JP2000119859A - Ｃｖｄ装置用気化器 - Google Patents
Ｃｖｄ装置用気化器Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 加熱気化されないで気化器内部に残った液体
原料のカスの回収を容易に行うことができるＣＶＤ装置
用気化器を提供することを目的としている。 【解決手段】 気化器１は、内部容積部２に連続するよ
うにテーパ状底部３ａと直管部３ｂとからなる漏斗部３
と、直管部３ｂに抜き挿し自在のカス押し出し棒４と、
カス押し出し棒４上方に設けられた回転可能な傘状の原
料ガイド部５とを備えている。液体原料供給部２０から
供給された液体原料２２は、回転されている原料ガイド
部５上に落下されて加熱気化され、気化されずに残った
カスは直管部３ｂに集められる。集められたカスはカス
押し出し棒４によって直管部３ｂ下端に押し出されるこ
とにより、カスの回収は容易に行われる。
原料のカスの回収を容易に行うことができるＣＶＤ装置
用気化器を提供することを目的としている。 【解決手段】 気化器１は、内部容積部２に連続するよ
うにテーパ状底部３ａと直管部３ｂとからなる漏斗部３
と、直管部３ｂに抜き挿し自在のカス押し出し棒４と、
カス押し出し棒４上方に設けられた回転可能な傘状の原
料ガイド部５とを備えている。液体原料供給部２０から
供給された液体原料２２は、回転されている原料ガイド
部５上に落下されて加熱気化され、気化されずに残った
カスは直管部３ｂに集められる。集められたカスはカス
押し出し棒４によって直管部３ｂ下端に押し出されるこ
とにより、カスの回収は容易に行われる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、化学気相蒸着法
（ＣＶＤ法）によって反応生成物を基板上に成膜するＣ
ＶＤ装置に用いられる気化器に関するものである。
（ＣＶＤ法）によって反応生成物を基板上に成膜するＣ
ＶＤ装置に用いられる気化器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】 Ｄ
ＲＡＭなどの記憶媒体の記録層の成膜をはじめ、薄膜形
成技術には化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）、スパッタリン
グ法、ＭＢＥ法（分子線エピキタシー法）などが知られ
ている。このような薄膜形成技術の内でも、ＣＶＤ法は
成膜速度が速く、短時間でより均一な膜を形成すること
ができる手段として注目されている。
ＲＡＭなどの記憶媒体の記録層の成膜をはじめ、薄膜形
成技術には化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）、スパッタリン
グ法、ＭＢＥ法（分子線エピキタシー法）などが知られ
ている。このような薄膜形成技術の内でも、ＣＶＤ法は
成膜速度が速く、短時間でより均一な膜を形成すること
ができる手段として注目されている。
【０００３】ＣＶＤ法に用いられる装置であるＣＶＤ装
置は、液体原料を気化器内部で加熱気化させて原料ガス
にし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応チャンバ
内に供給し、化学気相蒸着により該チャンバ内に配置さ
れた基板上に反応生成物を成膜するものである。このＣ
ＶＤ装置に用いられる気化器の一例として、図３に示さ
れるものがある。
置は、液体原料を気化器内部で加熱気化させて原料ガス
にし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応チャンバ
内に供給し、化学気相蒸着により該チャンバ内に配置さ
れた基板上に反応生成物を成膜するものである。このＣ
ＶＤ装置に用いられる気化器の一例として、図３に示さ
れるものがある。
【０００４】図３において、液体原料は、気化器５０の
液体原料供給部５１から供給され、管路５３を通って液
体原料出口部６０から内部容積部５４に供給される。気
化器５０の内部容積部５４は、外側ヒータ５７と内側ヒ
ータ５８とによって、供給された液体原料が加熱気化さ
