁することで外側に軌
道が変化し、ターゲット1017に衝突する。ターゲッ
ト1017に衝突した電子ビームはエネルギーを失う。
更に、エネルギーは夕一ゲット1017や真空ダクト1
015に衝突して失われる。電子ビームがターゲット1
017に衝突すると、制動放射によりX線領域を含む電
磁波を放出する。その電磁波を真空ダクト1015外へ
取り出して主としてX線透視等に利用する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の様な電磁波発生
装置は、発生する電磁波の量が少ないといった問題か
ら、電磁波発生装置中の電子ライナックで発生した電子
ビームを重金属のターゲットに当てる装置が主流とな
り、電子ビームをターゲットに衝突させて電磁波を放出
させて電磁波の一種であるX線を用いるという目的には
用いられなくなった。また、従来の装置は厚い重金属の
ターゲットと電子ビームの相互作用が非常に大きく、そ
こから発生する電磁波は角度広がりが大きいビームとな
り、利用分野が制限されていた。
【0006】この発明は、かかる問題点を解消するため
になされたもので、従来の電磁波発生装置より発生する
電磁波のエネルギー強度より数桁から数10桁エネルギ
ー強度の強い電磁波を発生させることができると共に、
ビーム制御が簡便であり、且つ、大電流ビームであって
も不安定になりにくく、更に、ある特定の波長領域のみ
を利用する場合に、大強度の電磁波を発生することが可
能となる電磁波発生装置を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係る電
磁波発生装置は、電子銃より発せられた電子を電界によ
り加速して電子ビームを周回させる真空ダクトの内部に
気体又はプラズマを噴射する噴射手段を備え、前記電子
ビームが前記気体又はプラズマに衝突した際に放出され
る制動放射より電磁波を発生させるものである。
【0008】請求項2の発明に係る電磁波発生装置の噴
射手段は、気体又はプラズマを噴射するタイミングを電
子の加速パターンに同期させ、パルス状の電磁波を発生
させるようにしたものである。
【0009】請求項3の発明に係る電磁波発生装置は、
気体又はプラズマの構成物質は、電磁波を照射する測定
対象近傍に特性X線の波長を持つ単一又は複数の物質を
用いたものである。
【0010】請求項4の発明に係る電磁波発生装置は、
気体又はプラズマに、電磁波を照射する測定対象近傍に
特性X線の波長を持つ単一又は複数の固体微粒子を混入
したものである。
【0011】
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
実施の形態1を図について説明する。図1は本実施の形
態に係る電磁波発生装置の模式図である。図において、
11はコイル(周回磁場発生用コイル)、12はヨー
ク、13は磁極、14はフラックス磁極、15は真空ダ
クト、16は電子銃、17は気体又はプラズマ噴出器、
18は集束磁場発生用コイルである。尚、ここで気体又
はプラズマ噴出器17、集束磁場発生用コイル18以外
はその使用目的は従来装置と同様である。
【0012】また、図2は図1に示す気体又はプラズマ
噴出器17付近の概略平面図である。図2において、1
5は真空ダクト、17は気体又はプラズマの噴出器、1
8はビームの周回軌道、19は気体の通過管、20は気
体又はプラズマの回収器である。
【0013】本発明の電磁波発生装置は、電子銃16で
電子ビームを発生させ、真空ダクト15中に電子ビーム
を周回させる。そして、コイル11、ヨーク12、磁極
13、フラックス磁極14で構成された電磁石により、
真空ダクト15中に時間的に変動する磁界を発生させ
る。
【0014】その結果、真空ダクト15中で電子ビーム
の進行方向に誘導電界が発生し、その電界により電子ビ
ームが加速される。加速された電子ビームは気体又はプ
ラズマ噴出器17から出てくる気体又はプラズマと衝突
して制動放射のX線を放射することで電磁波が発生す
る。
【0015】従来の装置では、電磁波を発生させる時
に、電子ビームを金属板と衝突させるために補正コイル
により加速軌道をずらす必要があったが、本発明の場
合、加速軌道と電磁波発生中の軌道は同一で良い。
【0016】図2に示すように、気体の通過管19を通
ってきた気体は電子ビーム18の周回軌道上に噴出され
る。電子ビーム18は気体又はプラズマと衝突すること
でエネルギーの一部を失う。失ったエネルギーは、誘導
電界により一部が補われるが、1夕一ン(周回)で誘導
電界で得られるエネルギーは少なく、電子ビームは徐々
に軌道の内側に移動し、最終的にはチェンバ等に衝突し
エネルギーは失われる。
【0017】しかしながら、気体又はプラズマ噴出器1
7を通過する時に失うエネルギーはごくわずかで、電子
ビームは数100ターンから数万ターン周回することに
なる。電子ビームは気体又はプラズマ部分を通過する度
に気体又はプラズマに衝突し制動放射により電磁波を放
出するので大強度の電磁波を取り出すことができる。ま
た、従来装置の夕一ゲットと異なり気体やプラズマは密
度の調整が可能であるので、発生させる電磁波の量の制
御が簡便になる。発生した電磁波はダクト外へ取り出し
