JP5084983B2 - Barrier film and laminated material using the same - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関し、更に詳しくは、透明性、酸素ガスおよび水蒸気等の透過を阻止するバリア性等に優れ、更に、良好な接着性を有してラミネ−ト適性に優れ、かつ、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工、その他等の後処理加工に対し優れた適性を有し、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用なバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、飲食品、医薬品、化粧品、その他等の種々の物品を充填包装するために、種々の包装用材料が開発され、提案されている。
それらの中で、近年、酸素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止するバリア性素材として、プラスチック基材の表面に、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、その他等の無機酸化物を使用し、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法(PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(CVD法)等を利用して、その無機酸化物の蒸着膜を形成してなる透明ガスバリア性フィルムが注目されている。
而して、上記の透明ガスバリア性フィルムは、その片面、あるいは、両面に、他のプラスチックフィルム、紙基材、その他等を積層して積層材を製造し、更に、該積層材を使用し、これを製袋ないし製函して種々の形態からなる包装用容器を製造し、しかる後、該包装用容器内に、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、その他等の種々の物品を充填包装して包装製品を製造し、そられを市場に供給している。
上記の包装製品は、酸素ガスあるいは水蒸気等の透過を阻止するハイバリア性を有し、内容物の保存、貯蔵安定性、品質保証性等に優れ、また、使用後においては、従来のアルミニウム箔あるいはポリ塩化ビニリデン系樹脂フィルム等のバリア性素材を使用した包装用容器等と比較して、包装用容器等の廃棄処理適性に優れ、環境対応に適し、今後、その発展、需要等が期待されるものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような透明ガスバリア性フィルムは、その片面が、プラスチック基材であり、その他方の面は、無機酸化物の蒸着膜であり、而して、上記のプラスチック基材の表面に、所望の印刷模様を設ける場合、あるいは、他のプラスチックフィルム等を積層する場合、該プラスチック基材の表面は、表面張力が弱く、濡れ性等に乏しいことから、所望の印刷模様を形成する印刷加工、あるいは、他のプラスチックフィルム等を積層するラミネ−ト加工、その他等の作業、操作等を著しく困難にするものである。
このため、上記の透明ガスバリア性フィルムにおいては、通常、無機酸化物の蒸着膜の面に、プライマ−剤層を設け、その上に、印刷模様等を形成し、更に,ラミネ−ト用接着剤層等を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層等をドライラミネ−トして、包装用材料としての積層材を製造しているものである。
しかしながら、この場合においても、無機酸化物の蒸着膜が、可撓性等に乏しく、かつ、ガラス質のものであることから、プライマ−剤層、印刷模様、ドライラミネ−ト用接着剤層、積層材、その他等を形成する際に、その透明バリア性フィルムの巻き取り加工、塗布加工、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工、その他等の後処理加工において、該無機酸化物の蒸着膜にクラック等を発生し、それに伴って、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア性を著しく低下させるという問題点がある。
【0004】
ところで、例えば、ハム、ソ−セ−ジ等を充填包装する深絞り用積層材、あるいは、醤油、ソ−ス等を充填包装する液体小袋用積層材等においては、バリア性素材として、上記の透明ガスバリア性フィルムを使用する場合には、少なくとも、表印刷した基材フィルム、上記の透明ガスバリア性フィルム、および、ヒ−トシ−ル性樹脂層を順次に積層して積層材を製造しなければならないものであり、上記の透明ガスバリア性フィルムを、いわゆる、中使い用途として使用する必要があるものである。
更に、ふりかけ等の内容物を充填包装する場合には、基材フィルムとして、静電防止剤等を練り込み加工した基材フィルムを使用し、その一方の面に、無機酸化物の蒸着膜等を形成し、その無機酸化物の蒸着膜の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂層等を設けて積層材を製造し、而して、該積層材を使用して軟包装袋を製袋してふりかけ等の内容物を充填包装することが試みられているが、この場合には、静電防止剤等を練り込み加工した基材フィルム自身に、無機酸化物の蒸着膜を蒸着することが極めて困難である。
このため、ふりかけ等の内容物を充填包装する軟包装袋用積層材においては、前述と同様に、上記の透明ガスバリア性フィルムを使用する場合に、少なくとも、表印刷した基材フィルム、上記の透明ガスバリア性フィルム、および、ヒ−トシ−ル性樹脂層を順次に積層して積層材を製造しなければならないものであり、上記の透明ガスバリア性フィルムを、いわゆる、中使い用途として使用する必要があるものである。
しかしながら、上記の透明ガスバリア性フィルムを、いわゆる、中使い用途として使用する場合には、前述のように、プラスチック基材の表面張力が弱く、濡れ性等に劣り、更に、無機酸化物の蒸着膜のクラックの発生等の問題点を有するものである。
そこで本発明は、透明性、酸素ガスあるいは水蒸気等に対するバリア性等に優れ、更に、良好な接着性を有し、ラミネ−ト適性に優れ、かつ、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工、その他等の後処理加工に対し優れた適性に有し、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用なバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記のような問題点を解決すべく種々研究の結果、ヘイズ値が2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下である基材フィルムに着目し、その基材フィルムの一方の面に、予め、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設け、他方、上記の基材フィルムの他方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する直前に、該基材フィルムの他方の面に、プラズマ放電処理によるプラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の上に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成してバリア性フィルムを製造したところ、基材フィルムが、ヘイズ値2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下であって、その表面が極めて滑らかであることから、基材フィルムの一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を、他方、上記の基材フィルムの他方の面に、プラズマ処理面を極めて良好に形成することができ、これにより、基材フィルムの一方の面は、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を有することから、表面張力が強く、濡れ性等に優れ、極めて良好な接着性を有し、他のプラスチックフィルム等とのラミネ−ト適性に優れ、他方、上記の基材フィルムの他方の面には、プラズマ処理面を介して、緻密な無機酸化物の蒸着膜を形成することができ、かつ、従来品と比較して、より薄い膜厚でも十分にハイバリア性を有し、更に、基材フィルムの表面と無機酸化物の蒸着膜との密着性に優れ、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工、その他等の後処理加工において金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等の発生は認められず、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有し、かつ、透明性に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用なバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。
【0006】
すなわち、本発明は、ヘイズ値が2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下である基材フィルムの一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設け、他方、上記の基材フィルムの他方の面に、プラズマ処理面を設け、更に、該プラズマ処理面の上に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設けることを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。
【0007】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等についてその層構成等を図面を用いて説明すると、図1は、本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図であり、図2は、図1に示すバリア性フィルムを使用した積層材についてその層構成の一例を示す概略的断面図である。
【0008】
本発明にかかるバリア性フィルムAは、図1に示すように、ヘイズ値が2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下である基材フィルム1の一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面2を設け、他方、上記の基材フィルム1の他方の面に、プラズマ処理面3を設け、更に、該プラズマ処理面3の上に、金属または金属酸化物の蒸着膜4を設ける構成からなることを基本構造とするものである。
而して、本発明において、上記の本発明にかかるバリア性フィルムAを使用した積層材Bとしては、図2に示すように、上記の図1に示すバリア性フィルムAを構成する静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面2の面、および、金属または金属酸化物の蒸着膜4の面の両面に、少なくとも、樹脂のフィルム5、5aを積層した構成からなることを基本構造とするものである。
上記の図2において、符号1、3は、前述の図1の場合と同じ意味である。
上記の例示は、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等についてその一例を例示するものであり、本発明はこれによって限定されるものでないことは言うまでもないことである。
【0009】