れるために十分な温度に加熱されている。また、内部容
積部５４内の温度検知用として、温度センサ５６が、内
側ヒータ５８とともにヒータブロック部５９内に設けら
れている。そして内部容積部５４に供給された液体原料
はヒータブロック部５９上面に落下し、そこで加熱気化
される。
液体原料供給部５１から供給され、管路５３を通って液
体原料出口部６０から内部容積部５４に供給される。気
化器５０の内部容積部５４は、外側ヒータ５７と内側ヒ
ータ５８とによって、供給された液体原料が加熱気化さ
れるために十分な温度に加熱されている。また、内部容
積部５４内の温度検知用として、温度センサ５６が、内
側ヒータ５８とともにヒータブロック部５９内に設けら
れている。そして内部容積部５４に供給された液体原料
はヒータブロック部５９上面に落下し、そこで加熱気化
される。
【０００５】また、キャリアガス供給部５２からはキャ
リアガスが供給され、加熱気化された原料ガスは、キャ
リアガスとともに原料ガス送出部５５から、図示しない
反応チャンバ側に供給される。
リアガスが供給され、加熱気化された原料ガスは、キャ
リアガスとともに原料ガス送出部５５から、図示しない
反応チャンバ側に供給される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】気化器内部は、ヒータ
によって十分に加熱されているが、内部の気流の影響等
から、気化器内部では温度ムラの発生は避けられないた
め、気化器内部に供給された液体原料の一部は完全に気
化されず、カスとして気化器内部に堆積してしまう。上
述のような気化器の場合、発生した液体原料のカスは内
部容積部５４内のヒータカバー部５９上面にタール状に
堆積され、さらには、ヒータカバー部下部５９ａに垂れ
落ちるなどして、カスが堆積される範囲が広くなり、カ
スを回収する場合など、メンテナンスが容易でないとい
った問題が生じる。
によって十分に加熱されているが、内部の気流の影響等
から、気化器内部では温度ムラの発生は避けられないた
め、気化器内部に供給された液体原料の一部は完全に気
化されず、カスとして気化器内部に堆積してしまう。上
述のような気化器の場合、発生した液体原料のカスは内
部容積部５４内のヒータカバー部５９上面にタール状に
堆積され、さらには、ヒータカバー部下部５９ａに垂れ
落ちるなどして、カスが堆積される範囲が広くなり、カ
スを回収する場合など、メンテナンスが容易でないとい
った問題が生じる。
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、効率良く液体原料を加熱気化させるととも
に、気化器内部で完全に気化されなかった液体原料のカ
スが発生した場合でも、液体原料のカスの回収を簡単に
行うことのできるＣＶＤ装置に用いられる気化器を提供
することを目的としている。
たもので、効率良く液体原料を加熱気化させるととも
に、気化器内部で完全に気化されなかった液体原料のカ
スが発生した場合でも、液体原料のカスの回収を簡単に
行うことのできるＣＶＤ装置に用いられる気化器を提供
することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明は、液体原料を気化器内部で加熱気化させて
原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応
チャンバ内に供給し、化学気相蒸着により該チャンバ内
に配置された基板上に反応生成物を成膜するＣＶＤ装置
に用いられる気化器において、ヒータブロック部に囲ま
れるように形成されてなる筒形状の内部容積部と、該内
部容積部下方に連続するように形成されたテーパ状底部
及び該底部の下端部に連通する直管部からなる漏斗部
と、該漏斗部の直管部側方から原料ガスを送り出す原料
ガス送出部と、前記漏斗部の直管部の上方に、該直管部
に抜き挿し自在に支持されたカス押し出し棒とが備えら
れていることを特徴とする。
め、本発明は、液体原料を気化器内部で加熱気化させて
原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応
チャンバ内に供給し、化学気相蒸着により該チャンバ内
に配置された基板上に反応生成物を成膜するＣＶＤ装置
に用いられる気化器において、ヒータブロック部に囲ま
れるように形成されてなる筒形状の内部容積部と、該内
部容積部下方に連続するように形成されたテーパ状底部
及び該底部の下端部に連通する直管部からなる漏斗部
と、該漏斗部の直管部側方から原料ガスを送り出す原料
ガス送出部と、前記漏斗部の直管部の上方に、該直管部
に抜き挿し自在に支持されたカス押し出し棒とが備えら
れていることを特徴とする。
【０００９】本発明によれば、気化器の内部容積部底部
の形状が漏斗状に形成されたことにより、液体原料が完
全に気化されないことによって発生した液体原料のカス
は、漏斗部の直管部に簡単に集めることができる。そし
て、該直管部に回収されたカスは、前記直管部の上方に
位置させた、該直管部に抜き挿し自在に支持されたカス
押し出し棒によって、該直管部下方に押し込むことによ
り、直管部の下端の一箇所からカスは簡単に排出され、
メンテナンスは容易に行われる。また、加熱気化された
原料ガスを送り出す原料ガス送出部は、前記直管部の側
方から延びるように設けられたことにより、前記原料ガ
ス送出部にカスが入り込むのを防いでいる。
の形状が漏斗状に形成されたことにより、液体原料が完
全に気化されないことによって発生した液体原料のカス
は、漏斗部の直管部に簡単に集めることができる。そし
て、該直管部に回収されたカスは、前記直管部の上方に
位置させた、該直管部に抜き挿し自在に支持されたカス
押し出し棒によって、該直管部下方に押し込むことによ
り、直管部の下端の一箇所からカスは簡単に排出され、
メンテナンスは容易に行われる。また、加熱気化された
原料ガスを送り出す原料ガス送出部は、前記直管部の側
方から延びるように設けられたことにより、前記原料ガ
ス送出部にカスが入り込むのを防いでいる。
【００１０】気化器内部容積部の、液体原料が供給され
る部分近傍には、傘状の原料ガイド部が設けられている
ことにより、気化器内部容積部に供給された液体原料
は、原料ガイド部の傘状部分の表面に落下され、該原料
ガイド部の形状によって、さらに下方に落下される位置
が制御されるため、よりヒータに近い位置に落下される
ように制御されることも可能となり、液体原料は効率良
く加熱気化され、完全に気化されなかった液体原料のカ
スの発生を減少させることができる。さらに、前記原料
ガイド部は、該原料ガイド部を回転させる回転駆動部に
連接されて回転されることにより、前記原料ガイド部に
落下された液体原料は、前記原料ガイド部の回転運動に
よって、気化器内部容積部の全ての方向に供給されるよ
うになり、効率良く加熱気化されることができる。な
お、前記原料ガイド部は、前記カス押し出し棒と一体に
設けるようにしてもよい。
る部分近傍には、傘状の原料ガイド部が設けられている
ことにより、気化器内部容積部に供給された液体原料
は、原料ガイド部の傘状部分の表面に落下され、該原料
ガイド部の形状によって、さらに下方に落下される位置
が制御されるため、よりヒータに近い位置に落下される
ように制御されることも可能となり、液体原料は効率良
く加熱気化され、完全に気化されなかった液体原料のカ
スの発生を減少させることができる。さらに、前記原料
ガイド部は、該原料ガイド部を回転させる回転駆動部に
連接されて回転されることにより、前記原料ガイド部に
落下された液体原料は、前記原料ガイド部の回転運動に
よって、気化器内部容積部の全ての方向に供給されるよ
うになり、効率良く加熱気化されることができる。な
お、前記原料ガイド部は、前記カス押し出し棒と一体に
設けるようにしてもよい。
【００１１】また、気化器加熱手段は、円筒状に形成さ
れた前記内部容積部及び前記漏斗部周囲に設けられたヒ
ータブロック部内部に配置された外側ヒータと、前記カ
ス押し出し棒内部に設けられた内側ヒータとからなり、
気化器内部に供給された液体原料は内部容積部内を落下
される間加熱され、内部容積部底部では、漏斗部のテー
パ状底部によって、液体原料と加熱部分との接触面積が
増加されるため、液体原料は効率良く加熱される。さら
に、内部容積部断面中心部分は、ヒータが設けられたカ
ス押し出し棒によって加熱されるため、気化器内部の温
度ムラを極力抑えることができる。
れた前記内部容積部及び前記漏斗部周囲に設けられたヒ
ータブロック部内部に配置された外側ヒータと、前記カ
ス押し出し棒内部に設けられた内側ヒータとからなり、
気化器内部に供給された液体原料は内部容積部内を落下
される間加熱され、内部容積部底部では、漏斗部のテー
パ状底部によって、液体原料と加熱部分との接触面積が
増加されるため、液体原料は効率良く加熱される。さら
に、内部容積部断面中心部分は、ヒータが設けられたカ
ス押し出し棒によって加熱されるため、気化器内部の温
度ムラを極力抑えることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
ＣＶＤ装置用気化器を図面を参照して説明する。図１は
本発明のＣＶＤ装置用気化器の一実施形態を示す正面図
であり、図２は、図１の上方から見た平面図である。
ＣＶＤ装置用気化器を図面を参照して説明する。図１は
本発明のＣＶＤ装置用気化器の一実施形態を示す正面図
であり、図２は、図１の上方から見た平面図である。
【００１３】図１において、円筒状に形成されたＣＶＤ
装置用気化器１は、ほぼ円筒状に形成された内部容積部
２と、内部容積部２に連続するように下部に形成された
テーパ状底部３ａと直管部３ｂとからなる漏斗部３とを
備えており、内部容積部２及び漏斗部３と気化器１外壁
との間には、外側ヒータ９、１０を支持するように設け
られたヒータブロック部８が形成されている。
装置用気化器１は、ほぼ円筒状に形成された内部容積部
２と、内部容積部２に連続するように下部に形成された
テーパ状底部３ａと直管部３ｂとからなる漏斗部３とを
備えており、内部容積部２及び漏斗部３と気化器１外壁
との間には、外側ヒータ９、１０を支持するように設け
られたヒータブロック部８が形成されている。
【００１４】図１、図２に示すように、内部容積部２の
断面中心上には、図１中上下方向にカス押し出し棒４が
設けられており、カス押し出し棒４内部には、カス押し
出し棒４の長手方向に沿うように内側ヒータ１１が設け
られている。また、カス押し出し棒４の径は、漏斗部３
の直管部３ｂとほぼ同じ径の大きさで形成され、その長
さは、直管部３ｂの長さより若干長く形成されている。
断面中心上には、図１中上下方向にカス押し出し棒４が
設けられており、カス押し出し棒４内部には、カス押し
出し棒４の長手方向に沿うように内側ヒータ１１が設け
られている。また、カス押し出し棒４の径は、漏斗部３
の直管部３ｂとほぼ同じ径の大きさで形成され、その長
さは、直管部３ｂの長さより若干長く形成されている。
【００１５】図１中、カス押し出し棒４上部には、傘状
に形成された原料ガイド部５が、広口部分が下方を向く
ように設けられており、原料ガイド部５の上方には、鉛
直上方向に延びるように原料ガイド部５に連結された軸
部１２が、Ｌ字状に形成された軸支持部１３に支持され
つつ回転駆動部７に連結されている。そして、回転駆動
部７が駆動されることによって軸部１２に連結された原
料ガイド部５が回転される。
に形成された原料ガイド部５が、広口部分が下方を向く
ように設けられており、原料ガイド部５の上方には、鉛
直上方向に延びるように原料ガイド部５に連結された軸
部１２が、Ｌ字状に形成された軸支持部１３に支持され
つつ回転駆動部７に連結されている。そして、回転駆動
部７が駆動されることによって軸部１２に連結された原
料ガイド部５が回転される。
【００１６】また、軸支持部１３はガイド１４と係合さ
れており、さらに摺動部１５によって上下摺動用モータ
６に連結されている。そして、上下摺動用モータ６が駆
動されることによって軸支持部１３はガイド１４に沿っ
て上下方向に移動可能となり、軸支持部１３に連動され
るようにカス押し出し棒４が上下方向に移動される。そ
して、下方向に移動されたカス押し出し棒４は漏斗部３
の直管部３ｂに挿入される。
れており、さらに摺動部１５によって上下摺動用モータ
６に連結されている。そして、上下摺動用モータ６が駆
動されることによって軸支持部１３はガイド１４に沿っ
て上下方向に移動可能となり、軸支持部１３に連動され
るようにカス押し出し棒４が上下方向に移動される。そ
して、下方向に移動されたカス押し出し棒４は漏斗部３
の直管部３ｂに挿入される。
【００１７】内部容積部２上方には、液体原料供給部２
０及びキャリアガス供給部２１が、内部容積部２と連通
されるように設けられている。このうち、液体原料供給
部２０の内部容積部２と連通される出口部２０ａは、内
部容積部２断面中心より外れた、原料ガイド部５の傘状
部分上面に位置されるように設けられている。そして、
液体原料供給部２０から供給された液体原料２２は、出
口部２０ａより原料ガイド部５の傘上部分上面に垂れ落
ちるように供給される。
０及びキャリアガス供給部２１が、内部容積部２と連通
されるように設けられている。このうち、液体原料供給
部２０の内部容積部２と連通される出口部２０ａは、内
部容積部２断面中心より外れた、原料ガイド部５の傘状
部分上面に位置されるように設けられている。そして、
液体原料供給部２０から供給された液体原料２２は、出
口部２０ａより原料ガイド部５の傘上部分上面に垂れ落
ちるように供給される。
【００１８】このように構成された気化器１の内部容積
部２は、外側ヒータ９、１０及び内側ヒータ１１によっ
て、液体原料が加熱気化されるために十分な温度に加熱
されており、液体原料供給部２０より供給された液体原
料２２は、原料ガイド部５の傘状部分上面に垂れ落ちる
ように供給される。このとき、原料ガイド部５は回転駆
動部７によって回転されており、原料ガイド部５の傘状
部分上面に供給された液体原料２２は、内部容積部２の
全ての周方向に、傘形状に沿って流れる。このため、液
体原料２２はヒータブロック部８に近づくように落下さ
れるため、効率よくヒータの熱を受けることができ、気
化されない液体原料２２の発生を低減させることができ
る。また、カス押し出し棒４内部には内側ヒータ１１が
設けられており、内部容積部２は、周囲に設けられた外
側ヒータ１０と内側ヒータ１１によって加熱されるた
め、内部容積部２の温度ムラは低減される。
部２は、外側ヒータ９、１０及び内側ヒータ１１によっ
て、液体原料が加熱気化されるために十分な温度に加熱
されており、液体原料供給部２０より供給された液体原
料２２は、原料ガイド部５の傘状部分上面に垂れ落ちる
ように供給される。このとき、原料ガイド部５は回転駆
動部７によって回転されており、原料ガイド部５の傘状
部分上面に供給された液体原料２２は、内部容積部２の
全ての周方向に、傘形状に沿って流れる。このため、液
体原料２２はヒータブロック部８に近づくように落下さ
れるため、効率よくヒータの熱を受けることができ、気
化されない液体原料２２の発生を低減させることができ
る。また、カス押し出し棒４内部には内側ヒータ１１が
設けられており、内部容積部２は、周囲に設けられた外
側ヒータ１０と内側ヒータ１１によって加熱されるた
め、内部容積部２の温度ムラは低減される。
【００１９】内部容積部２で完全に気化されない液体原
料２２は、内部容積部２底部に位置される漏斗部３のテ
ーパ状底部３ａに供給される。テーパ状底部３ａはテー
パ状に形成されているため、供給された液体原料２２と
の加熱される部分の接触面積が大きくなって効率良く加
熱されるようになっており、また、テーパ状底部３ａで
完全に気化されない液体原料２２が、直管部３ｂに落下
しやすいようになっている。
料２２は、内部容積部２底部に位置される漏斗部３のテ
ーパ状底部３ａに供給される。テーパ状底部３ａはテー
パ状に形成されているため、供給された液体原料２２と
の加熱される部分の接触面積が大きくなって効率良く加
熱されるようになっており、また、テーパ状底部３ａで
完全に気化されない液体原料２２が、直管部３ｂに落下
しやすいようになっている。
【００２０】直管部３ｂに落下された液体原料２２は、
外側ヒータ９によって加熱され、気化された原料ガス
は、キャリアガス供給部２１から供給されたキャリアガ
スとともに、原料ガス送出部２３から、図示しない反応
チャンバ側に供給される。
外側ヒータ９によって加熱され、気化された原料ガス
は、キャリアガス供給部２１から供給されたキャリアガ
スとともに、原料ガス送出部２３から、図示しない反応
