JP2000159757A - ７−デオキシタキソール誘導体の製造方法 - Google Patents

７−デオキシタキソール誘導体の製造方法

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JP2000159757A JP10341262A JP34126298A JP2000159757A JP 2000159757 A JP2000159757 A JP 2000159757A JP 10341262 A JP10341262 A JP 10341262A JP 34126298 A JP34126298 A JP 34126298A JP 2000159757 A JP2000159757 A JP 2000159757A
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Kouichi Uoto
浩一 魚戸
Yasuyuki Takeda
泰幸 武田
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Epoxy Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 抗腫瘍性化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 溶媒中、金属触媒存在下、水素ガス雰囲
気中で処理することを特徴とする、各種置換基を有する
下記の一般式 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は７−デオキシ型タキ
ソール誘導体の新規な製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】タキソール誘導体として、下記の構造式
で表される２つの化合物が既に上市され、臨床でその効
果が認められている。
【０００３】
【化１１】
【０００４】
【化１２】 現在、上記の２つの化合物に比べ活性が高い化合物、物
性が改善された化合物を見いだすべく種々の化合物が合
成されている。この中で、７位の水酸基が水素原子で置
換された７−デオキシ型誘導体は対応する水酸基型誘導
体より活性が向上しており、有望な化合物の一つである
（特開平６−１５７４８９号公報参照）。７−デオキシ
型誘導体を合成するには、７位水酸基を水素原子に変換
する工程が必要であるが、従来の合成法では、７位水酸
基をＳ−メチルチオカルボニル化等でキサンテート型化
合物に誘導した後、アゾイソブチロニトリル等のラジカ
ル開始剤の存在下、水素化トリブチルスズを反応させて
７位をデオキシ化する方法が一般的であった（例えば、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５８，３７９８（１９９３）
やＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５８，５０２８（１９９
３）等）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では毒性が極めて強い有機スズ化合物を使用するこ
と、ラジカル反応であるため反応の再現性が低いこと等
の工業的に実施するには種々の問題を有していた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、タキソール誘導体の７位水酸基を脱離して６，
７−オレフィン型に導いた後、この６，７−オレフィン
型化合物を溶媒中、金属触媒存在下、水素ガス雰囲気中
で処理することにより７−デオキシ型化合物を簡便に得
られることを見いだし本発明を完成させた。
【０００７】本発明は、一般式（Ｉ）
【０００８】
【化１３】 ［式中、Ｒ１はフェニル基を意味し、該フェニル基はハ
ロゲン原子、アルキル基およびアルコキシル基からなる
群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有し
てもよい。Ｒ２はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アルコキシル基またはシクロアルキル基を意味
し、該アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシル基およびシクロアルキル基は、ハロゲン原子、
水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基、アリールオ
キシ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からな
る群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有
してもよい。Ｒ３は水素原子、保護基を有する水酸基、
水酸基または基
【０００９】
【化１４】 （式中、Ｚ１は水素原子、水酸基、ハロゲン原子または
アルキル基を意味する。Ｚ２は水素原子、水酸基、ハロ
ゲン原子またはアルキル基を意味する。Ｚ３はアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
アリール基または複素環基を意味し、これらアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
アリール基および複素環基は、ハロゲン原子、水酸基、
カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリー
ルオキシ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アシル基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からな
る群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有
してもよい。Ｚ４はアルキル基、アリール基またはアル
コキシル基を意味し、これらアルキル基、アリール基お
よびアルコキシル基は、ハロゲン原子、水酸基、カルボ
キシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリールオキ
シ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミ
ノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からなる群か
ら選ばれる基を置換基として１個または複数個有しても
よい。）を意味する。また、Ｒ４と一緒になって＝Ｏと
なってもよい。Ｒ４は、水素原子を意味するか、Ｒ３と
一緒になって＝Ｏとなってもよい。Ｑは
【００１０】
【化１５】 を意味し、（式中、Ｒ５は保護基を有する水酸基、水酸
基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコ
キシル基、基−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｒ51、アシルオキシ基
または基−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）n−Ｒ51を意味し、該ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル
基およびアシルオキシ基は、カルボキシル基、アルコキ
シル基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、シアノ基、水酸基、アミ
ノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルアミノ基、
アシルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アル
キルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホ
ニル基および３員環から８員環の大きさの含窒素複素環