次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等についてこれらを構成する材料、その製造法等について説明すると、先ず、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等を構成する基材フィルムとしては、化学的ないし物理的強度に優れ、後述する表面処理面、および、プラズマ処理面等を形成する条件、あるいは、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する条件等に耐え、それらの表面処理面、プラズマ処理面、あるいは、金属または金属酸化物の蒸着膜等の特性を損なうことなく良好に保持し得ることができ基材を使用することができる。
本発明において、上記の基材フィルムとしては、具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
【0010】
本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの膜厚としては、6〜200μm位、より好ましくは、9〜100μm位が望ましい。
【0011】
なお、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。
【0012】
而して、本発明において、上記の基材フィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、2.5%以下、好ましくは、2.5%〜0.7%位であることが望ましく、また、その表面粗さが、35nm以下、好ましくは、35nm〜20nm位であることが望ましいものである。
本発明において、上記のうよなヘイズ値、あるいは、表面粗さを有することから、基材フィルムは、極めて滑らかな表面を構成し、後述するように、例えば、基材フィルムの一方の面に、コロナ放電処理、あるいは、火炎処理等の表面処理を施すと、0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を形成し、表面張力が強く、濡れ性等に優れ、極めて良好な接着性を有し、他のプラスチックフィルム等の基材とのラミネ−ト適性を有するものである。
また、基材フィルムの他方の面に、プラズマ処理等を施すと、極めて良好なプラズマ処理面を形成し、そのプラズマ処理面を介して、緻密な無機酸化物の蒸着膜を形成することができ、従来品と比較して、より薄い膜厚でも十分にハイバリア性を有し、更に、基材フィルムの表面と無機酸化物の蒸着膜との密着性に優れ、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工、その他等の後処理加工において金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等の発生を防止し、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有するというものである。
勿論、更に高透明なハイバリアフィルムが得られ、包材としての価値があがるものである。
なお、本発明において、ヘイズ値(曇り度)が、2.5%を越えると、また、表面粗さが、35nmを越えると、基材フィルムの表面が粗くなり、良好な表面処理面、あるいは、プラズマ処理面等を形成することが困難になることから好ましくないものである。
なおまた、本発明において、上記のヘイズ値(曇り度)、および、表面粗さは、透過率測定法、触針法等により測定し得るものである。
【0013】
次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等を構成する静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面について説明すると、かかる表面処理面としては、基材フィルムの一方の面に、例えば、コロナ放電処理、プラズマ処理、あるいは、プラズマ火炎処理等の表面処理を施すことによって表面処理面を形成することができる。
而して、本発明において、上記の表面処理面としては、基材フィルムの一方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設ける前に予め表面処理面を設けるか、あるいは、基材フィルムの一方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設けた後、その基材フィルムの他方の面に表面処理面を設けことができるものである。
なお、本発明においては、通常、基材フィルムの一方の面に、予め、表面処理面を設け、しかる後、基材フィルムの他方の面に、プラズマ処理面を設けた後、金属または金属酸化物の蒸着膜を設けることが好ましいものである。
しかしながら、基材フィルムの一方の面に、予め、コロナ放電処理面等の表面処理面を設け、これを、例えば、巻き取り式真空蒸着装置等の真空中で巻き取る際に、コロナ放電処理度が大き過ぎると、基材フィルムの表面自由エネルギ−が大きいためブロッキング現象等を生じ、後加工の際の機械適性等を著しく損なうという問題点がある。
そこで本発明においては、コロナ放電処理面等の表面処理面について、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μ位、好ましくは、0.5μ〜0.7μ位に処理度合いを調節することが好ましいものである。
上記において、静および動摩擦係数が0.4μ、更には、0.5μ未満であると、濡れ性が悪いという問題点あることから好ましくなく、また、静および動摩擦係数が0.7μを越えると、ブロッキング現象等を生じることから好ましくないものである。
【0014】
次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等を構成するプラズマ処理面について説明すると、かかるプラズマ処理面としては、気体をグロ−放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ表面処理法等を利用してプラズマ処理面を形成することができるものである。
すなわち、本発明においては、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスの1種ないし2種以上をプラズマガスとして使用する方法でプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成することができる。
而して、本発明において、基材フィルムの表面に行うプラズマ処理としては、プラズマ放電処理の際に、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行なうことが好ましく、このようなプラズマ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行なうことが可能であり、これにより、基材フィルムの表面の変色等を防止して、その表面に、良好にプラズマ処理面を設けることができるものである。
【0015】
ところで、本発明において、上記のプラズマ処理としては、特に、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用し、更に、基材フィルムの表面に金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する直前にインラインで行うことが望ましいものである。
すなわち、本発明においては、基材フィルムの一方の面に、予め、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設け、次いで、該基材フィルムを、例えば、巻き取り式真空蒸着装置内の供給ロ−ル等に装着し、その基材フィルムの他方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、基材フィルムの他方の面に付着している水分や塵等を除去すると共に、更に、プラズマ中で活性化された酸素分子等が基材フィルムの表面と化学反応を起こすことによって、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜等を形成したプラズマ処理面を設けることができものである。
更に、本発明においては、基材フィルムの表面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、基材フィルムの表面に、例えば、水酸基(−OH基)等が形成されているプラズマ処理面を設けることもできるものである。
【0016】
而して、本発明においては、上記のようなプラズマ処理により、基材フィルムの表面に酸化被膜、あるいは、水酸基(−OH基)等が形成されているプラズマ処理面上に、後述するように蒸着により、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成すると、その層間に夾雑物等の不純物等が介在することなく、非常に緻密な金属または無機酸化物の蒸着膜を形成することができ、しかも、その両者の密接着性に優れ、その結果、薄い膜厚で、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性薄膜を形成することができるものである。
しかも、本発明においては、上記のように金属または金属酸化物の蒸着膜を、より薄い膜厚で形成して、十分に酸素ガスあるいは水蒸気等に対するハイバリア性薄膜とすることができることから、例えば、フィルムの巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後処理加工において、上記の金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等の発生等を防止することができ、いわゆる、後加工適性を向上させることができるという利点も有するものである。
更に、本発明においては、上記のように、基材フィルムと金属または金属酸化物の蒸着膜との密接着性が優れていることから、他の樹脂のフィルムないしシ−ト等のラミネ−ト適性も向上するものである。
また、本発明においては、基材フィルムの表面に、金属または金属酸化物の蒸着膜形成直前にインラインでプラズマ処理を行うことから、バリア性フィルムの製造コスト面においても、他の方法等と比較して極めて優れているものである。
【0017】
なお、本発明において、上記のプラズマ処理においては、そのプラズマ処理条件が極めて重要であり、その条件によって得られる効果は、全く異なる。
而して、本発明において、プラズマ処理条件としては、プラズマ放電電力、グロ−放電圧力、その他等を挙げることができる。
本発明において、プラズマ処理としては、例えば、プラズマ処理が、強ければ強い程、密接着性が向上するが、あまり強過ぎると、基材フィルムが、熱負けを起こすことから好ましくなく、而して、本発明において、プラズマ放電電力としては、約40W・分/m2 〜100W・分/m2 位が最も好ましいものである。
また、本発明において、プラズマ電源としては、交流でも直流でもよく、而して、グロ−放電圧力としては、0.5〜5.0×10-2mbar位が好ましく、あまり高真空では、プラズマの安定性に欠け、また、低真空では、プラズマの基材フィルムへの作用効果が弱められることから好ましくないものである。
【0018】
ところで、本発明において、プラズマ処理において、プラズマを発生させる方法としては、例えば、直流グロ−放電、高周波(Audio Frequency:AF、Radio Frequency:RF)放電、マイクロ波放電等の3通りの装置を利用して行うことができる。
なお、本発明において、金属または金属酸化物の蒸着膜形成直前の基材フィルムの表面に、上記のようなプラズマ処理により形成されるプラズマ処理面について、英国、VGサイエンティフィック社製のX線光電子分光分析測定機(機種名、XPS)を使用し、処理面の元素分析を行うことより、前述のように、基材フィルムの表面に付着している水分や塵等を除去されると共に、更に、プラズマ中で活性化された酸素分子が基材フィルムの表面と化学反応を起こすことによって、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成したプラズマ処理面であること、更に、基材フィルムの表面に、例えば、水酸基(−OH基)等の官能基が形成されているプラズマ処理面であることを確認することができるものである。
