JP2000155239A - 光ファイバアレイ - Google Patents

光ファイバアレイ

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JP2000155239A
JP2000155239A JP10329725A JP32972598A JP2000155239A JP 2000155239 A JP2000155239 A JP 2000155239A JP 10329725 A JP10329725 A JP 10329725A JP 32972598 A JP32972598 A JP 32972598A JP 2000155239 A JP2000155239 A JP 2000155239A
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groove
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fiber
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Takenori Ichiki
武典 一木
Jungo Kondo
順悟 近藤
Yoshiatsu Nakasuji
善淳 中筋
Eiji Kitagami
英司 北上
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NGK Insulators Ltd
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    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造時に光ファイバに傷が生じていたとして
も、その傷の発生部分には応力が集中せず、光ファイバ
が容易に破断しないような構造を有する光ファイバアレ
イを提供する。 【解決手段】 光ファイバ1先端の芯線部2を収容する
ためのV溝6が形成されたV溝形成部9と、被覆部3を
収容するための下側被覆収容部7とを有するV溝基板5
に、光ファイバ1を載置し、V溝形成部9及びそのV溝
6に収容された芯線部2の上面を覆う芯線保護部10
と、被覆部3を収容するための上側被覆収容部8とを有
する蓋基板4を、V溝基板5に被せ、これらの間隙に樹
脂を充填して硬化させ一体化してなる光ファイバアレイ
である。蓋基板4の芯線保護部10は、その先端部分に
芯線部2と直接接触するファイバ接触部位10aを有す
るとともに、当該部位以外は芯線部2と離間したファイ
バ非接触部位10bとなっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は、光ファイバ先端
の芯線部を基板に固定して形成される光ファイバアレイ
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】 一般に、光ファイバアレイは、図7の
ように、V溝26が形成されたV溝基板25と、そのV
溝基板25に対して一体化される蓋基板24とを備え、
V溝基板25のV溝26上に、光ファイバ21先端の被
覆を除去した芯線部22を載置し、蓋基板24にてV溝
基板25の上面より芯線部22をV溝26に押しつけて
固定する構造を有する。
【0003】 V溝基板25は、光ファイバ21先端の
被覆を除去した芯線部22を収容するためのV溝26が
形成されたV溝形成部29と、光ファイバ21の被覆が
施された被覆部23を収容するためのV溝形成部29に
対して深く掘り下げられた下側被覆収容部27とを有す
る。また、蓋基板24は、V溝基板25のV溝形成部2
9及びそのV溝26に収容された光ファイバの芯線部2
2の上面を覆う芯線保護部30と、光ファイバの被覆部
23を収容するための芯線保護部30に対して深く掘り
下げられた上側被覆収容部28とを有する。
【0004】 V溝基板25及び蓋基板24には、光フ
ァイバ21の位置精度を確保するため、ガラス、シリコ
ン等の硬く変形しにくい材料が用いられる。V溝基板2
5と光ファイバ21と蓋基板24とは、これらを組み合
わせた状態で、その間隙に樹脂(図示せず)を充填して
硬化させることにより一体的に固着される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】 ところで、従来の光
ファイバアレイにおいては、図8に示すように、V溝形
成部29から下側被覆収容部27へと移行する下側ザグ
リ開始点P1のほぼ垂直方向(基板厚さ方向)上方に、
芯線保護部30から上側被覆収容部28へと移行する上
側ザグリ開始点P2が存在するような構造になってい
る。このような構造の光ファイバアレイは、樹脂の熱膨
張や熱収縮による応力や外部から光ファイバに加わる引
張り応力が、芯線部22のこれら下側ザグリ開始点P1
と上側ザグリ開始点P2に挟まれる部分に集中しやす
