JP2000171329A

JP2000171329A - 漏洩試験方法

Info

Publication number: JP2000171329A
Application number: JP10349840A
Authority: JP
Inventors: Keiji Niikura; 啓二新倉
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1998-12-09
Filing date: 1998-12-09
Publication date: 2000-06-23

Abstract

(57)【要約】【課題】低真空下でもプローブガスのバックグラウン
ドノイズを受けにくく、微小な漏洩も容易に且つ迅速に
検出することができ、かつ、置換ガスの消費量の少ない
密閉容器の漏洩試験方法。【解決手段】試験槽１の内部に被試験体２を収納し所
定個所に設置した後に、Ｈｅリークディテクタ６の測定
開始圧力まで排気Ｓ１し、その後に置換ガスを流入させ
て、計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）まで圧力を一定
に保つＳ２それぞれの工程を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エアコンや冷蔵庫
等のコンプレッサや、エアコンの室内機又は室外機等の
ような密閉真空状態の構成要素を持つ被試験体の微小な
ガスの漏洩を検出するために、Ｈｅ（へリウム）等のガ
スをプローブガスに用いて漏洩を検出する漏洩試験方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の漏洩試験装置としては、一般に、
被試験体にノズルでプローブガスであるＨｅガスを吹き
付け、漏洩個所かあれば、そこから入ったＨｅガスをリ
ークディテクタで検出する真空法（プローブガス吹き付
け法）や、予め漏洩試験装置のチャンバ内にＨｅガスを
封入した被試験体を装入し、ポンプによりチャンバ内を
排気して、漏洩個所がある場合に、そこから漏出したＨ
ｅガスをリークディテクタで検出する真空内圧法が知ら
れている。

【０００３】また、その他にも、Ｈｅガスを加圧圧入し
た被試験体の周囲をスニファープローブにより探索し、
被試験体の漏洩箇所から漏れてきたＨｅガスをリークデ
ィテクタにより検出する示すスニファ法や、Ｈｅガスを
加圧圧入した被試験体を容量が既知のフード（試験槽）
内に装入し、フード内をポンプにより排気した後、長時
間放置し、その間に被試験体から漏れてくるＨｅガスに
よるへリウム濃度の変化を測定し、これを積分すること
により微少リーク量を検出する積分法等が知られてい
る。

【０００４】また、特許第２５００４８８号には、以下
の漏洩試験装置と漏洩試験方法に関する技術が開示され
ている。

【０００５】すなわち、被試験体を試験槽内に格納した
後、前記試験槽内に置換ガス供結手段により置換ガスを
供給して、試験槽の内部をこの置換ガスで置換する。次
いで、試験槽排気手段により、試験槽内部を排気して、
試験槽内のプローブガス濃度を低下させる。そして、プ
ローブガス検出手段により試験槽内部のプローブガスの
濃度を検出する。これがバックグラウンド値になる。

【０００６】その後、プローブガス導入手段により被試
験体内にプローブガスを導入する。そうすると、被試験
体に漏洩箇所がある場合は、被試験体内からこれを取巻
く試験槽の内部の空間にプローブガスが漏出し、検出手
段により検出される。これにより、バックグラウンド値
よりも高い濃度が検出されたときに、被試験体に漏洩個
所があることが検知される。

【０００７】上述の技術では、排気後の減圧状態の試験
槽内に置換ガスを供給して、試験槽内に大気圧より低い
所定の圧力になるまで置換ガスを導入する。このよう
に、減圧状態の試験槽内に置換ガスを導入することによ
り、導入された置換ガスが試験槽内でジェット流のよう
に高速で流動し、試験槽の内部のプローブガス等が吹き
飛んで内部が清浄化される。このため、試験槽内に残存
するプローブガスを置換ガスにより確実に清浄化し、バ
ックグランドガスを低減し、その濃度を安定化させるこ
とができる。

【０００８】また、被試験体内へのプローブガスの導入
は、前述のように、被試験体の内部に空気が存在する状
態で行う場合の外、被試験体の排気手段により、被試験
体の内部を排気した後にプローブガスを導入することと
してもよい。漏洩検出の精度を向上させるためには、被
試験体の内部を排気した後にプローブガスを導入するこ
とが好ましい。

