JP2000133944A - Manufacture of laminated wiring board and wiring board with bump - Google Patents

Manufacture of laminated wiring board and wiring board with bump

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JP2000133944A
JP2000133944A JP30112798A JP30112798A JP2000133944A JP 2000133944 A JP2000133944 A JP 2000133944A JP 30112798 A JP30112798 A JP 30112798A JP 30112798 A JP30112798 A JP 30112798A JP 2000133944 A JP2000133944 A JP 2000133944A
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Japan
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wiring board
wiring
laminated
metal piece
manufacturing
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JP30112798A
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Japanese (ja)
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Satoshi Chinda
聡 珍田
Osamu Yoshioka
修 吉岡
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method suitable for effectively manufacturing a fine laminated wiring board and a wiring board with bumps of high density. SOLUTION: A wiring pattern 6 is formed on either of two wiring boards 11 that are laminated together, metal foil pieces 15 blanked out of a low-melting metal foil 14 by a punching machine 12 are temporarily fixed at prescribed positions on the wiring pattern 6, and the metal foil pieces 15 are melted by heating into spherical bodies 16 due to surface tension when they are melted. After the spherical bodies 16 are cooled down, an adhesive layer 17 is formed on the wiring pattern 6, the other wiring board 11 is laminated thereon, and the wiring boards 11 and 11' are thermocompressed into a laminate of integral structure. As a result, the wiring boards 11 and 11' are formed into a laminate of integral structure where the wiring patterns 6 and 10' are electrically connected together through the spherical bodies 16, whereby a prescribed laminated wiring board can be obtained. If manufacturing processes are finished at a stage where the spherical bodies 16 are formed, a wiring board with bumps where the spherical bodies 16 serve as electrode bumps can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、積層配線板および
バンプ付き配線板の製造方法に関し、特に、微細な配線
構造を有した積層配線板とバンプ付き配線板の製造方法
に関する。
The present invention relates to a method of manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps, and more particularly to a method of manufacturing a laminated wiring board having a fine wiring structure and a wiring board with bumps.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の積層配線板として、たとえば、ガ
ラス繊維で補強したエポキシ樹脂等の硬質基板をベース
にした配線板と、ポリイミドフィルム等の可橈性に富む
フィルム状物を基材とした配線板が知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional laminated wiring board, for example, a wiring board based on a hard substrate such as an epoxy resin reinforced with glass fiber and a highly flexible film-like material such as a polyimide film are used as base materials. Wiring boards are known.

【0003】前者の積層配線板における積層間の電気的
導通方法としては、ドリルでの孔あけに基づくものが一
般的であり、一方、後者においては、レーザによる孔あ
けに基づく方法が採用されている。いずれの場合にも、
形成された孔の内部にはメッキ膜が形成され、これによ
って積層された配線板の配線パターン間が電気的に導通
される。
In the former method, electrical conduction between layers in a laminated wiring board is generally based on drilling. On the other hand, the latter method is based on laser drilling. I have. In each case,
A plating film is formed inside the formed hole, and thereby electrically connects the wiring patterns of the stacked wiring boards.

【0004】しかし、これらの方法によると、たとえ
ば、前者の場合、ドリルによって形成できる最小孔径は
0.1mmが限界であり、従って、細密性に劣ることか
ら、この方法によって最近の積層配線板の高密度化に対
処することは難しい。また、ドリルによる孔あけは、孔
の位置精度の確保が難しいとともに、加工残渣を生成さ
せる難点も有している。
However, according to these methods, for example, in the former case, the minimum hole diameter that can be formed by a drill is limited to 0.1 mm, and therefore, it is inferior in fineness. It is difficult to deal with higher densities. Also, drilling with a drill has difficulties in securing the positional accuracy of the holes, and also has the disadvantage of generating machining residues.

【0005】後者のレーザによる孔あけは、精密加工が
可能であり、従って、積層配線板の高密度化の要求には
対処できるけれども、レーザ加工特有の難点がある。レ
ーザによる孔加工は、レーザ加工機が高価なうえに加工
効率が悪く、しかも、レーザ加工部分に基材の蒸発に伴
う残渣を生成させる性質があり、このため、その後のメ
ッキ膜形成に悪影響を及ぼす傾向が強い。
[0005] The latter laser drilling enables precision processing, and thus can cope with the demand for higher density of the laminated wiring board, but has a unique disadvantage of laser processing. Laser drilling is expensive in laser processing machines, has poor processing efficiency, and has the property of generating residues due to evaporation of the base material in the laser-processed portion, which adversely affects subsequent plating film formation. Strong tendency to exert.