基（該含窒素複素環基は、その環の構成原子上にアルキ
ル基を１個または複数個有してもよい。）からなる群か
ら選ばれる基を置換基として１個または複数個有しても
よい。（ここで、ｎは０から６の整数を意味し、Ｒ51は
アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、複素環基または基
【００１１】
【化１６】 （Ｑ1およびＱ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
子またはアルキル基を意味する。また、Ｑ1およびＱ2は
結合して隣接する窒素原子と共に式
【００１２】
【化１７】 （Ｘ1は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ1、ＮＨ
またはＮ−Ｙ1を意味し、Ｙ1はアルキル基を意味す
る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
を形成してもよい。）を意味する。なお、これらアルケ
ニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール
基、複素環基および基
【００１３】
【化１８】 のアルキル部分（Ｑ1および／またはＱ2がアルキル基の
場合）は、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ア
ルキル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、フェニ
ル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミノアルキル
基、アルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルア
ミノ基、アシルオキシ基および３員環から８員環の大き
さの含窒素複素環基（該含窒素複素環基は、その環の構
成原子上にアルキル基を１個または複数個有してもよ
い。）からなる群から選ばれる基を置換基として１個ま
たは複数個有してもよい。） Ｒ６は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基または複素環基を意味し、これらアル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およ
び複素環基は、アルコキシル基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基
および式
【００１４】
【化１９】 （Ｘ2 は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ2、Ｎ
ＨまたはＮ−Ｙ2を意味し、Ｙ2はアルキル基を意味す
る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
からなる群から選ばれる基を置換基として有してもよ
い。Ｒ７は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基または複素環基を意味し、これら
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
および複素環基は、アルコキシル基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキ
ル基および式
【００１５】
【化２０】 （Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ3、ＮＨ
またはＮ−Ｙ3を意味し、Ｙ3はアルキル基を意味す
る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
からなる群から選ばれる基を置換基として有してもよ
い。）］で表される化合物を溶媒中、金属触媒存在下、
水素ガス雰囲気中で処理することを特徴とする一般式
（ＩＩ）
【００１６】
【化２１】 で表される化合物の製造方法に関する。
【００１７】次に、本明細書で用いる用語について説明
する。ここで用いられる、“Ｃ1 〜Ｃ6 ”とは炭素数１
から６のものという意味で、例えば、“Ｃ2 〜Ｃ6 アル
ケニル基”は炭素数が２から６のアルケニル基を意味す
る。“アルキル基”、“アルケニル基”および“アルキ
ニル基”は直鎖でも分枝鎖でもよく、炭素数１（アルケ
ニル基およびアルキニル基の場合は炭素数２）から炭素
数６までのものが好ましい。“アルコキシカルボニル
基”とは、基−ＣＯＯ−の酸素原子にアルキル基が結合
したものを意味するが、該アルキル基にフェニル基（置
換基を有していてもよい。）が置換したものでもよく、
この様な例としては、ベンジルオキシカルボニル、フェ
ネチルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル等が挙げられる。なお、アルキル部分は炭素
数１から６のものが好ましい。“アリール基”とは、芳
香族炭化水素の核から水素原子１個を除いた１価基のこ
とを意味し、例えば、フェニル、トリル、ビフェニリ
ル、ナフチル等が挙げられる。“アミノアルキル基”の
アミノ基の結合位置はアルキル基のどの位置でもよい。
また、アルキル基の炭素数は１から６が好ましい。“ア
ルキルアミノ基”とは、アミノ基にアルキル基が１個置
換したもの、あるいはアミノ基にアルキル基が２個置換
したもの（２個のアルキル基は同一でも異なっても良
い。）を意味する。また、アルキル基の炭素数は１から
６が好ましい。“アシル基”とは、カルボニル基（−Ｃ
Ｏ−）に水素原子、アルキル基またはアリール基が結合
したものを意味し、例えば、ホルミル、アセチル、プロ
パノイル、ベンゾイル等が挙げられる。なお結合するア
ルキル基としては、炭素数１から６のものが好ましく、
結合するアリール基としてはフェニル基が好ましい。
【００１８】“複素環基”とは、環構造の構成原子とし
て酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群から選
ばれる原子の１種以上を１個または複数個含む、単環性
あるいは二環性の飽和もしくは不飽和の複素環化合物か
ら導かれる基を意味し、これら複素環基はいずれの位置
で結合してもよい。単環性の複素環基としては、例え
ば、ピロール、フラン、チオフェン、ピロリジン、テト
ラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾー
ル、ピラゾール、イミダゾリジン、ピラゾリジン、オキ
サゾール、チアゾール、オキサジアゾール、チアジアゾ
ール、ピリジン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピラ
ン、ピペリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、
ピペラジン、ジオキサン、ピラン、モルホリン等の単環
性の複素環化合物から導かれる基が挙げられる。二環性
の複素環基としては、ベンゾフラン、インドリジン、ベ
ンゾチオフェン、インドール、ナフチリジン、キノキサ
リン、キナゾリン、クロマン等の二環性の複素環化合物
から導かれる基が挙げられる。
【００１９】“含窒素複素環基”とは、複素環基の構成
原子として必ず窒素原子を１個含み、他に構成原子とし
て酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる原子の１
種以上を１個または複数個含むこともある飽和または不
飽和の複素環化合物から導かれる基を意味する。例え
ば、ピロール、ピロリジン、イミダゾール、ピラゾー
ル、イミダゾリジン、ピラゾリジン、オキサゾール、チ
アゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ピリジ
ン、ジヒドロピリジン、ピペリジン、ピリダジン、ピリ
ミジン、ピラジン、ピペラジン、モルホリン、チオモル
ホリン等から導かれる基が挙げられる。
【００２０】“式
【００２１】
