JP2000157510A - 磁気共鳴イメ―ジング装置用の磁極片、並びに磁極片を製造するための方法及びモ―ルド - Google Patents
磁気共鳴イメ―ジング装置用の磁極片、並びに磁極片を製造するための方法及びモ―ルドInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＭＲＩ用の積層タイル磁極片、並びに積層タ
イル金属磁極片を製造する為の方法及びモールドを提供
する。 【解決手段】 各々の積層タイル（４２）を台形又は環
状扇形の形状にする。この形状により、タイルを横に並
べて取付けて、多数同心環状配列体体（５３−６２）を
形成することが出来、これによって、円形磁極片を四角
のタイルで埋めるときに必要な半端な形の縁部充填タイ
ルを使わずに、磁極片（５０）を形成することが出来
る。磁極片を作るには、複数個のタイルをモールド（１
００）の中に配置し、モールドを接着剤物質で埋めるこ
とにより、複数個のタイルを結合して一体のタイル本体
（１２０）を形成する。次に、一体のタイル本体をモー
ルドから取出して、磁極片の基部（５１）に取付けるこ
とにより、磁極片を形成する。
イル金属磁極片を製造する為の方法及びモールドを提供
する。 【解決手段】 各々の積層タイル（４２）を台形又は環
状扇形の形状にする。この形状により、タイルを横に並
べて取付けて、多数同心環状配列体体（５３−６２）を
形成することが出来、これによって、円形磁極片を四角
のタイルで埋めるときに必要な半端な形の縁部充填タイ
ルを使わずに、磁極片（５０）を形成することが出来
る。磁極片を作るには、複数個のタイルをモールド（１
００）の中に配置し、モールドを接着剤物質で埋めるこ
とにより、複数個のタイルを結合して一体のタイル本体
（１２０）を形成する。次に、一体のタイル本体をモー
ルドから取出して、磁極片の基部（５１）に取付けるこ
とにより、磁極片を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＭＲＩ装置の積層タ
イル磁極片、該磁極片を製造する方法及び磁極片タイル
を結合する為に使われるモールドに関する。
イル磁極片、該磁極片を製造する方法及び磁極片タイル
を結合する為に使われるモールドに関する。
【０００２】
【発明の背景】最近、ＭＲＩの為にいわゆる積層タイル
磁極片が開発された。この開発を考察するために、図１
に積層タイル磁極片の平面図を示し、図２に側面図を示
す。磁極片１０は軟鉄の円形基板１１と、基板１１の円
周に沿って設けられていて、磁束を磁石間の隙間に差向
ける軟鉄リング１２と、軟質フェライトの積層タイル１
３及び１４と、勾配磁気コイルを取付ける為の軟鉄のコ
ア１５とを有している。積層タイル１３、１４及びコア
１５が磁極片の面を構成する。基板１１の中心部にある
積層タイル１４は、基板１１の周縁部にある積層タイル
１３よりも厚さが一層大きく、凸状の突起１６を形成し
ている。凸状の突起１６は、磁界の一様性を改善する。
磁極片が開発された。この開発を考察するために、図１
に積層タイル磁極片の平面図を示し、図２に側面図を示
す。磁極片１０は軟鉄の円形基板１１と、基板１１の円
周に沿って設けられていて、磁束を磁石間の隙間に差向
ける軟鉄リング１２と、軟質フェライトの積層タイル１
３及び１４と、勾配磁気コイルを取付ける為の軟鉄のコ
ア１５とを有している。積層タイル１３、１４及びコア
１５が磁極片の面を構成する。基板１１の中心部にある
積層タイル１４は、基板１１の周縁部にある積層タイル
１３よりも厚さが一層大きく、凸状の突起１６を形成し
ている。凸状の突起１６は、磁界の一様性を改善する。
【０００３】しかし、従来の積層タイル磁極片は幾つか
の欠点がある。第１に、大抵の積層タイル１３及び１４
は四角又は矩形である。しかし、基板１１及びリング１
２は円形である。従って、四角又は矩形のタイルを円形
の開口の中にはめる為には、縁部充填タイル１３Ａが必
要となる。図１に示すように、各々の縁部充填タイル１
３Ａは、周縁タイル１３が円形基板１１及びリング１２
を完全に埋めることが出来るようにする為に、独特の半
端な形を持っている。各々の縁部充填タイル１３Ａは、
その独特な形を作る為に、他のタイル１３とは別に形成
しなければならない。これはプロセスのコスト及び複雑
さを増す。
の欠点がある。第１に、大抵の積層タイル１３及び１４
は四角又は矩形である。しかし、基板１１及びリング１
２は円形である。従って、四角又は矩形のタイルを円形
の開口の中にはめる為には、縁部充填タイル１３Ａが必
要となる。図１に示すように、各々の縁部充填タイル１
３Ａは、周縁タイル１３が円形基板１１及びリング１２
を完全に埋めることが出来るようにする為に、独特の半
端な形を持っている。各々の縁部充填タイル１３Ａは、
その独特な形を作る為に、他のタイル１３とは別に形成
しなければならない。これはプロセスのコスト及び複雑
さを増す。
【０００４】第２に、突起１６も、図１に示すように、
円形である。従って、四角又は矩形の中心タイル１４を
円の中に配置する為には、図１及び２に示すように、縁
部充填タイル１４Ａが必要となる。縁部充填タイル１４
Ａも、中心部のタイル１４が円形の突起１６を形成する
ことが出来るようにする為に、独特の半端な形を持って
いる。更に、中心部のタイル１４が、隙間を残さずに、
周縁部のタイル１３とはめ合わさるようにする為に、縁
部充填タイル１４Ａは、図２に示すように、異なる２つ
の厚さをも持っていなければならない。独特な形を持つ
各々の縁部充填タイル１４Ａも、他の中心部のタイル１
４とは別に形成しなければならない。これはプロセスの
コストを更に増大させる。
円形である。従って、四角又は矩形の中心タイル１４を
円の中に配置する為には、図１及び２に示すように、縁
部充填タイル１４Ａが必要となる。縁部充填タイル１４
Ａも、中心部のタイル１４が円形の突起１６を形成する
ことが出来るようにする為に、独特の半端な形を持って
いる。更に、中心部のタイル１４が、隙間を残さずに、
周縁部のタイル１３とはめ合わさるようにする為に、縁
部充填タイル１４Ａは、図２に示すように、異なる２つ
の厚さをも持っていなければならない。独特な形を持つ
各々の縁部充填タイル１４Ａも、他の中心部のタイル１
４とは別に形成しなければならない。これはプロセスの
コストを更に増大させる。
【０００５】第３に、個別の積層タイル１３及び１４を
基板１１に取付ける従来の方法は、個別のタイルを基板