具体的には、X線源として、MgKα1.2、X線出力として15Kv、20mAの測定条件で表面〜100ÅのXPS分析を行い、而して、酸化被膜の形成状態は、表面のO/C(酸素と炭素)の組成比を測定して確認することができ、また、水酸基(−OH基)等の形成状態は、O1S の532eV位置に得られるピ−クを測定して確認することができるものである。
【0019】
次にまた、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルム、積層材等を構成する金属または金属酸化物の蒸着膜について説明すると、かかる金属または金属酸化物の蒸着膜としては、基本的には、金属またはその金属の酸化物をアモルファス(非晶質)化した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(Na)、ホウ素(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジルコニウム(Zr)、イットリウム(Y)等の金属またはその金属の酸化物をアモルファス(非晶質)化した薄膜を使用することができる。
而して、包装用材料等に適するものとしては、アルミニウム(Al)等の金属、あるいは、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)等の金属の酸化物をアモルファス(非晶質)化した薄膜を挙げることができる。
而して、上記の金属の酸化物をアモルファス(非晶質)化した薄膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、SiOX 、AlOX 、MgOX 等のようにMOX (ただし、式中、Mは、金属元素を表し、Xの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。)で表される。
【0020】
また、上記のXの値の範囲としては、ケイ素(Si)は、0〜2、アルミニウム(Al)は、0〜1.5、マグネシウム(Mg)は、0〜1、カルシウム(Ca)は、0〜1、カリウム(K)は、0〜0.5、スズ(Sn)は、0〜2、ナトリウム(Na)は、0〜0.5、ホウ素(B)は、0〜1、5、チタン(Ti)は、0〜2、鉛(Pb)は、0〜1、ジルコニウム(Zr)は0〜2、イットリウム(Y)は、0〜1.5の範囲の値をとることができる。
上記において、X=0の場合、完全な金属であり、透明ではなく、また、Xの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、包装用材料としては、一般的に、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)以外は、使用される例に乏しく、ケイ素(Si)は、1.0〜2.0、アルミニウム(Al)は、0.5〜1.5の範囲の値のものを使用することができる。
【0021】
本発明において、上記のような金属または金属酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属または金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、50〜2000Å位、好ましくは、100〜1000Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
更に具体的に説明すると、アルミニウムの蒸着膜の場合には、膜厚50〜600Å位、更に、好ましくは、100〜450Å位が望ましく、また、酸化アルミニウムあるいは酸化珪素の蒸着膜の場合には、膜厚50〜500Å位、更に、好ましくは、100〜300Å位が望ましいものである。
上記の膜厚において、その膜厚が、上記の膜厚より薄い場合には、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性が低下することから好ましくなく、また、上記の膜厚より厚くなる場合には、後加工の工程中に、金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等が発生し、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性が著しく低下し、更に、基材フィルムに対する密接着性が減少することから好ましくないものである。
また、本発明においては、金属酸化物の蒸着膜としては、金属酸化物の蒸着膜の1層だけではなく、2層あるいはそれ以上を積層した積層体の状態でもよく、また、使用する金属、または金属の酸化物としては、1種または2種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した金属酸化物の蒸着膜を構成することもできるものである。
【0022】
次に、本発明において、基材フィルムのプラズマ処理面の上に、金属または無機酸化物の蒸着膜を形成する方法について説明すると、かかる方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を挙げることができる。
本発明において、金属または金属酸化物の蒸着膜の形成法について具体的に説明すると、上記のような金属または金属の酸化物を原料とし、これを加熱して基材フィルムのプラズマ処理面の上に蒸着する真空蒸着法、または、原料に金属または金属の酸化物を使用し、酸素ガス等を導入して酸化させて基材フィルムのプラズマ処理面の上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
また、本発明においては、酸化珪素の蒸着膜を形成する場合、オルガノシロキサンを原料とするプラズマ化学気相成長法を用いて蒸着膜を形成することができる。
【0023】
本発明において、金属または金属酸化物の蒸着膜の形成法について、その具体例を挙げて説明すると、図3は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図3に示すように、まず、巻き取り式真空蒸着装置11を構成する真空チャンバ−12の中で、巻き出しロ−ル13から、予め、その一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設けた基材フィルム1を繰り出す。
次いで、上記で巻き出しロ−ル13から繰り出した基材フィルム1は、コ−ティングドラム14を通り、蒸着チャンバ−15の中に案内される。
而して、本発明においては、基材フィルム1が、蒸着チャンバ−15の中に案内される直前に、前処理ユニットとして、プラズマ処理装置20を配設し、このプラズマ処理装置20により、基材フィルム1の他方の面、すなわち、上記の予め設けた静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面と反対側の面に、十分にプラズマ処理を行いプラズマ処理面を形成し、次いで、基材フィルム1を蒸着チャンバ−15の中に案内する。
他方、蒸着チャンバ−15内においては、るつぼ16で熱せられた蒸着源(例えば、アルミニウムあるいは酸化アルミニウム等)を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素吹き出し口17より酸素ガス等を噴出させながら、上記で蒸着チャンバ−15の中に導入され、冷却したコ−ティングドラム14上の基材フィルム1のプラズマ処理面の上に、マスク18、18を介して金属または金属酸化物の蒸着膜を成膜化し、次に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1を真空チャンバ−12内に送り出し、更に、巻き取りロ−ル19に巻き取ることによって、本発明にかかる金属または金属酸化物の蒸着膜を製膜化することができる。
【0024】
また、本発明において、上記のプラズマ化学気相成長法について具体例を例示すると、図4は、プラズマ化学蒸着装置の一例を例示する概略的構成図である。
図4に示すように、プラズマ化学蒸着装置21を構成する真空チャンバ−22内に配置された巻き出しロ−ル23から補助ロ−ル24を介して一定の速度で、予め、その一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設けた基材フィルム1を繰り出しながら、これを冷却・電極ドラム25周面上に搬送する。
而して、本発明においては、基材フィルム1が、冷却・電極ドラム25周面上に案内される直前に、前処理ユニットとして、プラズマ処理装置34を配設し、このプラズマ処理装置34により、基材フィルム1の他方の面、すなわち、上記の予め設けた静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面と反対側の面に、十分にプラズマ処理を行いプラズマ処理面を形成し、次いで、基材フィルム1を冷却・電極ドラム25周面上に搬送する。
次に、上記で冷却・電極ドラム25周面上に基材フィルム1を搬送すると共に原料揮発供給装置26、27、28から供給される、例えば、蒸着モノマ−ガスとしての有機珪素化合物、酸素ガス、不活性ガス、その他等からなる混合ガスを原料供給ノズル29を通して真空チャンバ−22内に導入し、而して、グロ−放電プラズマ30によって、酸化珪素の蒸着膜等の金属酸化物の蒸着膜を、上記の基材フィルム1のプラズマ処理面の上に製膜化する。
なお、その際に、冷却・電極ドラム25は、真空チャンバ−22外に配置されている電源31から所定の電圧が印加されており、また、冷却・電極ドラム25の近傍には、マグネット32を配置してプラズマの発生を促進し、酸化珪素の蒸着膜等の金属酸化物の蒸着膜の製膜化を調製する。
次に、上記で酸化珪素の蒸着膜等の金属酸化物の蒸着膜を形成した基材フィルム1を補助ロ−ル24を介して巻き取りロ−ル33に巻き取って、本発明にかかる金属酸化物の蒸着膜を製膜化することができるものである。
なお、図中、33は、真空ポンプを表す。
【0025】
上記において、金属酸化物の蒸着膜としての酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜は、少なくとも珪素と酸素とを構成元素として有する珪素化合物からなり、更に、微量構成元素として、炭素または水素の一種以上の元素を含み、また、その膜厚が、50〜500Å位、より好ましくは、100〜300Å位の範囲内であることが望ましいものである。
而して、本発明において、上記のような酸化珪素の薄膜としては、有機珪素化合物を原料とし、低温プラズマ発生装置等を利用するプラズマ化学気相成長法を用いて形成した蒸着膜を使用することができる。
上記において、有機珪素化合物としては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
【0026】
なお、本発明においては、上記のような金属または金属酸化物の蒸着膜の中でも、上記の巻き取り式真空蒸着装置等による物理気相成長法により製膜化したアルミニウムまたは酸化アルミニウムの蒸着膜が、後述するプラズマ処理面と相互に有効に作用し合い、その両者による相乗効果を有効に発揮し、基材フィルムと金属または金属酸化物の蒸着膜とが、強固に密接着したバリア性フィルムを製造し得るものである。
特に、本発明においては、前述のように、インラインで金属または金属酸化物の蒸着膜の蒸着直前に、プラズマ処理を行ってプラズマ処理面を形成し、基材フィルムと金属または金属酸化物の蒸着膜との密接着性を向上させているものである。
【0027】
次に、本発明において、本発明にかかるバリア製フィルムを使用して製造する積層材を構成する樹脂のフィルム等について説明すると、かかる樹脂のフィルム等としては、種々のものを使用することができ、例えば、まず、ヒ−トシ−ル性樹脂層を構成するヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記のヒ−トシ−ル製樹脂層を構成するヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムないしシ−トは、通常、本発明にかかるバリア製フィルムの金属または金属酸化物の蒸着膜の面に積層されるものである。