【化２２】 （Ｘpは酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙp、ＮＨ
またはＮ−Ｙpを意味し、Ｙpはアルキル基を意味する。
ｐは１から３の整数を意味する。）で表される、窒素原
子を含む５員環から６員環の大きさの飽和の複素環基
（該複素環基は、その環の構成原子である炭素原子上に
アルキル基を１個または複数個有してもよい。）”と
は、複素環基の構成原子として必ず窒素原子を１個含む
５員環から６員環の大きさの飽和の複素環化合物から導
かれる基を意味し、例えば、ピロリジン、イミダゾリジ
ン、ピラゾリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、イ
ソオキサゾリジン、イソチアゾリジン、ピペリジン、ピ
ペラジン、モルホリン、チオモルホリン等から導かれる
基が挙げられる。“保護基を有する水酸基”の保護基と
しては、トリエチルシリル基、第三ブチルジメチルシリ
ル基等のシリル系の保護基や、１−エトキシエチル基、
２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、ベンジ
ル基等が挙げられる。
【００２２】次に、本願発明の製造方法の原料となる一
般式（Ｉ）で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）とい
う。）の各置換基について説明する。
【００２３】Ｒ1 のフェニル基の置換基としての“アル
キル基”、“アルコキシル基”は炭素数１から３のもの
が好ましい。Ｒ1 のフェニル基の置換基の数としては、
１または２が好ましく、置換基の置換位置は、メタ位が
好ましい。Ｒ1 としては、フッ素原子、塩素原子、メチ
ル基またはメトキシ基が１個または２個メタ位に置換し
たフェニル基、または無置換のフェニル基が好ましい。
【００２４】Ｒ2 としては、アルキル基、アルコキシル
基およびシクロアルキル基が好ましい。Ｒ２の“アルキ
ル基”としては、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基が好ましく、特
にメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。Ｒ2 の
“アルコキシル基”としては、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシル
基が好ましく、特にメトキシ基、エトキシ基が好まし
い。Ｒ2 の“シクロアルキル基”としては、Ｃ3 〜Ｃ6
シクロアルキル基が好ましく、特にシクロプロピル基が
好ましい。Ｒ2 としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、メトキシ基、エトキシ基またはシクロプロピル基
が特に好ましい。
【００２５】Ｒ5 としては、保護基を有する水酸基、水
酸基、アシルオキシ基、アルキル基またはアルコキシル
基が好ましい。Ｒ5 のアシルオキシ基としては、アセト
キシ基が好ましい。Ｒ5 のアルキル基としては、Ｃ1 〜
Ｃ6 アルキルが基好ましく、特にメチル基、エチル基、
プロピル基が好ましい。Ｒ5 のアルコキシル基として
は、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシル基が好ましく、特にメトキ
シ基が好ましい。Ｒ5 のアルキル基およびアルコキシル
基の置換基としては、アルコキシカルボニル基、水酸
基、シアノ基、アシル基、アルキルアミノ基、アルキル
チオ基または３員環から８員環の大きさ含窒素複素環基
（該含窒素複素環基は、その環の構成原子上にアルキル
基を１個または複数個有してもよい。）が好ましく、特
に、３員環から８員環の大きさ含窒素複素環基（該含窒
素複素環基は、その環の構成原子上にアルキル基を１個
または複数個有してもよい。）が好ましい。また、含窒
素複素環基の環の構成原子上に置換するアルキル基とし
ては、Ｃ１〜Ｃ３アルキル基が好ましく、特にメチル基
が好ましい。含窒素複素環基としては、ピロリジン、ピ
ペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、
ピリジン、４−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキルピペラジンから導か
れる基が好ましく、特にモルホリンまたはチオモルホリ
ンから導かれる基が好ましい。Ｒ５としては、水酸基、
アセトキシ基またはモルホリンもしくはチオモルホリン
（該モルホリンまたはチオモルホリンは、その環の構成
原子である炭素原子上にメチル基を１個または複数個有
していてもよい。）から導かれる基を置換基として有し
ている炭素数２または３のアルキル基もしくはアルコキ
シル基が最も好ましい。
【００２６】Ｒ6 としてはアルキル基またはフェニル基
が好ましい。Ｒ6 のアルキル基は炭素数１から６のもの
が好ましく、特にメチル基、エチル基、プロピル基が好
ましい。Ｒ6 のアルキル基またはフェニル基の置換基と
しては、アミノ基、アルキルアミノ基、または式
【００２７】
【化２３】 （Ｘ2 は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ2、Ｎ
ＨまたはＮ−Ｙ2を意味し、Ｙ2はアルキル基を意味す
る。）で表される、窒素原子を含む５員環または６員環
の大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構
成原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよ
い。）が好ましい。アルキルアミノ基のアルキル部分は
Ｃ1 〜Ｃ3 アルキル基が好ましく、ジアルキル置換でも
よい。（ジアルキル置換の場合、その２つのアルキル基
は同一でも異なっていてもよい。）なお、式
【００２８】
【化２４】 で表される、窒素原子を含む５員環または６員環の大き
さの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成原子
である炭素原子上にアルキル基を１個または複数個有し
てもよい。）の中では、ピペラジン、モルホリン、チオ
モルホリン、４−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキルピペラジン等から
導かれる基が特に好ましい。また、複素環基の環の構成
原子である炭素原子上に置換するアルキル基としては、
メチル基が好ましい。
【００２９】Ｒ7 としては、水素原子またはアルキル基
が好ましい。
【００３０】Ｚ1 およびＺ2 における“ハロゲン原子”
としては、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が好ま
しい。同様に、Ｚ1 およびＺ2 における“アルキル基”
としては、メチル基、エチル基、プロピル基が好まし
い。Ｚ1 としては、ハロゲン原子、水酸基が好ましく、
ハロゲン原子の中では、特にフッ素原子が好ましい。Ｚ
2 としては、ハロゲン原子、水素原子またはアルキル基
が好ましい。ハロゲン原子の中では、特にフッ素原子が
好ましい。アルキル基の中では、特にメチル基が好まし
い。Ｚ1 およびＺ2 として最も好ましいのは、Ｚ1 がフ
ッ素原子、Ｚ2 がフッ素原子の組み合わせのもの、Ｚ1
が水酸基、Ｚ2 が水素原子の組み合わせのもの、あるい
はＺ1 が水酸基、Ｚ2 がメチル基の組み合わせのものが
挙げられる。
【００３１】Ｚ3 としてはアリール基、複素環基、アル
ケニル基が好ましい。Ｚ3 の“アリール基”としては、
フェニル基が好ましい。Ｚ3 の複素環基としては、単環
性の複素環基が好ましく、さらには、単環性の５員環ま
たは６員環の複素環基が好ましく、例えば、ピロール、
フラン、チオフェン、ピロリジン、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾール、ピラゾー
ル、イミダゾリジン、ピラゾリジン、オキサゾール、チ
アゾール、オキサジアゾール、チアジアゾール、ピリジ