て利用され、気体やプラズマは気体やプラズマの回収器
25で取り除かれるため、真空ダクト内の真空度は高真
空に保たれる。
【0018】従来例のように電子を厚いターゲットに衝
突させて電磁波を発生させると、発生する電磁波の大部
分はターゲット内で吸収され、さらに多重散乱により、
放射角は広がる。これに対して本発明の電磁波発生装置
はターゲット内で吸収される電磁波がなく、また、多重
散乱も少ないので多量の電磁波を取り出すことが可能で
ある。
【0019】更に図1に示すプラズマの噴出器17から
噴出される気体やプラズマの量を調整することにより、
電子ビームの1夕一ンにおいて誘導電界で得るエネルギ
ーと気体やプラズマで失われるエネルギーをほぼ同じに
することができる可能性があり、その場合には更に大強
度のX線を発生させることが可能となる。
【0020】図3は本実施の形態に係る電磁波発生装置
による電磁波発生方法を説明するタイミングチャート図
である。このタイミングチャートにおいて横軸は時間を
示す。また、各タイミングチャートにおいて縦軸31は
図1における周回磁場発生用コイル11の励磁パター
ン、縦軸32は図1における気体又はプラズマ噴出器1
7からの気体又はプラズマの噴射パターン、縦軸33は
発生する電磁波の出力パターンを示す。
【0021】気体又はプラズマ噴出器17(以下、気体
噴出器)から気体又はプラズマ(以下、気体)を噴出さ
せるタイミングを周回磁場発生用コイル11の励磁パタ
ーン31と同期させる。具体的には、周回磁場発生用コ
イル11の励磁電流がある値に達した時に気体噴出器1
7から気体を噴出させる。電磁波は電磁波の出力パター
ンに示す様に気体が噴出したタイミングで放射させるこ
とになる。
【0022】周回磁場発生用コイル11の励磁電流と加
速された電子ビームのエネルギーはほぼ比例しているの
で、加速された電子ビームのエネルギーがある程度のエ
ネルギーに達した時に電磁波が放射されることになる。
この様な一定のタイミングで電磁波を放射させることに
より、電磁波の発生位置や強度を安定に保つことが可能
となる。励磁パターンの周期は電源装置の費用等を考え
ると商用周波数が望ましいと考えられ50Hz〜60H
z程度である。
【0023】実施の形態2.図4は電磁波発生装置にお
ける気体またはプラズマ噴出器(以下、気体噴出器)か
ら噴出する気体またはプラズマ(以下、気体)の模式図
である。図中、17は気体噴出器、41は気体A,42
は気体Bである。
【0024】図5は電磁波発生装置から放出される電磁
波の波長分布(スペクトル分布)と電磁波を照射する測
定対象の吸収特性のスペクトル分布を模式的に示したも
のである。図において、51は電磁波発生装置から放出
される電磁波の波長分布、52は測定村象の吸収特性の
スペクトル分布である。
【0025】また、53は気体Aの構成元素の特性X線
の波長スペクトルピーク、54は気体Bの構成元素の特
性X線の波長スペクトルピークである。さらに、55は
測定対象である物質の吸収端を示す。
【0026】次に電磁波発生装置をX線の発生源とし
て、心臓の冠状動脈の血管の詰まりを診断するアシジオ
グラフィを例にとり本実施の形態の動作を説明する。ア
シジオグラフィでは、X線を人体に照射してその透過X
線量を測定することで血管を造影する。血管中の血液の
流れを際だたせる為に通常は沃素の造影剤を血管内に注
射する。
【0027】沃素は33keV付近に吸収端(図5の5
5)を持ち、吸収端から高波長側と短波長側でのX線の
吸収特性が異なる。よって、両方の波長のX線で冠状動
脈血管を撮影しその差分を取ることにより沃素が流れる
冠状動脈血管をくっきりと映し出すことが可能となる。
【0028】従来の電磁波発生装置では、電子をターゲ
ットに衝突して発生する連続X線や、荷電粒子が磁場で
曲げられる時に発生するSRを用いていた。その波長分
布は連続でありその中から所定の2波長をモノクロ化す
ると強度が弱くなるという問題があった。
【0029】本実施の形態では、気体噴射装置17から
発生させる気体の元素の特性X線の波長を沃素の吸収端
より波長が短い元素(図中の54、物質B)の特性X線
と、沃素の吸収端より波長が長い元素(図中の53、物
質A)の特性X線とすることで、吸収端の両端で強いX
線を得ることが可能となる。
【0030】パラメータにより異なるが連続X線と比較
して1桁から2桁程エネルギー強度のX線を得ることが
できる。よって、それらのX線を単色化しても、なおエ
ネルギー強度の強いX線を得ることができ、エネルギー
強度の強い2つの波長のX線ビームを人体に照射するこ
とが可能となる。
【0031】実施の形態3.図6は本実施の形態に係る
気体またはプラズマ噴出器(以下、気体噴出器)から噴
出する気体またはプラズマ(以下、気体)を示す模式図
である。
【0032】図において、17は気体噴出器、61は固
体微粒子A,62は固体微粒子B,63は気体粒子であ
る。
【0033】本実施の形態では、気体噴射装置17から
発生させる気体の元素は任意の特性X線の波長を持つも
ので良く、気体の中に金属粉等の固体微粒子を挿入して
一緒に噴出させる。
【0034】具体的には沃素の吸収端より波長が短い元