チャンバ側に供給される。
【００２１】加熱気化されずに残った液体原料２２のカ
スは直管部３ｂの下端に堆積される。内部容積部２底部
が漏斗状に形成されていることにより、発生したカスは
漏斗部３の直管部３ｂの１ヶ所に集められやすい構造と
なっている。この直管部３ｂの下端には下端孔３０が形
成されており、蓋１６が閉じられていない場合は、漏斗
状のカス回収部１７と連通されるようになっている。
スは直管部３ｂの下端に堆積される。内部容積部２底部
が漏斗状に形成されていることにより、発生したカスは
漏斗部３の直管部３ｂの１ヶ所に集められやすい構造と
なっている。この直管部３ｂの下端には下端孔３０が形
成されており、蓋１６が閉じられていない場合は、漏斗
状のカス回収部１７と連通されるようになっている。
【００２２】直管部３ｂに堆積された液体原料２２のカ
スは、上下摺動用モータ６の駆動によって上下方向に移
動可能となっているカス押し出し棒４が、下方向に移動
されて直管部３ｂに挿入されることによって、直管部３
ｂ下端に押し出される。そして、直管部３ｂ下端に集め
られたカスは、蓋１６を開口させて、カス回収部１７か
ら排出され、完全に気化されないで残った液体原料２２
のカスの回収は容易に行うことができる。なお、集めら
れたカスは、図示しない真空ポンプをカス回収部１７に
連結させ、真空引きされて回収されることも可能であ
る。
スは、上下摺動用モータ６の駆動によって上下方向に移
動可能となっているカス押し出し棒４が、下方向に移動
されて直管部３ｂに挿入されることによって、直管部３
ｂ下端に押し出される。そして、直管部３ｂ下端に集め
られたカスは、蓋１６を開口させて、カス回収部１７か
ら排出され、完全に気化されないで残った液体原料２２
のカスの回収は容易に行うことができる。なお、集めら
れたカスは、図示しない真空ポンプをカス回収部１７に
連結させ、真空引きされて回収されることも可能であ
る。
【００２３】
【発明の効果】本発明のＣＶＤ装置は、以下のような効
果を有するものである。 （１）気化器の内部容積部底部の形状が漏斗状に形成さ
れたことにより、液体原料が完全に気化されないことに
よって発生した液体原料のカスは、漏斗部直管部に簡単
に集めることができる。そして、該直管部に排出された
カスは、前記直管部に上方に位置させた、該直管部に抜
き挿し自在に支持されたカス押し出し棒によって、該直
管部下方に押し込むことにより、直管部の下端の一箇所
からカスは簡単に排出され、メンテナンスは容易に行わ
れる。また、加熱気化された原料ガスを送り出す原料ガ
ス送出部は、前記直管部の側方から延びるように設けら
れたことにより、前記原料ガス送出部にカスが入り込む
のを防いでいる。 （２）気化器内部容積部の、液体原料が供給される部分
近傍には、傘状の原料ガイド部が設けられていることに
より、気化器内部容積部に供給された液体原料は、原料
ガイド部の傘状部分の表面に落下され、該原料ガイド部
の形状によって、さらに下方に落下される位置が制御さ
れるため、よりヒータに近い位置に落下されるように制
御されることも可能となり、液体原料は効率良く加熱気
化され、完全に気化されなかった液体原料のカスの発生
を減少させることができる。さらに、前記原料ガイド部
は、該原料ガイド部を回転させる回転駆動部に連接され
て回転されることにより、前記原料ガイド部に落下され
た液体原料は、前記原料ガイド部の回転運動によって、
気化器内部容積部の全ての方向に供給されるようにな
り、効率良く加熱気化されることができる。なお、前記
原料ガイド部は、前記カス押し出し棒と一体に設けるよ
うにしてもよい。 （３）気化器加熱手段は、円筒状に形成された前記内部
容積部及び前記漏斗部周囲に設けられたヒータブロック
部内部に配置された外側ヒータと、前記カス押し出し棒
内部に設けられた内側ヒータとからなり、気化器内部に
供給された液体原料は内部容積部内を落下される間加熱
され、内部容積部底部では、漏斗部のテーパ状底部によ
って、液体原料と加熱部分との接触面積が増加されるた
め、液体原料は効率良く加熱される。さらに、内部容積
部断面中心部分は、ヒータが設けられたカス押し出し棒