の上に配置し、その後タイルの上にエポキシを注入する
ことを含む。しかし、エポキシが基板から流れ出して、
エポキシで被覆しようとは思わない磁極片の部分を被覆
することがある。エポキシが加圧状態で供給されないか
ら、あるタイルはエポキシによる被覆が不十分であるこ
ともある。こういうタイルは、ＭＲＩの使用中に剥離す
る恐れがある。更に、人間的な誤差の為に、タイル１４
を手作業によって基板１１の上に積重ねるときに、突起
１６のための最適の高さを達成するのが非常に困難にな
る。その為、従来の方法によって製造された異なる磁極
片は、再現性が乏しく、突起の高さのばらつきの為に、
性能特性が異なる。
基板１１に取付ける従来の方法は、個別のタイルを基板
の上に配置し、その後タイルの上にエポキシを注入する
ことを含む。しかし、エポキシが基板から流れ出して、
エポキシで被覆しようとは思わない磁極片の部分を被覆
することがある。エポキシが加圧状態で供給されないか
ら、あるタイルはエポキシによる被覆が不十分であるこ
ともある。こういうタイルは、ＭＲＩの使用中に剥離す
る恐れがある。更に、人間的な誤差の為に、タイル１４
を手作業によって基板１１の上に積重ねるときに、突起
１６のための最適の高さを達成するのが非常に困難にな
る。その為、従来の方法によって製造された異なる磁極
片は、再現性が乏しく、突起の高さのばらつきの為に、
性能特性が異なる。
【０００６】
【発明の概要】上に述べたことに鑑み、半端な形の縁部
充填タイルを持たない積層タイル磁極片を形成すること
によって、製造プロセスのコスト及び複雑さを少なくす
ることが望ましい。本発明は、磁気共鳴イメージング
（ＭＲＩ）装置の磁極片を提供する。磁極片は、複数個
の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形
又は環状扇形タイルで構成される。
充填タイルを持たない積層タイル磁極片を形成すること
によって、製造プロセスのコスト及び複雑さを少なくす
ることが望ましい。本発明は、磁気共鳴イメージング
（ＭＲＩ）装置の磁極片を提供する。磁極片は、複数個
の同心環状配列体を成すように配置された複数個の台形
又は環状扇形タイルで構成される。
【０００７】また、再現性があって正確な積層タイル磁
極片の製造プロセスを提供することも望ましい。本発明
は、磁極片を作る方法を提供する。この方法は、複数個
のタイルをモールド空所の中に配置し、モールド空所を
接着剤物質で埋めて複数個のタイルを結合して一体の本
体を形成し、一体の本体をモールド空所から取出し、一
体の本体の第２の面を磁極片の基部に取付けて第１の磁
極片を形成する工程を含む。
極片の製造プロセスを提供することも望ましい。本発明
は、磁極片を作る方法を提供する。この方法は、複数個
のタイルをモールド空所の中に配置し、モールド空所を
接着剤物質で埋めて複数個のタイルを結合して一体の本
体を形成し、一体の本体をモールド空所から取出し、一
体の本体の第２の面を磁極片の基部に取付けて第１の磁
極片を形成する工程を含む。
【０００８】本発明はまた、ＭＲＩ装置の積層タイル磁
極片を形成する為の非一様な空所面を持つモールドをも
提供する。このモールドは、ＭＲＩ装置の第１の磁石及
びＭＲＩ装置の第２の磁石の間の磁束密度のシミュレー
ションを実施し、第１の磁石及び第２の磁石の間の磁束
密度の最適値に基づいて、磁極片の第１の面の最適輪郭
を決定し、モールド空所面の輪郭を磁極片の第１の面の
最適輪郭とは略逆の形状に形成することによって作られ
る。
極片を形成する為の非一様な空所面を持つモールドをも
提供する。このモールドは、ＭＲＩ装置の第１の磁石及
びＭＲＩ装置の第２の磁石の間の磁束密度のシミュレー
ションを実施し、第１の磁石及び第２の磁石の間の磁束
密度の最適値に基づいて、磁極片の第１の面の最適輪郭
を決定し、モールド空所面の輪郭を磁極片の第１の面の
最適輪郭とは略逆の形状に形成することによって作られ
る。
【０００９】
【好ましい実施例の詳しい説明】図３は、第１の面４０
及び第２の面４１を持つ磁極片基部５１を有する磁極片
５０の一部分を切欠いた斜視図を示す。磁極片の積層タ
イル４２が、基部５１の第１の面４０に取付けられる。
タイル４２は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによっ
て基部５１に取付けることが出来る。各々の積層タイル
は、参照数字２１、２２及び２３で示す積み重ねられた
複数個の金属層と、参照数字３１及び３２で示す接着剤
層とで構成される。各々の積層タイル４２が実際に１０
０乃至１００００個の金属層を含んでおり、各々の金属
層は厚さが５×１０ー3インチ未満（即ち、５ミル未満）
であることが好ましい。各々のタイルは厚さが０．１乃
至１０インチであって、幅が１乃至３０インチである。
例えば、各々のタイルはその中央で幅が約８インチであ
り、厚さが１インチであって、１０００個の厚さ１ミル
の金属層を含んでいる。しかし、必要な最終用途に基づ
いて、タイル及び金属層はこの他の寸法にすることが出
来る。更に、各々のタイルは、この代りに、金属層の積
層ではなく、密実な金属ブロック又は棒で構成すること
が出来る。
及び第２の面４１を持つ磁極片基部５１を有する磁極片
５０の一部分を切欠いた斜視図を示す。磁極片の積層タ
イル４２が、基部５１の第１の面４０に取付けられる。
タイル４２は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによっ
て基部５１に取付けることが出来る。各々の積層タイル
は、参照数字２１、２２及び２３で示す積み重ねられた
複数個の金属層と、参照数字３１及び３２で示す接着剤
層とで構成される。各々の積層タイル４２が実際に１０
０乃至１００００個の金属層を含んでおり、各々の金属
層は厚さが５×１０ー3インチ未満（即ち、５ミル未満）
であることが好ましい。各々のタイルは厚さが０．１乃
至１０インチであって、幅が１乃至３０インチである。
例えば、各々のタイルはその中央で幅が約８インチであ
り、厚さが１インチであって、１０００個の厚さ１ミル
の金属層を含んでいる。しかし、必要な最終用途に基づ
いて、タイル及び金属層はこの他の寸法にすることが出
来る。更に、各々のタイルは、この代りに、金属層の積
層ではなく、密実な金属ブロック又は棒で構成すること
が出来る。
【００１０】積層タイル４２は非晶質金属層で作ること
が好ましい。しかし、金属が非晶質である必要はなく、
結晶構造を持っていてもよい。金属は、鋼、鉄、珪素鋼
又は鉄（即ち無配向の珪素鋼）、ニッケル鋼又は鉄、パ
ーメンデュール（ＦｅＣｏＶ）、ニッケル・クロム鋼又
は鉄、アルミニウム鋼又は鉄、アルミニウム・クロム鋼
又は鉄、或いは保持力の小さいこの他の任意の材料で構
成することが出来る。更に、本発明による磁極片は、上
に列記した異なる金属から作られた積層タイル４２で構
成することが出来る。言い換えると、隣接するタイルは
異なる金属で構成されていてよい。
が好ましい。しかし、金属が非晶質である必要はなく、
結晶構造を持っていてもよい。金属は、鋼、鉄、珪素鋼
又は鉄（即ち無配向の珪素鋼）、ニッケル鋼又は鉄、パ
ーメンデュール（ＦｅＣｏＶ）、ニッケル・クロム鋼又
は鉄、アルミニウム鋼又は鉄、アルミニウム・クロム鋼
又は鉄、或いは保持力の小さいこの他の任意の材料で構
成することが出来る。更に、本発明による磁極片は、上
に列記した異なる金属から作られた積層タイル４２で構
成することが出来る。言い換えると、隣接するタイルは
異なる金属で構成されていてよい。
【００１１】積層タイル４２は台形の形状にすることが
好ましい。しかし、積層タイルは環状扇形の形状にして
もよい。環状扇形は、凹状の上辺又は短辺４３及び凸状
の下辺又は長辺４４を持つ台形である。台形の積層タイ
ル４２は、複数個の金属シートを接着剤で接着させた
後、この積層シートを台形のタイルの形に切断すること
によって製造することが出来る。積層タイル４２を作る
別の方法が、１９９８年１１月２４日出願の米国特許出
願第０９／１９８，５１０号に記載されており、この全
体をここでこの出願に取入れる。この方法は、金属リボ
ンを巻解き、このリボンを接着剤浴の中に案内し、リボ
ンを矩形巻枠のような多角形巻枠に巻き付けて、少なく
とも１つの平坦な辺を持つコイルを形成し、巻枠からコ
イルを取外し、コイルを切断して積層バーを形成し、積
層バーを台形又は環状扇形の積層タイルに整形すること
を含む。
好ましい。しかし、積層タイルは環状扇形の形状にして
もよい。環状扇形は、凹状の上辺又は短辺４３及び凸状
の下辺又は長辺４４を持つ台形である。台形の積層タイ
ル４２は、複数個の金属シートを接着剤で接着させた
後、この積層シートを台形のタイルの形に切断すること
によって製造することが出来る。積層タイル４２を作る
別の方法が、１９９８年１１月２４日出願の米国特許出
願第０９／１９８，５１０号に記載されており、この全
体をここでこの出願に取入れる。この方法は、金属リボ
ンを巻解き、このリボンを接着剤浴の中に案内し、リボ
ンを矩形巻枠のような多角形巻枠に巻き付けて、少なく
とも１つの平坦な辺を持つコイルを形成し、巻枠からコ
イルを取外し、コイルを切断して積層バーを形成し、積
層バーを台形又は環状扇形の積層タイルに整形すること
を含む。
【００１２】図４及び５に示すように、円形の磁極片基
部５１は、積層タイル４２を収容すると共に磁束を磁石
間の隙間に差向けるための支持リング５２を有してい
る。円形の基部５１及びリング５２の全体を台形の積層
タイル４２で埋める。基部５１及びリング５２は「磁極
シュー」と呼ぶこともある。この代りに、リング５２は
場合によって「エッジ・シム」と呼ばれることがある。
図４は、磁極片５０の平面図を示しており、これに対し
て図５は図４の線ＣーＣ’で切った断面図を示す。積層
タイルが同心環状配列体又はリング５３乃至６２を成す
ように配置される。積層タイル４２が台形又は環状扇形
であることの利点は、図４から明らかである。全ての積
層タイルが同じ寸法及び形を持つことが出来る。従っ
て、基部５１及びリング５２を埋めるのに、半端な形の
縁部充填タイルを必要としない。この為、積層タイル磁
極片を組立てる方法のコスト及び複雑さが少なくなる。
部５１は、積層タイル４２を収容すると共に磁束を磁石
間の隙間に差向けるための支持リング５２を有してい
る。円形の基部５１及びリング５２の全体を台形の積層
タイル４２で埋める。基部５１及びリング５２は「磁極
シュー」と呼ぶこともある。この代りに、リング５２は
場合によって「エッジ・シム」と呼ばれることがある。
図４は、磁極片５０の平面図を示しており、これに対し
て図５は図４の線ＣーＣ’で切った断面図を示す。積層
タイルが同心環状配列体又はリング５３乃至６２を成す
ように配置される。積層タイル４２が台形又は環状扇形
であることの利点は、図４から明らかである。全ての積
層タイルが同じ寸法及び形を持つことが出来る。従っ
て、基部５１及びリング５２を埋めるのに、半端な形の
縁部充填タイルを必要としない。この為、積層タイル磁
極片を組立てる方法のコスト及び複雑さが少なくなる。
【００１３】例えば、基部５１の中心部近くにあるタイ
ルの同心環状配列体５３−５７は、基部５１の中心部近
くに突起を形成するために、基部５１の周縁部近くにあ
るタイルの同心環状配列体５８、６０及び６１よりも厚
さ（即ち、基部５１から測った高さ）が一層大きくても
よい。この突起は、半端な形の縁部充填タイルを必要と
しない。随意選択により、周縁部の同心環状配列体５９
及び６２は、周縁部の環状配列体５８、６０及び６１よ
りも厚さが一層大きくてもよい。勿論、この他の環状配
列体の厚さ及び形も可能である。例えば、同心環状配列
体は１０個より多くても少なくてもよい。全ての環状配
列体が同じ厚さであってもよいし、異なる厚さであって
もよい。環状配列体の数及び特定の環状配列体の厚さ
は、磁極片５０を通るＭＲＩ装置の磁石間の磁界の流れ
のコンピュータによるシミュレーションによって決定す
べきである。この代りに、中心部の環状配列体５３は、
勾配磁気コイルを取付ける為の鉄心であってよい。
ルの同心環状配列体５３−５７は、基部５１の中心部近
くに突起を形成するために、基部５１の周縁部近くにあ
るタイルの同心環状配列体５８、６０及び６１よりも厚
さ（即ち、基部５１から測った高さ）が一層大きくても
よい。この突起は、半端な形の縁部充填タイルを必要と
しない。随意選択により、周縁部の同心環状配列体５９
及び６２は、周縁部の環状配列体５８、６０及び６１よ
りも厚さが一層大きくてもよい。勿論、この他の環状配
列体の厚さ及び形も可能である。例えば、同心環状配列
体は１０個より多くても少なくてもよい。全ての環状配
列体が同じ厚さであってもよいし、異なる厚さであって
もよい。環状配列体の数及び特定の環状配列体の厚さ
は、磁極片５０を通るＭＲＩ装置の磁石間の磁界の流れ