素(図5中の54、物質B)の固体微粒子と、沃素の吸
収端より波長が長い元素(図5中の53、物質A)の固
体微粒子を気体中に挿入することで、吸収端の両端で強
いX線を得ることが可能となる。具体的な適用方法は実
施の形態2と同様であるので省略する。
【0035】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、電子銃より発
せられた電子ビームを加速して周回させる真空ダクトの
内部に気体又はプラズマを噴射する噴射手段を備え、前
記電子ビームが前記気体又はプラズマに衝突した際に放
出される制動放射より電磁波を発生することで、大強度
の電磁波を発生させることが可能となった。
【0036】また、電磁波発生時に加速ビームの軌道を
変更する必要がないので、制御が簡便になり、さらに、
大電流ビームが不安定になることのない電磁波発生装置
を提供することが可能になった。
【0037】更に、ターゲット等の固体物質に電子ビー
ムを衝突させる必要がないので、衝突物質の熱除去の問
題等が生じないといった効果を奏する。
【0038】請求項2の発明によれば、気体又はプラズ
マを真空ダクト内に噴射するタイミングを電子の加速パ
ターンに同期させ、パルス状の電磁波を発生させること
により、大強度の電磁波を安定して発生できるといった
効果を奏する。
【0039】請求項3の発明によれば、気体又はプラズ
マの構成物質として電磁波を照射する測定対象近傍に特
性X線の波長を持つ単一又は複数の物質を用いることに
より、特定の波長で大強度のX線を発生することができ
るといった効果を奏する。
【0040】請求項4の発明によれば、気体又はプラズ
マに、電磁波を照射する測定対象近傍に特性X線の波長
を持つ単一又は複数の微粒子を混入することにより、特
定の波長で大強度のX線を発生することができるといっ
た効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 電磁波発生装置の鳥瞰図である。
【図2】 気体又はプラズマ噴出器付近の平面図であ
る。
【図3】 タイミングチャート図である。
【図4】 気体またはプラズマ噴出器から噴出する気体
またはプラズマの模式図(1)である。
【図5】 電磁波発生装置から放出される電磁波の波長
分布と、測定対象の吸収特性のスペクトルの模式図であ
る。
【図6】 気体またはプラズマ噴出器から噴出する気体
またはプラズマの模式図(2)である。
【図7】 従来の電磁波発生装置の概略構成図(立断面
図)である。
【図8】 従来の電磁波発生装置の概略構成図(平面
図)である。
【符号の説明】
11 メインコイル(主コイル)、12 ターンヨー
ク、13 磁極、14フラックス磁極、15 真空チェ
ンバ、16 電子銃、17 薄膜、31 コイルの励磁
パターン、32 気体又はプラズマ噴出器からの気体又
はプラズマの噴射するタイミング、33 発生電磁波の
出力ハターン、41 気体A、42 気体B、61 固
体微粒子A、62 固体微粒子B、63 気体粒子。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子銃より発せられた電子を電界により
    加速して電子ビームを周回させる真空ダクトの内部に気
    体又はプラズマを噴射する噴射手段を備え、前記電子ビ
    ームが前記気体又はプラズマに衝突した際に放出される
    制動放射より電磁波を発生することを特徴とする電磁波
    発生装置。
  2. 【請求項2】 噴射手段は、気体又はプラズマを噴射す
    るタイミングを電子の加速パターンに同期させ、パルス
    状の電磁波を発生させることを特徴とする請求1項に記
    載の電磁波発生装置。
  3. 【請求項3】 気体又はプラズマの構成物質は、電磁波
    を照射する測定対象近傍に特性X線の波長を持つ単一又
    は複数の物質であることを特徴とする請求項1または2
    に記載の電磁波発生装置。
  4. 【請求項4】 気体又はプラズマに、電磁波を照射する
    測定対象近傍に特性X線の波長を持つ単一又は複数の固
    体微粒子を混入したことを特徴とする請求項1または2
    に記載の電磁波発生装置。
JP34259998A 1998-12-02 1998-12-02 電磁波発生装置 Expired - Fee Related JP3602356B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34259998A JP3602356B2 (ja) 1998-12-02 1998-12-02 電磁波発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34259998A JP3602356B2 (ja) 1998-12-02 1998-12-02 電磁波発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000171600A true JP2000171600A (ja) 2000-06-23
JP3602356B2 JP3602356B2 (ja) 2004-12-15

