JP2000117879A - Barrier film and laminated material using the same - Google Patents

Barrier film and laminated material using the same

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JP2000117879A
JP2000117879A JP10289017A JP28901798A JP2000117879A JP 2000117879 A JP2000117879 A JP 2000117879A JP 10289017 A JP10289017 A JP 10289017A JP 28901798 A JP28901798 A JP 28901798A JP 2000117879 A JP2000117879 A JP 2000117879A
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film
thin film
vapor
deposited
inorganic oxide
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Hitoshi Fujii
均 藤井
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a barrier film enhanced in the close adhesiveness with a vapor deposition film of inorg. oxide, enhanced in gas barrier properties to oxygen gas and steam and enhanced in transparency, heat resistance, flexibility or laminate strength and a laminated material using the same. SOLUTION: A barrier film is characterized by that a vapor deposition membrane 3 of inorg. oxide due to a chemical gas phase growing method is provided on one surface of a base material film 2 and a vapor deposition membrane 4 of inorg. oxide due to a physical gas phase growing method is provided on the vapor deposition membrane 3 of inorg. oxide and a coating film comprising a resin compsn. containing an ethylene/vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle and also containing at least one kind of a polymer rich in the close adhesiveness with the vapor deposition membrane 3 of inorg. oxide is provided on the vapor deposition membrane 4 of inorg. oxide and a laminated material using the barrier film is provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バリア性フィルム
およびそれを使用した積層材に関し、更に詳しくは、無
機酸化物の蒸着薄膜との密接着性を改良し、その酸素ガ
スおよび水蒸気等に対するバリア性に優れ、更に、透明
性、耐熱性、柔軟性、ラミネ−ト強度等に優れたバリア
性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a barrier film and a laminated material using the same, and more particularly, to a film having improved adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, and a barrier against oxygen gas and water vapor. The present invention relates to a barrier film having excellent transparency, heat resistance, flexibility, and laminate strength, and a laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、飲食品、医薬品、化学薬品、日用
品、雑貨品、その他等の種々の物品を充填包装するため
に、種々の包装用材料が、開発され、提案されている。
而して、上記の包装用材料は、内容物の変質等を防止す
るため、主に、酸素ガスあるいは水蒸気ガスに対する遮
断性、いわゆる、ガスバリア性が強く要求されるもので
ある。ところで、酸素ガスあるいは水蒸気ガス等に対す
るバリア性素材としては、例えば、アルミニウム箔、あ
るいは、プラスチックフィルムの上にアルミニウムを真
空蒸着法等により真空蒸着してなるアルミニウム蒸着樹
脂フィルム、更に、ポリ塩化ビニリデン系樹脂あるいは
塩化ビニリデンと他のモノマ−との共重合体樹脂からな
るフィルム若しくはプラスチックフィルムの表面にポリ
塩化ビニリデン系樹脂をコ−トした樹脂フィルム、ある
いは、ポリビニルアルコ−ルあるいはエチレン−酢酸ビ
ニル共重合体のケイ化物からなるフィルム、更にまた、
プラスチックフィルム等の基材フィルムの一方の面に、
真空蒸着法等の物理気相成長法(PVD法)を用いて、
例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着膜を設けた蒸着フィルム、若しくは、低温プラズマ
化学蒸着法等の化学気相成長法(CVD法)を用いて、
例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の
蒸着膜を設けた蒸着フィルム等が知られている。これら
のバリア性素材は、他のプラスチックフィルム、あるい
は、紙基材、その他等の素材と積層し、例えば、飲食
品、医薬品、化学薬品、日用品、雑貨品、その他等の種
々の物品を充填包装するに有用な包装用材料を提供して
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, various packing materials have been developed and proposed for filling and packaging various articles such as food and drink, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, and the like.
In order to prevent the contents from deteriorating or the like, the above-mentioned packaging material is strongly required to have mainly a barrier property against oxygen gas or water vapor gas, that is, a so-called gas barrier property. By the way, as a barrier material against oxygen gas or water vapor gas, for example, aluminum foil, or an aluminum-deposited resin film obtained by vacuum-depositing aluminum on a plastic film by a vacuum deposition method or the like, and a polyvinylidene chloride-based material Resin or a film of a copolymer resin of vinylidene chloride and another monomer or a resin film in which a polyvinylidene chloride resin is coated on the surface of a plastic film, or polyvinyl alcohol or ethylene-vinyl acetate copolymer A film made of coalesced silicide,
On one side of a base film such as a plastic film,
Using a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum evaporation method,
For example, using a vapor deposition film provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, or a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a low-temperature plasma chemical vapor deposition method,
For example, a deposition film provided with a deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide and aluminum oxide is known. These barrier materials are laminated with other plastic films or materials such as paper base materials, etc., for example, and filled and packed with various articles such as food and drink, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, etc. To provide useful packaging materials.

【0003】[0003]

【発明が解決しよとする課題】しかしながら、上記のよ
うなバリア性素材は、確かに、酸素ガスバリア性、水蒸
気ガスバリア性等を有し、それなりの効果を期待し得る
ものであるが、未だに、充分に満足し得るものではない
と言うのが実状である。例えば、上記のアルミニウム箔
については、酸素ガス、水蒸気ガス等に対するガスバリ
ア性は極めて優れているバリア性素材であるが、現在、
使用後の廃棄処理が問題になっている他、更に、基本的
には、不透明な素材であることから、内容物を充填包装
した包装製品において、外から内容物を視認し得ないと
いう問題点がある。次に、上記のプラスチックフィルム
の上にアルミニウムを真空蒸着法等により真空蒸着して
なるアルミニウム蒸着樹脂フィルムについては、上記の
アルミニウム箔と同様に、使用後の廃棄処理、外から内
容物を視認し得ないという問題点があるばかりではな
く、ガスバリア性はアルミニウム箔よりも劣るため、必
ずしも満足し得るバリア性素材ではない。
However, the above-mentioned barrier materials have oxygen gas barrier properties, water vapor gas barrier properties, etc., and can be expected to have a certain effect. The fact is that it is not satisfactory enough. For example, the above-mentioned aluminum foil is a gas barrier material having an excellent gas barrier property against oxygen gas, water vapor gas, and the like.
In addition to the problem of disposal after use, there is also the problem that the contents cannot be visually recognized from the outside in the packaged product filled with the contents because it is basically an opaque material. There is. Next, as for the aluminum-deposited resin film obtained by vacuum-depositing aluminum on the plastic film by a vacuum deposition method or the like, similarly to the aluminum foil described above, the contents are discarded after use, and the contents are visually recognized from the outside. Not only is there a problem that it cannot be obtained, but the gas barrier property is inferior to that of aluminum foil, so that it is not necessarily a satisfactory barrier material.

【0004】更に、上記のポリ塩化ビニリデン系樹脂あ
るいは塩化ビニリデンと他のモノマ−との共重合体樹脂
からなるフィルム若しくはプラスチックフィルムの表面
にポリ塩化ビニリデン系樹脂をコ−トした樹脂フィルム
については、樹脂系のバリア性素材として広く使用され
ているが、使用後の焼却処理において塩素系ガスを発生
することから、環境保護の点において好ましくなく、更
に、樹脂系であることから、ガスバリア性が必ずしも十
分ではなく、高度のバリア性が要求される内容物の充填
包装には使用できないと言うのが実状である。次に、上
記のポリビニルアルコ−ルあるいはエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体のケン化物からなるフィルムについては、絶
乾条件においては、比較的優れた酸素ガスバリア性を示
すが、水蒸気ガスバリア性は十分ではなく、また、湿度
条件下においては、酸素ガスバリア性も著しく悪化し、
現実的な条件下では十分に満足し得るバリア性素材とは
言い得ないものである。上記の湿度依存性を改良するた
めに、種々の方法等が開発され、提案されているが、例
えば、真空蒸着法等を利用し、酸化珪素等の無機酸化物
の蒸着膜を蒸着する方法等が提案されているが、湿度7
0%以上の高湿度条件下では酸素ガスバリア性の悪化を
改善することはできないものである(特開平4−713
9号公報参照)。
Further, regarding the above-mentioned polyvinylidene chloride-based resin, a film made of a copolymer resin of vinylidene chloride and another monomer or a plastic film coated with a polyvinylidene chloride-based resin on the surface thereof, It is widely used as a resin-based barrier material, but it is not preferable in terms of environmental protection because it generates chlorine-based gas in incineration treatment after use. In fact, it is not sufficient and cannot be used for filling and packaging contents that require a high level of barrier properties. Next, the film composed of the above-mentioned polyvinyl alcohol or a saponified ethylene-vinyl acetate copolymer shows relatively excellent oxygen gas barrier properties under absolute dry conditions, but has insufficient steam gas barrier properties. Also, under humidity conditions, the oxygen gas barrier properties also deteriorate significantly,
Under practical conditions, it cannot be said that the material is a sufficiently satisfactory barrier material. In order to improve the above-described humidity dependency, various methods and the like have been developed and proposed. For example, a method of depositing a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide using a vacuum deposition method or the like. Has been proposed, but humidity 7
Under high humidity conditions of 0% or more, deterioration of oxygen gas barrier properties cannot be improved (Japanese Patent Laid-Open No. 4-713).
No. 9).

【0005】次にまた、上記のプラスチックフィルム等
の基材フィルムの一方の面に、真空蒸着法等の物理気相
成長法(PVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィ
ルムについては、酸素ガス、水蒸気ガス等に対するガス
バリア性が、格段に向上するか否かは、基材フィルムが
有する耐熱性によることが大であるものである。例え
ば、基材フィルムとして、ポリエチレンテレフタレ−ト
フィルム等の耐熱性を有する基材フィルムを使用する場
合には、真空蒸着法等により良好に蒸着膜を形成し、酸
素ガス等に対するガスバリア性等の効果を向上させるこ
とが可能である。しかし、例えば、2軸延伸ポリプロピ
レンフィルム、無延伸ポリプロピレンフィルム、あるい
は、低密度ポリエチレンフィルム等の耐熱性に劣る基材
フィルムを使用する場合には、真空蒸着法等により蒸着
膜を形成することは義樹的に可能であるが、酸素ガス等
のガスバリア性等の効果を向上させることは困難であ
り、必ずしも、充分に満足し得るものであるとは言い得
ないものである。更に、上記の基材フィルムとして、例
えば、ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した
ものは、該ポリエチレンテレフタレ−トフィルムが、剛
性を有し、硬く、更に、フィルムにしわ等を発生し易
く、このため、柔軟性等を要求される包装用材料には不
向きであるという問題点がある。
Next, on one surface of the above-mentioned base film such as a plastic film, an inorganic material such as silicon oxide, aluminum oxide or the like is formed by a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum evaporation method. In the case of a vapor-deposited film provided with an oxide vapor-deposited film, whether or not the gas barrier properties against oxygen gas, water vapor gas, and the like are significantly improved depends largely on the heat resistance of the base film. For example, when a heat-resistant base film such as a polyethylene terephthalate film is used as the base film, a vapor-deposited film is formed favorably by a vacuum vapor deposition method or the like, and the effect such as gas barrier property against oxygen gas and the like is obtained. Can be improved. However, when using a base film having poor heat resistance such as a biaxially stretched polypropylene film, a non-stretched polypropylene film, or a low-density polyethylene film, forming a vapor-deposited film by a vacuum vapor deposition method or the like is not suitable. Although it is possible, it is difficult to improve the effects such as the gas barrier property of oxygen gas or the like, and it cannot be said that it is always satisfactory. Further, as the above-mentioned base film, for example, when a polyethylene terephthalate film is used, the polyethylene terephthalate film has rigidity, is hard, and is liable to generate wrinkles or the like on the film. However, there is a problem that it is not suitable for packaging materials requiring flexibility and the like.

【0006】更にまた、上記のプラスチックフィルム等
の基材フィルムの一方の面に、低温プラズマ化学蒸着法
等の化学気相成長法(CVD法)を用いて、例えば、酸
化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設
けた蒸着フィルムについては、蒸着膜の形成時に、基材
フィルムに対する熱的ダメ−ジが少なく、種々のプラス
チックフィルムに無機酸化物の蒸着膜を形成することが
できるという利点を有するものであり、近年、非常に注
目されているものである。例えば、耐熱性に劣るポリオ
レフィン系樹脂成形品にプラズマ化学蒸着法を利用して
酸化珪素の蒸着膜を形成する方法が提案されている(特
開平5−287103号公報参照)。しかしながら、上
記の方法において、シ−ラントフィルムを積層した後に
おいては、酸素ガスバリア性は、5cc/m2 以上であ
り、必ずしも充分に満足し得る酸素ガスバリア性を達成
することができるとは言い得ないというのが実状であ
る。また、上記において、酸素ガスバリア性を向上させ
るために、無機酸化物の蒸着膜の膜厚を1000Å以上
に形成しなければならず、而して、このような場合に
は、耐熱性に劣るポリオレフィン系樹脂フィルムのプラ
ズマ反応による強度劣化の問題点を解決しなければなら
ないという問題点がある。更に、無機酸化物の蒸着膜の
膜厚を厚くすると、蒸着フィルム自身が、黄色味を呈
し、飲食品等を充填包装する包装用材料として使用する
場合には、商品性に影響を与えるという問題点もある。
Further, a chemical vapor deposition (CVD) method such as a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition (CVD) method is applied to one surface of the base film such as the plastic film to form, for example, silicon oxide or aluminum oxide. With respect to a vapor-deposited film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide, it is said that, during the formation of the vapor-deposited film, the thermal damage to the base film is small, and the vapor-deposited film of the inorganic oxide can be formed on various plastic films. It has advantages and has attracted much attention in recent years. For example, there has been proposed a method of forming a silicon oxide vapor-deposited film on a polyolefin resin molded article having poor heat resistance by using a plasma chemical vapor deposition method (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-287103). However, in the above method, after laminating the sealant film, the oxygen gas barrier property is 5 cc / m 2 or more, and it can be said that a sufficiently satisfactory oxygen gas barrier property can always be achieved. The fact is that there is no such thing. Further, in the above, in order to improve the oxygen gas barrier property, the thickness of the inorganic oxide vapor-deposited film must be formed to 1000 ° or more, and in such a case, the polyolefin having poor heat resistance. There is a problem that it is necessary to solve the problem of strength deterioration due to the plasma reaction of the base resin film. Further, when the thickness of the deposited film of the inorganic oxide is increased, the deposited film itself exhibits a yellow tint, and when used as a packaging material for filling and packaging foods and drinks, there is a problem that the commercial product is affected. There are points.

【0007】更にまた、上記の真空蒸着法等の物理気相
成長法(PVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィ
ルム、若しくは、低温プラズマ化学蒸着法等の化学気相
成長法(CVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィ
ルム等においては、その蒸着膜を形成後、更に、該蒸着
膜の上に、例えば、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体等のバリア性樹脂を使用し、そのバリア性樹脂による
塗布膜あるいは積層膜を設けて2層からなるバリア性膜
を形成し、そのガスバリア性を更に向上させることも提
案されているが、蒸着膜とバリア性樹脂による塗布膜あ
るいは積層膜との密接着性が悪く、そのラミネ−ト適性
に欠け、デラミ等の現象が発生し、充分に満足し得るも
のであるとは言い得ないのが実状である。そこで本発明
は、無機酸化物の蒸着膜との密接着性を改良し、その酸
素ガスおよび水蒸気ガス等に対するガスバリア性に優
れ、更に、透明性、耐熱性、柔軟性、ラミネ−ト適性等
に優れたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材
を提供することである。
Further, using a physical vapor deposition method (PVD method) such as the above-described vacuum deposition method, for example, a deposition film provided with a deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, or a low-temperature deposition film. For example, in a vapor-deposited film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide using a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a plasma-enhanced chemical vapor deposition method, after forming the vapor-deposited film, Further, a barrier resin such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used on the deposited film, and a coating film or a laminated film of the barrier resin is provided to form a two-layer barrier film. Further, it has been proposed to further improve the gas barrier property, but the tight adhesion between the deposited film and the coating film or the laminated film made of the barrier resin is poor, and the laminating suitability is lacking. Phenomenon occurs, and it is capable of sufficiently satisfactory is the actual situation that not say. Therefore, the present invention improves the close adhesion of the inorganic oxide to the vapor-deposited film, has excellent gas barrier properties against oxygen gas and water vapor gas, and has further improved transparency, heat resistance, flexibility, and laminating suitability. An object of the present invention is to provide an excellent barrier film and a laminated material using the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究の結果、化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜と、物理気相成長法による
無機酸化物の蒸着薄膜と、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に富むポリマ−とに着目し、まず、基材フィルム
の一方の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物
理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に
また、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニ
ルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分とし、これ
と、少なくとも、上記の無機酸化物の蒸着薄膜との密接
着性に富むポリマ−の1種ないしそれ以上を含む樹脂組
成物によるコ−ティング膜を設けてバリア性フィルムを
製造し、而して、該バリア性フィルムに、他のプラスチ
ックフィルム、あるいは、紙基材、その他等の素材を任
意に積層して積層材を製造し、次に、該積層材を使用
し、これを製袋ないし製函して包装用容器を製造し、該
包装用容器内に、例えば、飲食品、医薬品、化学薬品、
日用品、雑貨品、その他等の種々の物品を充填包装して
包装製品を製造したところ、無機酸化物の蒸着薄膜との
密接着性を改良し、その酸素ガスおよび水蒸気等に対す
るガスバリア性に優れ、内容物の変質、改質等を防止し
て安定的に長期間の流通、保存適性等を有し、また、透
明性に優れているので、外から内容物を視認し得ること
ができ、更に、柔軟性、耐熱性、ラミネ−ト強度等に優
れ破袋等もなく、極めて優れた良好な包装製品を安価に
製造し得ることができる有用なバリア性フィルムおよび
これを使用した積層材を見出して本発明を完成したもの
である。
As a result of various studies to solve the above problems, the present inventor has found that an inorganic oxide vapor-deposited thin film by chemical vapor deposition and an inorganic oxide by physical vapor deposition. Focusing on a polymer having a high adhesion between a vapor-deposited thin film of an oxide and a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, first, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide formed by chemical vapor deposition on one surface of a substrate film. Is further provided on the vapor-deposited thin film of inorganic oxide, and a vapor-deposited thin film of inorganic oxide is provided on the vapor-deposited thin film of inorganic oxide by physical vapor deposition. A coating film of a resin composition containing a copolymer as a main component of a vehicle and at least one or more polymers having high adhesion to a vapor-deposited thin film of the above-described inorganic oxide is provided. To produce a barrier film, and A laminated film is manufactured by arbitrarily laminating a material such as another plastic film or a paper base material or the like on the rear film, and then using the laminated material, bag-forming or box-forming the laminated material. To produce a packaging container, in the packaging container, for example, food and drink, pharmaceuticals, chemicals,
Various products such as daily necessities, miscellaneous goods, etc. were filled and packaged to produce a packaged product, which improved the tight adhesion with the inorganic oxide vapor-deposited thin film, and had excellent gas barrier properties against oxygen gas and water vapor, Prevents alteration of contents, modification, etc., has a long-term stable distribution, storage suitability, etc., and also has excellent transparency, so that contents can be visually recognized from the outside. A useful barrier film which is excellent in flexibility, heat resistance, laminating strength, etc., does not have bag breakage, etc. and can produce extremely excellent good packaging products at low cost, and a laminated material using the same. Thus, the present invention has been completed.

【0009】すなわち、本発明は、基材フィルムの一方
の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、また、該無
機酸化物の蒸着薄膜の上に、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体をビヒクルの主成分とし、これと、少なくと
も、上記の無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に富むポ
リマ−の1種ないしそれ以上を含む樹脂組成物によるコ
−ティング膜を設けたことを特徴とするバリア性フィル
ムおよびそれを使用した積層材に関するものである。
That is, according to the present invention, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one surface of a substrate film by a chemical vapor deposition method. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided by a method, and an ethylene-vinyl alcohol-
And a coating film of a resin composition containing at least one polymer having high adhesion to at least the above-mentioned vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. The present invention relates to a barrier film provided and a laminate using the same.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかるバリア
性フィルムおよびそれを使用した積層材についてその層
構成を図面を用いて更に具体的に説明すると、図1は、
本発明にかかるバリア性フィルムの層構成についてその
一例を例示する概略的断面図であり、図2は、本発明に
かかる積層材の層構成についてその一例を例示する概略
的断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below with reference to the drawings. The layer structure of the barrier film according to the present invention and the laminated material using the same will be described more specifically with reference to the drawings.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a barrier film according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a laminate according to the present invention.

【0011】まず、本発明にかかるバリア性フィルム1
は、図1に示すように、基材フィルム2の一方の面に、
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜3を設け、
更に、該無機酸化物の蒸着薄膜3の上に、物理気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜4を設け、更にまた、該
無機酸化物の蒸着薄膜4の上に、エチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体をビヒクルの主成分とし、これと、少な
くとも、上記の無機酸化物の蒸着薄膜4との密接着性に
富むポリマ−の1種ないしそれ以上を含む樹脂組成物に
よるコ−ティング膜5を設けた構成からなることを基本
構造とするものである。次に、本発明にかかる積層材1
aとしては、図2に示すように、上記の図1に示すバリ
ア性フィルム1を構成するコ−ティング膜5の面に、必
要ならば、印刷絵柄層6を設け、更に、該印刷絵柄層6
を含む全面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層7を
設けた構成からなることを基本構造とするものである。
なお、図2において、符号2、3、4等は、前述と同じ
意味である。上記の例示は、本発明にかかるバリア性フ
ィルムおよび積層材についてその一例を例示するもので
あり、本発明はこれにより限定されるものではない。例
えば、図示しないが、上記の積層材においては、充填包
装する内容物、その使用目的等に応じて、他のプラスチ
ックフィルム、紙基材、その他等を、所望の位置に任意
に積層して積層材を製造することができるものである。
First, the barrier film 1 according to the present invention
As shown in FIG. 1, on one surface of the base film 2,
Providing a vapor-deposited thin film 3 of inorganic oxide by chemical vapor deposition,
Further, on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 3, an inorganic oxide vapor-deposited thin film 4 is provided by physical vapor deposition, and on the inorganic oxide vapor-deposited thin film 4, ethylene-vinyl alcohol is further deposited. Coating film 5 made of a resin composition containing a copolymer as a main component of a vehicle and at least one or more polymers having high adhesion to at least the above-mentioned vapor-deposited thin film 4 of an inorganic oxide. Is provided as a basic structure. Next, the laminated material 1 according to the present invention
As a, as shown in FIG. 2, a printing pattern layer 6 is provided on the surface of the coating film 5 constituting the barrier film 1 shown in FIG. 6
The basic structure is that at least a heat-sealing resin layer 7 is provided on the entire surface including the above.
In FIG. 2, reference numerals 2, 3, 4 and the like have the same meaning as described above. The above exemplification is an example of the barrier film and the laminate according to the present invention, and the present invention is not limited thereto. For example, although not shown, in the above-mentioned laminated material, other plastic films, paper substrates, etc. are arbitrarily laminated at desired positions according to the contents to be filled and packaged, the purpose of use, and the like. Materials can be manufactured.

【0012】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、および、積層材を構成する素材、材
料、製造法等について説明すると、まず、本発明にかか
るバリア性フィルム、あるいは、積層材を構成する基材
フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−
酢酸ビニル共重合体のケン化部等のポリビニルアルコ−
ル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル系樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブ
チラ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂
のフィルムないしシ−トを使用することができる。而し
て、本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−
トとしては、例えば、上記の樹脂の1種ないしそれ以上
を使用し、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の
製膜化法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化する方
法、あるいは、2種以上の異なる樹脂を使用して多層共
押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使
用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等によ
り、樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、例え
ば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利
用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる樹脂のフィル
ムないしシ−トを使用することができる。本発明におい
て、基材フィルムの膜厚としては、5〜200μm位、
より好ましくは、10〜50μm位が望ましい。なお、
上記において、樹脂の製膜化に際して、例えば、フィル
ムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定
性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電
気的特性、その他等を改良、改質する目的で、種々のプ
ラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、そ
の添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的
に応じて、任意に添加することができる。また、上記に
おいて、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用
樹脂等も使用することがてきる。
Next, in the present invention, the barrier film according to the present invention and the material, material, manufacturing method and the like constituting the laminated material will be described. First, the barrier film according to the present invention or the laminated material Examples of the base film include: polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamide resins; polycarbonate resins; and polystyrene. Resin, polyvinyl alcohol, ethylene-
Polyvinyl alcohol such as saponified part of vinyl acetate copolymer
Uses films or sheets of various resins such as vinyl resin, polyacrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, fluorine resin, etc. can do. Thus, in the present invention, the above resin film or sheet is used.
For example, a method in which one or more of the above resins are used and the above resins are formed alone by using a film forming method such as an inflation method, a T-die method, or the like. Alternatively, a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more different resins, or a method of mixing and forming a film before forming a film using two or more resins. , A resin film or sheet is produced, and further stretched in a uniaxial or biaxial direction by using, for example, a tenter method or a tuber method. Can be used. In the present invention, the thickness of the base film is about 5 to 200 μm,
More preferably, about 10 to 50 μm is desirable. In addition,
In the above, at the time of film formation of the resin, for example, the workability of the film, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slip properties, mold release properties, flame retardancy, mold resistance, Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying the electric characteristics and others, and the amount of addition can be from a very small amount to several tens% depending on the purpose. And can be arbitrarily added. Further, in the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a filler, a reinforcing agent, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, Fungicides,
Pigments, others, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used.

【0013】また、本発明において、基材フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、基材フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム、
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、また
は、2軸延伸ナイロンフィルムを使用することが望まし
いものである。
In the present invention, the base film is
If necessary, for example, corona discharge treatment, ozone treatment,
Pretreatment such as low-temperature plasma treatment using oxygen gas, nitrogen gas, or the like, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like, and the like can be arbitrarily performed. The surface pre-treatment may be performed in a separate step before forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.For example, in the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, As a pretreatment for forming a vapor-deposited thin film of oxide, pretreatment can be performed by in-line treatment. In such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is carried out as a method for improving the adhesion between the base film and the deposited thin film of the inorganic oxide. On the surface of the material film, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, a vapor-deposited anchor coat agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance. As the coating agent layer for the above pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method for forming the coating agent layer, for example, a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is used, and a roll coating method, a gravure roll coating is used. The coating can be performed by using a coating method such as a coating method, a kiss coating method, or the like. It can be carried out by in-line processing or the like of axial stretching processing. In the present invention, as the substrate film, specifically, a biaxially stretched polypropylene film,
It is desirable to use a biaxially oriented polyethylene terephthalate film or a biaxially oriented nylon film.

【0014】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、あるいは、積層材を構成する化学気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気
相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Ch
emical Vapor Deposition法、
CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形成する
ことができる。本発明においては、具体的には、基材フ
ィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ
−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガ
ス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素
供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発
生装置等を利用するプラズマ化学気相成長法(CVD
法)を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成
することができる。上記において、低温プラズマ発生装
置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズ
マ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することが
てき、而して、本発明においては、高活性の安定したプ
ラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生
装置を使用することが望ましい。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide formed by the chemical vapor deposition method constituting the barrier film or the laminated material according to the present invention will be described. Examples of the deposited thin film of a substance include chemical vapor deposition (Ch) such as plasma enhanced chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition.
electrical Vapor Deposition method,
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide can be formed using, for example, a CVD method. In the present invention, specifically, on one surface of the base film, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas. Further, an oxygen gas or the like is used as an oxygen supply gas, and a plasma-enhanced chemical vapor deposition (CVD) method using a low-temperature plasma generator or the like.
Method) to form a deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide. In the above description, as the low-temperature plasma generator, for example, a generator such as a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, or a microwave plasma can be used. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【0015】具体的に、上記のプラズマ化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその一例
を例示して説明すると、図3は、上記のプラズマ化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法について
その概要を示すプラズマ化学気相成長装置の概略的構成
図である。上記の図3に示すように、本発明において
は、プラズマ化学気相成長装置11の真空チャンバ−1
2内に配置された巻き出しロ−ル13から基材フィルム
2を繰り出し、更に、該基材フィルム2を、補助ロ−ル
14を介して所定の速度で冷却・電極ドラム15周面上
に搬送する。而して、本発明においては、ガス供給装置
16、17および、原料揮発供給装置18等から酸素ガ
ス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
ス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス
組成物を調整しなから原料供給ノズル19を通して真空
チャンバ−12内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、
そして、上記の冷却・電極ドラム15周面上に搬送され
た基材フィルム2の上に、グロ−放電プラズマ20によ
ってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等
の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化する。本発明
においては、その際に、冷却・電極ドラム15は、チャ
ンバ−外に配置されている電源21から所定の電力が印
加されており、また、冷却・電極ドラム15の近傍に
は、マグネット22を配置してプラズマの発生が促進さ
れており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物の蒸
着薄膜を形成した基材フィルム2は、補助ロ−ル23を
介して巻き取りロ−ル24に巻き取って、本発明にかか
るプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を製造することができるものである。なお、図中、25
は、真空ポンプを表す。上記の例示は、その一例を例示
するものであり、これによって本発明は限定されるもの
ではないことは言うまでもないことである。
More specifically, an example of a method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by the above-described plasma enhanced chemical vapor deposition method will be described. FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a deposited thin film of a substance. As shown in FIG. 3 described above, in the present invention, the vacuum chamber-1 of the plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 11 is used.
The base film 2 is fed out from an unwinding roll 13 disposed in the inside 2, and the base film 2 is further cooled at a predetermined speed on the peripheral surface of the electrode drum 15 via an auxiliary roll 14. Transport. In the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 16 and 17 and the raw material volatile supply device 18 and the like. While adjusting the mixed gas composition for vapor deposition, the mixed gas composition for vapor deposition was introduced into the vacuum chamber 12 through the raw material supply nozzle 19,
Then, a plasma is generated by the glow discharge plasma 20 on the substrate film 2 conveyed on the cooling / electrode drum 15 peripheral surface, and the plasma is irradiated to deposit the inorganic oxide such as silicon oxide. A thin film is formed and formed into a film. In the present invention, at this time, a predetermined power is applied to the cooling / electrode drum 15 from a power source 21 disposed outside the chamber, and a magnet 22 is provided near the cooling / electrode drum 15. Then, the base film 2 on which the deposited thin film of the inorganic oxide such as silicon oxide is formed is wound up through the auxiliary roll 23 and the roll 24 is formed. To produce a deposited thin film of inorganic oxide by the plasma enhanced chemical vapor deposition method according to the present invention. In the figure, 25
Represents a vacuum pump. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby.

【0016】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
In the above, a monomer for vapor deposition of an organic silicon compound or the like forming a vapor deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide.
As the gas, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its characteristics and the like. In the above description, as the inert gas, for example, argon gas, helium gas, or the like can be used.

【0017】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が基材フィル
ムの上に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成
することができ、通常、一般式SiOX (ただし、X
は、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とす
る連続状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般
式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表
す。)で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜で
あることが好ましいものである。上記において、Xの値
は、モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネ
ルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さく
なればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯
び、透明性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜は、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として
有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、
または、その両者の元素を微量構成元素として含有する
酸化珪素の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å
〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と
微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に
変化しているものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着
薄膜は、炭素からなる化合物を含有する場合には、その
膜厚の深さ方向において炭素の含有量が減少しているこ
とを特徴とするものである。而して、本発明において、
上記の酸化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線光電
子分光装置(Xray Photoelectron
Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量
分析装置(Secondary Ion Mass S
pectroscopy、SIMS)等の表面分析装置
を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析す
る方法を利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行
うことより、上記のような物性を確認することができる
ものである。また、本発明において、上記の酸化珪素の
蒸着薄膜の膜厚としては、膜厚500Å以下であること
が望ましく、具体的には、その膜厚としては、50〜5
00Å位、より好ましくは、100〜300Å位が望ま
しく、而して、上記において、300Å、更には、50
0Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易く
なるので好ましくなく、また、100Å、更には、50
Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難に
なることから好ましくないものである。上記のおいて、
その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装
置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメ
ンタルパラメ−タ−法で測定することができる。また、
上記において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の膜厚を変更
する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくするこ
と、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方
法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことが
できる。なお、上記の基材フィルム等のように、耐熱性
の劣る基材フィルムにプラズマ化学気相成長法により無
機酸化物の薄膜を形成する場合には、蒸着速度を遅くす
ると、プラズマに暴露される時間が長くなり、基材フィ
ルム等が劣化するので好ましくなく、一般的には、50
〜200n/minの蒸着速度で蒸着膜を形成すること
が好ましい。
In the present invention, the silicon oxide vapor-deposited thin film formed as described above undergoes a chemical reaction between a monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas, and the reaction product is closely adhered to the substrate film. and dense, it is possible to form a thin film rich in flexibility or the like, usually, the general formula SiO X (provided that, X
Represents a number of 0 to 2). Thus, the above-mentioned vapor-deposited thin film of silicon oxide is represented by the general formula SiO X (where X represents a number of 1.3 to 1.9) from the viewpoint of transparency, barrier properties and the like. It is preferably a thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film. In the above, the value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, etc. In general, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself has It has a yellow color and poor transparency. Further, the above-described deposited silicon oxide thin film has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and further has one of carbon (C) and hydrogen (H);
Alternatively, it is composed of a deposited film of silicon oxide containing both elements as trace constituent elements and has a thickness of 50 °.
And the constituent ratio between the essential constituent elements and the trace constituent elements changes continuously in the film thickness direction. Further, when the silicon oxide vapor-deposited thin film contains a compound made of carbon, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness. Thus, in the present invention,
Regarding the above-mentioned silicon oxide vapor-deposited thin film, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron)
Spectroscopy, XPS), Secondary Ion Mass Spectrometer (Secondary Ion Mass S)
The above physical properties are confirmed by performing elemental analysis of a deposited silicon oxide thin film using a method of analyzing the surface by ion etching in the depth direction using a surface analyzer such as a Spectroscopy (SIMS). Is what you can do. In the present invention, the thickness of the deposited silicon oxide thin film is desirably 500 ° or less, and specifically, the thickness is 50 to 5 mm.
The position is preferably around 00 °, more preferably around 100 to 300 °.
If the thickness is greater than 0 °, cracks and the like are likely to occur in the film, which is not preferable.
If it is less than Å, it is not preferable because it is difficult to exhibit the effect of the barrier property. In the above,
The film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. Also,
In the above, as means for changing the thickness of the deposited silicon oxide thin film, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or reducing the deposition rate It can be performed by a method or the like. In the case where a thin film of an inorganic oxide is formed by a plasma enhanced chemical vapor deposition method on a substrate film having poor heat resistance, such as the above-described substrate film, when the deposition rate is reduced, the substrate is exposed to plasma. It is not preferable because the time is long and the base film is deteriorated.
It is preferable to form a deposited film at a deposition rate of 200 to 200 n / min.

【0018】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、あるいは、積層材を構成する物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレ−ティング法等の物理気相成長法(Physi
cal Vapor Deposition法、PVD
法)を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形成することがで
きる。本発明において、具体的には、金属の酸化物を原
料とし、これを加熱して基材フィルムの上に蒸着する真
空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物
を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの上
に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで
助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸
着膜を形成することができる。本発明において、物理気
相成長法による無機酸化物の薄膜薄膜を形成する方法に
ついて、その具体例を挙げると、図4は、巻き取り式真
空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。図4に示
すように、巻き取り式真空蒸着装置51の真空チャンバ
−52の中で、巻き出しロ−ル53から繰り出す化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を有する基材フィ
ルム2は、ガイドロ−ル54、55を介して、冷却した
コ−ティングドラム56に案内される。而して、上記の
冷却したコ−ティングドラム56上に案内された化学気
相成長法による無機酸化酸化物の蒸着薄膜を有する基材
フィルム2の無機酸化物の蒸着薄膜の上に、るつぼ57
で熱せられた蒸着源58、例えば、金属アルミニウム、
あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要
ならば、酸素ガス吹出口59より酸素ガス等を噴出し、
これを供給しながら、マスク60、60を介して、例え
ば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を成膜
化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウ
ム等の無機酸化物の蒸着薄膜を、上記の化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜の上に形成した基材フィル
ム2を、ガイドロ−ル55′、54′を介して送り出
し、巻き取りロ−ル61に巻き取ることによって、本発
明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
を形成することができる。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide formed by the physical vapor deposition method constituting the barrier film or the laminated material according to the present invention will be described. For example, a physical vapor deposition method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method (Physi
cal Vapor Deposition method, PVD
Method) to form a deposited thin film of an inorganic oxide. In the present invention, specifically, a metal oxide is used as a raw material, and a vacuum evaporation method in which the metal oxide is heated and vapor-deposited on a base film, or a metal or a metal oxide is used as a raw material, and oxygen is used. The vapor deposition film can be formed by an oxidation reaction vapor deposition method of introducing and oxidizing and vapor-depositing on the substrate film, and a plasma-assisted oxidation reaction vapor deposition method of promoting the oxidation reaction by plasma. In the present invention, a specific example of a method of forming a thin film of an inorganic oxide by physical vapor deposition is shown in FIG. 4. FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of a roll-up type vacuum evaporation apparatus. As shown in FIG. 4, in a vacuum chamber 52 of a take-up type vacuum deposition apparatus 51, a base film 2 having a deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method unwound from an unwinding roll 53 is formed. , Are guided to a cooled coating drum 56 via guide rollers 54 and 55. Thus, the crucible 57 is placed on the deposited inorganic oxide thin film of the base film 2 having the deposited inorganic oxide thin film formed by chemical vapor deposition guided on the cooled coating drum 56.
A deposition source 58 heated at, for example, metal aluminum,
Alternatively, aluminum oxide or the like is evaporated, and if necessary, oxygen gas or the like is ejected from the oxygen gas outlet 59,
While supplying this, through a mask 60, 60, for example, a deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed, and then, in the above, for example, a deposited thin film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed. The base film 2 formed on the inorganic oxide vapor-deposited thin film by the above-described chemical vapor deposition method is sent out through guide rolls 55 'and 54', and wound up on a take-up roll 61. An inorganic oxide vapor-deposited thin film can be formed by the physical vapor deposition method according to the present invention.

【0019】上記において、無機酸化物の蒸着薄膜とし
ては、基本的に金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使
用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム
(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(C
a)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(N
a)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジ
ルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属の酸
化物の蒸着薄膜を使用することができる。而して、包装
用材料等に適するものとしては、ケイ素(Si)、アル
ミニウム(Al)等の金属の酸化物の蒸着薄膜を挙げる
ことができる。而して、上記の金属の酸化物の蒸着薄膜
は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム
酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、そ
の表記は、例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等の
ようにMOX (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、
Xの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことな
る。)で表される。また、上記のXの値の範囲として
は、ケイ素(Si)は、0〜2、アルミニウム(Al)
は、0〜1.5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カ
ルシウム(Ca)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜
0.5、スズ(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)
は、0〜0.5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン
(Ti)は、0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニ
ウム(Zr)は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜
1.5の範囲の値をとることができる。上記において、
X=0の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使
用することができない、また、Xの範囲の上限は、完全
に酸化した値である。本発明において、包装用材料とし
ては、一般的に、ケイ素(Si)、アルミニウム(A
l)以外は、使用される例に乏しく、ケイ素(Si)
は、1.0〜2.0、アルミニウム(Al)は、0.5
〜1.5の範囲の値のものを使用することができる。本
発明において、上記のような無機酸化物の薄膜の膜厚と
しては、使用する金属、または金属の酸化物の種類等に
よって異なるが、例えば、50〜2000Å位、好まし
くは、100〜1000Å位の範囲内で任意に選択して
形成することが望ましい。また、本発明においては、無
機酸化物の蒸着薄膜としては、無機酸化物の蒸着薄膜の
1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した積
層体の状態でもよく、また、使用する金属、または金属
の酸化物としては、1種または2種以上の混合物で使用
し、異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成する
こともできる。
In the above, as the inorganic oxide deposited thin film, basically any thin film on which a metal oxide is deposited can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) , Calcium (C
a), potassium (K), tin (Sn), sodium (N
a) A vapor-deposited thin film of an oxide of a metal such as boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), and yttrium (Y) can be used. Thus, as a material suitable for a packaging material and the like, a vapor-deposited thin film of an oxide of a metal such as silicon (Si) and aluminum (Al) can be given. Thus, the above-described vapor-deposited thin film of a metal oxide can be referred to as a metal oxide, such as silicon oxide, aluminum oxide, and magnesium oxide. The notation is, for example, SiO x , AlO x , MO X (However, as such MgO X, wherein, M represents a metal element,
The range of the value of X differs depending on the metal element. ). Further, as the range of the value of X, silicon (Si) is 0 to 2 and aluminum (Al)
Is 0 to 1.5, magnesium (Mg) is 0 to 1, calcium (Ca) is 0 to 1, potassium (K) is 0 to 1.
0.5, tin (Sn): 0-2, sodium (Na)
Is 0 to 0.5, boron (B) is 0 to 1, 5, titanium (Ti) is 0 to 2, lead (Pb) is 0 to 1, zirconium (Zr) is 0 to 2, yttrium. (Y) is 0 to
Values can be in the range of 1.5. In the above,
When X = 0, it is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all, and the upper limit of the range of X is a completely oxidized value. In the present invention, packaging materials generally include silicon (Si) and aluminum (A).
Except for l), the examples used are poor and silicon (Si)
Is 1.0 to 2.0, and aluminum (Al) is 0.5
A value in the range of ~ 1.5 can be used. In the present invention, the thickness of the thin film of the inorganic oxide as described above varies depending on the type of the metal or the metal oxide used, but is, for example, about 50 to 2000 °, preferably about 100 to 1000 °. It is desirable to select and form arbitrarily within the range. In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited thin film is not limited to one layer of the inorganic oxide vapor-deposited thin film, but may be a laminate of two or more layers. Alternatively, as the metal oxide, one kind or a mixture of two or more kinds may be used to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0020】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、あるいは、積層材を構成するエチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分とし、
これと、少なくとも、無機酸化物の蒸着薄膜との密接着
性に富むポリマ−の1種ないしそれ以上を含む樹脂組成
物によるコ−ティング膜について説明すると、かかるコ
−ティング膜としては、例えば、エチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体の1種ないしそれ以上をビヒクルの主成
分とし、これに、少なくとも、前述の物理気相成長法に
よる無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−
の1種ないしそれ以上を添加し、更に、必要ならば、例
えば、充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸
収剤等の光安定剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑剤、帯
電防止剤、架橋剤、その他等の添加剤を任意に添加し、
溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる溶剤型、水性型、
あるいは、エマルジョン型等からなる樹脂組成物を調整
し、而して、該樹脂組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ
−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト
法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト
法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング
法により、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2
10g/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/
2 〜5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティ
ングし、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等
を施して、本発明にかかるコ−ティング硬化膜を形成す
ることができる。上記において、上記の樹脂組成物とし
ては、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体、無機酸化
物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−等を溶解ない
し混練し、更に、それらの膜を硬化させることから、ア
ルコ−ル−水系溶液等を使用して調整した樹脂組成物を
使用することが好ましく、而して、上記のアルコ−ル成
分としては、例えば、n−プロピルアルコ−ル、イソプ
ロピルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、
エチルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を使用すること
ができ、また、上記のアルコ−ル−水系溶液において、
アルコ−ルと水との配合割合としては、例えば、アルコ
−ル、50〜70重量部に対し水、50〜30重量部の
割合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調整することが
望ましい。
Next, in the present invention, the barrier film according to the present invention or the ethylene-vinyl alcohol copolymer constituting the laminate is used as a main component of the vehicle,
This and at least a coating film made of a resin composition containing one or more polymers having high adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide will be described. As such a coating film, for example, One or more ethylene-vinyl alcohol copolymers are used as the main component of the vehicle, and at least one of the above polymers having high adhesion to the deposited thin film of inorganic oxide by the physical vapor deposition method described above.
One or more of the following, and further, if necessary, for example, a light stabilizer such as a filler, a stabilizer, a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dispersant, a thickener, a drying agent, Lubricant, antistatic agent, cross-linking agent, optionally add other additives such as,
Solvent type, aqueous type, sufficiently kneaded with solvent, diluent, etc.
Alternatively, a resin composition composed of an emulsion type or the like is prepared, and the resin composition is used. For example, a roll coat method, a gravure roll coat method, a kiss roll coat method, -Coating amount, for example, 0.1 g / m 2- by coating method such as roll coating method, reverse roll coating method, curtain flow coating method and others.
About 10 g / m 2 (dry state), preferably 0.5 g / m 2
The coated film is coated so as to have a m 2 to 5 g / m 2 (dry state), and then heated and dried, and further subjected to an aging treatment to form a coated cured film according to the present invention. be able to. In the above, as the above-mentioned resin composition, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, a polymer or the like having high adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is dissolved or kneaded, and further, the films are cured. For this reason, it is preferable to use a resin composition prepared using an alcohol-water-based solution or the like. Thus, as the alcohol component, for example, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol -N-butanol, t-butanol,
Ethyl alcohol, methyl alcohol and the like can be used, and in the above-mentioned alcohol-water solution,
The mixing ratio of alcohol to water is preferably, for example, 50 to 30 parts by weight of water to 50 to 70 parts by weight of alcohol to adjust the alcohol-water solution. .

【0021】上記において、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体としては、例えば、酢酸ビニルの含有率が約
79〜92wt%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体
を完全ケン化したエチレン含有率25〜50モル%のエ
チレン−ビニアルコ−ル共重合体を使用することができ
る。上記のエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体は、高
いガスバリア性を有し、更に、保香性、透明性等に優れ
ているものであり、而して、上記において、エチレン含
有率が、50モル%以上のものは、酸素ガスバリア性が
急激に低下し、また、透明性も悪くなることから好まし
くなく、また、25モル%以下のものは、その薄膜がも
ろくなり、また、高湿度下において酸素ガスバリア性が
低下して好ましくないものである。
In the above, ethylene-vinyl alcohol
Examples of the ethylene-vinyl acetate copolymer include ethylene-vinyl acetate copolymer having an ethylene content of 25 to 50 mol%, which is obtained by completely saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of about 79 to 92 wt%. Coalescing can be used. The ethylene-vinyl alcohol copolymer has a high gas barrier property, and is further excellent in fragrance retention, transparency, and the like. % Or less is not preferred because the oxygen gas barrier property is rapidly lowered and the transparency is deteriorated, and if less than 25 mol%, the thin film becomes brittle and It is not preferable because the gas barrier property is lowered.

【0022】次にまた、上記において、物理気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ
−としては、例えば、ポリエチレンイミン系ポリマ−、
ポリカルボジイミド系ポリマ−、または、ポリビニルピ
ロリドン系ポリマ−の1種ないしそれ以上を使用するこ
とができる。具体的には、上記のポリエチレンイミン系
ポリマ−としては、例えば、ポリエチレンイミン等のN
−未置換ポリアルキレンイミン、N−アルキル置換ポリ
アルキレンイミン、N−アシル置換ポリアルキレンイミ
ン等を使用することができ、また、上記のポリカルボジ
イミド系ポリマ−としては、例えば、ポリカルボジイミ
ド等を使用することができ、更に、上記のポリビニルピ
ロリドン系ポリマ−としては、例えば、ポリビニルピロ
リドン、ポリアルキル化ビニルピロリドン、ビニルピロ
リドンと酢酸ビニルとの共重合体、ビニルピロリドンと
スチレンとの共重合体等を使用することができる。本発
明において、上記のポリマ−が、無機酸化物の蒸着薄膜
との密接着性に富む理由は、定かではないが、ポリマ−
が有するカルボジイミド基、イミン基、ピロリドン基等
が、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体中の水酸基、
および、無機酸化物の蒸着薄膜のそれぞれと水素結合等
の相互作用を起こすことにより、エチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体と無機酸化物の蒸着薄膜との密着性等の
向上を発現することによるものと推定されるものであ
る。本発明にかかる樹脂組成物において、上記のエチレ
ン−ビニルアルコ−ル共重合体と上記の無機酸化物の蒸
着薄膜との密接着性に富むポリマ−との配合割合として
は、エチレン−ビニルアルコ−ルコ−ル共重合体100
重量部に対し、無機酸化物の蒸着薄膜と密接着性に富む
ポリマ−0.1〜100重量部位の配合割合が好ましい
ものである。
Further, in the above, as the polymer having a good adhesion to the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide by the physical vapor deposition method, for example, a polyethyleneimine-based polymer,
One or more of polycarbodiimide-based polymers and polyvinylpyrrolidone-based polymers can be used. Specifically, the polyethyleneimine-based polymer includes, for example, N
-Unsubstituted polyalkyleneimine, N-alkyl-substituted polyalkyleneimine, N-acyl-substituted polyalkyleneimine and the like can be used, and as the above polycarbodiimide-based polymer, for example, polycarbodiimide and the like are used Further, as the polyvinylpyrrolidone-based polymer, for example, polyvinylpyrrolidone, polyalkylated vinylpyrrolidone, a copolymer of vinylpyrrolidone and vinyl acetate, a copolymer of vinylpyrrolidone and styrene and the like are used can do. In the present invention, the reason why the above-mentioned polymer is rich in close adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is not clear, but it is not clear.
A carbodiimide group, an imine group, a pyrrolidone group, etc., are hydroxyl groups in an ethylene-vinyl alcohol copolymer,
In addition, by causing an interaction such as a hydrogen bond with each of the inorganic oxide vapor-deposited thin films, the adhesiveness between the ethylene-vinyl alcohol copolymer and the inorganic oxide vapor-deposited thin films is improved. It is estimated that In the resin composition according to the present invention, the mixing ratio of the ethylene-vinyl alcohol copolymer and the polymer having a high adhesion to the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide is ethylene-vinyl alcohol-copolymer. Copolymer 100
The blending ratio of 0.1 to 100 parts by weight of the polymer, which is rich in close adhesion to the deposited thin film of the inorganic oxide, is preferably based on parts by weight.

【0023】次に、上記の本発明にかかる樹脂組成物に
おいては、二元反応性を有するシランカップリング剤を
架橋剤等として添加することができる。上記のシランカ
ップリング剤としては、例えば、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニル−トリス(β−メトキシエト
キシ)シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメト
キシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−β(ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキ
シシラン、ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリ
コ−ンの1種ないしそれ以上を使用することができる。
その使用量としては、微量添加するだけでよい。
Next, in the resin composition according to the present invention, a silane coupling agent having dual reactivity can be added as a crosslinking agent or the like. Examples of the silane coupling agent include γ-chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl)
Ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ
-Mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, bis (β -Hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, one or more of γ-aminopropylsilicone can be used.
As the amount of use, only a small amount may be added.

【0024】ところで、本発明において、上記のエチレ
ン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分と
し、これに、少なくとも、無機酸化物の蒸着薄膜との密
接着性に富むポリマ−を添加し、更に、必要ならば、シ
ランカップリング剤等を添加し、更にまた、必要なら
ば、その他の添加剤を任意に添加し、アルコ−ル−水系
溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる樹脂組成物を調整
し、これを通常のコ−ティング法でコ−ティングし、次
いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等を施すこと
により、コ−ティング膜を形成することができる。而し
て、上記のコ−ティング膜は、無機酸化物の蒸着薄膜と
の密接着性に優れ、その酸素ガス、水蒸気ガス等に対す
るバリア性を向上させ、更に、透明性、耐熱性、耐熱水
性、ラミネ−ト適性、その他等にも優れているものであ
る。本発明においては、その機構等は、定かではない
が、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの
主成分とし、これに、無機酸化物の蒸着薄膜との密接着
性に富むポリマ−の1種ないしそれ以上を添加すること
により、上記のエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体に
よる硬化膜に、上記の無機酸化物の蒸着薄膜との密接着
性に富むポリマ−による硬化膜が混在し、その両者が相
互に作用し合ってコ−ティング膜を形成し、そのコ−テ
ィング膜と物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
との密接着性を向上させ、而して、化学気相成長法およ
び物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の2層と
コ−ティング膜の1層との3層によるバリア性膜によ
り、その酸素ガスあるいは水蒸気ガス等に対するバリア
性等が更に向上するものであると推定されるものであ
る。更に、本発明においては、本発明にかかる樹脂組成
物において、上記の二元反応性を有するシランカップリ
ング剤等を添加することにより、エチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体、あるいは、無機酸化物の蒸着薄膜との
密接着性に富むポリマ−等が、該シランカップリング剤
等を介して、三次元網状化したコ−ティング膜を形成
し、無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性を更に向上させ
ると共にその酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性等を
向上させることができるものである。
In the present invention, the above-mentioned ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of the vehicle, and at least a polymer having a good adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is added thereto. Further, if necessary, a silane coupling agent or the like is added, and if necessary, other additives are optionally added. The resin is sufficiently kneaded with an alcohol-water-based solvent, a diluent, or the like. A coating film can be formed by preparing a composition, coating the composition by a usual coating method, and then subjecting the composition to heat drying and further aging treatment. Thus, the above-mentioned coating film is excellent in close adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, improves its barrier property against oxygen gas, water vapor gas, etc., and further has transparency, heat resistance and hot water resistance. , Laminating suitability, etc. In the present invention, although its mechanism and the like are not clear, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of the vehicle. By adding a seed or more, the cured film of the ethylene-vinyl alcohol copolymer described above is mixed with a cured film of a polymer having high adhesion to the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, and The two interact with each other to form a coating film, and to improve the tight adhesion between the coating film and the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by the physical vapor deposition method. A barrier film composed of three layers, ie, two layers of inorganic oxide vapor-deposited thin films and one layer of a coating film by a growth method and a physical vapor deposition method, further improves the barrier properties against oxygen gas or water vapor gas. To do It is those estimated to that. Furthermore, in the present invention, in the resin composition according to the present invention, by adding a silane coupling agent having the above-described binary reactivity, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, or an inorganic oxide. A polymer or the like having a high degree of close adhesion to the deposited thin film forms a three-dimensionally networked coating film via the silane coupling agent and the like to further improve the close adhesion to the deposited thin film of inorganic oxide. It can improve the barrier properties against oxygen gas, water vapor, and the like, as well as improve it.

【0025】次にまた、本発明において、本発明にかか
る積層材を構成する印刷絵柄層としては、例えば、上記
のコ−ティング膜の上に、通常のグラビアインキ組成
物、オフセットインキ組成物、凸版インキ組成物、スク
リ−ンインキ組成物、その他等のインキ組成物を使用
し、例えば、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、
凸版印刷方式、シルクスクリ−ン印刷方式、その他等の
印刷方式を使用し、例えば、文字、図形、絵柄、記号、
その他等からなる所望の印刷絵柄を形成することにより
構成することができる。上記において、各種のインキ組
成物は、例えば、インキ組成物を構成するビヒクルとし
ては、例えば、ポリエチレン系樹脂、塩素化ポリプロピ
レン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリ(メタ)ア
クリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル
系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレ
ン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、フッ化ビニ
リデン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、ポリビニ
ルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、ポ
リブタジエン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド
系樹脂、アルキッド系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポ
リエステル系樹脂、熱硬化型ポリ(メタ)アクリル系樹
脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、フェノ−ル系樹脂、キシレン系樹脂、マレイン酸樹
脂、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、アセチルブ
チルセルロ−ス、エチルオキシエチルセルロ−ス等の繊
維素系樹脂、塩化ゴム、環化ゴム等のゴム系樹脂、石油
系樹脂、ロジン、カゼイン等の天然樹脂、アマニ油、大
豆油等の油脂類、その他等の樹脂の1種ないし2種以上
の混合物を使用することができる。而して、本発明にお
いて、上記のようなビヒクルの1種ないし2種以上を主
成分とし、これに、染料・顔料等の着色剤の1種ないし
2種以上を加え、更に、必要ならば、例えば、充填剤、
安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の光安定
剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋
剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶剤、希釈剤等
で充分に混練してなる各種の形態からなるインキ組成物
を使用することがてきる。
Next, in the present invention, as the print pattern layer constituting the laminate according to the present invention, for example, a usual gravure ink composition, offset ink composition, Using a letterpress ink composition, a screen ink composition, and other ink compositions, for example, a gravure printing method, an offset printing method,
Use letterpress printing method, silk screen printing method, other printing methods such as characters, figures, pictures, symbols,
It can be configured by forming a desired print pattern made of other materials. In the above, various ink compositions include, for example, vehicles constituting the ink composition include, for example, polyethylene resins, polyolefin resins such as chlorinated polypropylene resins, poly (meth) acrylic resins, and polyvinyl chloride. Resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polystyrene resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene fluoride resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, Polyvinyl butyral resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting poly (meth) acrylic resin, melamine resin, urea Resin, polyurethane resin, phenol resin, xylene resin, Cellulose resins such as ionic acid resin, nitrocellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, ethyloxyethylcellulose, rubber resins such as chlorinated rubber and cyclized rubber, petroleum resins, rosin, casein A mixture of one or more natural resins such as linseed oil, oils and fats such as linseed oil and soybean oil, and other resins can be used. Thus, in the present invention, one or more of the above-mentioned vehicles are used as a main component, and one or more of colorants such as dyes and pigments are added thereto. , For example, fillers,
Optionally add additives such as stabilizers, plasticizers, antioxidants, light stabilizers such as ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, drying agents, lubricants, antistatic agents, crosslinking agents, etc. It is possible to use ink compositions in various forms which are sufficiently kneaded with a diluent or the like.

【0026】次にまた、本発明において、本発明にかか
る積層材を構成するヒ−トシ−ル性樹脂層を形成するヒ
−トシ−ル性樹脂としては、例えば、熱によって溶融し
相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度ポ
リエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレ
ン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、ポリプロピ
レ、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹
脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合
体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポ
リマ−、ポリエチレン若しくはポリプロピレン等のポリ
オレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸、その
他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし
それ以上からなる樹脂を使用することができる。而し
て、本発明において、ヒ−トシ−ル性樹脂層としては、
上記のような樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、例え
ば、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の方法で
製膜化してなる樹脂のフィルムないしシ−ト、あるい
は、上記のような樹脂の1種ないしそれ以上をビヒクル
の主成分として含む樹脂組成物によるコ−ティンイグ膜
等の状態で使用することができる。その膜厚としては、
5〜100μm位、好ましくは、10〜50μm位が望
ましい。
Next, in the present invention, the heat-sealing resin forming the heat-sealing resin layer constituting the laminated material according to the present invention may be, for example, melted by heat and mutually melted. Any material can be used, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear (linear) low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene- Ethyl acrylate copolymer, ethylene-
Acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene is used to prepare acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fuma- Resin consisting of one or more resins such as acid-modified polyolefin resins, polyvinyl acetate resins, polyester resins, polystyrene resins, etc., modified with unsaturated carboxylic acids such as luic acid, itaconic acid and others. Can be used. Thus, in the present invention, as the heat-sealing resin layer,
Using one or more of the above resins, for example, a resin film or sheet formed into a film by a method such as an inflation method, a T-die method, or the like; It can be used as a coating film made of a resin composition containing one or more resins as a main component of the vehicle. As the film thickness,
About 5 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm is desirable.

【0027】ところで、本発明にかかる積層材において
は、通常、包装用容器は、物理的にも化学的にも過酷な
条件におかれることから、包装用容器を構成する積層材
には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下
衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全
性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求さ
れ、このために、本発明においては、上記のような諸条
件を充足する材料を任意に選択して使用し、これらを前
述の本発明にかかる積層材を構成する材料の他に、更
に、任意に加えて積層して所望の積層材を構成すること
ができる。而して、上記において、具体的には、例え
ば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度
ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビ
ニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル
酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタク
リル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン
系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹
脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニ
リデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリア
クリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロ
ニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロ
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹
脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ
−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、
ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィ
ルムないしシ−トから任意に選択して使用することがで
きる。その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙
等も使用することができる。本発明において、上記のフ
ィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に
延伸されたもの等のいずれのものでも使用することがで
きる。また、その厚さは、任意であるが、数μmから3
00μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとして
は、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティン
グ膜等のいずれの性状の膜でもよい。
By the way, in the laminated material according to the present invention, since the packaging container is usually subjected to severe physical and chemical conditions, the laminated material constituting the packaging container is severe. Packaging suitability is required, and various conditions such as deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. In the present invention, a material that satisfies the above-described conditions is arbitrarily selected and used. In addition to the above-described materials constituting the laminate according to the present invention, these materials are further arbitrarily added and laminated. Thus, a desired laminated material can be formed. Thus, in the above, specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer -Resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, Vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS-based) Resin), polyester resin, poly Bromide based resin, polycarbonate - Bonnet - DOO resins, polyvinyl alcohol - Le resins, ethylene - saponified vinyl acetate copolymer, fluorine resin,
It can be arbitrarily selected from known resin films or sheets such as diene resins, polyacetal resins, polyurethane resins, nitrocellulose and others. In addition, for example, a film such as cellophane, synthetic paper, or the like can be used. In the present invention, the above-mentioned film or sheet can be used in any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary, but is from several μm to 3 μm.
It can be used by selecting from a range of about 00 μm.
Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film, or a coating film.

【0028】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、印刷絵柄層、ヒ−トシ−ル性樹脂層、
更に、その他の材料等を使用して、本発明にかかる積層
材を製造する方法としては、例えば、ラミネ−ト用接着
剤によるラミネ−ト用接着剤層を介して積層するドライ
ラミネ−ション法、あるいは、溶融押し出し接着性樹脂
による溶融押し出し樹脂層を介して積層する押し出しラ
ミネ−ション法等で行うことができる。上記において、
ラミネ−ト用接着剤としては、例えば、1液、あるい
は、2液型の硬化ないし非硬化タイプのビニル系、(メ
タ)アクリル系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリ
エ−テル系、ポリウレタン系、エポキシ系、ゴム系、そ
の他等の溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等
のラミネ−ト用接着剤を使用することができる。而し
て、上記のラミネ−ト用接着剤のコ−ティング法として
は、例えば、ダイレクトグラビアロ−ルコ−ト法、グラ
ビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、リバ−スロ−ルコ
−ト法、フォンテン法、トランスファ−ロ−ルコ−ト
法、その他等の方法で塗布することができ、そのコ−テ
ィング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)
位、より好ましくは、1〜5g/m2 (乾燥状態)位が
望ましい。なお、本発明においては、上記のラミネ−ト
用接着剤には、例えば、シランカップリング剤等の接着
促進剤を任意に添加することができる。次にまた、上記
において、溶融押し出し接着性樹脂としては、前述のヒ
−トシ−ル性樹脂層を形成するヒ−トシ−ル性樹脂を同
様に使用することができる。而して、本発明において、
溶融押し出し接着性樹脂としては、特に、低密度ポリエ
チレン、特に、線状低密度ポリエチレン、酸変性ポリエ
チレンを使用することが好ましいものである。上記の溶
融押し出し接着性樹脂による溶融押し出し樹脂層の膜厚
としては、5〜100μm位、より好ましくは、10〜
50μm位が望ましい。なお、本発明において、上記の
積層を行う際に、より強固な接着強度を得る必要がある
場合には、必要ならば、例えば、アンカ−コ−ト剤等の
接着改良剤等をコ−トすることもできる。上記のアンカ
−コ−ト剤としては、具体的には、例えば、アルキルチ
タネ−ト等の有機チタン系アンカ−コ−ト剤、イソシア
ネ−ト系アンカ−コ−ト剤、ポリエチレンイミン系アン
カ−コ−ト剤、ポリブタジエン系アンカ−コ−ト剤、そ
の他等の水性あるいは油性等の各種のアンカ−コ−ト剤
を使用することができる。而して、本発明においては、
上記のアンカ−コ−ト剤を、例えば、ロ−ルコ−ト、グ
ラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイ
コ−ト、その他のコ−ティング法でコ−ティングし、溶
剤、希釈剤等を乾燥して、アンカ−コ−ト剤層を形成す
ることができる。上記のおいて、アンカ−コ−ト剤の塗
布量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望
ましい。
Next, in the present invention, the barrier film, printed picture layer, heat-sealing resin layer,
Further, as a method of manufacturing the laminated material according to the present invention using other materials and the like, for example, a dry lamination method of laminating via a laminating adhesive layer with a laminating adhesive, Alternatively, it can be performed by an extrusion lamination method or the like in which a melt-extruded adhesive resin is laminated via a melt-extruded resin layer. In the above,
Examples of the laminating adhesive include one-component or two-component curable or non-curable vinyl, (meth) acrylic, polyamide, polyester, polyether, polyurethane, and epoxy. Adhesives for laminating such as solvent type, aqueous type, emulsion type and the like can be used. Examples of the coating method of the adhesive for laminating include direct gravure roll coating, gravure roll coating, kiss coating, reverse roll coating and the like. Method, Fonten method, transfer roll coating method, etc., and the coating amount is 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).
And more preferably about 1 to 5 g / m 2 (dry state). In the present invention, for example, an adhesion promoter such as a silane coupling agent can be optionally added to the adhesive for laminating. Next, in the above, as the melt-extruded adhesive resin, the above-mentioned heat-sealing resin forming the heat-sealing resin layer can be used in the same manner. Thus, in the present invention,
As the melt-extruded adhesive resin, it is particularly preferable to use low-density polyethylene, particularly, linear low-density polyethylene and acid-modified polyethylene. The thickness of the melt-extruded resin layer of the melt-extruded adhesive resin is about 5 to 100 μm, more preferably about 10 to 100 μm.
About 50 μm is desirable. In the present invention, when it is necessary to obtain a stronger adhesive strength when performing the above-mentioned lamination, if necessary, for example, an adhesive improving agent such as an anchor coat agent may be coated. You can also. Specific examples of the above-mentioned anchor coating agent include organic titanium-based anchor coating agents such as alkyl titanate, isocyanate-based anchor coating agents, and polyethyleneimine-based anchor coating agents. Various aqueous or oil-based anchor coating agents, such as a coating agent, a polybutadiene-based anchor coating agent, and the like, can be used. Thus, in the present invention,
The above-mentioned anchor coating agent is coated by, for example, roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, or other coating methods, and a solvent and dilution. By drying the agent or the like, an anchor coat agent layer can be formed. In the above, the coating amount of the anchor coating agent is preferably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

【0029】上記のようにして製造した本発明にかかる
積層材の酸素透過度は、温度23℃、相対湿度90%R
Hにおいて、0.4cc/m2 ・day・atm以下で
あるという極めて優れた効果を有するものである。上記
の酸素透過度の測定は、前述の、例えば、米国、モコン
(MOCON)社製の酸素透過度測定機〔機種名、オク
ストラン(OX−TRAN)2/20〕を用いて23
℃、90%RHの条件で測定することができる。
The oxygen permeability of the laminate according to the present invention produced as described above is a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 90% R
In H, it has an extremely excellent effect of not more than 0.4 cc / m 2 · day · atm. The above-mentioned measurement of oxygen permeability is carried out by using, for example, the above-mentioned oxygen permeability measuring instrument [model name, Oxtran (OX-TRAN) 2/20] manufactured by MOCON, USA, 23
It can be measured under the conditions of ° C. and 90% RH.

【0030】上記のようにして製造した本発明にかかる
積層材は、これを使用して製袋あるいは製函して、種々
の物品を充填包装するに適した有用な種々の形態からな
る包装用容器を製造可能とするものである。すなわち、
本発明においては、本発明にかかる積層材を使用して製
袋ないし製函して種々の形態からなる包装用容器を製造
し、而して、上記で製造した包装用容器は、酸素、水蒸
気等に対するガスバリア性、透明性、耐熱性、耐衝撃性
等に優れ、更に、ラミネ−ト加工、印刷加工、製袋ない
し製函加工等の後加工適性を有し、例えば、飲食品、医
薬品、洗剤、シャンプ−、オイル、歯磨き、接着剤、粘
着剤等の化学品ないし化粧品、その他等の種々の物品の
充填包装適性、保存適性等に優れているものである。上
記において、製袋ないし製函する方法について説明する
と、例えば、軟包装袋の場合、上記で製造した積層材を
使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向さ
せて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わ
せ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設
けて袋体を構成することができる。すなわち、その製袋
方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向さ
せて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更
にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方
シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−
ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ
−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−
トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる
種々の形態の包装用容器を製造することができる。その
他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等
も製造することが可能であり、更に、本発明において
は、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造する
ことができる。上記において、ヒ−トシ−ルの方法とし
ては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルト
シ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−
ル等の公知の方法で行うことができる。なお、本発明に
おいては、上記のような包装用容器には、例えば、ワン
ピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出
口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けること
ができる。
The laminated material according to the present invention produced as described above can be used for packaging in various useful forms suitable for filling and packaging various articles by using it to form a bag or a box. A container can be manufactured. That is,
In the present invention, packaging containers of various forms are manufactured by bag-making or box-making using the laminated material according to the present invention. It has excellent gas barrier properties, transparency, heat resistance, impact resistance, etc., and also has post-processing suitability such as laminating, printing, bag making or box making. It has excellent suitability for packing and preserving various chemicals and cosmetics such as detergents, shampoos, oils, toothpastes, adhesives and pressure-sensitive adhesives, and various other articles. In the above, the method of bag making or box making will be described.For example, in the case of a soft packaging bag, the laminated material produced above is used, and the surface of the heat-sealing resin layer of the inner layer is made to face, The bag can be formed by folding the sheet or stacking the two sheets, and further heat sealing the peripheral end to provide a seal portion. That is, as the bag making method, the above-mentioned laminated material is folded with its inner layer facing the surface, or two of them are overlapped, and the peripheral end of the outer periphery is further formed, for example, by a side seal type. , 2 way seal type, 3 way seal type, 4 way seal type, envelope pasting seal
Seals, gasoline-sealed seals (pyro-seals), pleated seals, flat-bottomed seals, square-bottomed seals, etc.
Various types of packaging containers according to the present invention can be manufactured by heat-sealing in the form of a seal. In addition, for example, a self-standing packaging bag (standing pouch) or the like can be manufactured. In the present invention, a tube container or the like can also be manufactured using the above-described laminated material. In the above, as a method of heat sealing, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal,
Can be performed by a known method such as In the present invention, a spout such as a one-piece type, a two-piece type, etc., or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.

【0031】次にまた、本発明において、包装用容器と
して、紙基材を含む場合には、例えば、積層材として、
紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容
器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク
板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、
ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトッ
プタイプの液体用紙容器等を製造することができる。ま
た、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等の
いずれのものでも製造することができる。本発明におい
て、上記のようにして製造した包装用容器は、例えば、
各種の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医
薬品、雑貨品、その他等の種々の物品の充填包装に使用
されるものである。
Next, in the present invention, when the packaging container contains a paper base, for example, as a laminated material,
Manufacture a laminated material obtained by laminating paper base materials, manufacture a blank plate from which a desired paper container is manufactured, and then make a body, a bottom portion, and a head using the blank plate, for example, ,
Brick type, flat type or gable-top type liquid paper containers can be manufactured. Moreover, the shape can be manufactured by any of a rectangular container, a circular or other cylindrical paper can, and the like. In the present invention, the packaging container manufactured as described above, for example,
It is used for filling and packaging of various articles such as various foods and drinks, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, sundries, and others.

【0032】[0032]

【実施例】上記の本発明について以下に実施例を挙げて
更に具体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ120Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に形
成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.5×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記で酸化珪素の蒸着薄膜を形成した2
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、
これを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着
し、これをコ−ティングドラムの上に繰り出して、下記
の条件で、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供
給しながら、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式によ
る反応真空蒸着法により、上記で酸化珪素の蒸着薄膜を
形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
の酸化珪素の蒸着薄膜の上に、膜厚200Åの酸化アル
ミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバ−内の真空度:7.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:2.1×10-6mbar EB出力:40KW フィルム搬送速度:600m/分 (3).次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形
成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの
使用し、その酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、グラビ
ア印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコ−ト用ロ
−ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
(エチレン含有率32モル%)のイオン交換水とn−プ
ロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液を1
00重量部に対し、ポリエチレンイミン(日本触媒化学
株式会社製)の5%溶液を20重量部添加してなる樹脂
組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−
ティングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−
ティング膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処
理してコ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかる
バリア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フ
ィルムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記
のグラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使
用し、所望の多色の印刷絵柄層を形成した。 (4).次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸
ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをドライラミネ−
ト機の第1送り出しロ−ルに装着し、その印刷絵柄層面
に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて2液硬化型のポリ
ウレタン系ラミネ−ト用接着剤を4.5g/m2 (乾燥
重量)の割合で塗工して、ラミネ−ト用接着剤層を形成
した。次いで、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ
70μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ
−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 (1). As a base material, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, which was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a deposited silicon oxide thin film having a thickness of 120 ° was obtained under the following conditions. Was formed on one surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.5 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.5 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, a silicon oxide deposited thin film was formed as described above.
Using an axially stretched polyethylene terephthalate film,
This is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and is fed out onto a coating drum. Under the following conditions, aluminum is used as an evaporation source, and while supplying oxygen gas, an electron beam is supplied. A 200 ° -thick aluminum oxide film is deposited on the silicon oxide vapor-deposited thin film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the silicon oxide vapor-deposited film is formed by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating (EB) heating method. A thin film was formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 2.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 KW Film transport speed: 600 m / Minutes (3). Next, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which an aluminum oxide vapor-deposited thin film was formed as described above was used, and a gravure printer was used on the aluminum oxide vapor-deposited thin film surface, and a gravure coat was applied to the first color. And a 15% solution of an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content: 32 mol%) in ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent was placed in one roll.
A resin composition was prepared by adding 20 parts by weight of a 5% solution of polyethyleneimine (manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd.) to 00 parts by weight, and this was coated by a gravure roll coating method.
To a 1.1 g / m 2 (dry state) core
A coating film was formed, and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film, thereby producing a barrier film according to the present invention. Next, a desired multicolor printed pattern layer was formed on the coating cured film of the barrier film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine described above. (4). Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the printed picture layer was formed was dry-laminated.
Is mounted on the first delivery roll of the printing machine, and a two-part curable polyurethane-based laminating adhesive of 4.5 g / m 2 (dry) is applied to the printed pattern layer surface by a gravure roll coating method. (Weight) to form an adhesive layer for laminating. Next, a low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer to produce a laminated material according to the present invention.

【0033】実施例2 (1).基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロ
ピレンフィルム(二村化学工業株式会社製、商品名、G
H−I、片面コロナ処理品)を使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ150Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記で酸化珪素の蒸着薄膜を形成した2
軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを巻き取
り式真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、これをコ
−ティングドラムの上に繰り出して、上記の実施例1に
記載した蒸着条件と同じ条件で、アルミニウムを蒸着源
に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム
(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記で
酸化珪素の蒸着薄膜を形成した2軸延伸ポリプロピレン
フィルムの酸化珪素の蒸着薄膜の上に、膜厚200Åの
酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。 (3).次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形
成した2軸延伸ポリプロピレンフィルムの酸化アルミニ
ウムの蒸着薄膜面に、グラビア印刷機を使用し、その第
1色目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−
ビニルアルコ−ル共重合体(エチレン含有率32モル
%)のイオン交換水とn−プロピルアルコ−ル(1/
1)溶媒による15%溶液を100重量部に対し、ポリ
カルボジイミド(日清紡株式会社製)の15%溶液を5
重量部添加してなる樹脂組成物を使用し、これをグラビ
アロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ1.1g/
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、
120℃で5分間加熱処理してコ−ティング硬化膜を形
成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
次に、上記のバリア性フィルムのコ−ティング硬化膜の
上に、引き続いて、上記のグラビア印刷機を用いて、グ
ラビアインキ組成物を使用し、所望の多色の印刷絵柄層
を形成した。 (4).次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−ト機の第1送
り出しロ−ルに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビア
ロ−ルコ−ト法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラ
ミネ−ト用接着剤を4.5g/m2 (乾燥重量)の割合
で塗工して、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。次い
で、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ70μmの
無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トし
て、本発明にかかる積層材を製造した。
Embodiment 2 (1). As a substrate, a biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm (trade name, G, manufactured by Nimura Chemical Industry Co., Ltd.)
HI, one-sided corona-treated product), which was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus. Formed on one side of the film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transfer speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, a silicon oxide deposited thin film was formed as described above.
An axially stretched polypropylene film was used, which was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, which was unwound onto a coating drum. The same evaporation conditions as described in Example 1 above were used. The silicon oxide of the biaxially stretched polypropylene film on which a deposited thin film of silicon oxide was formed by a reactive vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas while using aluminum as a deposition source. Was formed on the above deposited thin film of aluminum oxide. (3). Next, a gravure coat roll is placed on the first color of the biaxially stretched polypropylene film on which the aluminum oxide vapor-deposited thin film is formed by using a gravure printing machine on the aluminum oxide vapor-deposited thin film surface. , Ethylene-
Ion-exchanged water of vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32 mol%) and n-propyl alcohol (1 /
1) 5 parts of a 15% solution of polycarbodiimide (manufactured by Nisshinbo Co., Ltd.) was added to 100 parts by weight of a 15% solution of a solvent.
A resin composition to which a part by weight was added was used, and this was coated by a gravure roll coating method to obtain a resin composition having a thickness of 1.1 g /
forming a coating film of m 2 (dry state);
A coating cured film was formed by heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes to produce a barrier film according to the present invention.
Next, a desired multicolor printed pattern layer was formed on the coating cured film of the barrier film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine described above. (4). Next, the biaxially stretched polypropylene film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and a two-component curing type is formed on the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. Was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry weight) to form an adhesive layer for laminating. Next, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for laminating to produce a laminated material according to the present invention.