のコンピュータによるシミュレーションによって決定す
べきである。この代りに、中心部の環状配列体５３は、
勾配磁気コイルを取付ける為の鉄心であってよい。
【００１４】更に、環状配列体は、複数個の積層タイル
４２を互いに積重ねることによって形成することが出来
る。厚手の同心環状配列体は、薄手の環状配列体よりも
一層多くの積層タイルを積重ねて構成することが出来
る。随意選択により、磁極片支持リング５２の頂部と積
層タイルとの間の空間は受動性シムによって埋めること
が出来る。
４２を互いに積重ねることによって形成することが出来
る。厚手の同心環状配列体は、薄手の環状配列体よりも
一層多くの積層タイルを積重ねて構成することが出来
る。随意選択により、磁極片支持リング５２の頂部と積
層タイルとの間の空間は受動性シムによって埋めること
が出来る。
【００１５】本発明による磁気共鳴イメージング、即ち
ＭＲＩに用いられる磁界発生装置（「ＭＲＩ装置」）の
実施例が図６及び７に示されている。図６に示すＭＲＩ
装置は２つの板状ヨーク７１Ａ及び７１Ｂと、少なくと
も２つ、好ましくは４つの柱状ヨーク７１Ｃ及び７１Ｄ
とを持っている。この代りに、図７に示すように、１つ
の「Ｃ」形ヨーク７１を持つＭＲＩ装置を使うことが出
来る。ＭＲＩ装置はヨーク面に固定された磁石７２及び
７２’と、磁石７２及び７２’に固定された磁極片基部
５１及び５１’並びに支持リング５２及び５２’と、磁
極片基部及び支持リングに固定された積層タイル磁極片
７４及び７４’とを有している。磁極片の間に隙間７３
が形成される。イメージングする身体部分が隙間７３に
挿入される。
ＭＲＩに用いられる磁界発生装置（「ＭＲＩ装置」）の
実施例が図６及び７に示されている。図６に示すＭＲＩ
装置は２つの板状ヨーク７１Ａ及び７１Ｂと、少なくと
も２つ、好ましくは４つの柱状ヨーク７１Ｃ及び７１Ｄ
とを持っている。この代りに、図７に示すように、１つ
の「Ｃ」形ヨーク７１を持つＭＲＩ装置を使うことが出
来る。ＭＲＩ装置はヨーク面に固定された磁石７２及び
７２’と、磁石７２及び７２’に固定された磁極片基部
５１及び５１’並びに支持リング５２及び５２’と、磁
極片基部及び支持リングに固定された積層タイル磁極片
７４及び７４’とを有している。磁極片の間に隙間７３
が形成される。イメージングする身体部分が隙間７３に
挿入される。
【００１６】磁石７２及び７２’は、ＲＦｅＢ、ＲＣｏ
ＦｅＢ又はＳｍＣｏ磁石のような永久磁石、或いは鉄心
の周りに導電コイル又は超導電コイルを巻付けたような
電磁石で構成することが出来る。ＭＲＩ装置は、随意選
択により、図１５及び１６の７５及び７５’に示すよう
な勾配コイル又はシムをも含んでいてよい。更に、随意
選択により、ＭＲＩ装置は磁極片の残留磁気を減らす為
に、基部と積層タイルとの間にベークライト、合成樹
脂、木材又はセラミックのような透磁率の小さい絶縁層
を含んでいてよい。
ＦｅＢ又はＳｍＣｏ磁石のような永久磁石、或いは鉄心
の周りに導電コイル又は超導電コイルを巻付けたような
電磁石で構成することが出来る。ＭＲＩ装置は、随意選
択により、図１５及び１６の７５及び７５’に示すよう
な勾配コイル又はシムをも含んでいてよい。更に、随意
選択により、ＭＲＩ装置は磁極片の残留磁気を減らす為
に、基部と積層タイルとの間にベークライト、合成樹
脂、木材又はセラミックのような透磁率の小さい絶縁層
を含んでいてよい。
【００１７】ＭＲＩ装置は電子回路７６及び表示装置７
７をも含んでいてよい。電子回路７６は制御装置、送信
機、受信機、イメージング装置並びに／又はメモリで構
成することが出来る。
７をも含んでいてよい。電子回路７６は制御装置、送信
機、受信機、イメージング装置並びに／又はメモリで構
成することが出来る。
【００１８】上側磁石７２と下側磁石７３との間の磁束
のシミュレーションにより、積層タイル磁極片の最適輪
郭を決定する。例えば、このシミュレーションは、普通
の有限要素解析方法で構成することが出来る。このシミ
ュレーションから、同心環状配列体の各々の磁極片配列
体５３−６２について最適の高さが決定される。
のシミュレーションにより、積層タイル磁極片の最適輪
郭を決定する。例えば、このシミュレーションは、普通
の有限要素解析方法で構成することが出来る。このシミ
ュレーションから、同心環状配列体の各々の磁極片配列
体５３−６２について最適の高さが決定される。
【００１９】同心環状配列体を持つ積層タイル磁極片５
０は、本発明のモールド及び鋳造方法を用いて製造する
ことが好ましい。モールド１００の実施例が図８及び９
に示されている。図９は図８の線Ａ−Ａ’で切った断面
図である。モールドは底面１０１、側面１０２及び覆い
板１０３で構成される。更に、モールドは、１つ又は更
に多くのエポキシ入口開口１０４及び１つ又は更に多く
の空気出口開口１０５を持っている。開口１０４はモー
ルドの底面１０１に設けることが好ましく、開口１０５
は覆い板１０３に設けることが好ましい。モールドの底
面１０１及び覆い板１０５は、ボルト１０６によって側
壁１０２に取付けることが好ましい。しかし、この代り
に、底面１０１及び側面１０２が一体の本体を構成して
いて、覆い板１０３が、掛金のような他の方法によっ
て、側壁１０２に取付けられていてもよい。モールドは
随意選択の把手１０７を持っている。
０は、本発明のモールド及び鋳造方法を用いて製造する
ことが好ましい。モールド１００の実施例が図８及び９
に示されている。図９は図８の線Ａ−Ａ’で切った断面
図である。モールドは底面１０１、側面１０２及び覆い
板１０３で構成される。更に、モールドは、１つ又は更
に多くのエポキシ入口開口１０４及び１つ又は更に多く
の空気出口開口１０５を持っている。開口１０４はモー
ルドの底面１０１に設けることが好ましく、開口１０５
は覆い板１０３に設けることが好ましい。モールドの底
面１０１及び覆い板１０５は、ボルト１０６によって側
壁１０２に取付けることが好ましい。しかし、この代り
に、底面１０１及び側面１０２が一体の本体を構成して
いて、覆い板１０３が、掛金のような他の方法によっ
て、側壁１０２に取付けられていてもよい。モールドは
随意選択の把手１０７を持っている。
【００２０】モールドは非一様な空所面の輪郭を持つこ
とが好ましい。非一様な輪郭は、モールド空所の底面１
０１にスペーサを取付けることによって定めることが好
ましい。スペーサが、円形のモールドの底面１０１に沿
って複数個の同心環状配列体１５３−１６２を形成する