い。
【0006】 また、光ファイバアレイの製造時におい
て、蓋基板24にて芯線部22をV溝26に押しつける
際には、上側ザグリ開始点P2のエッジ部分によって芯
線部22に傷をつけやすいが、この傷の発生部分は前記
の応力が集中する部分と一致するので、ファイバの引張
りや熱サイクルにて、その傷よりクラックが伸展し、容
易にファイバが破断するおそれがあった。更に、この破
断強度は前記の傷の大小によって大きな影響を受けるの
で、破断強度のバラツキが大きく、品質を安定させるこ
とが困難であった。
【0007】 本発明は、このような従来の事情に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、光フ
ァイバアレイ製造時に光ファイバに傷が生じていたとし
てもその傷の発生部分には応力が集中せず、光ファイバ
が容易に破断しないような構造を有する光ファイバアレ
イを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】 本発明によれば、光フ
ァイバ先端の被覆を除去した芯線部を収容するためのV
溝が形成されたV溝形成部と、光ファイバの被覆が施さ
れた被覆部を収容するための前記V溝形成部に対して深
く掘り下げられた下側被覆収容部とを有するV溝基板
に、光ファイバを、当該光ファイバの芯線部が前記V溝
に収容され、被覆部が前記下側被覆収容部に収容される
ように載置し、前記V溝形成部及びそのV溝に収容され
た光ファイバの芯線部の上面を覆う芯線保護部と、光フ
ァイバの被覆部を収容するための前記芯線保護部に対し
て深く掘り下げられた上側被覆収容部とを有する蓋基板
を、前記V溝基板に被せて、前記V溝基板と光ファイバ
と蓋基板との間隙に樹脂を充填して硬化させ一体化して
なる光ファイバアレイであって、前記蓋基板の芯線保護
部が、その先端部分に光ファイバの芯線部と直接接触す
るファイバ接触部位を有するとともに、当該ファイバ接
触部位以外は芯線部と直接接触せず離間したファイバ非
接触部位となっていることを特徴とする光ファイバアレ
イ、が提供される。
【0009】
【発明の実施の形態】 本発明の光ファイバアレイの実
施形態を図面を参照して説明する。図1は本発明の光フ
ァイバアレイの一実施形態を示す分解斜視図、図2は断
面図である。また、図3は光ファイバの芯線部の固定状
態を示す部分断面図で、(a)は図2のI−I断面におけ
る芯線部の固定状態、(b)は図2のII−II断面における
芯線部の固定状態である。なお、これらの図において
は、説明を簡潔にするため光ファイバが1本のみ基板に
固定された光ファイバアレイの例を示しているが、本発
明の光ファイバアレイは、複数のV溝が形成されたV溝
基板を使用して、光ファイバを複数本整列固定して用い
ることも可能である。
【0010】 これらの図に示すように、本発明の光フ
ァイバアレイは、V溝基板5、蓋基板4及び光ファイバ
1によって構成される。V溝基板5は、光ファイバ1先
端の被覆を除去した芯線部2を収容するためのV溝6が
形成されたV溝形成部9と、光ファイバ1の被覆が施さ
れた被覆部3を収容するためのV溝形成部9に対して深
く掘り下げられた下側被覆収容部7とを有する。蓋基板
4は、V溝基板5のV溝形成部9及びそのV溝6に収容
された光ファイバ1の芯線部2の上面を覆う芯線保護部
10と、光ファイバ1の被覆部3を収容するための芯線
保護部10に対して深く掘り下げられた上側被覆収容部
8とを有する。
【0011】 本発明の光ファイバアレイは、光ファイ
バ1を、その先端の被覆を除去した芯線部2がV溝6に
収容され、被覆が施された被覆部3の下側約半分が下側
被覆収容部7に収容されるようにV溝基板5上に載置
し、これに、蓋基板4を、その芯線保護部10がV溝形
成部9とそのV溝6に収容された光ファイバの芯線部2
の上面を覆い、上側被覆収容部8が被覆部3の上側約半
分を収容するように被せ、この状態でV溝基板5と光フ
ァイバ1と蓋基板4との間隙に樹脂(図示せず)を充填
して硬化させ一体化することにより得られる。
【0012】 そして、本発明では、その特徴的な構造
として、蓋基板4の芯線保護部10が、その先端部分に
光ファイバ1の芯線部2と直接接触するファイバ接触部
位10aを有する。そして、芯線保護部10の当該ファ
イバ接触部位10a以外は、芯線部2と直接接触せず離
間したファイバ非接触部位10bとなっている。
【0013】 このような構造において、ファイバ接触
部位10aは、光ファイバアレイの製造時には、光ファ
イバ1の芯線部2をV溝6に押しつけて固定することに
より、光ファイバ1をV溝基板5に位置精度良く組み付
ける役割を果たす。この製造時に、芯線部2には、ファ
イバ接触部位10aとの接触によって傷が発生する可能
性があるが、その傷の発生する可能性のある部分は、芯
線部2のファイバ接触部位10aと接触する部分であ
り、芯線部2への応力が最も集中する下側ザグリ開始点