ン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピラン、ピペリジ
ン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、
ジオキサン、ピラン、モルホリン等から導かれる基が挙
げられる。Ｚ3 の複素環基の中で特に好ましいものとし
ては、単環性の５員環または６員環の複素環基で、環構
造の構成原子として酸素原子、窒素原子および硫黄原子
を１個含む複素環基であり、例えば、ピロール、フラ
ン、チオフェン、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テ
トラヒドロチオフェン、ピリジン、ジヒドロピリジン、
テトラヒドロピラン、ピペリジン、ピラン等から導かれ
る基が挙げられる。Ｚ3 の複素環基の中で最も好ましい
ものとしては、単環性の５員環または６員環の複素環基
で、環構造の構成原子として酸素原子、窒素原子および
硫黄原子を１個含む不飽和の複素環基が挙げられ、具体
的には、フラン、ピリジン、ピロールから導かれる基が
最も好ましい。Ｚ3 としては、フェニル基、フリル基、
ピリジル基、ピロリル基が特に好ましい。
【００３２】Ｚ4 はアリール基またはアルコキシル基が
好ましい。Ｚ4 の“アリール基”としては、フェニル基
が好ましい。Ｚ4 の“アルコキシル基”としては、第三
級ブトキシが好ましい。Ｚ4 としては、フェニル基、第
三級ブトキシ基が特に好ましい。
【００３３】化合物（Ｉ）としては、以下に示す立体配
置のものが好ましい。
【００３４】
【化２５】 なお、Ｑが
【００３５】
【化２６】 の場合は、次の立体配置が好ましい。
【００３６】
【化２７】 Ｑが
【００３７】
【化２８】 の場合は、次の立体配置が好ましい。
【００３８】
【化２９】 また、Ｒ3 の基
【００３９】
【化３０】 としては、次の立体配置が好ましい。
【００４０】
【化３１】 本発明の製造法について説明する。
【００４１】化合物（Ｉ）を溶媒中、金属触媒存在下、
水素ガス雰囲気中で処理することにより化合物（ＩＩ）
を得ることができる。すなわち、化合物（Ｉ）を溶媒に
溶解した後、金属触媒を加え、水素ガス存在下で処理す
ると化合物（ＩＩ）が得られる。
【００４２】用いる溶媒としては、水、エタノール等の
アルコール、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、
酢酸エチル等のエステル系溶媒等が挙げられ、これらの
混合溶媒を用いてもよい。また、化合物（Ｉ）がアミノ
基を有している場合は、塩酸、酢酸等を加えて処理する
のが好ましい。触媒としては、パラジウム系触媒、ロジ
ウム系触媒、二酸化白金等の遷移金属触媒が挙げられ
る。パラジウム系触媒としては、パラジウムまたは水酸
化パラジウムを５から２０％含む炭素粉末が挙げられ
る。ロジウム系触媒としてはロジウムを５％含むアルミ
ナが挙げられる。触媒の使用量は、化合物（１）に対し
て１から３００％（重量比）の範囲、好ましくは２０か
ら１００％（重量比）の範囲である。水素圧は、１から
５０気圧の範囲、好ましくは１から４気圧の範囲であ
る。反応温度は、５から１００℃の範囲、好ましくは１
８から６０℃の範囲である。反応時間は、原料の減少と
目的物の生成を薄層クロマトグラフィー、高速液体クロ
マトグラフィー、核磁気共鳴スペクトル等で確認しなが
ら調節すればよいが、通常は、原料が消失するまで（原
料が分解しない限り）行えばよく、１０分から１６８時
間の範囲、好ましくは２０分から９６時間の範囲であ
る。反応終了後、触媒を濾過して除いた後、溶媒を減圧
留去する。得られた残留物を再結晶やシリカゲルカラム
クロマトグラフィー等で生成することにより化合物（Ｉ
Ｉ）を得ることができる。
【００４３】次に実施例で詳しく説明する。実施例およ
び参考例では以下の略号を用いることがある。［Ｂｚ：
ベンゾイル基、Ａｃ：アセチル基、ＴＥＳ：トリエチル
シリル基、Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、
ＴＩＰＳ：トリイソプロピルシリル基］
【００４４】
【実施例】実施例１ 10-デアセチル-7-デオキシバッカチンIII
【００４５】
【化３２】 10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシバッカチンIII
(10 g)をエタノール(250 mL)に溶解し、５％パラジウム
炭素(2 g)を加え水素雰囲気下(1気圧)室温で 24 時間攪
拌した。触媒をろ去し、ろ液を減圧下濃縮後、得られた
残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶
媒；クロロホルム：酢酸エチル＝1 : 1(V/V)）で精製
し、標記化合物（10g）を無色の非晶質固体として得
た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:1.06(s, 3H), 1.09
(s, 3H), 1.50-1.55(m, 1H), 1.61(br, 1H), 1.80(s, 3
H), 1.90-2.41(m, 6H), 2.06(d, 3H, J = 1.5 Hz), 2.2
9(s, 3H), 3.92(d, 1H, J = 7.3 Hz), 4.17(d, 1H, J =
1.5 Hz), 4.22(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.33(d, 1H, J=
8.3 Hz), 4.82-4.92(m, 1H), 4.96(dd, 1H, J = 9.6 H
z, 3.2 Hz), 5.24(d, 1H, J = 1.5 Hz), 5.62(d, 1H, J
= 7.3 Hz), 7.48(t, 2H, J = 7.3 Hz), 7.61(t, 1H, J
= 7.3 Hz), 8.12(d, 2H, J = 7.3 Hz).
【００４６】実施例２ 10-デアセチル-7-デオキシバッカチンIII
【００４７】
【化３３】 10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシバッカチンIII
(19.5 g)のエタノール(585 mL)溶液に、５％ロジウム−
アルミナ(39 g)を加えた後、水素雰囲気下（１気圧）、
室温にて激しく攪拌した。２時間攪拌後、触媒をろ去
し、ろ液を減圧下濃縮後、得られた残分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出溶媒；クロロホルム：酢
酸エチル＝1 : 1(V/V)）で精製し、実施例１と同じ標記
化合物(18.1 g)を無色の非晶質固体として得た。
【００４８】実施例３ 10-デアセチル-7-デオキシ-10-O-ホルミル-13-O-トリエ
チルシリルバッカチンＩＩＩ
【００４９】
【化３４】 １０−デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシ-10-O-ホル
ミル-13-O-トリエチルシリルバッカチンIII(20 mg)を酢
酸エチル(1 mL)およびエタノール(1 mL)の混液に溶解
し、室温にて１０％パラジウム炭素(10 mg)を加え、水
素雰囲気下（１気圧）で 1.5 時間攪拌後、触媒をろ去
し、ろ液を減圧下、濃縮した。得られた残分を分取用シ
リカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝2 : 1(V/V)）を用い精製し、標記化合
物 12.5 mgを無色の非晶質固体として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:0.64-0.72(m, 6H),
1.01(t, 9H, J = 7.8 Hz), 1.11(s, 3H), 1.15(s, 3
H), 1.53-2.27(m, 6H), 1.58(s, 3H), 1.74(s, 3H), 2.