ことが好ましい。スペーサ１５３−１６２はねじ１０８
により、又は膠により、モールド空所面１０１に取付け
ることが出来る。スペーサは円筒形を持つことが好まし
い。しかし、スペーサは他の任意の形を持っていてもよ
い。
とが好ましい。非一様な輪郭は、モールド空所の底面１
０１にスペーサを取付けることによって定めることが好
ましい。スペーサが、円形のモールドの底面１０１に沿
って複数個の同心環状配列体１５３−１６２を形成する
ことが好ましい。スペーサ１５３−１６２はねじ１０８
により、又は膠により、モールド空所面１０１に取付け
ることが出来る。スペーサは円筒形を持つことが好まし
い。しかし、スペーサは他の任意の形を持っていてもよ
い。
【００２１】図９に示すように、異なる同心環状配列体
１５３−１６２のスペーサは異なる高さ又は厚さを持っ
ている。磁極片にある積層タイル４２と同じ数のスペー
サ１５３−１６２を持つことが好ましい。各々のスペー
サが磁極片の特定のタイルに対応する。モールド内のス
ペーサの面は、磁極片の同心環状タイル配列体の輪郭と
は略逆の輪郭を形成する。言い換えると、タイル配列体
６２のような磁極片の環状配列体が大きな高さ又は厚さ
を持つ場合、スペーサ配列体１６２のような、モールド
内の対応するスペーサ配列体は小さな高さ又は厚さを持
つ。タイル配列体６１のような磁極片の配列体が小さい
高さ又は厚さを持つ場合、スペーサ配列体１６１のよう
な、モールド内の対応するスペーサ配列体は大きな高さ
又は厚さを持つ。「略逆」とは、スペーサの輪郭がタイ
ルの輪郭とは異なっていてもよいことを意味する。例え
ば、タイルはエポキシ接着剤によって互いに取付けられ
るが、スペーサの間には隙間１０９があってよい。この
為、スペーサの輪郭は隙間１０９を持つが、タイルの輪
郭は、この隙間に対応するような薄い突起を持っていな
い。更に、輪郭にはこの他の若干の垂直及び水平方向の
変動があってよい。
１５３−１６２のスペーサは異なる高さ又は厚さを持っ
ている。磁極片にある積層タイル４２と同じ数のスペー
サ１５３−１６２を持つことが好ましい。各々のスペー
サが磁極片の特定のタイルに対応する。モールド内のス
ペーサの面は、磁極片の同心環状タイル配列体の輪郭と
は略逆の輪郭を形成する。言い換えると、タイル配列体
６２のような磁極片の環状配列体が大きな高さ又は厚さ
を持つ場合、スペーサ配列体１６２のような、モールド
内の対応するスペーサ配列体は小さな高さ又は厚さを持
つ。タイル配列体６１のような磁極片の配列体が小さい
高さ又は厚さを持つ場合、スペーサ配列体１６１のよう
な、モールド内の対応するスペーサ配列体は大きな高さ
又は厚さを持つ。「略逆」とは、スペーサの輪郭がタイ
ルの輪郭とは異なっていてもよいことを意味する。例え
ば、タイルはエポキシ接着剤によって互いに取付けられ
るが、スペーサの間には隙間１０９があってよい。この
為、スペーサの輪郭は隙間１０９を持つが、タイルの輪
郭は、この隙間に対応するような薄い突起を持っていな
い。更に、輪郭にはこの他の若干の垂直及び水平方向の
変動があってよい。
【００２２】従って、非一様なモールド空所面１１０の
輪郭は、図１０に示すように、積層タイルの磁極片の輪
郭１１４の逆である。積層タイル磁極片の輪郭は、異な
るタイルの輪郭に対し、ＭＲＩ装置の磁石間で磁束密度
のシミュレーションを実施し、その後、ＭＲＩ装置の磁
石間に最適の磁束を発生するようなタイルの輪郭１１４
を選ぶことによって決定する。図８では、仮想の２つの
ＭＲＩ磁石の間の磁界の有限要素シミュレーションによ
る磁束線が、モールドの平面図に重畳して示されてい
る。
輪郭は、図１０に示すように、積層タイルの磁極片の輪
郭１１４の逆である。積層タイル磁極片の輪郭は、異な
るタイルの輪郭に対し、ＭＲＩ装置の磁石間で磁束密度
のシミュレーションを実施し、その後、ＭＲＩ装置の磁
石間に最適の磁束を発生するようなタイルの輪郭１１４
を選ぶことによって決定する。図８では、仮想の２つの
ＭＲＩ磁石の間の磁界の有限要素シミュレーションによ
る磁束線が、モールドの平面図に重畳して示されてい
る。
【００２３】この代りに、図１１に示すように、スペー
サ１５３−１６２を使わずに、非一様なモールド空所面
の輪郭を作ることが出来る。図１１で、モールド空所面
自体が不規則な形であって、非一様な輪郭１１０を形成
している。輪郭１１０は突起１１１及び凹部１１２で構
成される。突起１１１が複数個の同心環状配列体を形成
し、その輪郭は磁極片タイル輪郭の略逆である。図９に
示したモールドの場合と同じく、各々の突起１１１は磁
極片の個別のタイル４２と対応すべきである。
サ１５３−１６２を使わずに、非一様なモールド空所面
の輪郭を作ることが出来る。図１１で、モールド空所面
自体が不規則な形であって、非一様な輪郭１１０を形成
している。輪郭１１０は突起１１１及び凹部１１２で構
成される。突起１１１が複数個の同心環状配列体を形成
し、その輪郭は磁極片タイル輪郭の略逆である。図９に
示したモールドの場合と同じく、各々の突起１１１は磁
極片の個別のタイル４２と対応すべきである。
【００２４】本発明に従って積層タイル磁極片を作る方
法が図１２−１６に示されている。モールド空所及びス
ペーサに最初に離型剤を被覆する。次に、図１２に示す
ように、積層タイル１２が同心環状タイル配列体５３−
６２としてモールド空所内に配置される。タイルは対応
する同心環状スペーサ配列体１５３−１６２の上に積重
ねられる。勿論、スペーサは図１０の突起に置き換えて
もよい。図１３に示すように、各々のタイルが１つのス
ペーサに重なるようにすべきである。各々のタイル及び
スペーサの積重ねの高さは、モールド空所の高さに等し
くして、タイル配列体５３ー６２の上面がモールド空所
の頂部と同一面になるようにすべきである。タイルの高
さの許容公差の結果としてのすべての変動が、モールド
の覆い板１０３の頂部の近くにある小さな隙間となる。
この代りに、各々のタイルを、図１４に示すように接着
テープ１２３を用いて夫々のスペーサに取付けてもよ
い。
法が図１２−１６に示されている。モールド空所及びス
ペーサに最初に離型剤を被覆する。次に、図１２に示す
ように、積層タイル１２が同心環状タイル配列体５３−
６２としてモールド空所内に配置される。タイルは対応
する同心環状スペーサ配列体１５３−１６２の上に積重
ねられる。勿論、スペーサは図１０の突起に置き換えて
もよい。図１３に示すように、各々のタイルが１つのス