【0006】また、レーザ加工による方法の場合には、
レーザ加工の対象となるフィルム(多くの場合ポリイミ
ドフィルム)が不活性であることから、孔へのメッキ膜
形成を困難にする側面があり、このため、特殊なメッキ
装置が必要となるので、このことによる経済的負担も無
視できない。
In the case of a method using laser processing,
Since the film to be subjected to laser processing (in many cases, a polyimide film) is inactive, there is a side surface that makes it difficult to form a plating film on the holes. Therefore, a special plating apparatus is required. The financial burden of this cannot be ignored.

【0007】さらに、これら従来の方法によると、硬質
積層板および可橈性積層板に共通する問題として、メッ
キ処理の問題がある。一般に、孔へのメッキ膜の形成
は、無電解銅メッキによって行われるが、このメッキ処
理に使用されるメッキ液には、健康に影響を与える恐れ
のあるホルマリンが含まれている。
Further, according to these conventional methods, there is a problem of plating treatment as a problem common to the hard laminate and the flexible laminate. Generally, the formation of a plating film in a hole is performed by electroless copper plating, and the plating solution used for this plating treatment contains formalin which may affect health.

【0008】このため、この問題を解決する方法とし
て、無電解メッキ処理を必要としない銀ペーストによる
導通法が提案されている。積層される配線板のうちの一
方の側の配線板の配線パターンの所定の個所に印刷によ
って銀ペーストを盛り上げ、次に、これに、所定の個所
に孔を形成した薄い絶縁板を介して他方の側の配線板を
積層した後、加圧することによって孔を銀ペーストで充
満させるとともに、充満させた銀ペーストによって配線
パターン間を導通するもので、無電解銅メッキ処理を必
要としない方法として有望視されている。
Therefore, as a method for solving this problem, a conduction method using a silver paste which does not require electroless plating has been proposed. The silver paste is raised by printing at a predetermined position of the wiring pattern of the wiring board on one side of the wiring boards to be laminated, and then the other is passed through a thin insulating plate having holes formed at the predetermined position. The hole is filled with silver paste by laminating the wiring board on the side of, and the filled silver paste is used to conduct between the wiring patterns, promising as a method that does not require electroless copper plating treatment Have been watched.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、この銀ペース
トを使用する方法によると、配線パターン上に充分な量
の銀ペーストを盛り上げるためには、印刷を4、5回繰
り返す必要があることから作業効率が悪く、また、印刷
マスクを使用する関係から細密性に限界があるととも
に、絶縁板に形成された孔の貫通性が不完全な場合には
導通不良を招くことがある。
However, according to the method using this silver paste, it is necessary to repeat printing four or five times in order to build up a sufficient amount of silver paste on the wiring pattern. Efficiency is poor, and there is a limit to the fineness due to the use of a print mask, and poor conduction of holes formed in the insulating plate may lead to poor conduction.

【0010】さらに、これらに加えて、印刷の位置ず
れ、レジストの粘度上昇等による印刷精度の変動、ある
いは銀ペーストの盛り上げ度合のバラツキなど解決を要
する課題が多く、実用性の観点からすると未だ充分とは
言えない。
Further, in addition to these, there are many problems that need to be solved, such as printing misregistration, fluctuations in printing accuracy due to an increase in the viscosity of the resist, and variations in the degree of swelling of the silver paste. It can not be said.

【0011】従って、本発明の目的は、細密性と作業性
に優れ、レーザ加工機のような高価な設備を必要とせ
ず、また、銀ペースト印刷方式のような不安定要因がな
く、さらに、配線パターン間を導通させるのに無電解銅
メッキ処理を必要としない積層配線板の製造方法を提供
することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide excellent fineness and workability, do not require expensive equipment such as a laser processing machine, and have no instability factors such as a silver paste printing method. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a laminated wiring board which does not require electroless copper plating to conduct between wiring patterns.

【0012】また、本発明の他の目的は、細密性を有す
る積層配線板を効率よく製造するのに適し、さらに、プ
リント基板等の他の配線板、あるいは半導体チップ等の
他の電気用部品との接合に使用して好適な高密度バンプ
付き配線板の製造方法を提供することにある。
Another object of the present invention is to efficiently manufacture a laminated wiring board having fineness, and further to another wiring board such as a printed board, or another electric component such as a semiconductor chip. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a wiring board with a high-density bump suitable for use in bonding with a wiring board.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するため、表面に所定の配線パターンを形成した複
数の配線板を積層し、前記複数の配線板の前記配線パタ
ーンの間を電気的に導通させた積層配線板を製造する積
層配線板の製造方法において、前記複数の配線板のいず
れかの側の配線板の前記配線パターンの所定の個所に金
属片を供給し、前記金属片を加熱溶融することによっ
て、前記いずれかの側の配線板の前記配線パターンの上
に加熱溶融時の表面張力を利用した前記金属片に基づく
球状物を生成させ、前記球状物が冷却固化した後、前記
複数の配線板の一方の側の前記配線板の配線パターンの
上に接着層を形成し、前記接着層の上に前記複数の配線
板の他方の側の配線板を載せて加圧することにより、前
記一方の側の配線板と前記他方の側の配線板の配線パタ
ーン間を前記球状物を介して電気的に導通させることを
特徴とする積層配線板の製造方法を提供するものであ
る。
According to the present invention, in order to achieve the above object, a plurality of wiring boards having a predetermined wiring pattern formed on a surface thereof are laminated, and a space between the wiring patterns of the plurality of wiring boards is provided. In a method of manufacturing a multilayer wiring board for manufacturing a multilayer wiring board that is electrically conducted, a metal piece is supplied to a predetermined portion of the wiring pattern of the wiring board on either side of the plurality of wiring boards, and By heating and melting the piece, a sphere based on the metal piece utilizing surface tension at the time of heating and melting was generated on the wiring pattern of the wiring board on either side, and the sphere was cooled and solidified. Thereafter, an adhesive layer is formed on a wiring pattern of the wiring board on one side of the plurality of wiring boards, and a wiring board on the other side of the plurality of wiring boards is placed on the adhesive layer and pressed. By doing so, the one side of the wiring board There is provided a method for manufacturing a laminated wiring board, wherein the inter-wiring pattern of a wiring board of the other side be electrically conducted through the spheroids.

【0014】また、本発明は、上記の目的を達成するた
め、配線板の配線パターン上に、他の配線板の配線パタ
ーンあるいは半導体チップ等の他の電気用部品と接合さ
れる球状バンプを有するバンプ付き配線板を製造するバ
ンプ付き配線板の製造方法において、前記配線板の前記
配線パターンの所定の個所に低融点金属金属片を供給
し、前記低融点金属片を加熱溶融してその表面張力に基
づいて前記球状バンプにすることを特徴とするバンプ付
き配線板の製造方法を提供するものである。
Further, in order to achieve the above object, the present invention has a spherical bump on a wiring pattern of a wiring board which is joined to another wiring board or another electric component such as a semiconductor chip. In the method of manufacturing a wiring board with bumps for manufacturing a wiring board with bumps, a low-melting metal piece is supplied to a predetermined portion of the wiring pattern of the wiring board, and the low-melting metal piece is heated and melted to obtain a surface tension. The present invention provides a method for manufacturing a wiring board with bumps, characterized in that the spherical bump is formed on the basis of the above.

【0015】上記の配線板としては、たとえば、ガラス
繊維で補強されたエポキシ樹脂等の合成樹脂板の表面
に、銅、銅合金の箔をラミネートし、この箔にエッチン
グ加工を施すことによって所定の配線パターンを形成し
た硬質配線板、あるいはポリイミドフィルム等の絶縁フ
ィルムの表面に同様にして配線パターンを形成した可橈
性を有するフィルム状配線板などが使用される。
As the above-mentioned wiring board, for example, a copper or copper alloy foil is laminated on the surface of a synthetic resin plate such as an epoxy resin reinforced with glass fiber, and the foil is subjected to an etching process. A hard wiring board having a wiring pattern formed thereon, or a flexible film-shaped wiring board having a wiring pattern formed on a surface of an insulating film such as a polyimide film in the same manner is used.

【0016】積層配線板におけるこれら配線板の積層
は、多くの場合、硬質配線板同士、あるいはフィルム状
配線板同士とされるが、必要によっては、異質な両者を
組み合わせてもよい。フィルム状配線板から見た場合、
硬質配線板との組み合わせは補強される形になることか
ら、可橈性ゆえに用途制限の傾向があるフィルム状配線
板の活用幅を広げるうえにおいて有効である。
In many cases, the wiring of these wiring boards in the laminated wiring board is performed between hard wiring boards or between film wiring boards. If necessary, different wiring boards may be combined. When viewed from the film wiring board,
Since the combination with the hard wiring board has a reinforced form, it is effective in widening the utilization range of the film-shaped wiring board, which tends to be restricted in use because of its flexibility.

【0017】配線板への配線パターンの形成は、片面、
あるいは両面のいずれでもよい。配線板の積層数は、2
層、3層、4層など特に制限はない。また、多層に積層
された配線板のうちの特定の隣接配線板間においてのみ
配線パターン間の導通を行い、他の配線板は積層だけと
する構成はさしつかえない。
The formation of the wiring pattern on the wiring board is performed on one side,
Alternatively, both sides may be used. The number of stacked wiring boards is 2
There are no particular restrictions on the number of layers, such as three, four, or the like. In addition, a configuration may be adopted in which conduction between wiring patterns is performed only between specific adjacent wiring boards among multilayered wiring boards, and other wiring boards are only laminated.

【0018】低融点金属片の構成材としては、配線板の
耐熱限度内において加熱溶融することのできる金属が使
用され、従って、低融点金属片の低融点とは、この意味
での低融点を意味する。具体的には、たとえば、錫‐鉛
合金、あるいはこれをベースとした金属片が使用され、
また、この金属片は、加熱溶融を迅速化する意味から、
多くの場合、箔状物に構成される。
As the constituent material of the low melting point metal piece, a metal that can be heated and melted within the heat resistance limit of the wiring board is used. Therefore, the low melting point of the low melting point metal piece means the low melting point in this sense. means. Specifically, for example, a tin-lead alloy or a metal piece based on this is used,
In addition, this metal piece, from the point of speeding up heating and melting,
In many cases, it is configured as a foil.

【0019】接着層の構成材としては、加熱溶融により
接着性を示す液晶ポリマーであることが好ましく、具体
的には、液晶性芳香族ポリエステル系樹脂、液晶性芳香
族ポリアミド系樹脂、あるいは液晶性ポリイミド系樹脂
等が使用される。
The constituent material of the adhesive layer is preferably a liquid crystal polymer which exhibits adhesiveness by heating and melting, and specifically, a liquid crystalline aromatic polyester resin, a liquid crystalline aromatic polyamide resin, or a liquid crystalline polymer. A polyimide resin or the like is used.

【0020】配線パターンの所定の個所に金属片を供給
する手段としては、打抜機を利用した仮付け方式が有効
である。打抜機のパンチャーが打ち抜いた金属片を、打
抜機の下方に位置する配線板の配線パターンに押し付け
て仮付けする方法が望ましく、この結果、金属片の準備
と仮付けとが同時に行われることから、効率のよい作業
遂行が可能となる。長尺の金属片原材をリール等に巻い
て準備する一方、配線板を打抜機に連続して供給するよ
うに構成すれば、作業効率は一層向上することになる。
As a means for supplying a metal piece to a predetermined portion of the wiring pattern, a tacking method using a punching machine is effective. It is desirable to press the metal pieces punched by the puncher of the punching machine against the wiring pattern of the wiring board located below the punching machine and temporarily attach the metal pieces.As a result, the preparation of the metal pieces and the temporary attachment are performed simultaneously. Thus, efficient work can be performed. If the configuration is such that the long metal piece raw material is prepared by winding it on a reel or the like, and the wiring board is continuously supplied to the punching machine, the working efficiency will be further improved.

【0021】接着層として、熱溶融することによって接
着作用を示す材料を選定する場合には、配線板を積層し
た後の加圧には熱が必要となるが、たとえば、常温下に
おいて軟質性を有し、積層して加圧した後の加熱、ある
いは常温放置等によって硬化する性質の材料を選択する
場合には、加圧時の熱は必ずしも必要とはならない。
When a material that exhibits an adhesive action by being melted by heat is selected as the adhesive layer, heat is required for pressurizing after laminating the wiring boards. For example, softness is required at room temperature. In the case of selecting a material having such a property that it is hardened by heating after lamination and pressing, or standing at room temperature, heat at the time of pressing is not necessarily required.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】次に、本発明による積層配線板お
よびバンプ付き配線板の製造方法の実施の形態について
説明する。図1の(a)〜(i)は、製造手順を順に示
したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of a method for manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps according to the present invention will be described. FIGS. 1A to 1I show the manufacturing procedure in order.

【0023】(a)は、厚さ50μmのポリイミドフィ
ルム1と、このフィルム1の両面にラミネートされた厚
さ18μmの銅箔2と3から構成されたラミネート体4
を示す。このラミネート体4におけるポリイミドフィル
ム1は、銅箔2と3のいずれか一方の表面にキャスティ
ングによって成膜され、その後、接着剤(図示せず)を
介して他方の銅箔にラミネートされることによって構成
されている。
(A) is a laminate 4 composed of a polyimide film 1 having a thickness of 50 μm and copper foils 2 and 3 having a thickness of 18 μm laminated on both sides of the film 1.
Is shown. The polyimide film 1 in the laminate 4 is formed by casting on one of the surfaces of the copper foils 2 and 3 and then laminated on the other copper foil via an adhesive (not shown). It is configured.

【0024】(b)は、ラミネート体4の片面の銅箔2
に対するエッチング工程を示したもので、内径100μ
mの円形開口部5が銅箔2に形成される。
(B) shows the copper foil 2 on one side of the laminate 4
Shows the etching process for
m circular openings 5 are formed in the copper foil 2.

【0025】(c)は、ポリイミドフィルム1への孔あ
け工程を示し、銅箔2をマスク材とした炭酸ガスレーザ
加工が行われる。これにより開口部5の部分のポリイミ
ドが除去され、ブラインドビアホール7が形成される。
(C) shows a step of making a hole in the polyimide film 1, and carbon dioxide laser processing is performed using the copper foil 2 as a mask material. Thus, the polyimide in the portion of the opening 5 is removed, and the blind via hole 7 is formed.

【0026】(d)は、ブラインドビアホール7への導
通膜形成工程であり、8は形成された銅の導通膜を示
す。導通膜8が形成されることによって銅箔2と3は電
気的に接続される。
(D) is a step of forming a conductive film for the blind via hole 7, and 8 is a formed copper conductive film. By forming the conductive film 8, the copper foils 2 and 3 are electrically connected.

【0027】(e)はフォトエッチング工程を示し、銅
箔2から所定の形状の配線パターン6が形成され、これ
により導通膜8も配線パターン6の構成員となる。一
方、銅箔3にも同時に蝕刻が施され、これによって所定
の形状の配線パターン10が形成され、以上により一方
の側の配線板11の準備が完了する。
(E) shows a photo-etching step, in which a wiring pattern 6 having a predetermined shape is formed from the copper foil 2, whereby the conductive film 8 also becomes a member of the wiring pattern 6. On the other hand, the copper foil 3 is also etched at the same time, whereby a wiring pattern 10 having a predetermined shape is formed. Thus, the preparation of the wiring board 11 on one side is completed.

【0028】(f)は、配線パターン6への金属箔片の
仮付け工程を示したもので、打抜機12を上方に配置
し、この打抜機12の下を配線板11が所定のピッチで
矢印方向に移動するように構成されている。
(F) shows a step of temporarily attaching a metal foil piece to the wiring pattern 6, in which the punching machine 12 is disposed above, and the wiring board 11 is arranged below the punching machine 12 at a predetermined pitch. It is configured to move in the direction of the arrow.

【0029】打抜機12のパンチャー13が、錫‐鉛合
金を構成材とした厚さ10μmの低融点金属箔14から
金属箔片15を直径100μmの円形に打ち抜く。打ち
抜かれた金属箔片15は、パンチャー13の打ち抜き動
作の延長の中で導通膜8に押し付けられ、これにより配
線パターン6の所定の個所に仮付けされる。
A puncher 13 of a punching machine 12 punches a metal foil piece 15 into a circular shape having a diameter of 100 μm from a low-melting metal foil 14 having a thickness of 10 μm and made of a tin-lead alloy. The punched metal foil pieces 15 are pressed against the conductive film 8 during the extension of the punching operation of the puncher 13, and are thereby temporarily attached to predetermined portions of the wiring pattern 6.

【0030】(g)は、金属箔片15を加熱溶融する工
程を示す。金属箔片15を仮付けされた配線板11は、
窒素雰囲気の加熱炉の中で金属箔片15の融点以上に加
熱され、リフローされる。この結果、加熱溶融した金属
箔片15は、自己の表面張力によって球状に盛り上が
り、そのまゝ冷却されて球状物16となる。
(G) shows a step of heating and melting the metal foil piece 15. The wiring board 11 to which the metal foil pieces 15 are temporarily attached is
The metal foil piece 15 is heated to a melting point or higher in a heating furnace in a nitrogen atmosphere and reflowed. As a result, the metal foil piece 15 that has been heated and melted rises into a spherical shape due to its own surface tension, and is then cooled into a spherical object 16.

【0031】(h)は、接着層の形成工程を示し、17
は、配線パターン6の上に形成された熱溶融タイプの液
晶ポリマーの接着層を示す。この接着層17は、球状物
16の上部が表出する程度に設けられている。
(H) shows a step of forming an adhesive layer,
Indicates an adhesive layer of a liquid crystal polymer of a heat melting type formed on the wiring pattern 6. The adhesive layer 17 is provided so that the upper part of the spherical object 16 is exposed.

【0032】(i)は、積層工程を示す。(h)におい
て表面に接着層17が形成された一方の側の配線板11
と、(a)〜(e)の工程を経ることによって別個に製
造された他方の側の配線板11′(配線板11における
数字と同じ数字は同一部分を示し、′を付して表示)と
が準備され、互いに積層される。
(I) shows a laminating step. (H) Wiring board 11 on one side with adhesive layer 17 formed on the surface
And a wiring board 11 'on the other side separately manufactured through the steps (a) to (e) (the same numerals as the numbers on the wiring board 11 indicate the same parts and are indicated with "'"). Are prepared and laminated on each other.

【0033】次に、積層された配線板11と11′がプ
レスの中で加熱加圧され、これにより球状物16が配線
板11′の配線パターン10′の所定の個所に当接させ
られ、同時に、配線板11と11′が熱溶融した接着層
17によって接着される。この結果、配線パターン6と
10′は、球状物16を介して電気的に導通されること
になり、これにより所定の構造の積層配線板となる。
Next, the laminated wiring boards 11 and 11 'are heated and pressed in a press, whereby the spherical object 16 is brought into contact with a predetermined portion of the wiring pattern 10' of the wiring board 11 '. At the same time, the wiring boards 11 and 11 ′ are bonded by the hot-melt bonding layer 17. As a result, the wiring patterns 6 and 10 ′ are electrically conducted through the spherical object 16, thereby forming a laminated wiring board having a predetermined structure.

【0034】図2は、本発明による積層配線板およびバ
ンプ付き配線板の製造方法の他の実施の形態を示したも
のである。(a)〜(f)は、図1と同じであるので説
明を省略し、(g)の工程以降についてのみ説明する。
FIG. 2 shows another embodiment of the method for manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps according to the present invention. (A) to (f) are the same as those in FIG. 1, and thus description thereof will be omitted, and only the steps after (g) will be described.

【0035】(g)の工程において、金属箔片を加熱溶
融することによって配線パターン6の上に球状物16を
生成させた後、(h)のように、別に準備された他方の
配線板11′の配線パターン10′の表面に接着層17
を形成し、次いで、このようにして準備された配線板1
1、11′を互いに積層する。
In the step (g), after the metal foil piece is heated and melted to form a spherical body 16 on the wiring pattern 6, the other wiring board 11 separately prepared as shown in (h). Adhesive layer 17 on the surface of the wiring pattern 10 '
Is formed, and then the wiring board 1 thus prepared
1, 11 'are laminated together.

【0036】(i)はその積層構造であり、配線板1
1′の接着層17と配線板11の球状物16が対向する
ように積層し、これらを加熱加圧した構造を示したもの
である。球状物16は、加圧されることによって熱溶融
した接着層17を突き破り、配線板11′の配線パター
ン10′に当接する。
(I) is the laminated structure of the wiring board 1
This shows a structure in which the adhesive layer 1 'and the spherical object 16 of the wiring board 11 are laminated so as to face each other, and these are heated and pressed. The sphere 16 breaks through the adhesive layer 17 that has been heated and melted by being pressed, and comes into contact with the wiring pattern 10 ′ of the wiring board 11 ′.

【0037】この結果、配線板11と11′は接着層1
7によって接着一体化されるとともに、積層板11のブ
ラインドビアホール7は接着層17によって充填され、
さらに、配線パターン6と10′とは球状物16によっ
て導通されることから、所定の積層配線板が構築され
る。この実施形態の図1との違いは、接着層17を他方
の配線板11′の側に形成した点にある。
As a result, the wiring boards 11 and 11 'are
7, and the blind via holes 7 of the laminated board 11 are filled with an adhesive layer 17,
Further, since the wiring patterns 6 and 10 'are electrically connected by the sphere 16, a predetermined laminated wiring board is constructed. This embodiment differs from FIG. 1 in that an adhesive layer 17 is formed on the other wiring board 11 'side.

【0038】図1および図2における(g)は、以後の
工程において積層配線板を製造するための基板を構成す
るものであるが、この用途以外にも活用することができ
る。即ち、(g)における球状物16は、電極用バンプ
として使用することが可能であり、従って、この(g)
の形態は、プリント基板等の他の配線板の配線パター
ン、あるいは半導体チップ等の他の電気用部品と接合す
るための配線板としての活用を可能にする。
FIG. 1 (g) in FIG. 1 and FIG. 2 constitutes a substrate for manufacturing a laminated wiring board in the subsequent steps, but can be used for other purposes. That is, the spherical object 16 in (g) can be used as an electrode bump.
This embodiment can be used as a wiring pattern of another wiring board such as a printed circuit board or a wiring board for bonding with another electric component such as a semiconductor chip.

【0039】そして、この球状バンプ(球状物16)
が、金属箔片15の加熱溶融による表面張力に基づいて
形成される結果、その配列を細密なものとすることが可
能となり、従って、高密度な構造を有したバンプ付き配
線板を提供することができる。
The spherical bump (spherical object 16)
Are formed on the basis of the surface tension of the metal foil pieces 15 by heating and melting, so that the arrangement can be made finer, and therefore, it is possible to provide a wiring board with bumps having a high-density structure. Can be.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による積層
配線板およびバンプ付き配線板の製造方法によれば、積
層配線板の製造にあっては、相互に積層される配線板の
いずれかの側の配線板の配線パターンの所定の個所に低
融点金属片を供給し、この低融点金属片を加熱溶融する
ことにより表面張力を利用して低融点金属片の溶融体に
よる球状物を生成させ、さらに、積層される配線板の一
方の側の配線板の配線パターン、あるいは他方の側の配
線板の配線パターンの上に接着層を形成し、これら配線
板を積層して加圧することにより両配線板の配線パター
ン間を球状物を介して導通させると同時に、配線板同士
を接着層により接着一体化するものであることから、以
下のような利益を得ることができる。
As described above, according to the method for manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps according to the present invention, in the production of the laminated wiring board, any one of the wiring boards laminated to each other is used. A low-melting metal piece is supplied to a predetermined portion of the wiring pattern of the wiring board on the side, and the low-melting metal piece is heated and melted to generate a spherical material of a low-melting metal piece melt using surface tension. Further, an adhesive layer is formed on the wiring pattern of the wiring board on one side of the wiring boards to be laminated, or on the wiring pattern of the wiring board on the other side, and these wiring boards are laminated and pressurized. Since the wiring patterns of the wiring boards are electrically connected to each other via the spherical body and the wiring boards are bonded and integrated by the adhesive layer, the following advantages can be obtained.