【０００９】更に、プローブガスとしては、フロンガ
ス、水素ガス又はへリウムガス等がある。一方、置換ガ
スには、窒素ガス、酸素ガス、炭酸ガス又はフロンガス
等があるが、プローブガスの成分を含まないものであれ
ば使用可能である。

【００１０】なお、フロンガスをプローブガスに使用し
た場合には、置換ガスとしてフロンガスを使用すること
はできない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来の漏洩検出装置は、いずれも以下に示すような欠
点を有する。真空法やスニファ法や積分法の場合は、被
試験体内を真空排気した後、その周囲にＨｅガスを充填
することにより内部に侵入してくるＨｅガスを検出して
漏洩を検知するか、Ｈｅガスを被試験体に圧入した後、
排気状態の外部（チャン内）に漏出してくるＨｅガスを
検出することにより漏洩を検知する。

【００１２】このように、被試験体の内側又は外側（チ
ャンバ内）をポンプにより排気するが、大気中に約５ｐ
ｐｍ存在するＨｅガスがリークディテクタに対してバッ
クグラウンド値になり、微少漏れを検出しにくい。

【００１３】微少漏れを検出したい場合には、高真空状
態まで排気する必要があるので、試験時間が長くなった
り、真空排気手段として２段以上の異種ポンプを組み合
わせたものを使用する必要があって排気系が複雑になる
という欠点がある。

【００１４】また、被試験体を大量に検査する場合等
は、なるべく短時間に真空引きしたいため、大型の真空
排気装置を設ける必要があり、装置コストが高くなると
いう欠点がある。

【００１５】更に、大型の高真空排気装置を使用して
も、被試験体及び試験槽の内壁等から発生する揮発物質
又は水分及び微小孔から出るガスや空気のために、短時
間に一定以上の真空度には上がり難く、大気中に存在し
ていたＨｅガスがバックグラウンドノイズとなって、Ｈ
ｅガスの漏れ検出精度には限界があった。

【００１６】また、特許第２５００４８８号の場合に
は、リークテストを行なう以前の試験槽の内部の圧力調
整を図６に示すように行なっている。すなわち、被試験
体を試験槽の内部に収納し密閉した後に、約大気圧から
１３３０Ｐａ乃至約１３３Ｐａの間まで排気（第１の減
圧工程）Ｓ１１を行なう。その後、置換ガスを試験槽内
に約６６５０Ｐａまで供給（大気圧よりも低い圧力）Ｓ
１２する。次に、Ｈｅリークデイテクタが測定可能な圧
力（約１０００Ｐａから約１００Ｐａ）まで排気（第２
の減圧工程）Ｓ１３する。この状態で、被試験体の内部
にＨｅなどのプローブガスを導入してリークテストを行
っている。（図２におけるＡ−Ｅ−Ｈ−Ｂに相当）しか
しながら、このようなプロセスでは、置換ガスを供給し
て試験槽の内部の圧力を上昇させる程、置換ガスの消費
量は多くなるため、一旦、減圧した後再び圧力を上昇さ
せることは置換ガスの消費量が多くなり得策ではない。

【００１７】本発明は上述の事情に基づいてなされたも
のてあって、低真空下でもプローブガスのバックグラウ
ンドノイズを受けにくく、微小な漏洩も容易に、かつ、
迅速に検出することができ、さらに、置換ガスの消費量
の少ない漏洩試験方法を提供することを目的としてい
る。

【００１８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明による手
段によれば、被試験体を気密な試験槽内に格納し、この
試験槽の内部を排気手段によって排気して減圧する第１
工程と、この第１工程の後に前記試験槽の内部を減圧さ
れた圧力を保つよう排気を継続しつつ置換ガスを供給す
る第２工程と、この第２工程によってガス置換された試
験槽内のプローブガスの濃度を検出するプローブガス検
出工程と、試験槽内に被試験体が無いときのプローブガ
スの濃度をバックグラウンド値として検出するバックグ
ラウンド値検出工程と、前記プローブガス検出工程で検
出した濃度と前記バックグラウンド値とを基に漏洩の判
定を行う判定工程とを有することを特徴とする漏洩試験
方法である。