によって加熱されるため、気化器内部の温度ムラを極力
抑えることができる。
果を有するものである。 （１）気化器の内部容積部底部の形状が漏斗状に形成さ
れたことにより、液体原料が完全に気化されないことに
よって発生した液体原料のカスは、漏斗部直管部に簡単
に集めることができる。そして、該直管部に排出された
カスは、前記直管部に上方に位置させた、該直管部に抜
き挿し自在に支持されたカス押し出し棒によって、該直
管部下方に押し込むことにより、直管部の下端の一箇所
からカスは簡単に排出され、メンテナンスは容易に行わ
れる。また、加熱気化された原料ガスを送り出す原料ガ
ス送出部は、前記直管部の側方から延びるように設けら
れたことにより、前記原料ガス送出部にカスが入り込む
のを防いでいる。 （２）気化器内部容積部の、液体原料が供給される部分
近傍には、傘状の原料ガイド部が設けられていることに
より、気化器内部容積部に供給された液体原料は、原料
ガイド部の傘状部分の表面に落下され、該原料ガイド部
の形状によって、さらに下方に落下される位置が制御さ
れるため、よりヒータに近い位置に落下されるように制
御されることも可能となり、液体原料は効率良く加熱気
化され、完全に気化されなかった液体原料のカスの発生
を減少させることができる。さらに、前記原料ガイド部
は、該原料ガイド部を回転させる回転駆動部に連接され
て回転されることにより、前記原料ガイド部に落下され
た液体原料は、前記原料ガイド部の回転運動によって、
気化器内部容積部の全ての方向に供給されるようにな
り、効率良く加熱気化されることができる。なお、前記
原料ガイド部は、前記カス押し出し棒と一体に設けるよ
うにしてもよい。 （３）気化器加熱手段は、円筒状に形成された前記内部
容積部及び前記漏斗部周囲に設けられたヒータブロック
部内部に配置された外側ヒータと、前記カス押し出し棒
内部に設けられた内側ヒータとからなり、気化器内部に
供給された液体原料は内部容積部内を落下される間加熱
され、内部容積部底部では、漏斗部のテーパ状底部によ
って、液体原料と加熱部分との接触面積が増加されるた
め、液体原料は効率良く加熱される。さらに、内部容積
部断面中心部分は、ヒータが設けられたカス押し出し棒
によって加熱されるため、気化器内部の温度ムラを極力
抑えることができる。
【図１】本発明のＣＶＤ装置用気化器の一実施形態を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
【図２】図１の上方から見た平面図である。
【図３】従来のＣＶＤ装置用気化器の例を示す縦断面図
である。
である。
１ 気化器 ２ 内部容積部 ３ 漏斗部 ３ａ テーパ状底部 ３ｂ 直管部 ４ カス押し出し棒 ５ 原料ガイド部 ６ 上下摺動用モータ ７ 回転駆動部 ８ ヒータブロック部 ９ 外側ヒータ １０ 外側ヒータ １１ 内側ヒータ １２ 軸部 １３ 軸支持部 １４ ガイド部 １５ 摺動部 １６ 蓋 １７ カス回収部 ２０ 液体原料供給部 ２０ａ 液体原料出口部 ２１ キャリアガス供給部 ２３ 原料ガス送出部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片桐 学 兵庫県朝来郡生野町口銀谷字猪野々985番 地１ 三菱マテリアル株式会社生野製作所 内 Ｆターム(参考） 4K030 EA01 KA25 KA49 5F045 BB10 EE02 EK01
Claims (3)
- 【請求項１】 液体原料を気化器内部で加熱気化させて
原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応
チャンバ内に供給し、化学気相蒸着により該チャンバ内
に配置された基板上に反応生成物を成膜するＣＶＤ装置
に用いられる気化器において、ヒータブロック部に囲ま
れるように形成されてなる筒形状の内部容積部と、該内
部容積部下方に連続するように形成されたテーパ状底部
及び該底部の下端部に連通する直管部からなる漏斗部
と、該漏斗部の直管部側方から原料ガスを送り出す原料
ガス送出部と、前記漏斗部の直管部の上方に、該直管部
に抜き挿し自在に支持されたカス押し出し棒とが備えら