【0041】1.配線パターン間の導通が低融点金属片
の加熱溶融によって生成した球状物により行われること
から、適用する低融点金属片の大きさに応じた薄型で細
密な積層品を構築することができ、従って、たとえば、
ICカードなどの高密度品に最適な積層配線板を提供す
ることができる。 2.低融点金属片を加熱溶融し、接着層を形成し、積層
加圧するだけで所定の積層配線板を製造できるので、作
業効率が高い。 3.レーザ加工機のような高価な設備を必要としない。 4.低融点金属片の大きさを一定化することにより球状
物の大きさと高さを均一化することができるので、銀ペ
ースト印刷方式におけるような精度的な不安定要因がな
い。 5.配線パターン間を導通させるのに無電解メッキを必
要としない。
1. Since the continuity between the wiring patterns is performed by a spherical object generated by heating and melting the low melting point metal piece, a thin and fine laminated product according to the size of the low melting point metal piece to be applied can be constructed. For example,
A laminated wiring board optimal for high-density products such as IC cards can be provided. 2. The work efficiency is high because a predetermined laminated wiring board can be manufactured only by heating and melting the low melting point metal piece, forming the adhesive layer, and pressing the laminate. 3. There is no need for expensive equipment such as a laser beam machine. 4. Since the size and height of the spherical object can be made uniform by making the size of the low melting point metal piece constant, there is no factor of instability with accuracy as in the silver paste printing method. 5. Electroless plating is not required to conduct between the wiring patterns.

【0042】一方、バンプ付き配線板の製造において
は、配線板の配線パターンの所定の個所に低融点金属片
を供給し、これを加熱溶融することによって電極として
の球状バンプを形成することができるので、小さなバン
プを細密に配列させた高密度バンプ付き配線板の製造が
可能となる。
On the other hand, in the production of a wiring board with bumps, a low-melting metal piece is supplied to a predetermined portion of a wiring pattern of the wiring board, and this is heated and melted to form a spherical bump as an electrode. Therefore, it is possible to manufacture a wiring board with high-density bumps in which small bumps are finely arranged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による積層配線板およびバンプ付き配線
板の製造方法の実施の形態を示す説明図であり、(a)
〜(i)はその製造手順を示す。
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a method for manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps according to the present invention, and (a).
(I) shows the manufacturing procedure.