【００１９】また、請求項２の発明による手段によれ
ば、前記第２工程は、置換ガス供給の際に前記試験槽内
の圧力が上昇しないように試験槽内への置換ガスの供給
を制御手段によって制御されていることを特徴とする漏
洩試験方法である。

【００２０】また請求項３の発明による手段によれば、
前記被試験体は、前記試験槽に格納される前、又は、格
納された後、その内部にプローブガス供給工程によって
プローブガスが供給されることを特徴とする漏洩試験方
法である。

【００２１】また請求項４の発明による手段によれば、
前記被試験体は、前記試験槽内に格納された後、その内
部のプローブガスが排気工程によって排気さていること
を特徴とする漏洩試験方法である。

【００２２】また請求項５の発明による手段によれば、
前記置換ガスは、Ｎ_２であることを特徴とする漏洩試験
方法である。

【００２３】また請求項６の発明による手段によれば、
前記プローブガスは、Ｈｅであることを特徴とする漏洩
試験方法である。

【００２４】また請求項７の発明による手段によれば、
前記被試験体は、コンプレッサであることを特徴とする
漏洩試験方法である。

【００２５】また請求項８の発明による手段によれば、
前記試験体は、エアコンの室内機又は室外機であること
を特徴とする漏洩試験方法である。

【００２６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態に係る
漏洩試験装置を示す模式図である。真空容器である試験
槽１の内部には、被試験体２が気密的に収納可能になっ
ている。この被試験体２はその内部に例えばＨｅ（へリ
ウム）ガスが充填されている。

【００２７】試験槽１はパイプＰ５を介して置換ガスと
してのＮ_２ガス用の予備タンク３に連結されている。こ
の予備タンク３はパイプＰ６を介してＮ_２ガス用のボン
ベ４に連結されている。そして、パイプＰ５とパイプＰ
６とには、夫々べント弁Ｖ３，開閉弁Ｖ４と、開閉弁Ｖ
５，Ｖ６とが介装されている。

【００２８】また、試験槽１は、パイプＰ７を介して真
空排気装置５に連結されている。このパイプＰ７には開
閉弁Ｖ７が介装されている。また、試験槽１には、開閉
弁Ｖ８、パイプＰ８を介してリークディテクタ６が連結
されている。リークディテクタ６はプローブガスを検出
してこれを電気信号に変換し、その検出信号を配線７を
介して図示しない漏洩判定装置に出力する。

【００２９】次に、このように構成された漏洩試験装置
の動作について説明する。先ず、試験槽１の内部に被試
験体２を装入した後、真空排気装置５を駆動し、開閉弁
Ｖ７を開にして試験槽１の内部を排気する。試験槽１の
内部の圧力がＨｅリークディテクタ６が稼働可能な圧力
（例えば、０．７５Ｔｏｏｒ（１００Ｐａ）乃至７．５
Ｔｏｏｒ（１０００Ｐａ）まで低下したのに基づき、弁
Ｖ７は開にしたままで弁Ｖ３を開にして試験槽１の内部
に予備タンク３及びボンベ４からＮ_２ガスを供給する。
開閉弁Ｖ５，Ｖ６は予備タンク３に常時Ｎ_２ガスを充填
しておくため、常に開にしておく。また、弁Ｖ４は流量
調整用の弁であって試験槽１の内部の圧力が一定に保た
れるように開度が制御されている。なお、Ｎ_２ガス量の
調整は弁Ｖ３又はＶ４のいずれで行ってもよい。Ｎ_２ガ
スの導入後、一定時間経過後に開閉弁Ｖ３を閉にする。
これらの弁の開閉タイミングを決定する試験槽１の内部
の圧力はＨｅガスの検出仕様によって設定されている。