れていることを特徴とするＣＶＤ装置用気化器。 - 【請求項２】 前記気化器内部容積部の液体原料が供給
される部分近傍に、傘状の原料ガイド部が設けられ、該
原料ガイド部に、これを回転させる回転駆動部が連設さ
れていることを特徴とする請求項１に記載のＣＶＤ装置
用気化器。 - 【請求項３】 気化器加熱手段は、前記ヒータブロック
部内部に支持された外側ヒータと、前記カス押し出し棒
内部に、該カス押し出し棒長手方向に沿うように設けら
れた内側ヒータとからなることを特徴とする請求項１ま
たは２に記載のＣＶＤ装置用気化器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10288537A JP2000119859A (ja) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Ｃｖｄ装置用気化器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10288537A JP2000119859A (ja) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Ｃｖｄ装置用気化器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000119859A true JP2000119859A (ja) | 2000-04-25 |
Family
ID=17731529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10288537A Withdrawn JP2000119859A (ja) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Ｃｖｄ装置用気化器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000119859A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100934296B1 (ko) | 2004-09-30 | 2009-12-29 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 기화기, 가스 생성 장치 및 반도체 처리 시스템 |
| JP2010040868A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Tokyo Electron Ltd | 気化器およびそれを用いた成膜装置 |
| CN103380486A (zh) * | 2010-12-21 | 2013-10-30 | 株式会社渡边商行 | 汽化器 |
| KR101339600B1 (ko) * | 2011-08-18 | 2014-01-29 | 포아텍 주식회사 | 기화기 |
| US20160348238A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Film forming apparatus |
-
1998
- 1998-10-09 JP JP10288537A patent/JP2000119859A/ja not_active Withdrawn
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| JP6013917B2 (ja) * | 2010-12-21 | 2016-10-25 | 株式会社渡辺商行 | 気化器及び気化方法 |
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| JP2016225411A (ja) * | 2015-05-28 | 2016-12-28 | 株式会社東芝 | 成膜装置 |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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