【0034】実施例3 (1).基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン
フィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の
送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ150Åの
酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延伸ナイロンフィルム
の一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記で酸化珪素の蒸着薄膜を形成した2
軸延伸ナイロンフィルムを使用し、これを巻き取り式真
空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、これをコ−ティ
ングドラムの上に繰り出して、上記の実施例1に記載し
た蒸着条件と同じ条件で、アルミニウムを蒸着源に用
い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビ−ム(E
B)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記で酸化
珪素の蒸着薄膜を形成した2軸延伸ナイロンフィルムの
酸化珪素の蒸着薄膜の上に、膜厚200Åの酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜を形成した。 (3).次に、上記で酸化アニミニウムの蒸着薄膜を形
成した2軸延伸ナイロンフィルムの酸化アルミニウムの
蒸着薄膜面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目
にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニル
アルコ−ル共重合体(エチレン含有率29モル%)のイ
オン交換水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒に
よる15%溶液を100重量部に対し、ポリビニルピロ
リドンの10%溶液を5重量部添加してなる樹脂組成物
を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティン
グして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティン
グ膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理して
コ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかるバリア
性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フィルム
のコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記のグラ
ビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用し、
所望の多色の印刷絵柄層を形成した。 (4).次に、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナ
イロンフィルムをドライラミネ−ト機の第1送り出しロ
−ルに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロ−ルコ
−ト法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト
用接着剤を4.5g/m2 (乾燥重量)の割合で塗工し
て、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。次いで、上記の
ラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸ポリ
プロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明に
かかる積層材を製造した。
Embodiment 3 (1). A 15-μm-thick biaxially stretched nylon film was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a deposited silicon oxide thin film having a thickness of 150 ° was formed under the following conditions. It was formed on one side of a biaxially stretched nylon film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transfer speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, a silicon oxide deposited thin film was formed as described above.
An axially stretched nylon film was used, which was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and was fed out onto a coating drum. The same conditions as the evaporation conditions described in Example 1 above were used. Then, an electron beam (E) is used while supplying oxygen gas using aluminum as a deposition source.
B) A 200-mm-thick aluminum oxide vapor-deposited thin film was formed on the silicon oxide vapor-deposited thin film of the biaxially stretched nylon film having the silicon oxide vapor-deposited thin film formed thereon by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating method. (3). Next, using a gravure printing machine, a gravure coat roll was placed on the first color of the biaxially stretched nylon film on which the vapor deposited thin film of animinium oxide was formed, using a gravure printing machine. A 15% solution of ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 29 mol%) in ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent is 100 parts by weight, and 10% by weight of polyvinylpyrrolidone A resin composition prepared by adding 5 parts by weight of the solution is coated by a gravure roll coating method to form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state). Then, heat treatment was performed at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film, thereby producing a barrier film according to the present invention. Next, on the coating cured film of the barrier film, subsequently, using the gravure printing machine described above, using a gravure ink composition,
The desired multicolor printed picture layer was formed. (4). Next, the biaxially stretched nylon film having the printed picture layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and the printed picture layer surface is cured with a two-part coating using a gravure roll coating method. An adhesive for a polyurethane type laminate was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry weight) to form an adhesive layer for a laminate. Next, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for laminating to produce a laminated material according to the present invention.

【0035】実施例4 上記の実施例1の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの印刷
絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を介して、厚さ70
μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−ト
して積層材を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを押し出
しラミネ−ト機の第1送り出しロ−ルに装着し、その印
刷絵柄層の面に、溶融押し出し用低密度ポリエチレンを
使用し、厚さ20μmにこれを溶融押し出ししながら、
厚さ70μmの低密度ポリエチレンフィルムを押し出し
ラミネ−トし、それ以外は、上記の実施例1と全く同様
にして、本発明にかかる積層材を製造した。
Example 4 In (4) of Example 1 described above, the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the print pattern layer was formed was placed on the surface of the print pattern layer via a laminating adhesive layer. 70
Instead of dry laminating a low-density polyethylene film of μm to produce a laminate, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a printed picture layer formed thereon is extruded and mounted on a first delivery roll of a laminating machine. Using a low-density polyethylene for melt extrusion on the surface of the printed pattern layer, while extruding this to a thickness of 20 μm,
A 70 μm-thick low-density polyethylene film was extruded and laminated, and the other conditions were the same as in Example 1 to produce a laminate according to the present invention.

【0036】実施例5 上記の実施例2の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリプロピレンフィルムの印刷絵柄層面に、
ラミネ−ト用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層材
を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムを押し出しラミネ−ト機の第1送
り出しロ−ルに装着し、その印刷絵柄層の面に、溶融押
し出し用低密度ポリエチレンを使用し、厚さ20μmに
これを溶融押し出ししながら、厚さ70μmの無延伸ポ
リプロピレンフィルムを押し出しラミネ−トし、それ以
外は、上記の実施例2と全く同様にして、本発明にかか
る積層材を製造した。
Example 5 In (4) of Example 2 described above, the biaxially stretched polypropylene film on which the print pattern layer was formed,
Instead of dry laminating a 70 μm-thick unstretched polypropylene film through a laminating adhesive layer to produce a laminate, a biaxially stretched polypropylene film having a printed picture layer formed thereon is extruded by a laminating machine. , And using a low-density polyethylene for melt extrusion on the surface of the printed pattern layer, while extruding this to a thickness of 20 μm, extruding a 70 μm thick unstretched polypropylene film. The laminated material according to the present invention was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the laminate was laminated.

【0037】実施例6 上記の実施例3の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ナイロンフィルムの印刷絵柄層面に、ラミネ
−ト用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層材を製造
する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナイロン
フィルムを押し出しラミネ−ト機の第1送り出しロ−ル
に装着し、その印刷絵柄層の面に、溶融押し出し用低密
度ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこれを溶融押
し出ししながら、厚さ70μmの無延伸ポリプロピレン
フィルムを押し出しラミネ−トし、それ以外は、上記の
実施例3と全く同様にして、本発明にかかる積層材を製
造した。
Example 6 In the above (3) of Example 3, a 70 μm thick non-coated film was formed on the printed pattern layer surface of the biaxially stretched nylon film having the printed pattern layer formed thereon via a laminating adhesive layer. Instead of dry laminating the stretched polypropylene film to produce a laminated material, a biaxially stretched nylon film having a printed picture layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of an extruding laminating machine, and the printed picture layer is formed. Using a low-density polyethylene for melt extrusion on the surface, a 70 μm-thick unstretched polypropylene film was extruded and laminated while being melt-extruded to a thickness of 20 μm. Similarly, a laminated material according to the present invention was produced.

【0038】比較例1 基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と同様に
して、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム
の一方の面に、酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、次に、酸
化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。次いで、上記の
酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、上記の実施例1と同
様に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビ
アコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体(エチレン含有率32モル%)のイオン交換
水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15
%溶液を100重量部からなる樹脂組成物を使用し、こ
れをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ
1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。次
に、上記のバリア性フィルムのコ−ティング硬化膜の上
に、引き続いて、上記の実施例1と同様に、上記のグラ
ビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用し、
所望の多色の印刷絵柄層を形成し、しかる後、印刷絵柄
層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。他方、厚さ
70μmの低密度ポリエチレンフィルムを用意し、その
一方の面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理
面に、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、その両者を
ドライラミネ−ション法により積層して、積層材を製造
した。
COMPARATIVE EXAMPLE 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a base material, and one side of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film was applied in the same manner as in Example 1 above. Then, a deposited thin film of silicon oxide was formed, and then a deposited thin film of aluminum oxide was formed. Next, a gravure coat roll was placed on the first color of the aluminum oxide vapor-deposited thin film surface using a gravure printer in the same manner as in Example 1 to obtain an ethylene-vinyl alcohol.
Of ethylene copolymer (ethylene content 32 mol%) with ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent
% Solution is used and coated by a gravure roll coating method to form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state). Then, a heat treatment was performed at 120 ° C. for 5 minutes to form a coating cured film, thereby producing a barrier film. Next, on the coating cured film of the barrier film, subsequently, in the same manner as in Example 1, using the gravure printing machine described above, using a gravure ink composition,
A desired multicolor print pattern layer was formed, and then an adhesive layer for laminating was formed on the print pattern layer surface. On the other hand, a low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to corona discharge treatment, and the surface of the adhesive layer for laminating the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on the corona discharge treated surface. Were opposed to each other, and both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0039】比較例2 基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフ
ィルムを使用し、上記の実施例2と同様にして、該2軸
延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、酸化珪素の
蒸着薄膜を形成し、次に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜
を形成した。次いで、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄
膜面に、上記の実施例2と同様に、グラビア印刷機を使
用し、その第1色目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置
し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体(エチレン含
有率32モル%)のイオン交換水とn−プロピルアルコ
−ル(1/1)溶媒による15%溶液を100重量部か
らなる樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−
ト法でコ−ティングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状
態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、120℃で5
分間加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成して、バリ
ア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フィル
ムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記の実
施例2と同様に、上記のグラビア印刷機を用いて、グラ
ビアインキ組成物を使用し、所望の多色の印刷絵柄層を
形成し、しかる後、印刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着
剤層を形成した。他方、厚さ70μmの無延伸ポリプロ
ピレンフィルムを用意し、その一方の面にコロナ放電処
理を施し、そのコロナ放電処理面に、上記の2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムのラミネ−ト用接着剤層面を対向
させ、その両者をドライラミネ−ション法により積層し
て、積層材を製造した。
Comparative Example 2 A biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 20 μm was used as a substrate, and a silicon oxide deposited thin film was formed on one surface of the biaxially oriented polypropylene film in the same manner as in Example 2 above. Was formed, and then a deposited thin film of aluminum oxide was formed. Next, a gravure coating roll was placed on the first color of the aluminum oxide vapor-deposited thin film surface in the same manner as in Example 2 above, and ethylene-vinyl alcohol was used. A resin composition consisting of 100 parts by weight of a 15% solution of a copolymer (ethylene content 32 mol%) in ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent was used. −
Coating by a coating method to form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state).
The coating was cured by heating for 1 minute to produce a barrier film. Next, on the coating cured film of the barrier film, using the gravure printing machine described above and the gravure ink composition in the same manner as in Example 2 above, the desired amount A color print pattern layer was formed, and then an adhesive layer for laminating was formed on the print pattern layer surface. On the other hand, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to a corona discharge treatment, and the laminating adhesive layer surface of the biaxially stretched polypropylene film is opposed to the corona discharge treated surface. And both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0040】比較例3 基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロンフィルム
を使用し、上記の実施例3と同様にして、該2軸延伸ナ
イロンフィルムの一方の面に、酸化珪素の蒸着薄膜を形
成し、次に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜を形成した。
次いで、上記の酸化アルミニウムの蒸着薄膜面に、上記
の実施例3と同様に、グラビア印刷機を使用し、その第
1色目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−
ビニルアルコ−ル共重合体(エチレン含有率29モル
%)のイオン交換水とn−プロピルアルコ−ル(1/
1)溶媒による15%溶液を100重量部からなる樹脂
組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−
ティングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−
ティング膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処
理してコ−ティング硬化膜を形成して、バリア性フィル
ムを製造した。次に、上記のバリア性フィルムのコ−テ
ィング硬化膜の上に、引き続いて、上記の実施例3と同
様に、上記のグラビア印刷機を用いて、グラビアインキ
組成物を使用し、所望の多色の印刷絵柄層を形成し、し
かる後、印刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成
した。他方、厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィ
ルムを用意し、その一方の面にコロナ放電処理を施し、
そのコロナ放電処理面に、上記の2軸延伸ポリプロピレ
ンフィルムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、その
両者をドライラミネ−ション法により積層して、積層材
を製造した。
COMPARATIVE EXAMPLE 3 A biaxially stretched nylon film having a thickness of 15 μm was used as a substrate, and a thin film of silicon oxide was deposited on one surface of the biaxially stretched nylon film in the same manner as in Example 3 above. Was formed, and then a deposited thin film of aluminum oxide was formed.
Next, a gravure coat roll was placed on the first color of the aluminum oxide vapor-deposited thin film surface using a gravure printer in the same manner as in Example 3 above.
Ion-exchanged water of a vinyl alcohol copolymer (ethylene content: 29 mol%) and n-propyl alcohol (1/1)
1) A resin composition consisting of 100 parts by weight of a 15% solution in a solvent was used, and this was coated by a gravure roll coating method.
To a 1.1 g / m 2 (dry state) core
A coating film was formed and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film, thereby producing a barrier film. Next, on the coating cured film of the barrier film, using the gravure printing machine described above and the gravure ink composition in the same manner as in Example 3 described above, A color print pattern layer was formed, and then an adhesive layer for laminating was formed on the print pattern layer surface. On the other hand, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was prepared, and one surface thereof was subjected to a corona discharge treatment,
The laminating adhesive layer surface of the biaxially stretched polypropylene film was opposed to the corona discharge treated surface, and both were laminated by dry lamination to produce a laminated material.