【００３０】開閉弁Ｖ３を閉にした後に開閉弁Ｖ８を開
にする。次いで、開閉弁Ｖ７を閉にしてリークディテク
タ６により試験槽１の内部のＨｅガスを検出する。

【００３１】被試験体２に漏洩個所がある場合は、予め
被試験体２に充填されているＨｅガスがこの漏洩箇所を
介して被試験体２から漏出され、試験槽１の内部の空間
に出てくる。そして、試験槽１の内部のＨｅガス濃度が
リークディテクタ６により検出される。この検出信号は
配線７を介して判定装置に送出され、試験槽１の内部に
被試験体２がない時に測定されたバックグラウンド値と
比較されて、Ｈｅガスの検出値がバックグラウンド値よ
りも高い場合に被試験体２には漏洩があると判定され
る。

【００３２】上述の実施の形態においては、試験槽１の
内部をＮ_２ガスで置換（希釈も含めて）するため、低真
空下（減圧下）でもＨｅガスのバックグラウンド値を従
来のＮ_２ガス置換を行なわないで、低真空下（減圧下）
におけるＨｅバックグラウンド値に比して低減すること
ができ、この状態で被試験体から漏出してくるＨｅガス
を検出するので、漏出量が極めて微量である場合も本実
施の形態によれば、これを高真空下でなくても確実に検
出することができる。

【００３３】また、高真空ではなく、比較的品位が悪い
低真空（圧力が高い真空）の状態でも被試験体からのＨ
ｅガスの漏洩を検出することができるので、真空ポンプ
又は真空排気装置５の構成も、低真空用の粗引系（１次
ポンプ系）のみで行なうことが可能で、高真空用の真空
ポンプ（２次ポンプ系）を設ける必要が無い。従って、
短時間で、かつ、簡素な排気装置を設けることで微少な
漏洩試験をすることが可能になる。

【００３４】次に、本実施の形態を含む試験槽内の排気
モデルについて説明すると、試験槽内を真空排気装置５
である真空ポンプで排気するときの試験槽内の圧力変化
は以下の式で表すことができる。

【数１】ただし、Ｖ［Ｌ］は試験槽の容積、Ｓ［Ｌ／ｓｅｃ］は
真空ポンプの排気速度、Ｐ_０［Ｐａ］は試験槽の初期内
圧、ｐ［Ｐａ］は試験槽の内圧、ｔ［ｓｅｃ］である。

【００３５】また、ガスが試験槽に流入する場合の圧力
変化は次式で表すことができる。

【数２】ただし、Ｖ［Ｌ］は試験槽の容積、Ｓ［Ｌ／ｓｅｃ］は
真空ポンプの排気速度、Ｐ_０［Ｐａ］は試験槽の初期内
圧、ｐ［Ｐａ］は試験槽の内圧、ｔ［ｓｅｃ］、Ｑ［Ｐ
ａ・Ｌ／ｓｅｃ］は流入する気体の量である。

【００３６】さらに、試験槽内部のＨｅ濃度の時間変化
は次式で表すことができる。

【数３】ただし、Ｋは試験槽の内部のＨｅ濃度、Ｖ_Ｈ［Ｌ］は試
験槽の内部のＨｅの体積、Ｑ［Ｐａ・Ｌ／ｓｅｃ］は流
入する気体の量である。

【００３７】計画されたサイクルタイム内での排気プロ
セスモデルを、図２に基づいて説明する。図２において
縦軸は圧力で横軸は時間である。

【００３８】排気を開始するＡ点から排気を終了するＢ
点迄のプロセスのルートは時間−圧力の関係で、無数の
組合わせが存在するが、モデルとして以下の６つのプロ
セスのルートについて説明する。

【００３９】プロセス１（Ａ−Ｃ−Ｂ）では、試験槽1
内の排気開始と同時に排気と同量の置換ガスを試験槽1
内に流入させて圧力を一定に保つ。その状態で、排気を
継続しつつ置換ガスの流入を停止してＨｅリークディテ
クタ６の測定開始圧力Ｂに達する。

【００４０】プロセス２（Ａ−Ｅ−Ｆ−Ｂ）では、試験
槽1内の排気途中の任意（Ｅ）のタイミングで排気と同
量の置換ガスを試験槽1内に流入させ、圧力を一定に保
つ。そして、排気を継続しつつ置換ガスの流入を停止し
てＨｅリークディテクタ６の測定開始圧力Ｂに達する。

【００４１】プロセス３（Ａ−Ｄ−Ｂ）では、Ｈｅリー
クディテクタ６の測定開始圧力まで試験槽1内を排気し
た後に排気を継続しつつ置換ガスを試験槽1内に流入さ
せて、計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）まで圧力を一
定に保つ。

【００４２】プロセス４（Ａ−Ｄ−Ｇ−Ｂ）では、Ｈｅ
リークディテクタ６の測定開始圧力まで試験槽1内を排
気した後に、排気を継続しつつ置換ガスを急激に試験槽
1内に流入させて、計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）
とポンプ５の性能で決まる排気性能曲線（例えば、図２
のＡ−Ｅ−Ｄ、Ｃ−Ｈ−Ｂで表される曲線）即ち、図2
のＢ点を通るこの性能曲線とＴ１の交わる点Ｇにおける
圧力（限界圧力）まで圧力を上昇させる。そして、再び
試験槽1内を排気してＨｅリークディテクタ６の測定開
始圧力に達する。

【００４３】プロセス５（Ａ−Ｅ−Ｈ−Ｂ）では、試験
槽1内の排気途中の任意（Ｅ）のタイミングで置換ガス
を徐々に流入させ（流入量によってＥ−Ｈの傾きが決ま
る）、計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）から求められ
る限界圧力（この場合は、Ｂ点を通る性能曲線と、置換
ガスの流入量によって決まるＥ−Ｈ線の交点における圧
力）まで圧力を上昇させる。そして、置換ガスの流入を
停止してＨｅリークディテクタ６の測定開始圧力に達す
る。

【００４４】プロセス６（Ａ−Ｉ−Ｃ−Ｂ）では、［計
画されたサイクルタイム（Ｔ_２）−排気能力で決まる時
間（Ｔ_１）］だけ試験槽1内の排気を行なった後に、大
気圧まで置換ガスを急激に試験槽1内に流入させ、再び
排気してＨｅリークディテクタ６の測定開始圧力に達す
る。

【００４５】これらの各プロセスについて試算した結
果、置換ガスの消費量が異なっている、プロセス４又は
６によるＨｅ濃度と、プロセス１、２又は３によるＨｅ
濃度とは同一であることが確認できた。プロセス５につ
いては具体的な計算は困難だが、プロセス２とプロセス
６の中間的なプロセスであるので、（イ）Ｈｅ濃度はプ
ロセス１、２又は３と同一である。（ロ）置換ガスの消
費量はプロセス２より多くプロセス６より少ない、と推
定できる。

【００４６】なお、プロセス５は従来の技術で示した特
許第２５００４８８号に基づいたプロセスである。

【００４７】これらの結果から、本実施の形態では置換
ガスの消費量が最も少なくて済むプロセスであるプロセ
ス３を適用した。上述のように、プロセス３（Ａ−Ｄ−
Ｂ）では、試験槽１の内部に被試験体２を収納し所定個
所に設置した後に、Ｈｅリークディテクタ６の測定開始
圧力まで排気（Ｓ１）し、その後に置換ガスを流入させ
て、計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）まで圧力を一定
に保つ（Ｓ２）それぞれの工程で構成されている。

【００４８】以下に、プロセス３の算出について図３を
参考に詳細に説明する。算出に用いた値は、実際に用い
られる値を想定して以下の通りである。

【００４９】計画されたサイクルタイム（Ｔ_２）＝１８
ｓｅｃ、は試験槽の容積Ｖ＝１６０Ｌ、真空ポンプの排
気速度Ｓ＝１１０Ｌ／ｓｅｃ、試験槽の初期内圧Ｐ_０＝
１０１３２５Ｐａ（大気圧）、試験槽の到達真空度＝１
００Ｐａ、一般大気中のＨｅ濃度＝５．２ｐｐｍ、大気
導入時に試験槽内部に含まれるＨｅ体積＝８．３２×１
０^−４Ｌ数式１により置換ガスを供給開始する直前、
（プロセス開始から１０ｓｅｃ後）には、試験槽の内圧
は１０４．７Ｐａ迄低下している。したがって、流入する気体の量であるＱ＝１１０Ｌ／ｓｅｃ×１０４．７Ｐａ＝１１，５１６．９［Ｐａ・Ｌ／ｓｅｃ］である。