Family

ID=18355023

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP34259998A Expired - Fee Related JP3602356B2 (ja) 1998-12-02 1998-12-02 電磁波発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3602356B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004505421A (ja) * 2000-07-28 2004-02-19 ジェテック、アクチボラグ X線またはeuv放射線発生方法および装置
JP2006332552A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Osaka Univ 極端紫外光源用ターゲット
JP2009140673A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Japan Atomic Energy Agency ビーム終端方法及びビーム終端装置
JP2009537062A (ja) * 2006-05-11 2009-10-22 ジェテック、アクチボラグ 電子衝突x線源のデブリ低減
WO2014187586A1 (de) * 2013-05-22 2014-11-27 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenquelle und verfahren zur erzeugung von röntgenstrahlung

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004505421A (ja) * 2000-07-28 2004-02-19 ジェテック、アクチボラグ X線またはeuv放射線発生方法および装置
JP2006332552A (ja) * 2005-05-30 2006-12-07 Osaka Univ 極端紫外光源用ターゲット
JP2009537062A (ja) * 2006-05-11 2009-10-22 ジェテック、アクチボラグ 電子衝突x線源のデブリ低減
JP2009140673A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Japan Atomic Energy Agency ビーム終端方法及びビーム終端装置
WO2014187586A1 (de) * 2013-05-22 2014-11-27 Siemens Aktiengesellschaft Röntgenquelle und verfahren zur erzeugung von röntgenstrahlung

Also Published As

Publication number Publication date
JP3602356B2 (ja) 2004-12-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6201851B1 (en) Internal target radiator using a betatron
JP4257741B2 (ja) 荷電粒子ビーム加速器、荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射医療システムおよび、粒子線照射医療システムの運転方法
JP3705091B2 (ja) 医療用加速器システム及びその運転方法
AU2009249867B2 (en) Charged particle beam extraction method and apparatus used in conjunction with a charged particle cancer therapy system
RU2508617C2 (ru) Источники излучения с множеством чередующихся уровней энергии
JP4633002B2 (ja) 荷電粒子ビーム加速器のビーム出射制御方法及び荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子ビーム照射システム
US4293772A (en) Wobbling device for a charged particle accelerator
JP5944940B2 (ja) 正に荷電された粒子ビームを抽出する装置及び方法
US7724876B2 (en) Multi-color X-ray generator
JP4650382B2 (ja) 荷電粒子ビーム加速器及びその荷電粒子ビーム加速器を用いた粒子線照射システム
JP2000171600A (ja) 電磁波発生装置
JP2004311245A (ja) X線発生装置および前記装置を用いたx線治療装置
JP3864581B2 (ja) 荷電粒子ビーム出射方法
JP3456132B2 (ja) 電磁波発生方法及び電磁波発生装置
Ghigo et al. Free electron laser seeded by betatron radiation
Tsai et al. Laser-plasma-accelerator-driven quasi-monoenergetic MeV Thomson photon source and laser facility
JP2005129548A (ja) 荷電粒子ビーム出射方法
Habara et al. Propagation of intense short-pulse laser in homogeneous near-critical density plasmas
JPH0999108A (ja) 荷電粒子ビーム装置
JP2000331799A (ja) 粒子線照射装置
JP2600075B2 (ja) X線発生装置
JPH10261500A (ja) 荷電粒子ビーム出射方法及びその出射装置
Mangles et al. Relativistic Electron Acceleration by a Laser of Intensity in Excess of 1020 W cm-2
Johnson 1 Production and Interaction of X rays Radiation Measurement Quantities and Units
JPH11160498A (ja) X線検査装置

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040921

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20040922

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071001

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081001

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091001

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees