JP2000150619A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2000150619A5 JP2000150619A5 JP1999367782A JP36778299A JP2000150619A5 JP 2000150619 A5 JP2000150619 A5 JP 2000150619A5 JP 1999367782 A JP1999367782 A JP 1999367782A JP 36778299 A JP36778299 A JP 36778299A JP 2000150619 A5 JP2000150619 A5 JP 2000150619A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer
- substrate
- main frame
- processing
- slot
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 9
Claims (2)
- メインフレームに同一の処理を並列的に行う複数の処理室から成る処理室群を複数連接し、これら処理室に対する基板の搬送処理をメインフレーム内に設けた同一の搬送装置によって行うとともに、メインフレームの外部に設けた他の搬送装置により当該メインフレーム内に処理対象の基板を搬入する基板処理装置において、
前記他の搬送装置がタクトタイムに従った一定の時間間隔でメインフレーム内へ処理対象の基板を搬入することを特徴とする基板処理装置。 - 請求項１に記載の基板処理装置において、メインフレーム内に設けた前記搬送装置によって１回の搬送処理を行うための一定時間を搬送スロットとして設定し、各処理室群に対する基板搬送処理にそれぞれ搬送スロットを割り当てて１タクトタイム内における搬送処理スケジュールをコントローラに設定し、
当該コントローラが当該搬送スケジュールに従って搬送スロットと同期をとって当該メインフレーム内搬送装置により処理室に対する基板の搬送処理を行わせることを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36778299A JP2000150619A (ja) | 1999-01-01 | 1999-12-24 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36778299A JP2000150619A (ja) | 1999-01-01 | 1999-12-24 | 基板処理装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21033298A Division JP3193904B2 (ja) | 1997-08-01 | 1998-07-09 | 基板搬送制御方法及び基板製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000150619A JP2000150619A (ja) | 2000-05-30 |
| JP2000150619A5 true JP2000150619A5 (ja) | 2005-05-19 |
Family
ID=18490184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36778299A Pending JP2000150619A (ja) | 1999-01-01 | 1999-12-24 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000150619A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4353903B2 (ja) | 2005-01-07 | 2009-10-28 | 東京エレクトロン株式会社 | クラスタツールの処理システム |
| TW200908363A (en) * | 2007-07-24 | 2009-02-16 | Applied Materials Inc | Apparatuses and methods of substrate temperature control during thin film solar manufacturing |
| US8731706B2 (en) * | 2008-09-12 | 2014-05-20 | Hitachi High-Technologies Corporation | Vacuum processing apparatus |
| KR101005882B1 (ko) | 2008-10-14 | 2011-01-06 | 세메스 주식회사 | 반도체 제조 설비 및 이의 제어 방법 |
| US11164766B2 (en) * | 2019-02-07 | 2021-11-02 | Hitachi High-Tech Corporation | Operating method of vacuum processing apparatus |
| JP7324811B2 (ja) * | 2021-09-22 | 2023-08-10 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、及びプログラム |
-
1999
- 1999-12-24 JP JP36778299A patent/JP2000150619A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2000062182A3 (en) | Parallel data processing apparatus | |
| TWI256686B (en) | Substrate reversing device, substrate transporting device, substrate processing device, substrate reversing method, substrate transporting method and substrate processing method | |
| TW357414B (en) | Method and apparatus for heat-treating substrates | |
| TW201130074A (en) | Process module, substrate processing apparatus, and method of transferring substrate | |
| CA2283185A1 (en) | Assay device processing instrument | |
| KR940017985A (ko) | 기판처리장치와 기판처리장치에 있어서 기판교환장치 및 기판교환방법 | |
| EP1094501A3 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
| TW200943464A (en) | Substrate treating apparatus | |
| AU2003294674A1 (en) | Device and method for transporting wafer-shaped articles | |
| TW200710253A (en) | Integrated metrology tools for monitoring and controlling large area substrate processing chambers | |
| TW200519010A (en) | Inline transfer system and method | |
| EP1780784A3 (en) | Batch forming apparatus, substrate processing system, batch forming method, and storage medium | |
| ATE308798T1 (de) | Vorrichtung zur scheibenbehandlung | |
| WO2009072426A1 (ja) | 真空処理装置及び基板処理方法 | |
| CA2418344A1 (en) | Method and apparatus for changing the orientation of workpieces about an angled axis for a decorator | |
| JP2000150619A5 (ja) | ||
| TW200508140A (en) | Method and apparatus for vertical transfer of semiconductor substrates between cleaning modules | |
| DE59702477D1 (de) | Anordnung zum stapeln von platten | |
| TWI259825B (en) | Docking-type system and method for transferring and treating substrate | |
| TW200707620A (en) | Distributed control sheet transfer system | |
| JP2002110040A5 (ja) | ||
| JP2002299315A5 (ja) | ||
| MXPA01002498A (es) | Maquina para la elaboracion de objetos de vidrio hueco. | |
| ES464355A1 (es) | Perfeccionamientos en dispositivos transportadores rotato- rios para articulos cilindricos acoplados. | |
| JPS5223140A (en) | Method for the simultaneous coating of both sides of plates |