本発明において、上記のヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムないしシ−トとしては、具体的には、熱によって溶融し相互に融着し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、シングルサイト系触媒(メタロセン系触媒)を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トを使用し、これを、ドライラミネ−ト法等によりドライラミネ−トして、ヒ−トシ−ル性樹脂層を形成することができるものである。
あるいは、本発明においては、例えば、上記のようなヒ−トシ−ル性樹脂等を使用し、押し出しラミネ−ト法等により押し出しラミネ−トして、ヒ−トシ−ル性樹脂層を形成することもできる。
本発明において、上記のヒ−トシ−ル性樹脂層の厚さとしては、5μmないし300μm位が好ましくは、更には、10μmないし100μm位が望ましい。
【0028】
なお、上記において、ドライラミネ−トする際には、ドライラミネ−ト用接着剤等を使用することができ、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等のドライラミネ−ト用接着剤を使用することがてきる。
上記のドライラミネ−ト用接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、上記のドライラミネ−ト用接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜10.0g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0029】
なお、本発明においては、上記のドライラミネ−ト用接着剤の中でも、特に、ジないしポリイソシアネ−ト化合物とジないしポリオキシ化合物との反応により得られるポリウレタン系化合物を主成分とする1液ないし2液硬化型のラミネ−ト用接着剤を使用することが望ましいものである。
具体的には、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テルポリオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル、その他等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる1液ないし2液硬化型のポリウレタン系化合物をビヒクルの主成分とするドライラミネ−ト用接着剤組成物を使用し、これを、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティング法によりコ−ティングし、次いで、溶剤、希釈剤等を乾燥して、ドライラミネ−ト用接着剤層を形成することができる。
上記のおいて、ドライラミネ−ト用接着剤層の膜厚としては、0.1〜6.0g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
而して、本発明において、上記のようなポリウレタン系化合物を使用することにより、ドライラミネ−ト用接着剤層を構成するコ−ティング膜の伸長性、弾性等を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における金属または金属酸化物の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。
【0030】
而して、本発明において、上記のドライラミネ−ト用接着剤層としては、JIS K6301に準じた4号ダンベルにて23℃、50%RHの環境下で300mm/min.の速度条件で測定して、300%〜550%の引っ張り伸度を有するものであることが望ましいものである。
本発明において、上記の接着剤層の引っ張り伸度は、積層材を構成する金属または金属酸化物の蒸着膜、印刷模様層等との密接着性を向上させ、これにより、金属または金属酸化物の蒸着膜のクラック等の発生を防止するものである。
上記において、引っ張り伸度が、300%未満であると、柔軟性に欠け、ラミネ−トあるいは製袋または製函等の後加工において、金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等が発生して好ましくなく、また、引っ張り伸度が、550%を越えると、柔軟性が過剰になり、引き裂き性に劣り、例えば、包装用容器の開封性に劣るので好ましいないものである。
なお、本発明においては、上記のようなポリウレタン系化合物を含むドライラミネ−ト用接着剤組成物には、更に、必要な場合には、例えば、ニトロセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、その他の結合剤等を任意に添加することができるものである。
【0031】
また、本発明においては、上記の押し出しラミネ−ト積層を行う際に、必要ならば、例えば、イソシアネ−ト系(ウレタン系)、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤等を使用することができる。
本発明においては、上記のアンカ−コ−ティング剤を、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティング法によりコ−ティングし、次いで、溶剤、希釈剤等を乾燥して、アンカ−コ−ト剤層を形成することができる。
上記のおいて、アンカ−コ−ト剤層の膜厚としては、0.1〜6.0g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
【0032】
次にまた、本発明にかかる積層材においては、更に、例えば、強度を有して強靱であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルムないしシ−トを積層することができ、具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−ト、その他等を使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
そのフィルムの厚さとしては、5μmないし100μm位、好ましくは、10μmないし50μm位が望ましい。
なお、本発明においては、上記のような基材フィルムには、例えば、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵柄を通常の印刷法で表刷り印刷あるいは裏刷り印刷等が施されていてもよい。
【0033】
また、本発明にかかる積層材においては、例えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用して積層することができ、具体的には、本発明において、紙基材としては、賦型性、耐屈曲性、剛性等を持たせるものであり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。
上記において、紙層を構成する紙基材としては、坪量約80〜600g/m2 位のもの、好ましくは、坪量約100〜450g/m2 位のものを使用することが望ましい。
勿論、本発明においては、紙層を構成する紙基材と、上記に挙げた各種の樹脂のフィルムないしシ−ト等を併用して使用することができる。
【0034】
更に、本発明において、本発明にかかる積層材においては、例えば、水蒸気、水等のバリア−性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、あるいは、酸素、水蒸気等に対するバリア−性を有するポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を積層することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。
上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、5μmないし300μm位、更には、10μmないし150μm位が望ましい。
【0035】
なお、本発明においては、通常、包装用容器は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装用容器を構成する包装材料には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択して使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
また、本発明において、本発明にかかる積層材を構成するいずれかの層に、例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、シルクスクリ−ン印刷、その他により、文字、図形、絵柄、記号等からなる所望の印刷絵柄層を形成することもできることは言うまでもないことである。
【0036】
次に、本発明において、上記のような材料を使用して積層材を製造する方法について説明すると、かかる方法としては、通常の包装材料をラミネ−トする方法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドライラミネ−ション法、無溶剤型ドライラミネ−ション法、押し出しラミネ−ション法、Tダイ押し出し成形法、共押し出しラミネ−ション法、インフレ−ション法、共押し出しインフレ−ション法、その他等で行うことができる。
而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、コロナ処理、オゾン処理等の前処理をフィルムに施すことができ、また、例えば、イソシアネ−ト系(ウレタン系)、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤、あるいは、ポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等のラミネ−ト用接着剤等の公知の前処理、アンカ−コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。
更に、本発明においては、上記の積層を行う場合に、例えば、ポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等をビヒクルの主成分とするプライマ−剤等も使用することができるものである。
【0037】
次に、本発明において、上記のような積層材を使用して製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、包装用容器がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した積層材を使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わせ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向させて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態の包装用容器を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような包装用容器には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。
【0038】
次にまた、包装用容器として、紙基材を含む液体充填用紙容器の場合、例えば、積層材として、紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体用紙容器等を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