【００５０】置換ガスの消費量＝１１，５１６．９［Ｐａ・Ｌ／ｓｅｃ］×８ｓｅｃ＝９２，１３５［Ｐａ・Ｌ］である。

【００５１】試験槽の内部のＨｅ濃度Ｋは数式３から、
Ｋ＝２．１×１０^−８となる。

【００５２】従って、Ｈｅ濃度は大気中の５．２×１０
^−６に比較して１／２４４．７に低下している。

【００５３】これらにより、本実施の形態では、試験槽
１の内部の圧力を一定に制御しながらＮ_２ガスで置換
（希釈も含めて）を行なうため、Ｎ_２ガス消費量が最少
で済むという利点がある。

【００５４】図４は本発明の第２の実施の形態に係る漏
洩検出装置を示す模式図である。図４において、図１と
同一部品には同一符号を付してその詳細な説明を省略す
る。

【００５５】本実施の形態においては、被試験体２はそ
の内部が例えば１／４インチ径の銅製パイプＰ１に連結
されており、このパイプＰ１は試験槽１の外部に気密的
に導出され、パイプＰ４を介してプローブガスとしての
Ｈｅガスのボンベ８に連結されている。このパイプＰ１
には開閉弁Ｖ２が介装されている点が第１の実施の形態
とは異なる。

【００５６】このように構成された本実施の形態におい
ては、第１の実施の形態と同様にして、バックグラウン
ド値を測定し、その後、試験槽１の内部に被試験体２を
装入し、パイプＰ１と被試験体２とを連結した後、真空
排気装置５を駆動し、開閉弁Ｖ７を開にして試験槽１の
内部を排気する。

【００５７】次いで、開閉弁Ｖ２を開にしてプローブガ
ス供給工程として被試験体２の内部にＨｅガスを導入す
る。その後、第１の実施の形態と同様にして、試験槽１
の内部のＨｅガス濃度をリークディテクタ６によリ検出
し、この検出結果を前述のバックグラウンド値と比較す
る。そして、Ｈｅガス導入後の検出値がバックグラウン
ド値よりも高い場合に被試験体２に漏洩があるプロセス
として判定される。

【００５８】試験槽１の内部の排気については、上述の
実施の形態と同様に、排気プロセスモデルで示したモデ
ルのうちプロセス３を適用した。

【００５９】したがって、上述の実施の形態と同様に、
試験槽１の内部の圧力を一定に制御しながらＮ_２ガスで
置換（希釈も含めて）するため、Ｎ_２ガスの消費量が最
少で済むという利点がある。

【００６０】図５は本発明の第３の実施の形態に係る漏
洩検出装置を示す模式図である。図５において、図４と
同一物には同一符号を付してその詳細な説明を省略す
る。

【００６１】本実施の形態においては、パイプＰ１とパ
イプＰ４との間に、バルブネットワークＶ１が介装され
ている点が第２の実施の形態と異なる。このバルブネッ
トワークＶ１には、ポンプ１３が介装されたパイプＰ３
及び空気を導入するためのパイプＰ２が連結されてい
る。

【００６２】このように構成された本実施の形態におい
ては、試験槽１の内部に被試験体２を装入し、パイプＰ
１と被試験体２とを連結した後、バルブネットワークＶ
１をポンプ１３に切換え、ポンプ１３を駆動すると共
に、開閉弁Ｖ２を開にしてプローブガス排気工程として
被試験体２の内部のプローブガスを排気する。次いで、
真空排気装置５を駆動し、開閉弁Ｖ７を開にして試験槽
１の内部を排気する。その後、試験槽１のバックグラウ
ンド値を測定する。

【００６３】次いで、バルブネットワークＶ１をパイプ
Ｐ１とパイプＰ４との連結に切換え、開閉弁Ｖ２を開に
して被試験体２内にＨｅガスを導入する。その後、第２
の実施の形態と同様にして、試験槽１の内部のＨｅガス
濃度をリークディテクタ６により検出し、この検出結果
を前述のバックグラウンド値と比較する。そして、Ｈｅ
ガス導入後の検出値がバックグラウンド値よりも高い場
合に被試験体２の漏洩があると判定される。