1と上側ザグリ開始点P2に挟まれる部分とは異なる位
置にある。
【0014】 したがって、たとえ蓋基板4のファイバ
接触部位10aにて芯線部2をV溝6に押しつけた際
に、芯線部2のファイバ接触部位10aとの接触部分に
傷が生じていたとしても、当該傷発生部分には従来構造
の光ファイバアレイのように応力が集中せず、当該傷か
ら容易にファイバが破断することがない。
【0015】 また、芯線部2はファイバ非接触部位1
0bとの間に充填された樹脂(図示せず)によって、光
ファイバ1延在方向の広い範囲にわたって固着されてい
るので、引張りなどの外力がファイバに加わっても、傷
が発生したファイバ接触部位10aとの接触部分にまで
は、その応力は伝播しにくい。このため、このような製
造時の傷に起因するファイバの断線が発生しにくくな
り、傷の大小による破断強度のバラツキが小さくなる。
【0016】 なお、ファイバ接触部位10aは、製造
後の光ファイバアレイにおいては、芯線部2をV溝6と
の間で挾持して、光ファイバ1に引張り応力が加わった
際の光ファイバ1の引き抜きを防止する役割も有する。
ファイバ接触部位10aの光ファイバ1延在方向におけ
る長さLは50μm以上とすることが好ましい。この長
さが50μm未満だと前記の引き抜き防止効果が低くな
る。
【0017】 上記の実施形態は、ファイバ接触部位1
0aとファイバ非接触部位10bとが段差を持って繋が
った構造を持ち、ファイバ非接触部位10bと光ファイ
バ1の芯線部2との間隔がほぼ一定となっている。この
ような構造の場合、ファイバ非接触部位10bと光ファ
イバ1の芯線部2との間隔Cは50〜300μmである
ことが好ましい。この間隔が大きくなりすぎると、ファ
イバ非接触部位10bと芯線部2との間に充填される樹
脂量が多くなって、樹脂の弾性により、芯線部2のファ
イバ接触部位10aによって固定されている部分(すな
わちファイバが傷ついている部分)に応力が伝播しやす
くなり、傷からの断線の危険性が増える。
【0018】 図4は、ファイバ非接触部位10bが、
上側被覆収容部8側からファイバ接触部位10a側に向
かって、光ファイバ1の芯線部2との間隔が狭くなって
行くようにテーパ状に形成されてた実施形態を示してい
る。この実施形態では、ファイバ接触部位10aからフ
ァイバ非接触部位10bに移行するエッジ部分が鈍角化
して、図2のような段差形状の場合に比べ、芯線部2を
傷つけにくくなる。
【0019】 本発明では、図5に示すように、光ファ
イバ1延在方向に沿って切断した縦断面において、V溝
形成部9から下側被覆収容部7へと移行する下側ザグリ
開始点P1の垂直方向(基板厚さ方向)上方にある光フ
ァイバ1の芯線部2の頂部の点Qを中心とした半径Rが
50μmの範囲内に蓋基板4のいかなる部位も存在しな
いようにすることが好ましい。蓋基板4のファイバ接触
部位10aなどが少なくともこの範囲内に存在しないよ
うにすることによって、前記した芯線部2の傷発生部分
と応力集中部分の位置を適度にずらし、傷発生部分への
応力の集中を効果的に防止することができる。
【0020】 本発明において、V溝基板及び蓋基板の
材質としては、光ファイバの位置精度を確保するため、
従来の光ファイバアレイと同様にガラス、シリコン等の
硬く変形しにくい材料を用いることが好ましい。また、
V溝基板と光ファイバと蓋基板との間隙に充填して、こ
れらを一体的に固着する樹脂としては、樹脂系接着剤が
好適に用いられる。この樹脂系接着剤の種類は特に限定
されないが、光ファイバを傷つけず、かつ硬化後に光フ
ァイバの芯線部をV溝中に保持するに十分な硬度を持つ
ことが要求されることから、熱膨張係数が低く、かつ硬
度がショアD80程度のものが好ましい。具体的にはエ
ポキシ系接着剤などが挙げられる。
【0021】
【実施例】 以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【0022】 本発明の一実施形態である図2に示すよ
うな構造を有する光ファイバアレイと、従来品である図
7に示すような構造の光ファイバアレイとを各々複数個
作製した。V溝基板及び蓋基板の材質はどちらもガラス
とし、外形寸法も同一とした。また、光ファイバとV溝
基板と蓋基板とを一体化するための樹脂には、変性エポ
キシ樹脂を用いた。なお、図2に示す構造の光ファイバ
アレイ(本発明品)については、ファイバ接触部位の光
ファイバ延在方向における長さLを0.5mmとし、芯
線部とファイバ非接触部位との間隔Cは50μmとし
た。
【0023】 これらの光ファイバアレイについて、基
板部分を固定した状態で、光ファイバに引張り応力を加
え、光ファイバが破断(断線)するときの引張り強度
(引張り断線強度)を測定する引張り試験を実施した。
この試験結果に基づいて、縦軸に破断確率、横軸に引張
り断線強度をプロットしたワイブルプロットを作成し、