本発明においては、特に、上記の紙容器等を製造する際に、折罫線等を刻設する折り性、刻設性等を著しく向上させることができ、これによるシ−ル不良等を改良し、シ−ル部のシ−ルの安定性を改善することができるものである。
【0039】
本発明において、上記のようにして製造した包装用容器は、液体飲料、菓子類、粉末状、液状、あるいは、固形状調味料、その他等の各種の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、洗剤、その他等の化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の種々の物品の充填包装に使用されるものである。
なお、本発明にかかる積層材は、例えば、プラスチック成形容器のフランジ部に貼り合わせて、蓋材としても使用することができるものである。
【0040】
【実施例】
上記の本発明について実施例を挙げて更に具体的に説明する。
実施例1
(1).巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、1.6%であり、また、表面粗さが、31nmであった。
上記のヘイズ値(曇り度)は、東洋精機製作所株式会社製、機種名、直読ヘイズメ−タ−を使用して測定し、また、表面粗さは、東京精密株式会社製、機種名、サ−ファコム(SURCOM)480Aで測定した(以下の実施例および比較例においても同じである。)。
更に、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.60μ、および、0.56μであった。
上記の静および動摩擦係数は、東洋精機製作所株式会社製、滑り試験機(型式TR−2)により、50mm/minでの静摩擦係数、動摩擦係数を測定した値である(以下の実施例および比較例においても同じである。)。
まず、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロ−ルに、その非コロナ処理面が蒸着されるように装着し、次いで、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非コロナ処理面、すなわち、他方の面に、インラインで放電プラズマ発生装置を用いて、下記の条件でプラズマ処理を行い、プラズマ処理面を形成した。
(プラズマ処理条件)
グロ−放電ガス:酸素ガス
電源:DC
放電電力:60W・分/m2
グロ−放電圧力:2.0×10-2mbar
次いで、インラインでプラズマ処理面を形成した後、該プラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚400Åのアルミニウムの蒸着膜を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
蒸着チャンバ−内の真空度:2×10-4mbar
巻き取りチャンバ−内の真空度:2×10-2mbar
電子ビ−ム電力:25kW
フィルムの搬送速度:150m/分
蒸着面:プラズマ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムのアルミニウムの蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これにふりかけ等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0041】
実施例2
(1).巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、1.6%であり、また、表面粗さが、31nmであった。
また、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.60μ、および、0.56μであった。
まず、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロ−ルに、その非コロナ処理面が蒸着されるように装着し、次いで、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非コロナ処理面、すなわち、他方の面に、インラインで放電プラズマ発生装置を用いて、下記の条件でプラズマ処理を行い、プラズマ処理面を形成した。
(プラズマ処理条件)
グロ−放電ガス:酸素ガス
電源:DC
放電電力:60W・分/m2
グロ−放電圧力:2.0×10-2mbar
プラズマ処理面:非コロナ処理面
次いで、インラインでプラズマ処理面を形成した後、該プラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給して、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚200Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
蒸着チャンバ−内の真空度:2×10-4mbar
巻き取りチャンバ−内の真空度:2×10-2mbar
電子ビ−ム電力:35kW
フィルムの搬送速度:480m/分
蒸着面:プラズマ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムの酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これにシリアマ・フレ−ク等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0042】
実施例3
(1).巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、0.9%であり、また、表面粗さが、30nmであった。
また、上記の基材フィルムとしての厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.45μ、および、0.40μであった。
まず、上記の2軸延伸ナイロン6フィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロ−ルに、その非コロナ処理面に蒸着されるように装着し、次いで、2軸延伸ナイロン6フィルムの非コロナ処理面、すなわち、他方の面に、インラインで放電プラズマ発生装置を用いて、下記の条件でプラズマ処理を行い、プラズマ処理面を形成した。
(プラズマ処理条件)
グロ−放電ガス:酸素ガス
電源:DC
放電電力:60W・分/m2
グロ−放電圧力:2.0×10-2mbar
プラズマ処理面:非コロナ処理面
次に、2軸延伸ナイロン6フィルムのプラズマ処理面の上に、アルミニウムを蒸着源に用いてエレクトロンビ−ム(EB)加熱方式により、酸素ガスを供給しながら、反応真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚200Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
蒸着チャンバ−内の真空度:2×10-4mbar
巻き取りチャンバ−内の真空度:2×10-2mbar
電子ビ−ム電力:25kW
フィルムの搬送速度:150m/分
蒸着面:プラズマ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムの酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ナイロン6フィルムのコロナ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これにスナック等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0043】
実施例4
(1).プラズマ化学蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、1.6%であり、また、表面粗さが、31nmであった。
また、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.60μ、および、0.56μであった。
まず、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをプラズマ化学蒸着装置の送り出しロ−ルに、その非コロナ処理面に蒸着されるように装着し、次いで、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの非コロナ処理面、他方の面に、インラインで放電プラズマ発生装置を用いて、下記の条件でプラズマ処理を行い、プラズマ処理面を形成した。
(プラズマ処理条件)
グロ−放電ガス:酸素ガス
電源:DC
放電電力:60W・分/m2
グロ−放電圧力:2.0×10-2mbar
プラズマ処理面:非コロナ処理面
次いで、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのプラズマ処理面の上に、下記の蒸着条件により、膜厚100Åの酸化珪素の蒸着膜を形成して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm)
真空チャンバ−内の真空度:5.2×10-6mbar
蒸着チャンバ−内の真空度:5.1×10-2mbar
冷却・電極ドラム供給電力:60w・分/m2
フィルムの搬送速度:90m/分
蒸着面:プラズマ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムの酸化珪素の蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これにスナックシリアル等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0044】
実施例5
上記の実施例1で製造した本発明にかかるバリア性フィルムを使用し、そのバリア性フィルムのアルミニウムの蒸着膜面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−トした。
他方、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面に、低密度ポリエチレン樹脂を使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、上記で押し出しラミネ−トしたバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面を対向させて、その両者を押し出しラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これに菓子、コ−ンフレ−ク等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0045】
実施例6
上記の実施例2で製造した本発明にかかるバリア性フィルムを使用し、そのバリア性フィルムの酸化アルミニウムの蒸着膜面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−トした。
他方、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面に、低密度ポリエチレン樹脂を使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、上記で押し出しラミネ−トしたバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面を対向させて、その両者を押し出しラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
なお、上記の積層材を使用し、三方シ−ル型の軟包装袋を製造し、これに乾物、スナック等を充填包装して包装製品を製造した結果、市場における流通、貯蔵、販売等に十分に耐え得るものであった。
【0046】
比較例1
(1).巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、3.4%であり、また、表面粗さが、36nmであった。