【００６４】本実施の形態も上述の第２及び第３の実施
の形態と同様に、被試験体２の内部を排気した後に、プ
ローブガス（Ｈｅガス）を被試験体２の内部に導入する
ので、漏洩検出精度を更に一層向上させることができ
る。

【００６５】従って、本実施の形態のように、Ｈｅガス
リークディテクタ６と、Ｈｅガスを含まないＮ_２、Ｏ_２
若しくはＣＯ_２等のガス等でＨｅガスを含む大気の一部
又は全部を置換し、排気した後に試験槽１内部のＨｅ濃
度を低下させる手段とを組み合わせたシステムに置換ガ
スの流量制御を組み合わせて置換ガスの消費量を低減さ
せたことは、微少な漏洩を迅速に且つ簡素な装置で検出
し、かつランニングコストを低下させる上で、極めて有
益である。

【００６６】試験槽１の内部の排気については、上述の
実施の形態と同様に、排気プロセスモデルで示したモデ
ルのうちプロセス３を適用した。従って、前述のように
試験槽１の内部の圧力を一定に制御しながらＮ_２ガスで
置換（希釈も含めて）するため、Ｎ_２ガスの消費量が最
少で済むという利点がある。

【００６７】

【発明の効果】本発明では、置換ガスを導入する際に、
試験槽内の圧力が上昇しないように制御しながら置換ガ
スを導入するので、置換ガスの消費量が最少で所定のプ
ローブガス濃度を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る漏洩試験装置を示す
模式図。

【図２】排気プロセスのルートを示す説明図。

【図３】本発明の実施の形態に係る排気プロセスのルー
トを示す説明図。

【図４】本発明の第２の実施の形態に係る漏洩試験装置
を示す模式図。

【図５】本発明の第3の形態に係る漏洩試験装置を示す
模式図。

【図６】従来の実施の形態に係る排気プロセスのルート
を示す説明図。

【符号の説明】

１…試験槽、２…被試験体、３…予備タンク、４…ボン
ベ、５…真空排気装置、６…リークディテクタ、７…配
線、８…ボンベ、９…ポンプ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被試験体を気密な試験槽内に格納し、こ
の試験槽の内部を排気手段によって排気して減圧する第
１工程と、この第１工程の後に前記試験槽の内部を減圧
された圧力を保つよう排気を継続しつつ置換ガスを供給
する第２工程と、この第２工程によってガス置換された
試験槽内のプローブガスの濃度を検出するプローブガス
検出工程と、試験槽内に被試験体が無いときのプローブ
ガスの濃度をバックグラウンド値として検出するバック
グラウンド値検出工程と、前記プローブガス検出工程で
検出した濃度と前記バックグラウンド値とを基に漏洩の
判定を行う判定工程とを有することを特徴とする漏洩試
験方法。
【請求項２】前記第２工程は、置換ガス供給の際に前
記試験槽内の圧力が上昇しないように試験槽内への置換
ガスの供給を制御手段によって制御されていることを特
徴とする請求項１記載の漏洩試験方法。
【請求項３】前記被試験体は、前記試験槽に格納され
る前、又は、格納された後、その内部にプローブガス供
給工程によってプローブガスが供給されることを特徴と
する請求項１乃至２のいずれかに記載の漏洩試験方法。
【請求項４】前記被試験体は、前記試験槽内に格納さ
れた後、その内部のプローブガスが排気工程によって排
気さていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか
に記載の漏洩試験方法。
【請求項５】前記置換ガスは、Ｎ_２であることを特徴
とする請求項１乃至４のいずれかに記載の漏洩試験方
法。
【請求項６】前記プローブガスは、Ｈｅであることを
特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の漏洩試験
方法。
【請求項７】前記被試験体は、コンプレッサであるこ
とを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の漏洩
試験方法。
【請求項８】前記試験体は、エアコンの室内機又は室
外機であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか
に記載の漏洩試験方法。