ペーサに重なるようにすべきである。各々のタイル及び
スペーサの積重ねの高さは、モールド空所の高さに等し
くして、タイル配列体５３ー６２の上面がモールド空所
の頂部と同一面になるようにすべきである。タイルの高
さの許容公差の結果としてのすべての変動が、モールド
の覆い板１０３の頂部の近くにある小さな隙間となる。
この代りに、各々のタイルを、図１４に示すように接着
テープ１２３を用いて夫々のスペーサに取付けてもよ
い。
【００２５】この後、モールドを覆い板１０３で覆い、
接着剤物質を入口開口１０４からモールドの中に導入す
る。接着剤物質は合成エポキシ樹脂であることが好まし
い。エポキシは、モールド空所及びスペーサが離型剤で
被覆されているので、モールド空所及びスペーサにくっ
つかない。エポキシが個別のタイルの間に浸透し、モー
ルドの中に捕捉されている空気があれば、それを出口開
口１０５を介して押出す。エポキシ１１３が個別のタイ
ルを、高さの異なる同心環状タイル配列体５３−６２で
構成された一体の本体１２０に結合する。この代りに、
エポキシを上側開口１０５から、又は上側及び下側の両
方の開口から導入してもよい。
接着剤物質を入口開口１０４からモールドの中に導入す
る。接着剤物質は合成エポキシ樹脂であることが好まし
い。エポキシは、モールド空所及びスペーサが離型剤で
被覆されているので、モールド空所及びスペーサにくっ
つかない。エポキシが個別のタイルの間に浸透し、モー
ルドの中に捕捉されている空気があれば、それを出口開
口１０５を介して押出す。エポキシ１１３が個別のタイ
ルを、高さの異なる同心環状タイル配列体５３−６２で
構成された一体の本体１２０に結合する。この代りに、
エポキシを上側開口１０５から、又は上側及び下側の両
方の開口から導入してもよい。
【００２６】モールドの覆い板１０３をモールドから取
除き、一体のタイル本体１２０をモールド１００から取
出す。その後、一体の本体１２０の平坦な側（上側）
を、図１５及び１６に示すように、磁極片基部５１及び
リング５２に取付ける。基部５１、リング５２及び一体
のタイル本体が磁極片５０を構成する。一体のタイル本
体１２０は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによっ
て、基部５１に取付けることが出来る。
除き、一体のタイル本体１２０をモールド１００から取
出す。その後、一体の本体１２０の平坦な側（上側）
を、図１５及び１６に示すように、磁極片基部５１及び
リング５２に取付ける。基部５１、リング５２及び一体
のタイル本体が磁極片５０を構成する。一体のタイル本
体１２０は、エポキシ、膠並びに／又はボルトによっ
て、基部５１に取付けることが出来る。
【００２７】本発明の第２の実施例が図１７乃至２０に
示されている。第２の実施例では、図１７及び１９に示
すように、少なくとも１つのタイル４２がその面に空所
１２１を持っている。空所は、高圧でエポキシをモール
ド１１０の中に導入することによって形成することが出
来る。高圧のエポキシが同心環状タイル配列体５３ー６
２の上を流れ、タイル配列体をモールド空所内の円筒形
スペーサ１５３−１６２又は突起１１１に圧接する。各
々のスペーサ又は突起は、対応するタイルの面積よりも
表面積が小さい。従って、比較的柔らかいタイルのスペ
ーサ又は突起に対する圧力により、図１７及び図１８に
示すように、タイルに空所１２１が形成される。空所
は、図２０に示すように、受動性シム又は小さな永久磁
石１２２によって埋めることが出来るが、これは１９９
８年１０月２３日出願の米国特許出願第０９／１７８，
３２０号に記載されており、この米国特許出願の全体を
ここで引用によって取入れる。
示されている。第２の実施例では、図１７及び１９に示
すように、少なくとも１つのタイル４２がその面に空所
１２１を持っている。空所は、高圧でエポキシをモール
ド１１０の中に導入することによって形成することが出
来る。高圧のエポキシが同心環状タイル配列体５３ー６
２の上を流れ、タイル配列体をモールド空所内の円筒形
スペーサ１５３−１６２又は突起１１１に圧接する。各
々のスペーサ又は突起は、対応するタイルの面積よりも
表面積が小さい。従って、比較的柔らかいタイルのスペ
ーサ又は突起に対する圧力により、図１７及び図１８に
示すように、タイルに空所１２１が形成される。空所
は、図２０に示すように、受動性シム又は小さな永久磁
石１２２によって埋めることが出来るが、これは１９９
８年１０月２３日出願の米国特許出願第０９／１７８，
３２０号に記載されており、この米国特許出願の全体を
ここで引用によって取入れる。
【００２８】図３では、積層体の各層が積層タイル４２
の高さ又は厚さ方向に沿って積み重ねられている。しか
し、本発明の第３の実施例では、図２１に示すように、
積層体の各層９１、９２、９３及び９４が積層タイル４
２’’の幅に沿って積み重ねられ、すなわち積層され
る。積層タイル４２’’は、エポキシで結合した金属層
の厚手の積重ね体又はコイルを形成し、この積重ね体又
はコイルからタイルを切断して形成し、タイルを横に倒
すことによって作ることが出来る。
の高さ又は厚さ方向に沿って積み重ねられている。しか
し、本発明の第３の実施例では、図２１に示すように、
積層体の各層９１、９２、９３及び９４が積層タイル４
２’’の幅に沿って積み重ねられ、すなわち積層され
る。積層タイル４２’’は、エポキシで結合した金属層
の厚手の積重ね体又はコイルを形成し、この積重ね体又
はコイルからタイルを切断して形成し、タイルを横に倒
すことによって作ることが出来る。
【００２９】図２２に示すように、積層タイル４２’’
は、積層の方向が磁束の方向に対して垂直（即ち、下側
磁石７２’及び上側磁石７２の間の仮想線に対して垂
直）になるようにして、磁極片の基部５１の上に取付け
る。言い換えると、積層方向が、同心環状タイル配列体
の平面に対して平行である。この実施例の利点は、磁界
の安定性が高くなると共に、渦電流及びヒステリシス効
果が減少することである。この代りに、図２３に示すよ
うに、積層タイル４２’’を別の磁極片部材９０の縁の
上に取付けて、横方向の磁束の洩れを減らすことが出来
る。部材９０自体は、磁束の方向と平行な方向に積層さ
れた層を持つ多重積層タイル４２で構成してよい。言い
換えると、積層方向が、タイル４２’’の積層方向に対
して垂直であると共に、同心環状タイル配列体の平面に
対して垂直である。
は、積層の方向が磁束の方向に対して垂直（即ち、下側