29(s, 3H), 3.76(d, 1H, J = 7.3 Hz), 4.19(d, 1H, J
= 8.3 Hz), 4.32(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.90-4.98(m, 2
H), 5.62(d, 1H, J = 7.3 Hz), 6.57(s, 1H), 7.48(t,
2H, J = 7.8 Hz), 7.61(t, 1H, J = 7.8 Hz), 8.11(d,
2H, J = 7.8 Hz), 8.23(s, 1H).
【００５０】実施例４ (9S)-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-(2
-プロピリデン)-13-O-トリエチルシリルバッカチンＩＩ
Ｉ
【００５１】
【化３５】 （９Ｓ）−１０−デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシ
-9-ジヒドロ-9,10-O-(2-プロピリデン)-13-O-トリエチ
ルシリルバッカチンIII(5 mg)を酢酸エチル(1 mL)に溶
解し、室温にて二酸化白金(5 mg)を加え、水素雰囲気下
（１気圧）で２０分攪拌後、触媒をろ去し母液を減圧
下、濃縮した。得られた残分を分取用シリカゲル薄層ク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
9 : 2(v/v)）を用い精製し、標記化合物 2.5 mg を無色
の非晶質固体として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:0.55-0.75(m, 6H),
1.02(t, 9H, J = 7.8 Hz), 1.24(s, 3H), 1.42(s, 3
H), 1.52(s, 3H), 1.55(s, 3H), 1.59(s, 3H), 1.78(s,
1H), 1.90(s, 3H), 1.80-2.15(m, 6H), 2.26(s, 3H),
2.94(d, 1H, J = 5.4 Hz), 4.17(d, 1H, J = 8.3 Hz),
4.25(d, 1H, J = 7.3 Hz), 4.34(d, 1H, J = 8.3 Hz),
4.90-5.03(m, 2H), 5.56(d, 1H, J = 7.3 Hz), 5.92(d,
1H, J = 5.4 Hz), 7.47(t, 2H, J = 7.3 Hz), 7.59(t,
1H, J = 7.3 Hz), 8.15(d, 2H, J = 7.3 Hz).
【００５２】実施例５ (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-3-(2-ピリジル)-2-(トリイソプロピルシリルオキ
シ)プロパノイル]-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒド
ロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチ
ンＩＩＩ
【００５３】
【化３６】 （９Ｓ）−１３−Ｏ−［（２Ｒ，３Ｓ）−３−（ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルアミノ)-3-(2-ピリジル)-2-(ト
リイソプロピルシリルオキシ)プロパノイル]-10-デアセ
チル-6,7-デヒドロ-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-[(1
S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチンIII(0.50 g)
をエタノール(10 mL)に溶解し、１０％パラジウム炭素
(0.50 g)を加え、４気圧の水素雰囲気下７．５時間攪拌
した。触媒をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、標記化合物
0.50 gを白色粉末として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:0.86-0.92(m, 21
H), 1.30(s, 3H), 1.42(s, 9H), 1.50(s, 3H), 1.61(s,
3H), 1.81(s, 3H), 1.39-2.33(m, 7H), 2.52(s, 3H),
2.55-2.69(m, 4H), 2.72(dd, 1H, J = 13.7 Hz, 4.9 H
z), 2.78(dd, 1H, J = 13.7 Hz, 3.9 Hz), 2.97(d, 1H,
J= 5.4 Hz), 3.75(t, 4H, J = 4.4 Hz), 4.16(d, 1H,
J = 7.3 Hz), 4.19(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.33(d, 1H,
J = 8.3 Hz), 4.96(s, 1H), 5.02(t, 1H, J = 4.4Hz),
5.22(d, 1H, J = 7.4 Hz), 5.32(d, 1H, J = 11.3 Hz),
5.48-5.51(m, 2H), 5.97(d, 1H, J = 5.4 Hz), 6.12
(t, 1H, J = 8.3 Hz), 7.16-7.19(m, 1H), 7.40(d, 1H,
J = 7.8 Hz), 7.45(t, 2H, J = 7.8 Hz), 7.55(t, 1H,
J = 7.8 Hz), 7.66(t, 1H, J = 7.8 Hz), 8.13(d, 2H,
J = 7.8 Hz), 8.56(d, 1H, J = 4.4Hz).
【００５４】実施例６ (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-3-(2-ピリジル)-2-(トリイソプロピルシリルオキ
シ)プロパノイル]-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒド
ロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチ
ンIII
【００５５】
【化３７】 (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-3-(2-ピリジル)-2-(トリイソプロピルシリルオキ
シ)プロパノイル]-10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオ
キシ-9-ジヒドロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリ
デン]バッカチンIII(50 mg)をエタノール(3 mL)に溶解
し、１０％水酸化パラジウム(25 mg)を加え、１気圧の
水素雰囲気下８５時間攪拌した。触媒をろ去後、ろ液を
減圧下濃縮し、実施例６と同じ標記化合物 40 mg を白
色粉末として得た。
【００５６】実施例７ (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-3-(2-ピリジル)-2-(トリイソプロピルシリルオキ
シ)プロパノイル]-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒド
ロ-9,10-O-[(1S)-2-(N,N-ジメチルアミノ)エチリデン]
バッカチンIII
【００５７】
【化３８】 (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-3-(2-ピリジル)-2-(トリイソプロピルシリルオキ
シ)プロパノイル]-10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオ
キシ-9-ジヒドロ-9,10-O-[(1S)-2-(N,N-ジメチルアミ
ノ)エチリデン]バッカチンIII(20 mg)をエタノール(3 m
L)に溶解し、５％パラジウム炭素(40 mg)および酢酸(8.