また、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.51μ、および、0.39μであった。
まず、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次に、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面の上に、アルミニウムを蒸着源に用いてエレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚400Åのアルミニウムの蒸着膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
蒸着チャンバ−内の真空度:2×10-4mbar
巻き取りチャンバ−内の真空度:2×10-2mbar
電子ビ−ム電力:25kW
フィルムの搬送速度:150m/分
蒸着面:コロナ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムを使用し、以下、上記の実施例1と全く同様にし、まず、上記で製造したバリア性フィルムのアルミニウムの蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、積層材を製造した。
【0047】
比較例2
(1).巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材フィルムとして、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは、ヘイズ値(曇り度)が、3.4%であり、また、表面粗さが、36nmであった。
なお、上記の基材フィルムとしての厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面には、予め、コロナ放電処理が施され、静および動摩擦係数が、それぞれ、0.51μ、および、0.39μであった。
まず、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロ−ルに装着し、次いで、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給して、エレクトロンビ−ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚200Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
(蒸着条件)
蒸着チャンバ−内の真空度:2×10-4mbar
巻き取りチャンバ−内の真空度:2×10-2mbar
電子ビ−ム電力:35kW
フィルムの搬送速度:480m/分
蒸着面:コロナ処理面
(2).次に、上記で製造したバリア性フィルムを使用し、以下、上記の実施例2と全く同様にして、上記で製造したバリア性フィルムの酸化アルミニウムの蒸着膜面に、プライマ−組成物(ザ・インクテック株式会社製、商品名 PD−4)を使用し、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚0.02g/m2 (乾燥状態)のプライマ−層を形成し、更に、該プライマ−層の面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ50μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トした。
他方、上記で製造したバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、2液硬化型のポリウレタン系ドライラミネ−ト用接着剤(武田薬品工業株式会社製、製品名、タケラック A−515/タケネ−ト A−50)を用いて、グラビアロ−ルコ−ト法によりコ−ティングして、膜厚4.0g/m2 (乾燥状態)のドライラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ドライラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして、積層材を製造した。
【0048】
比較例3
巻き取り式の真空蒸着装置を使用し、また、基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、上記の比較例1と同様にして、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの片面に、膜厚400Åのアルミニウムの蒸着膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
次に、上記で製造したバリア性フィルムのアルミニウムの蒸着膜面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、厚さ50μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを押し出しラミネ−トした。
他方、厚さ25μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面に、低密度ポリエチレン樹脂を使用し、これを厚さ20μmに溶融押し出ししながら、上記で押し出しラミネ−トしたバリア性フィルムの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面を対向させて、その両者を押し出しラミネ−トして、積層材を製造した。
【0049】
実験例
上記の実施例1〜6、および、比較例1〜3で製造した各バリア性フィルム、および、積層材を使用し、下記に示す評価項目について試験を行い、そのデ−タを測定した。
(1).酸素透過度の測定
上記で製造したバリア性フィルム、および、積層材を使用し、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN 2/20)〕を使用して測定した。
(2).水蒸気透過度の測定
上記で製造したバリア性フィルム、および、積層材を使用し、温度37.8℃、湿度100%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMTRAN 2/20)〕を使用して測定した。
(3).ラミネ−ト強度の測定
上記で製造した各積層材を使用し、これを15mm幅の短冊状に切ったサンプルを引張試験機により、引張速度50mm/min、T字剥離強度にてラミネート強度の測定を行った。
上記の測定結果について、下記の表1に示す。
【0050】

Figure 0005084983
Figure 0005084983
上記の表1において、酸素透過度の単位は、(cc/m2 ・day・23℃・90%RH)であり、水蒸気透過度の単位は、(g/m2 ・day・40℃・100%RH)であり、また、ラミネ−ト強度の単位は、(gf/15mm幅)であり、左側の値は、2軸延伸ポリプロピレンフィルム/基材フィルムとのラミネ−ト強度の値であり、右側の値は、金属または金属酸化物の蒸着膜/ヒ−トシ−ル層とのラミネ−ト強度の値である。
【0051】
上記の表1より明らかなように、実施例1〜6にかかる各積層材は、比較例1〜3にかかる積層材に比較して、酸素バリア性、水蒸気バリア性、ラミネ−ト強度等において優れているものであった。
【0052】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、ヘイズ値が2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下である基材フィルムに着目し、その基材フィルムの一方の面に、予め、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設け、他方、上記の基材フィルムの他方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成する直前に、該基材フィルムの他方の面に、プラズマ放電処理によるプラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の上に、金属または金属酸化物の蒸着膜を形成してバリア性フィルムを製造して、基材フィルムが、ヘイズ値2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下であって、その表面が極めて滑らかであることから、基材フィルムの一方の面に、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を、他方、上記の基材フィルムの他方の面に、プラズマ処理面を極めて良好に形成することができ、これにより、基材フィルムの一方の面は、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を有することから、表面張力が強く、濡れ性等に優れ、極めて良好な接着性を有し、他のプラスチックフィルム等とのラミネ−ト適性に優れ、他方、上記の基材フィルムの他方の面には、プラズマ処理面を介して、緻密な無機酸化物の蒸着膜を形成することができ、かつ、従来品と比較して、より薄い膜厚でも十分にハイバリア性を有し、更に、基材フィルムの表面と無機酸化物の蒸着膜との密着性に優れ、印刷加工、ラミネ−ト加工、製袋加工、その他等の後処理加工において金属または金属酸化物の蒸着膜にクラック等の発生は認められず、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて高いバリア性を有し、かつ、透明性に優れ、例えば、飲食品、医薬品、化粧品、化学品、電子部品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用なバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を製造し得ることができるというものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかるバリア性フィルムについてその一例の層構成を示す概略的断面図である。
【図2】図1に示す本発明にかかるバリア性フィルムを使用して製造した本発明にかかる積層材についてその一例の層構成を示す概略的断面図である。
【図3】巻き取り式真空蒸着装置の構成を示す概略的構成図である。
【図4】プラズマ化学着装置の構成を示す概略的構成図である。
【符号の説明】
A バリア性フィルム
B 積層材
1 基材フィルム
2 表面処理面
3 プラズマ処理面
4 金属または金属酸化物の蒸着膜
5、5a 樹脂のフィルム[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a barrier film and a laminate material using the same, and more specifically, it has excellent transparency, barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like, and also has good adhesiveness and laminating properties. -Excellent suitability and excellent suitability for post-processing such as printing, laminating, bag making, etc., for example, food and drink, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic parts, The present invention relates to a barrier film useful for filling and packaging various articles such as others and a laminate using the same.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, various packaging materials have been developed and proposed for filling and packaging various articles such as foods and drinks, pharmaceuticals, cosmetics, and others.