【図2】本発明による積層配線板およびバンプ付き配線
板の製造方法の他の実施の形態を示す説明図であり、
(a)〜(i)はその製造手順を示す。
FIG. 2 is an explanatory view showing another embodiment of the method for manufacturing a laminated wiring board and a wiring board with bumps according to the present invention;
(A)-(i) show the manufacturing procedure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、1′ ポリイミドフィルム 2、3 銅箔 4 ラミネートフィルム 5 円形開口部 6、6′、10、10′ 配線パターン 7、7′ ブラインドビアホール 8、8′ 導通膜 11、11′ 配線板 12 打抜機 13 パンチャー 14 低融点金属箔 15 金属箔片 16 球状物 17 接着層 1, 1 'polyimide film 2, 3 copper foil 4 laminated film 5 circular opening 6, 6', 10, 10 'wiring pattern 7, 7' blind via hole 8, 8 'conductive film 11, 11' wiring board 12 punching machine 13 puncher 14 low melting point metal foil 15 metal foil piece 16 spherical object 17 adhesive layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C060 AA20 BA01 BF01 CF01 CF16 5E346 AA06 AA12 AA15 AA16 AA22 AA43 BB01 BB16 CC10 CC31 CC40 CC41 DD32 EE02 EE05 EE12 EE42 EE44 FF37 FF41 GG01 GG02 GG25 GG28 HH24 HH26  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面に所定の配線パターンを形成した複数
の配線板を積層し、前記複数の配線板の前記配線パター
ンの間を電気的に導通させた積層配線板を製造する積層
配線板の製造方法において、 前記複数の配線板のいずれかの側の配線板の前記配線パ
ターンの所定の個所に低融点金属片を供給し、 前記低融点金属片を加熱溶融することによって、前記い
ずれかの側の配線板の前記配線パターンの上に加熱溶融
時の表面張力を利用した前記低融点金属片に基づく球状
物を生成させ、 前記球状物が冷却固化した後、前記複数の配線板の一方
の側の前記配線板の配線パターンの上に接着層を形成
し、 前記接着層の上に前記複数の配線板の他方の側の配線板
を載せて加圧することにより、前記一方の側の配線板と
前記他方の側の配線板の配線パターン間を前記球状物を
介して電気的に導通させることを特徴とする積層配線板
の製造方法。
1. A laminated wiring board for producing a laminated wiring board in which a plurality of wiring boards having a predetermined wiring pattern formed on a surface thereof are laminated, and the wiring patterns of the plurality of wiring boards are electrically connected to each other. In the manufacturing method, a low-melting-point metal piece is supplied to a predetermined portion of the wiring pattern of the wiring board on either side of the plurality of wiring boards, and the low-melting-point metal piece is heated and melted, whereby A sphere based on the low melting point metal piece utilizing surface tension during heating and melting is generated on the wiring pattern of the side wiring board, and after the sphere is cooled and solidified, one of the plurality of wiring boards is formed. Forming an adhesive layer on the wiring pattern of the wiring board on the other side, placing the wiring board on the other side of the plurality of wiring boards on the adhesive layer, and applying pressure to the wiring board on the one side. And the wiring pattern of the wiring board on the other side. A method for manufacturing a laminated wiring board, wherein electrical connection is made between the balls through the spherical object.
【請求項2】前記低融点金属片は、錫‐鉛合金、あるい
はこれをベースとした金属であることを特徴とする請求
項第1項記載の積層配線板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein said low melting point metal piece is a tin-lead alloy or a metal based on said alloy.
【請求項3】前記低融点金属片は、箔状物であることを
特徴とする請求項第1項あるいは第2項記載の積層配線
板の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the low-melting point metal piece is a foil.
【請求項4】前記接着層は、前記球状物が形成された側
の配線板の配線パターンの上に形成されることを特徴と
する請求項第1項ないし第3項のいずれかに記載の積層
配線板の製造方法。
4. The circuit according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed on a wiring pattern of the wiring board on which the spherical object is formed. A method for manufacturing a laminated wiring board.
【請求項5】前記接着層は、前記球状物が形成されない
側の配線板の配線パターンの上に形成されることを特徴
とする請求項第1項ないし第3項のいずれかに記載の積
層配線板の製造方法。
5. The laminate according to claim 1, wherein the adhesive layer is formed on a wiring pattern of the wiring board on which the spherical object is not formed. Manufacturing method of wiring board.
【請求項6】前記接着層は、液晶ポリマーであることを
特徴とする請求項第1項ないし第5項のいずれかに記載
の積層配線板の製造方法。
6. The method according to claim 1, wherein the adhesive layer is a liquid crystal polymer.
【請求項7】前記低融点金属片は、前記一方の側の配線
板の上に設けられた打抜機のパンチャーにより打ち抜か
れ、前記パンチャーは、打ち抜いた前記低融点金属片を
前記一方の側の配線板の前記配線パターンの所定の個所
に押し付けることによって仮付けすることを特徴とする
請求項第1項ないし第6項のいずれかに記載の積層配線
板の製造方法。
7. The low melting point metal piece is punched by a puncher of a punching machine provided on the one side wiring board, and the puncher removes the punched low melting point metal piece from the one side. The method for manufacturing a laminated wiring board according to any one of claims 1 to 6, wherein the temporary mounting is performed by pressing the wiring pattern on a predetermined portion of the wiring board.
【請求項8】配線板の配線パターン上に他の配線板の配
線パターンあるいは半導体チップ等の他の電気用部品と
接合される球状バンプを有するバンプ付き配線板を製造
するバンプ付き配線板の製造方法において、 前記配線板の前記配線パターンの所定の個所に低融点金
属片を供給し、 前記低融点金属片を加熱溶融してその表面張力に基づい
て前記球状バンプにすることを特徴とするバンプ付き配
線板の製造方法。
8. A bumped wiring board for manufacturing a bumped wiring board having a spherical bump to be joined to another wiring board or another electrical component such as a semiconductor chip on a wiring pattern of the wiring board. In the method, a low melting point metal piece is supplied to a predetermined portion of the wiring pattern of the wiring board, and the low melting point metal piece is heated and melted to form the spherical bump based on its surface tension. Manufacturing method of a wiring board with a wire.
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