磁石７２’及び上側磁石７２の間の仮想線に対して垂
直）になるようにして、磁極片の基部５１の上に取付け
る。言い換えると、積層方向が、同心環状タイル配列体
の平面に対して平行である。この実施例の利点は、磁界
の安定性が高くなると共に、渦電流及びヒステリシス効
果が減少することである。この代りに、図２３に示すよ
うに、積層タイル４２’’を別の磁極片部材９０の縁の
上に取付けて、横方向の磁束の洩れを減らすことが出来
る。部材９０自体は、磁束の方向と平行な方向に積層さ
れた層を持つ多重積層タイル４２で構成してよい。言い
換えると、積層方向が、タイル４２’’の積層方向に対
して垂直であると共に、同心環状タイル配列体の平面に
対して垂直である。
【００３０】本発明の第４の実施例では、その積層方向
が９０°異なる積層タイルを互いに取付けることが出来
る。このような構成は、隙間７３に於ける磁界の一様性
を改善する。例えば、積層タイル４２を積層タイル４
２’’に取付けて、図２４に示す組合せタイル９１を形
成することが出来る。この代りに、２つのタイル４
２’’を取付けて、図２５に示す組合せタイル９１’を
形成することも出来る。勿論、２つのタイル４２を、そ
の積層方向を互いに９０°傾けて取付けることも出来
る。組合せタイル９１及び９１’は、ＭＲＩ装置の隙間
７３に任意の面を向けて、磁極片の基部５１に取付ける
ことが出来る。組合せタイル９１及び９１’は、前に列
記した異なる材料で作られた個別のタイルで構成するこ
とも出来る。
が９０°異なる積層タイルを互いに取付けることが出来
る。このような構成は、隙間７３に於ける磁界の一様性
を改善する。例えば、積層タイル４２を積層タイル４
２’’に取付けて、図２４に示す組合せタイル９１を形
成することが出来る。この代りに、２つのタイル４
２’’を取付けて、図２５に示す組合せタイル９１’を
形成することも出来る。勿論、２つのタイル４２を、そ
の積層方向を互いに９０°傾けて取付けることも出来
る。組合せタイル９１及び９１’は、ＭＲＩ装置の隙間
７３に任意の面を向けて、磁極片の基部５１に取付ける
ことが出来る。組合せタイル９１及び９１’は、前に列
記した異なる材料で作られた個別のタイルで構成するこ
とも出来る。
【００３１】ＭＲＩ装置の磁極片に適した積層タイルを
説明した。しかし、積層タイル及び積層タイル製造方法
の他の使い方も、本発明の範囲内である。モールドも、
ＭＲＩ装置の磁極片以外の用途に対する一体の本体を製
造する為に使うことが出来る。更に、用途によっては、
台形のタイルの代りに積層バーを使うのが有利であるこ
とがある。この場合、積層バーは、本発明でいう「積層
タイル」と見なすことが出来る。
説明した。しかし、積層タイル及び積層タイル製造方法
の他の使い方も、本発明の範囲内である。モールドも、
ＭＲＩ装置の磁極片以外の用途に対する一体の本体を製
造する為に使うことが出来る。更に、用途によっては、
台形のタイルの代りに積層バーを使うのが有利であるこ
とがある。この場合、積層バーは、本発明でいう「積層
タイル」と見なすことが出来る。
【００３２】本発明を特定の実施例について詳しく説明
したが、当業者には、本発明の範囲を逸脱せずに、この
実施例に種々の変更を加えることが出来ることは明らか
であろう。
したが、当業者には、本発明の範囲を逸脱せずに、この
実施例に種々の変更を加えることが出来ることは明らか
であろう。
【図１】従来の磁極片の平面図である。
【図２】図１の線Ｘ−Ｘ’で切った従来の磁極片の側面
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明の第１の実施例による積層タイル装置の
斜視図である。
斜視図である。
【図４】本発明の第１の実施例による積層タイル装置の
平面図である。
平面図である。
【図５】本発明の第１の実施例による積層タイル装置を
図４の線Ｃ−Ｃで切った側面断面図である。
図４の線Ｃ−Ｃで切った側面断面図である。
【図６】ＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図７】ＭＲＩ装置の側面断面図である。
【図８】本発明によるモールドの平面図である。
【図９】図８の線Ａ−Ａで切ったモールドの側面断面図
である。
である。
【図１０】磁極片及びモールド空所面の輪郭の略図であ
る。
る。
【図１１】本発明の別の実施例によるモールドの側面断
面図である。
面図である。
【図１２】本発明による積層タイルを埋めたモールドの
側面断面図である。
側面断面図である。
【図１３】図２の一部分の拡大側面断面図である。
【図１４】本発明の別の実施例による積層タイルの側面
断面図である。
断面図である。
【図１５】本発明による積層タイル磁極片の側面断面図
である。
である。
【図１６】図１５の一部分の拡大側面断面図である。
【図１７】本発明の第２の実施例による積層タイル装置
の平面図である。
の平面図である。
【図１８】図７の一部分の側面断面図である。
【図１９】本発明の第２の実施例による積層タイルの平
面図である。
面図である。
【図２０】本発明の第２の実施例による積層タイルの側
面断面図である。
面断面図である。
【図２１】本発明の第３の実施例による積層タイルの斜
視図である。
視図である。
【図２２】本発明の第３の実施例によるＭＲＩ装置の側
面断面図である。
面断面図である。
【図２３】本発明の第３の実施例によるＭＲＩ装置の側
面断面図である。
面断面図である。
【図２４】本発明の第４の実施例による積層タイルの斜
視図である。
視図である。
【図２５】本発明の第４の実施例による積層タイルの斜
視図である。
視図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウィリアム・ダニエル・バーバー アメリカ合衆国、ニューヨーク州、クリフ トン・パーク、ブルー・スプルース・レー ン、36番 (72)発明者 ジョハネス・マーティナス・ヴァンオート アメリカ合衆国、ニューヨーク州、ニスカ ユナ、リヴァー・ロード、2432番 (72)発明者 バレント・アクセル アメリカ合衆国、ニューヨーク州、クリフ トン・パーク、ラファエル、７番 (72)発明者 ポール・シャドフォース・トムソン アメリカ合衆国、ニューヨーク州、スティ ーブンタウン、ボックス61、エイチシーア ール１、ティンレイ・ロード (72)発明者 ミシェル・オーグル アメリカ合衆国、ニューヨーク州、バーン ト・ヒルズ、ジェンキンス・ロード、84番