Among them, in recent years, inorganic oxides such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc. are used on the surface of the plastic substrate as a barrier material that prevents the permeation of oxygen gas or water vapor. Physical vapor deposition (PVD method) such as plasma, sputtering, ion plating, or chemical vapor deposition (plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, photochemical vapor deposition, etc.) A transparent gas barrier film formed by forming a vapor-deposited film of the inorganic oxide by using a CVD method or the like has attracted attention.
Thus, the transparent gas barrier film is produced by laminating other plastic film, paper base material, etc. on one side or both sides thereof, and further using the laminated material. This is made into a bag or box to produce a packaging container having various forms, and then the packaging container is filled with various articles such as food, drink, pharmaceuticals, cosmetics, etc. Manufactures packaged products and supplies them to the market.
The above-mentioned packaged product has a high barrier property that prevents permeation of oxygen gas or water vapor, etc., and is excellent in storage, storage stability, quality assurance, etc. of the contents. Compared to packaging containers that use barrier materials such as polyvinylidene chloride resin film, it is more suitable for disposal of packaging containers, etc., suitable for the environment, and its development and demand are expected in the future. Is.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the transparent gas barrier film as described above has a plastic substrate on one side and a vapor-deposited film of an inorganic oxide on the other side, and thus on the surface of the plastic substrate, When providing a desired printed pattern, or when laminating other plastic films, etc., the surface of the plastic substrate is weak in surface tension and poor in wettability. Alternatively, the laminating process of laminating other plastic films, etc., and other operations, operations, etc. are made extremely difficult.
For this reason, in the above transparent gas barrier film, usually, a primer layer is provided on the surface of the inorganic oxide vapor-deposited film, a printed pattern or the like is formed thereon, and further a laminating adhesive. A laminated material as a packaging material is manufactured by dry laminating a heat-sealable resin layer or the like through a layer or the like.
However, even in this case, since the vapor-deposited film of the inorganic oxide has poor flexibility and is glassy, the primer layer, the printing pattern, the adhesive layer for dry lamination, the lamination In forming post-processing such as winding processing, coating processing, printing processing, laminating processing, bag manufacturing processing, etc. of the transparent barrier film when forming a material, etc. There is a problem that a crack or the like is generated in the deposited film, and the barrier property against oxygen gas or water vapor is remarkably lowered.
[0004]
By the way, for example, a deep drawing laminated material for filling and packaging ham, sausage, etc., or a liquid pouch laminating material for filling and packaging soy sauce, sauce, etc. When using a transparent gas barrier film, at least a surface printed base film, the above transparent gas barrier film, and a heat-sealable resin layer must be sequentially laminated to produce a laminate. Therefore, it is necessary to use the transparent gas barrier film as a so-called medium-use application.
Furthermore, when filling and packaging contents such as sprinkles, a base film in which an antistatic agent or the like is kneaded is used as the base film, and an inorganic oxide vapor-deposited film or the like is formed on one surface thereof. A laminated material is produced by providing a heat-sealable resin layer or the like on the surface of the inorganic oxide vapor-deposited film. Thus, a flexible packaging bag is produced using the laminated material. Attempts have been made to fill and package contents such as sprinkles, but in this case, vapor deposition of an inorganic oxide vapor-deposited film on the base film itself kneaded with an antistatic agent, etc. Is extremely difficult.
For this reason, in the laminated material for flexible packaging bags filled and packaged with contents such as sprinkles, when using the transparent gas barrier film as described above, at least the surface-printed base film and the transparent film A gas barrier film and a heat-seal resin layer must be sequentially laminated to produce a laminated material, and the above-mentioned transparent gas barrier film needs to be used for so-called medium use applications. There is something.
However, when the transparent gas barrier film is used as a so-called medium-use application, as described above, the surface tension of the plastic substrate is weak, the wettability is inferior, and the vapor deposition film of the inorganic oxide. There are problems such as the occurrence of cracks.