図6に示した。この図より、本発明品は、従来品に比
べ、低い引張り応力で容易に破断するものが少なく、ま
た、強度のバラツキも小さいことがわかる。
【0024】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明の光ファ
イバアレイは、その製造時において、光ファイバの蓋基
板との接触部分に傷が生じていたとしても、その傷発生
部分には応力が集中せず、光ファイバが容易に破断しな
い。また、ファイバの破断強度のバラツキが小さく、品
質が安定している。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の光ファイバアレイの一実施形態を示
す分解斜視図である。
【図2】 本発明の光ファイバアレイの一実施形態を示
す断面図である。
【図3】 光ファイバの芯線部の固定状態を示す部分断
面図で、(a)は図2のI−I断面における芯線部の固定
状態、(b)は図2のII−II断面における芯線部の固定状
態である。
【図4】 本発明の光ファイバアレイの他の実施形態を
示す断面図である。
【図5】 本発明の光ファイバアレイの好ましい態様を
示す要部拡大断面図である。
【図6】 実施例における引張り試験の結果に基づいて
作成したワイブルプロットである。
【図7】 従来の光ファイバアレイを示す断面図であ
る。
【図8】 図7の要部拡大断面図である。
【符号の説明】
1…光ファイバ、2…芯線部、3…被覆部、4…蓋基
板、5…V溝基板、6…V溝、7…下側被覆収容部、8
…上側被覆収容部、9…V溝形成部、10…芯線保護
部、10a…ファイバ接触部位、10b…ファイバ非接
触部位。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中筋 善淳 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 (72)発明者 北上 英司 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 日 本碍子株式会社内 Fターム(参考) 2H036 JA02 LA03 LA06 LA08

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ先端の被覆を除去した芯線部
    を収容するためのV溝が形成されたV溝形成部と、光フ
    ァイバの被覆が施された被覆部を収容するための前記V
    溝形成部に対して深く掘り下げられた下側被覆収容部と
    を有するV溝基板に、光ファイバを、当該光ファイバの
    芯線部が前記V溝に収容され、被覆部が前記下側被覆収
    容部に収容されるように載置し、前記V溝形成部及びそ
    のV溝に収容された光ファイバの芯線部の上面を覆う芯
    線保護部と、光ファイバの被覆部を収容するための前記
    芯線保護部に対して深く掘り下げられた上側被覆収容部
    とを有する蓋基板を、前記V溝基板に被せて、前記V溝
    基板と光ファイバと蓋基板との間隙に樹脂を充填して硬
    化させ一体化してなる光ファイバアレイであって、 前記蓋基板の芯線保護部が、その先端部分に光ファイバ
    の芯線部と直接接触するファイバ接触部位を有するとと
    もに、当該ファイバ接触部位以外は芯線部と直接接触せ
    ず離間したファイバ非接触部位となっていることを特徴
    とする光ファイバアレイ。
  2. 【請求項2】 前記ファイバ接触部位の光ファイバ延在
    方向における長さが50μm以上である請求項1記載の
    光ファイバアレイ。
  3. 【請求項3】 前記ファイバ接触部位とファイバ非接触
    部位とが段差を持って繋がる請求項1記載の光ファイバ
    アレイ。
  4. 【請求項4】 前記ファイバ非接触部位と光ファイバの
    芯線部との間隔がほぼ一定で、その間隔が50〜300
    μmである請求項3記載の光ファイバアレイ。
  5. 【請求項5】 前記ファイバ非接触部位が、上側被覆収
    容部側からファイバ接触部位側に向かって、光ファイバ
    の芯線部との間隔が狭くなって行くようにテーパ状に形
    成されている請求項1記載の光ファイバアレイ。
  6. 【請求項6】 光ファイバ延在方向に沿って切断した縦
    断面において、V溝形成部から下側被覆収容部へと移行
    する下側ザグリ開始点の垂直方向(基板厚さ方向)上方
    にある光ファイバの芯線部の頂部の点を中心とした半径
    50μmの範囲内に蓋基板のいかなる部位も存在しない
    請求項1記載の光ファイバアレイ。
JP10329725A 1998-11-19 1998-11-19 光ファイバアレイ Withdrawn JP2000155239A (ja)

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