4 μL)を加え、水素雰囲気下(４気圧)１０時間攪拌し
た。触媒をろ去し、ろ液を酢酸エチルで希釈した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次
洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下
留去し、標記化合物 20 mgを白色粉末として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:0.86-0.92(m, 21
H), 1.31(s, 3H), 1.42(s, 9H), 1.50(s, 3H), 1.62(s,
3H), 1.81(s, 3H), 1.77-2.01(m, 5H), 2.22-2.35(m,
2H), 2.39(s, 6H), 2.52(s, 3H), 2.68(dd, 1H, J = 1
3.2 Hz, 5.4 Hz), 2.75(dd, 1H, J = 13.2 Hz, 3.9 H
z),2.97(d, 1H, J = 4.9 Hz), 4.17(d, 1H, J = 7.3 H
z), 4.20(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.33(d, 1H, J = 8.3 H
z), 4.96(s, 1H), 5.01(t, 1H, J = 4.9 Hz), 5.23(d,
1H, J = 6.8 Hz), 5.32(d, 1H, J = 9.7 Hz), 5.48-5.5
1(m, 2H), 5.97(d, 1H, J = 5.4 Hz), 6.12(t, 1H, J =
8.8 Hz), 7.16-7.19(m, 1H), 7.40(d, 1H, J= 7.8 H
z), 7.45(t, 2H, J = 7.8 Hz), 7.57(t, 1H, J = 7.8 H
z), 7.66(t, 1H,J = 7.8 Hz), 8.13(d, 2H, J = 7.8 H
z), 8.57(d, 1H, J = 4.4 Hz).
【００５８】実施例８ (9S)-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-
[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]-13-O-トリエチルシ
リルバッカチンIII
【００５９】
【化３９】 (9S)-10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシ-9-ジヒ
ドロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]-13-O-
トリエチルシリルバッカチンIII(50 mg)を酢酸エチル(5
mL)に溶解し、二酸化白金(50 mg)を加え、１気圧の水
素雰囲気下２時間攪拌した。触媒をろ去後、ろ液を減圧
下濃縮し、得られた残分を分取用シリカゲル薄層クロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝1:1
(V/V)）で精製し、標記化合物 35 mg を白色粉末として
得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:0.62-0.69(m, 6H),
1.01(t, 9H, J = 7.9 Hz), 1.25(s, 3H), 1.48(s, 3
H), 1.58(s, 3H), 1.82(s, 1H), 1.88(s, 3H), 1.93-2.
13(m, 6H), 2.25(s, 3H), 2.59-2.67(m, 4H), 2.70(dd,
1H, J = 13.7 Hz, 4.9 Hz), 2.77(dd, 1H, J = 13.7 H
z, 3.9 Hz), 2.92(d, 1H, J = 5.4 Hz), 3.74 (t, 4H,
J = 4.8 Hz), 4.15(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.18(d, 1H,
J = 7.3 Hz), 4.34(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.95-5.00(m,
2H), 5.02(t, 1H, J = 4.4 Hz), 5.22(d, 1H, J = 7.3
Hz), 5.92(d, 1H,J = 5.4 Hz), 7.48(t, 2H, J = 7.8
Hz), 7.60(t, 1H, J = 7.8 Hz), 8.14(d,2H, J = 7.8 H
z). MS-FAB (m/z) : 756 (M+H)+
【００６０】実施例９ (9S)-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-
[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチンIII
【００６１】
【化４０】 (9S)-10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7-デオキシ-9-ジヒ
ドロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチンII
I(65 mg)をエタノール(10 mL)に溶解し、５％ロジウム
−アルミナ(130 mg)を加え、１気圧の水素雰囲気下４時
間攪拌した。触媒をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、得ら
れた残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
溶媒；クロロホルム：メタノール＝50 : 1(V/V)）で精
製し、標記化合物 50 mgを白色粉末として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:1.16(s, 3H), 1.47
(s, 3H), 1.57(s, 3H), 1.80-2.07(m, 5H), 1.96(s, 3
H), 2.33-2.39(m, 1H), 2.35(s, 3H), 2.38(d, 1H, J =
9.7 Hz), 2.48-2.68(m, 4H),2.71(dd, 1H, J = 13.7 H
z, 5.4 Hz), 2.79(dd, 1H, J = 13.7 Hz, 14.0 Hz), 3.
06(d, 1H, J = 4.9 Hz), 3.75(t, 4H, J = 4.9 Hz), 4.
14(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.25(d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.
34(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.78(q, 1H, J = 7.3Hz), 4.8
5(s, 1H), 5.05(t, 1H, J = 4.9 Hz), 5.27(d, 1H, J =
7.4 Hz), 5.97(d, 1H, J = 4.9 Hz), 7.48(t, 2H, J =
7.8 Hz), 7.61(t, 1H, J = 7.8 Hz), 8.14(d, 2H, J =
7.8 Hz). MS-FAB(m/z) : 642 (M+H)+
【００６２】実施例１０ (9S)-10-デアセチル-7,13-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O