【0041】実験例1 上記の実施例1〜6、および、比較例1〜3で製造した
各バリア性フィルム、および、積層材について、下記の
デ−タを測定した。 (1).酸素透過度の測定 これは、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、
モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクスト
ラン(OXTRAN)〕にて測定した。 (2).水蒸気透過度の測定 これは、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、
モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マト
ラン(PERMATRAN)〕にて測定した。 (3).色評価の測定 これは、目視による着色観察による測定で評価した。目
視による着色観察は、試料を10枚重ねて目視により、
直接観察した。 (4).ラミネ−ト強度の測定 これは、実施例1〜6、および、比較例1〜3で製造し
た積層材を使用し、これから巾15mmの試験片を作
り、引っ張り試験機(株式会社オリエンテック製)によ
り測定した。 上記の測定結果について、下記の表1に示す。表1は、
バリア性フィルム、および、積層材についての酸素透過
度および水蒸気透過度、更に、積層材についてのラミネ
−ト強度の測定結果である。なの、表1中、酸素透過度
の単位は、cm3 /m2 ・day・atmであり、ま
た、水蒸気透過度の単位は、g/m2 ・day・atm
あり、更に、ラミネ−ト強度の単位は、g/15mm
巾である。
EXPERIMENTAL EXAMPLE 1 The following data were measured for each of the barrier films and laminated materials produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 above. (1). Measurement of Oxygen Permeability This is a condition of 23 ° C. and 90% RH in the United States.
The measurement was carried out using a measuring instrument (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON. (2). Measurement of water vapor transmission rate This is a condition of temperature of 40 ° C and humidity of 90% RH in the United States,
The measurement was carried out using a measuring instrument (model name, PERMATRAN) manufactured by MOCON. (3). Measurement of color evaluation This was evaluated by measurement by visual observation of coloring. Coloring observation by visual observation is performed by visually stacking 10 samples.
Observed directly. (4). Measurement of Laminate Strength This was performed by using the laminated materials manufactured in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 to prepare a test piece having a width of 15 mm therefrom, and using a tensile tester (manufactured by Orientec Co., Ltd.) Was measured by The above measurement results are shown in Table 1 below. Table 1
It is a measurement result of the oxygen permeability and the water vapor permeability of the barrier film and the laminated material, and the laminate strength of the laminated material. In Table 1, the unit of oxygen permeability is cm 3 / m 2 · day · atm, and the unit of water vapor permeability is g / m 2 · day · atm.
Yes, and the unit of laminate strength is g / 15mm
It is width.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】上記の表1に示す結果より明らかなよう
に、実施例1〜6にかかる積層材は、酸素透過度が、
0.4cc/m2 ・day・atm以下である。これに
対し、比較例1〜3にかかる積層材は、酸素透過度が、
1.2cc/m 2 ・day・atm以上となった。ま
た、ラミネ−ト強度については、実施例1〜6にかかる
積層材は、比較例1〜3にかかる積層材よりも優れてい
た。上記の結果は、実施例1〜6にかかる積層材が、コ
−ティング硬化膜を設けることにより酸素透過度を改善
できることを示しているものである。次に、水蒸気透過
度については、実施例1〜6にかかる積層材は、0.5
g/m2 ・day・atm以下であり、これに対し、比
較例1〜3にかかる積層材は、1.5g/m2 ・day
・atm以上であった。
As is clear from the results shown in Table 1 above.
In addition, the laminated material according to Examples 1 to 6, the oxygen permeability,
0.4cc / mTwo· Day · atm or less. to this
On the other hand, the laminated materials according to Comparative Examples 1 to 3 have an oxygen permeability,
1.2cc / m Two・ Day ・ atm or more. Ma
In addition, regarding the laminating strength, according to Examples 1 to 6.
The laminated material is superior to the laminated materials according to Comparative Examples 1 to 3.
Was. The above results indicate that the laminated materials according to Examples 1 to 6
-Improve oxygen permeability by providing a hardened film
It shows what can be done. Next, water vapor transmission
Regarding the degree, the laminated material according to Examples 1 to 6 is 0.5
g / mTwo・ Day ・ atm or less,
The laminated material according to Comparative Examples 1 to 3 was 1.5 g / mTwo・ Day
-It was atm or more.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
は、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜と、物
理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜と、無機酸化
物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−とに着目し、
まず、基材フィルムの一方の面に、化学気相成長法によ
る無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸化物の
蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜を設け、更にまた、該無機酸化物の蒸着薄膜の上
に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの
主成分とし、これと、少なくとも、上記の無機酸化物の
蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−の1種ないしそれ
以上を含む樹脂組成物によるコ−ティング膜を設けてバ
リア性フィルムを製造し、而して、該バリア性フィルム
に、他のプラスチックフィルム、あるいは、紙基材、そ
の他等の素材を任意に積層して積層材を製造し、次に、
該積層材を使用し、これを製袋ないし製函して包装用容
器を製造し、該包装用容器内に、例えば、飲食品、医薬
品、化学薬品、日用品、雑貨品、その他等の種々の物品
を充填包装して包装製品を製造して、無機酸化物の蒸着
薄膜との密接着性を向上させ、その酸素ガスおよび水蒸
気等に対するガスバリア性に優れ、内容物の変質、改質
等を防止して安定的に長期間の流通、保存適性等を有
し、また、透明性に優れているので、外から内容物を視
認し得ることができ、更に、柔軟性、耐熱性、ラミネ−
ト強度等に優れ破袋等もなく、極めて優れた良好な包装
製品を安価に製造し得ることができる有用なバリア性フ
ィルムおよびこれを使用した積層材を製造することがで
きるというものである。
As is apparent from the above description, the present invention provides a method for depositing a thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method, a method of depositing a thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method, Focusing on polymers with high adhesion to vapor-deposited thin films,
First, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided on one surface of a base film by a chemical vapor deposition method, and further, a vapor-deposited inorganic oxide is deposited on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide by a physical vapor deposition method. A thin film is provided, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of a vehicle on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, and is tightly adhered to at least the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide. A barrier film is manufactured by providing a coating film made of a resin composition containing one or more polymers having high properties, and the barrier film is replaced with another plastic film or paper base. Materials, and other materials are arbitrarily laminated to produce a laminated material, and then
Using the laminated material, it is made into a bag or a box to produce a packaging container, and in the packaging container, for example, various kinds of foods and drinks, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, etc. Filling and packaging products to produce packaging products, improve the tight adhesion of inorganic oxides to the deposited thin film, and have excellent gas barrier properties against oxygen gas and water vapor, etc. It has stable long-term distribution and storage suitability, and is excellent in transparency, so that the contents can be visually recognized from the outside, and further, flexibility, heat resistance and laminating properties.
A useful barrier film which is excellent in strength and the like, has no bag breakage and the like, and is capable of producing an extremely excellent and excellent packaged product at a low cost, and a laminate material using the same can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかるバリア性フィルムについてその
一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a barrier film according to the present invention.

【図2】本発明にかかる積層材についてその一例の層構
成の概略を示す概略的断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically illustrating a layer configuration of an example of a laminated material according to the present invention.

【図3】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示すプラズマ化学気相
成長装置の概略的構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method of forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method.

【図4】物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示す巻き取り式真空蒸
着装置の概略的構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a roll-up type vacuum deposition apparatus showing an outline of a method of forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a physical vapor deposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 バリア性フィルム 2 基材フィルム 3 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜 4 物理気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜 5 コ−ティング膜 6 印刷絵柄層 7 ヒ−トシ−ル性樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Barrier film 2 Substrate film 3 Deposited thin film of inorganic oxide by chemical vapor deposition method 4 Deposited thin film of inorganic oxide by physical vapor deposition method 5 Coating film 6 Printed pattern layer 7 Heat sealing property Resin layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 18/00 B32B 18/00 C 4K030 27/28 102 27/28 102 27/32 27/32 Z 27/34 27/34 27/36 27/36 B65D 65/40 B65D 65/40 D C08J 3/24 C08J 3/24 A 7/00 306 7/00 306 7/04 7/04 P L 7/06 CES 7/06 CESZ CFD CFDZ CFG CFGZ C23C 14/08 C23C 14/08 A 16/40 16/40 Fターム(参考) 3E086 AD01 AD02 BA04 BA15 BA40 BB01 BB22 BB41 BB90 CA01 CA11 CA35 4F006 AA12 AA15 AA17 AA18 AA19 AA22 AA35 AA36 AA38 AB13 AB14 AB15 AB16 AB20 AB23 AB24 AB32 AB35 AB37 AB38 AB74 AB76 BA05 BA13 CA07 DA01 DA03 DA04 EA05 4F070 AA13 AA26 AA38 AA55 AA57 AB11 AB21 AC54 AC90 AE08 GA01 GC02 GC09 4F073 AA17 BA08 BA24 CA02 CA70 EA01 EA65 HA10 4K029 AA11 AA25 BA44 BA46 BB02 BC00 EA01 GA03 4K030 AA11 BA43 BA44 BB13 CA07 CA12 DA08 JA01 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 18/00 B32B 18/00 C 4K030 27/28 102 27/28 102 27/32 27/32 Z 27 / 34 27/34 27/36 27/36 B65D 65/40 B65D 65/40 D C08J 3/24 C08J 3/24 A 7/00 306 7/00 306 7/04 7/04 PL 7/06 CES 7 / 06 CESZ CFD CFDZ CFG CFGZ C23C 14/08 C23C 14/08 A 16/40 16/40 F term (reference) 3E086 AD01 AD02 BA04 BA15 BA40 BB01 BB22 BB41 BB90 CA01 CA11 CA35 4F006 AA12 AA15 AA17 AAA AAA AAA AA AAA AB14 AB15 AB16 AB20 AB23 AB24 AB32 AB35 AB37 AB38 AB74 AB76 BA05 BA13 CA07 DA01 DA03 DA04 EA05 4F070 AA13 AA26 AA38 AA55 AA57 AB11 AB21 AC54 AC90 AE08 GA01 GC02 GC09 4F073 AA17 BA08 BA24 CA02 CA70 EA01 EA65 HA10 4K029 AA11 AA25 BA44 BA46 BB02 BC00 EA01 GA03 4K030 AA11 BA43 BA44 BB13 CA07 CA12 DA08 JA01

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルムの一方の面に、化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機
酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機酸
化物の蒸着薄膜を設け、また、該無機酸化物の蒸着薄膜
の上に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒク
ルの主成分とし、これと、少なくとも、上記の無機酸化
物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−の1種ないし
それ以上を含む樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け
たことを特徴とするバリア性フィルム。
1. An inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition on one surface of a substrate film, and an inorganic oxide deposited by physical vapor deposition on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. A vapor-deposited thin film of a product is provided, and on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of a vehicle. A barrier film provided with a coating film made of a resin composition containing one or more polymers having high adhesion.
【請求項2】 基材フィルムが、2軸延伸ポリプロピレ
ンフィルム、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム、または、2軸延伸ナイロンフィルムからなること
を特徴とする上記の請求項1に記載するバリア性フィル
ム。
2. The barrier film according to claim 1, wherein the base film comprises a biaxially oriented polypropylene film, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, or a biaxially oriented nylon film. .
【請求項3】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜2に
記載するバリア性フィルム。
3. The barrier according to claim 1, wherein the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by chemical vapor deposition comprises a vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by plasma chemical vapor deposition. Film.
【請求項4】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、プラズマ化学気相成長法による酸化珪素の蒸着
薄膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜3に記
載するバリア性フィルム。
4. The barrier property according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition comprises a silicon oxide vapor-deposited thin film formed by plasma chemical vapor deposition. the film.
【請求項5】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、有機珪素化合物を蒸着用モノマ−ガスとして使
用し、プラズマ化学気相成長法による酸化珪素の蒸着薄
膜からなることを特徴とする上記の請求項1〜4に記載
するバリア性フィルム。
5. The method according to claim 1, wherein the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide formed by the chemical vapor deposition method comprises a vapor-deposited thin film of silicon oxide formed by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method using an organosilicon compound as a monomer gas for the vapor deposition. The barrier film according to any one of claims 1 to 4, wherein
【請求項6】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素とし
て有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一
方、または、その両者の元素を微量構成元素として含有
する酸化珪素の蒸着薄膜からなり、かつ、その膜厚が、
50Å〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成
元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連
続的に変化していることを特徴とする上記の請求項1〜
5に記載するバリア性フィルム。
6. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide formed by a chemical vapor deposition method has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, any one of carbon (C) and hydrogen (H) is used. On the other hand, or consists of a vapor-deposited thin film of silicon oxide containing both elements as trace elements, and the film thickness is
The angle is in the range of 50 ° to 500 °, and the composition ratio of the essential constituent element and the trace constituent element continuously changes in the film thickness direction.
5. The barrier film according to 5.
【請求項7】 物理気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、真空蒸着法による無機酸化物の蒸着薄膜からな
ることを特徴とする上記の請求項1〜6に記載するバリ
ア性フィルム。
7. The barrier film according to claim 1, wherein the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by physical vapor deposition comprises a vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by vacuum vapor deposition.
【請求項8】 物理気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、真空蒸着法による酸化アルミニウムの蒸着薄膜
からなることを特徴とする上記の請求項1〜7に記載す
るバリア性フィルム。
8. The barrier film according to claim 1, wherein the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by physical vapor deposition comprises a vacuum-deposited aluminum oxide vapor-deposited thin film.
【請求項9】 エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
が、エチレン含有率25〜50モル%であることを特徴
とする上記の請求項1〜8に記載するバリア性フィル
ム。
9. The barrier film according to claim 1, wherein the ethylene-vinyl alcohol copolymer has an ethylene content of 25 to 50 mol%.
【請求項10】 無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に
富むポリマ−が、ポリエチレンイミン系ポリマ−、ポリ
カルボジイミド系ポリマ−、または、ポリビニルピロリ
ドン系ポリマ−の1種ないしそれ以上からなることを特
徴とする上記の請求項1〜9に記載するバリア性フィル
ム。
10. A polymer having a high adhesion to a deposited thin film of an inorganic oxide, comprising one or more of a polyethyleneimine-based polymer, a polycarbodiimide-based polymer, and a polyvinylpyrrolidone-based polymer. The barrier film according to any one of claims 1 to 9, wherein:
【請求項11】 基材フィルムの一方の面に、化学気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無
機酸化物の蒸着薄膜の上に、物理気相成長法による無機
酸化物の蒸着薄膜を設け、かつ、該無機酸化物の蒸着薄
膜の上に、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物を
ビヒクルの主成分とし、更に、これと、少なくとも、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−
の1種ないしそれ以上を含む樹脂組成物によるコ−ティ
ング膜を設けたバリア性フィルムのコ−ティング膜の面
に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを
特徴とする積層材。
11. A vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by chemical vapor deposition on one surface of a substrate film, and an inorganic oxide deposited by physical vapor deposition is further formed on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. A vapor-deposited thin film of the product is provided, and on the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide, a saponified product of an ethylene-vinyl acetate copolymer is used as a main component of the vehicle. Polymer with high adhesion to deposited thin film
A laminate comprising at least a heat-sealing resin layer provided on a coating film surface of a barrier film provided with a coating film of a resin composition containing at least one of the following. Wood.
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