Claims (30)
- 【請求項１】 複数個の同心環状配列体を成すように配
置された複数個の台形又は環状扇形のタイルを有するこ
とを特徴とする、磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置
用の磁極片。 - 【請求項２】 前記タイルが積層した複数個の層で構成
されている請求項１記載の磁極片。 - 【請求項３】 前記複数個の同心環状配列体のうちの第
１の同心環状配列体の高さが第２の同心環状配列体の高
さよりも高い請求項１記載の磁極片。 - 【請求項４】 前記複数個の同心環状配列体の表面輪郭
が、非一様なモールド空所面とは略逆である請求項３記
載の磁極片。 - 【請求項５】 前記複数個の同心環状配列体が一体のタ
イル本体を構成している請求項１記載の磁極片。 - 【請求項６】 １つのタイルが別のタイルから接着剤層
によって隔てられている請求項１記載の磁極片。 - 【請求項７】 前記タイルの層の積層方向が各々の同心
環状配列体の平面と平行である請求項２記載の磁極片。 - 【請求項８】 前記タイルの層の積層方向が各々の同心
環状配列体の平面に対して垂直である請求項２記載の磁
極片。 - 【請求項９】 更に、積層した複数個の層を含む第１の
タイルが積層した複数個の層を含む第２のタイルの上に
取付けられて組合せ積層タイルを形成している請求項２
記載の磁極片。 - 【請求項１０】 前記第１のタイルの層の積層方向が、
前記第２のタイルの層の積層方向に対して垂直である請
求項９記載の磁極片。 - 【請求項１１】 少なくとも１つのタイルがタイル面に
空所を持っている請求項１記載の磁極片。 - 【請求項１２】 少なくとも１つの空所がシム又は補助
磁石によって埋められている請求項１１記載の磁極片。 - 【請求項１３】 更に、ヨークと、第１の側面が前記ヨ
ークの第１の部分に取付けられ、第２の側面が積層タイ
ル磁極片に取付けられた第１の磁石と、前記ヨークの第
２の部分に取付けられた第２の磁石と、該第２の磁石に
取付けられて、前記積層タイル磁極片の方を向いた複数
個の第２のタイルで構成される第２の磁極片と、を有す
る請求項１記載の磁極片。 - 【請求項１４】 磁極片を作る方法に於て、 複数個のタイルをモールド空所の中に配置する工程と、 前記モールド空所を接着剤物質で埋めて前記複数個のタ
イルを結合することにより一体の本体を形成する工程
と、 前記一体の本体をモールド空所から取出す工程と、 前記一体の本体の第２の面を磁極片の基部に取付けるこ
とにより第１の磁極片を形成する工程と、を含んでいる
前記方法。 - 【請求項１５】 前記モールドが非一様な空所面輪郭を
持ち、前記一体の本体の第１の面が前記非一様なモール
ド空所面とは略逆の輪郭を形成している請求項１４記載
の方法。 - 【請求項１６】 更に、前記第１の磁極片を第１の磁石
の第１の面に取付ける工程と、 前記第１の磁石の第２の面をヨークの第１の部分に取付
ける工程と、 第２の磁石の第２の面を前記ヨークの第２の部分に取付
ける工程と、 第２の磁極片を前記第２の磁石の第１の面に取付ける工
程と、を含んでいる請求項１５記載の方法。 - 【請求項１７】 更に、前記第１の磁石及び前記第２の
磁石の間の磁束密度のシミュレーションを実施する工程
と、 前記第１の磁石及び前記第２の磁石の間の磁束密度の最
適値に基づいて、前記磁極片の第１の面の最適輪郭を決
定する工程と、 前記モールド空所面の輪郭を前記磁極片の第１の面の輪
郭とは略逆に形成する工程と、を含んでいる請求項１６
記載の方法。 - 【請求項１８】 前記非一様なモールド空所面が高さの
異なる複数個のスペーサを持ち、該スペーサの上面が非
一様なモールド空所面の輪郭を形成している請求項１７
記載の方法。 - 【請求項１９】 前記スペーサが円筒形スペーサで構成
される請求項１８記載の方法。 - 【請求項２０】 更に、前記一体の本体を前記スペーサ
に圧接する工程と、前記一体の本体に複数個の空所を形
成する工程とを含んでいる請求項１８記載の方法。 - 【請求項２１】 更に、前記タイルをモールド内に同心
環状配列体として配置する工程を含んでいる請求項１４
記載の方法。 - 【請求項２２】 前記タイルが積層タイルで構成されて
いる請求項２１記載の方法。 - 【請求項２３】 更に、前記モールドを接着剤で埋める
前に、前記モールドを覆い板で覆う工程を含んでいる請
求項１４記載の方法。 - 【請求項２４】 更に、前記モールドを前記覆い板で覆
う前に、タイルの上面がモールドの頂部と略同一面にな
るまで、複数個のタイルを前記モールドの中に配置する
工程を含んでいる請求項２３記載の方法。 - 【請求項２５】 更に、接着テープの第１の面を第１の
タイルの一部分と接触するように配置する工程と、前記
接着テープの第２の面をモールド空所面と接触するよう
に配置する工程とを含んでいる請求項１４記載の方法。 - 【請求項２６】 前記接着剤物質がエポキシで構成され
る請求項１４記載の方法。 - 【請求項２７】 ＭＲＩ装置用の積層タイル磁極片を形
成する為の非一様な空所面を持つモールドであって、 ＭＲＩ装置の第１の磁石とＭＲＩ装置の第２の磁石との
間の磁束密度のシミュレーションを実施し、前記の第１
の磁石と第２の磁石との間の磁束密度の最適値に基づい
て、磁極片の第１の面の最適輪郭を決定し、前記磁極片
の第１の面の最適輪郭とは略逆の形にモールド空所面の
輪郭を形成する方法によって作られていることを特徴と
するモールド。 - 【請求項２８】 前記非一様な空所面が非一様な高さを
持つ複数個の円筒形スペーサで構成されている請求項２
７記載のモールド。 - 【請求項２９】 ＭＲＩ装置の積層タイル磁極片を形成
する為の、非一様な空所面を持つモールドを作る方法に
於て、 ＭＲＩ装置の第１の磁石とＭＲＩ装置の第２の磁石との
間の磁束密度のシミュレーションを実施する工程と、 前記の第１の磁石と第２の磁石との間の磁束密度の最適
値に基づいて、磁極片の第１の面の最適輪郭を決定する
工程と、 前記磁極片の第１の面の最適輪郭とは略逆の形にモール
ド空所面の輪郭を形成する工程と、を含んでいる、モー
ルドを形成する方法。 - 【請求項３０】 前記モールドの底面を形成すること
が、非一様な高さを持つ複数個の円筒形スペーサをモー
ルドの中に配置することを含んでいる請求項２９記載の
方法。
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