-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]-13-オキソバッカチ
ンIII
【００６３】
【化４１】 (9S)-10-デアセチル-6,7-デヒドロ-7,13-デオキシ-9-ジ
ヒドロ-9,10-O-[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]-13-
オキソバッカチンIII(0.20g)をエタノール(8 mL)に溶解
し、１０％水酸化パラジウム炭素(0.20 g)および酢酸(1
8 μL)を加え、水素雰囲気下（１気圧）１５時間攪拌し
た。触媒をろ去し、ろ液を濃縮後、得られた残分を酢酸
エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和
食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を減圧下留去し、得られた残分を分取用シリカゲル
薄層クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝1 : 2 (v/v)）を用い精製し、標記化合物 0.16 g
を無色の非晶質固体として得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:1.26(s, 3H), 1.48
(s, 3H), 1.62(s, 3H), 1.59-2.04(m, 4H), 1.97(s, 3
H), 2.22(s, 3H), 2.60-2.66(m, 5H), 2.72-2.85(m, 3
H), 3.15(d, 1H, J = 5.4 Hz),3.74(t, 4H, J = 4.4 H
z), 4.11(d, 1H, J = 7.3 Hz), 4.30(d, 1H, J = 8.3 H
z), 4.35(d, 1H, J = 8.3 Hz), 4.82 (s, 1H), 5.09(t,
1H, J = 4.4 Hz), 5.37(d, 1H, J = 7.4 Hz), 6.10(d,
1H, J =5.4 Hz), 7.49(t, 2H, J = 7.3 Hz), 7.62(t,
1H, J = 7.3 Hz), 8.12(d, 2H, J = 7.3 Hz). MS-FAB(m/z) : 640 (M+H)+
【００６４】参考例１ (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-2-ハイドロキシ-3-(2-ピリジル)プロパノイル]-10-
デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-[(1S)-2-
(モルホリノ)エチリデン]バッカチンIII
【００６５】
【化４２】 実施例５で得た化合物(0.25 g)をテトラヒドロフラン(2
0 mL)に溶解し、氷冷下テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムフロリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）(0.48 mL)
を加え、同温で３０分間攪拌した。反応液に水、酢酸エ
チルを加え分液後、水層を酢酸エチルで抽出した。有機
層をあわせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩
水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を留去後、残分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出溶媒；クロロホルム：メタノール＝50 : 1 (V/
V)）で精製し、目的画分を減圧下濃縮後、残分を５０％
含水エタノール(V/V)から再結晶し、標記化合物 0.15 g
を無色針状晶として得た。 融点 ：160-161.5℃1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:1.26(s, 3H), 1.40
-1.60(m, 3H), 1.44(s, 9H), 1.48(s, 3H), 1.60(s, 3
H), 1.72(s, 3H), 1.86-1.91(m, 2H), 2.02-2.09(m, 2
H), 2.35(s, 3H), 2.59-2.67(m,4H), 2.72(dd, 1H, J =
13.7 Hz, 5.4 Hz), 2.78(dd, 1H, J = 13.7 Hz, 4.0 H
z), 2.93(d, 1H, J = 5.3 Hz), 3.74(t, 4H, J = 4.6 H
z), 4.13(d, 1H, J = 7.3 Hz), 4.22(d, 1H, J = 8.8 H
z), 4.33(d, 1H, J = 8.8 Hz), 4.85(br s, 1H),4.90-
4.92(m, 2H), 5.04(t, 1H, J = 4.4 Hz), 5.23(d, 1H,
J = 7.4 Hz), 5.35(d, 1H, J = 10.2 Hz), 5.94(d, 1H,
J = 10.2 Hz), 5.98(d, 1H, J = 5.4 Hz), 6.09(t, 1
H, J = 8.3 Hz), 7.23(dd, 1H, J = 7.3 Hz, 5.4 Hz),
7.42(d, 1H,J = 8.3 Hz), 7.47(t, 2H, J = 8.3 Hz),
7.60(t, 1H, J = 7.3 Hz), 7.72(dt,1H, J = 7.8 Hz,
1.57 Hz), 8.12(d, 2H, J = 8.3 Hz), 8.54(d, 1H, J =
3.9Hz). 元素分析 （Ｃ48Ｈ63Ｎ3Ｏ14として） 計算値C, 63.63; H, 7.01; N, 4.64 実測値C, 63.52; H, 7.03; N, 4.48
【００６６】参考例２ (9S)-13-O-[(2R,3S)-3-(tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ)-2-ハイドロキシ-3-(2-ピリジル)プロパノイル]-10-
デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-[(1S)-2-
(N,N-ジメチルアミノ)エチリデン]バッカチンＩＩＩ
【００６７】
【化４３】 実施例７で得た化合物（２０ ｍｇ）を参考例１と同様
に反応させ、標記化合物 12 mg を無色の固体として得
た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3, TMS) δ:1.26(s, 3H), 1.44
(s, 9H), 1.48(s, 3H), 1.61(s, 3H), 1.72(s, 3H), 1.
88-1.94(m, 3H), 2.05-2.13(m, 2H), 2.32-2.39(m, 2
H), 2.36(s, 3H), 2.39(s, 6H),2.67(dd, 1H, J = 13.2
Hz, 4.8 Hz), 2.76(dd, 1H, J = 13.2 Hz, 3.9 Hz),
2.93(d, 1H J = 4.9 Hz), 4.12(d, 1H, J = 7.3 Hz),
4.22(d, 1H, J = 8.3 Hz),4.33(d, 1H, J = 8.3 Hz),
4.90-4.92(m, 2H), 5.01(t, 1H, J = 5.4 Hz), 5.24(d,
1H, J = 6.4 Hz), 5.36(d, 1H, J = 9.3 Hz), 5.94-5.
99(m, 2H), 6.09(t,1H, J = 8.7 Hz), 7.23(dd, 1H, J
= 7.3 Hz, 4.9 Hz), 7.41(d, 1H, J = 7.8Hz), 7.47(t,
2H, J = 7.8 Hz), 7.60(t, 1H, J = 7.3 Hz), 7.72(t,
1H, J = 7.3 Hz), 8.12(d, 2H, J = 7.8 Hz), 8.54(d,
1H, J = 4.9 Hz). 元素分析 （Ｃ46Ｈ61Ｎ3Ｏ13・Ｈ2Ｏとして） 計算値C, 62.64; H, 7.20; N, 4.76 実測値C, 62.70; H, 7.22; N, 4.66
【００６８】参考例３ (9S)-10-デアセチル-7-デオキシ-9-ジヒドロ-9,10-O-
[(1S)-2-(モルホリノ)エチリデン]バッカチンＩＩＩ
【００６９】
【化４４】 実施例１０で得た化合物（１００ ｍｇ）をトルエン(2
mL)に溶解し 、氷冷下水素化ジイソブチルアルミニウ
ム（１Ｍトルエン溶液）(0.60 mL)を加え、同温で２時
間攪拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液およ
び酢酸エチルを加えセライトろ過後、水層を酢酸エチル
で抽出した。有機層をあわせ、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。溶媒を留去後残分を分取用シリカゲル薄層
クロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホルム：メタノ
ール＝30 : 1 (V/V)）で精製し、目的画分を減圧下濃縮
し、実施例９で得た化合物(25 mg)を無色の非晶質固体
として得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (Ｃ０７Ｄ 493/08 305:00 317:00） Ｆターム(参考） 4C048 AA04 AA06 TT08 XX02 4C071 AA03 AA08 BB01 BB07 CC13 EE03 FF14 GG05 HH05 JJ05 JJ08 KK08 LL01 4H039 CA40 CB10

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1はフェニル基を意味し、該フェニル基はハ
    ロゲン原子、アルキル基およびアルコキシル基からなる
    群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有し
    てもよい。Ｒ2はアルキル基、アルケニル基、アルキニ
    ル基、アルコキシル基またはシクロアルキル基を意味
    し、該アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
    コキシル基およびシクロアルキル基は、ハロゲン原子、
    水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基、アリールオ
    キシ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、ア
    ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
    アシル基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からな
    る群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有
    してもよい。Ｒ3 は水素原子、保護基を有する水酸基、
    水酸基または基 【化２】 （式中、Ｚ１は水素原子、水酸基、ハロゲン原子または
    アルキル基を意味する。Ｚ２は水素原子、水酸基、ハロ
    ゲン原子またはアルキル基を意味する。Ｚ３はアルキル
    基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
    アリール基または複素環基を意味し、これらアルキル
    基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
    アリール基および複素環基は、ハロゲン原子、水酸基、
    カルボキシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリー
    ルオキシ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ
    基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、ア
    ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
    アシル基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からな
    る群から選ばれる基を置換基として１個または複数個有
    してもよい。Ｚ４はアルキル基、アリール基またはアル
    コキシル基を意味し、これらアルキル基、アリール基お
    よびアルコキシル基は、ハロゲン原子、水酸基、カルボ
    キシル基、アルキル基、アルコキシル基、アリールオキ
    シ基、フェニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミ
    ノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルコキシ
    カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
    基、アシルアミノ基およびアシルオキシ基からなる群か
    ら選ばれる基を置換基として１個または複数個有しても
    よい。）を意味する。Ｒ4は、水素原子を意味するか、
    Ｒ３と一緒になって＝Ｏとなってもよい。Ｑは 【化３】 を意味し、（Ｒ5 は保護基を有する水酸基、水酸基、ア
    ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル
    基、基−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｒ51、アシルオキシ基または
    基−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ2）n−Ｒ51を意味し、該アルキル
    基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシル基およ
    びアシルオキシ基は、カルボキシル基、アルコキシル
    基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリ
    ールオキシカルボニル基、シアノ基、水酸基、アミノ
    基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルアミノ基、ア
    シルオキシ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキ
    ルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニ
    ル基および３員環から８員環の大きさの含窒素複素環基
    （該含窒素複素環基は、その環の構成原子上にアルキル
    基を１個または複数個有してもよい。）からなる群から
    選ばれる基を置換基として１個または複数個有してもよ
    い。（ここで、ｎは０から６の整数を意味し、Ｒ51はア
    ルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリー
    ル基、複素環基または基 【化４】 （Ｑ1およびＱ2は同一でも異なっていてもよく、水素原
    子またはアルキル基を意味する。また、Ｑ1およびＱ2は
    結合して隣接する窒素原子と共に式 【化５】 （Ｘ1は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ1、ＮＨ
    またはＮ−Ｙ1を意味し、Ｙ1はアルキル基を意味す
    る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
    大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
    原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
    を形成してもよい。）を意味する。なお、これらアルケ
    ニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール
    基、複素環基および基 【化６】 のアルキル部分（Ｑ1および／またはＱ2がアルキル基の
    場合）は、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、ア
    ルキル基、アルコキシル基、アリールオキシ基、フェニ
    ル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミノアルキル
    基、アルキルアミノアルキル基、アルコキシカルボニル
    基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アシルア
    ミノ基、アシルオキシ基および３員環から８員環の大き
    さの含窒素複素環基（該含窒素複素環基は、その環の構
    成原子上にアルキル基を１個または複数個有してもよ
    い。）からなる群から選ばれる基を置換基として１個ま
    たは複数個有してもよい。）Ｒ6 は水素原子、アルキル
    基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複
    素環基を意味し、これらアルキル基、アルケニル基、ア
    ルキニル基、アリール基および複素環基は、アルコキシ
    ル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミノアルキル
    基、アルキルアミノアルキル基および式 【化７】 （Ｘ2 は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ2、Ｎ
    ＨまたはＮ−Ｙ2を意味し、Ｙ2はアルキル基を意味す
    る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
    大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
    原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
    からなる群から選ばれる基を置換基として有してもよ
    い。Ｒ7 は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アル
    キニル基、アリール基または複素環基を意味し、これら
    アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
    および複素環基は、アルコキシル基、アミノ基、アルキ
    ルアミノ基、アミノアルキル基、アルキルアミノアルキ
    ル基および式 【化８】 （Ｘ3は酸素原子、硫黄原子、ＣＨ２、ＣＨ−Ｙ3、ＮＨ
    またはＮ−Ｙ3を意味し、Ｙ3はアルキル基を意味す
    る。）で表される、窒素原子を含む５員環から６員環の
    大きさの飽和の複素環基（該複素環基は、その環の構成
    原子である炭素原子上にアルキル基を有してもよい。）
    からなる群から選ばれる基を置換基として有してもよ
    い。）］で表される化合物を溶媒中、金属触媒存在下、
    水素ガス雰囲気中で処理することを特徴とする一般式
    （ＩＩ） 【化９】 で表される化合物の製造方法
  2. 【請求項２】 化合物（Ｉ）が次に示す立体配置のもの
    である請求項１記載の製造方法 【化１０】
  3. 【請求項３】 溶媒がアルコール系溶媒、エーテル系溶
    媒またはエステル系溶媒である請求項１または２いずれ
    か一項に記載の製造方法
  4. 【請求項４】 溶媒が、エタノール、テトラヒドロフラ
    ン、酢酸エチルである請求項３記載の製造方法
  5. 【請求項５】 触媒が、パラジウム系触媒、ロジウム系
    触媒または二酸化白金である請求項１から４いずれか一
    項に記載の製造方法
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