Therefore, the present invention is excellent in transparency, barrier property against oxygen gas or water vapor, etc., and further has good adhesion, excellent laminating suitability, and printing, laminating, and bag making. A barrier film useful for filling and packaging various articles such as food and drink, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic parts, etc. It is to provide a used laminated material.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
As a result of various studies to solve the above problems, the inventor has paid attention to a base film having a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less. A surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is provided in advance on one surface of the material film, and on the other surface of the above-described base film, metal or metal oxide is deposited. Immediately before forming the film, a plasma-treated surface by plasma discharge treatment is formed on the other surface of the base film, and then a vapor-deposited film of metal or metal oxide is formed on the plasma-treated surface. When the barrier film was produced, the base film had a haze value of 2.5% or less, a surface roughness of 35 nm or less, and the surface was extremely smooth. On the surface, static and dynamic friction On the other hand, the plasma-treated surface can be formed very well on the other surface of the above-mentioned base film, and the surface of the base film can be formed on one side of the base film. The surface has a surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μm, so that it has high surface tension, excellent wettability, etc., extremely good adhesiveness, and other plastic films On the other hand, a dense inorganic oxide vapor deposition film can be formed on the other surface of the above-mentioned base film through the plasma-treated surface, and a conventional product. Compared to the above, it has a sufficiently high barrier property even with a thinner film thickness, and also has excellent adhesion between the surface of the base film and the vapor-deposited film of the inorganic oxide, printing, laminating, and bag making. Metal or metal in post-processing such as other Occurrence of cracks and the like in the vapor deposition film of the compound is not observed, has an extremely high barrier property against oxygen gas or water vapor, etc., and is excellent in transparency, for example, food and drink, medicine, cosmetics, chemicals, electronic parts The present invention has been completed by finding that a barrier film useful for filling and packaging various articles such as others and a laminate using the same can be produced.
[0006]
That is, the present invention has a static and dynamic friction coefficient of 0.4 to 0.7 μm on one surface of a base film having a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less. A surface-treated surface is provided, on the other hand, a plasma-treated surface is provided on the other surface of the base film, and a metal or metal oxide deposition film is further provided on the plasma-treated surface. The present invention relates to a barrier film and a laminate using the same.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The above-described present invention will be described in more detail below.
First, the layer configuration and the like of the barrier film, the laminated material and the like according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer configuration of the barrier film according to the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the laminated material using the barrier film shown in FIG.
[0008]
As shown in FIG. 1, the barrier film A according to the present invention has a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less. A surface-treated surface 2 having a dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is provided, on the other hand, a plasma-treated surface 3 is provided on the other surface of the base film 1, and further, on the plasma-treated surface 3. The basic structure is that the metal or metal oxide deposition film 4 is provided.
Thus, in the present invention, as the laminated material B using the barrier film A according to the present invention, as shown in FIG. 2, static and dynamic friction constituting the barrier film A shown in FIG. It has a configuration in which at least resin films 5 and 5a are laminated on both surfaces of the surface-treated surface 2 having a coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ and the surface of the vapor-deposited film 4 of metal or metal oxide. Is the basic structure.
In FIG. 2, reference numerals 1 and 3 have the same meaning as in FIG.
The above illustrations exemplify examples of the barrier film, laminated material and the like according to the present invention, and it goes without saying that the present invention is not limited thereto.
[0009]
Next, in the present invention, materials constituting these barrier films and laminates according to the present invention, production methods thereof, etc. will be described. First, the base constituting the barrier film, laminate and the like according to the present invention. The material film has excellent chemical or physical strength, and can withstand conditions for forming a surface-treated surface and a plasma-treated surface, which will be described later, or conditions for forming a metal or metal oxide vapor-deposited film. The surface treatment surface, the plasma treatment surface, or the deposited film of metal or metal oxide can be satisfactorily maintained without impairing the properties, and a substrate can be used.
In the present invention, as the base film, specifically, for example, polyolefin resins such as polyethylene resins or polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins) ), Acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and other polyester resins, various Polyamide resins such as nylon, polyurethane resins, fluorine resins, acetal resins, cellulose resins, and other various resin films or sheets can be used.
In the present invention, it is particularly preferable to use a polyester resin, a polyolefin resin, or a polyamide resin film or sheet among the resin films or sheets.
[0010]
In the present invention, as the above-mentioned various resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method are used. -A method of forming the above-mentioned various resins independently using a film-forming method such as an ionization method or the like, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more types of various resins In addition, by using two or more kinds of resins, a film or sheet of various resins is manufactured by a method of mixing and forming before forming a film, and if necessary, for example, Various resin films or sheets formed by stretching in a uniaxial or biaxial direction using a tenter system, a tubular system, or the like can be used.
In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is preferably about 6 to 200 μm, more preferably about 9 to 100 μm.
[0011]
It should be noted that one or more of the above-mentioned various resins are used, and in forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold release properties, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. Can be optionally added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose.
In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, a pigment, and the like can be used. Furthermore, a modifying resin or the like can be used.
[0012]
Thus, in the present invention, the base film has a haze value (cloudiness) of 2.5% or less, preferably 2.5% to 0.7%, It is desirable that the surface roughness be 35 nm or less, preferably about 35 nm to 20 nm.
In the present invention, since it has the above haze value or surface roughness, the base film constitutes an extremely smooth surface and, for example, on one surface of the base film as described later. When surface treatment such as corona discharge treatment or flame treatment is performed, a surface treatment surface of 0.4 μ to 0.7 μ is formed, surface tension is strong, wettability is excellent, and extremely good adhesion And have laminating suitability with other substrates such as plastic films.
In addition, when the other surface of the base film is subjected to plasma treatment or the like, an extremely good plasma treatment surface can be formed, and a dense inorganic oxide vapor deposition film can be formed through the plasma treatment surface. Compared with conventional products, even with a thinner film thickness, it has a sufficiently high barrier property, and also has excellent adhesion between the surface of the base film and the deposited film of inorganic oxide, printing, laminating, In post-processing such as bag making and other processing, the occurrence of cracks or the like is prevented in the deposited film of metal or metal oxide, and it has an extremely high barrier property against oxygen gas or water vapor.
Of course, a further highly transparent high barrier film can be obtained, which increases the value as a packaging material.
In the present invention, when the haze value (cloudiness) exceeds 2.5% and the surface roughness exceeds 35 nm, the surface of the substrate film becomes rough, and a good surface-treated surface, or This is not preferable because it becomes difficult to form a plasma-treated surface or the like.
In the present invention, the haze value (cloudiness) and the surface roughness can be measured by a transmittance measurement method, a stylus method, or the like.
[0013]
Next, in the present invention, a surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ constituting the barrier film, laminate, etc. according to the present invention will be described. A surface-treated surface can be formed by subjecting one surface of the material film to surface treatment such as corona discharge treatment, plasma treatment, or plasma flame treatment.
Thus, in the present invention, as the above-mentioned surface treatment surface, a surface treatment surface is previously provided on one surface of the substrate film before a metal or metal oxide vapor deposition film is provided, or the substrate film After providing a metal or metal oxide vapor-deposited film on one surface, a surface-treated surface can be provided on the other surface of the base film.
In the present invention, usually, a surface-treated surface is provided in advance on one surface of the base film, and then a plasma-treated surface is provided on the other surface of the base film, and then metal or metal oxidation is performed. It is preferable to provide a vapor deposition film.
However, when a surface treatment surface such as a corona discharge treatment surface is provided in advance on one surface of the base film, and this is wound up in a vacuum such as a take-up vacuum deposition apparatus, the degree of corona discharge treatment is reduced. If is too large, the surface free energy of the base film is large, causing a blocking phenomenon and the like, and there is a problem that mechanical suitability and the like during post-processing are remarkably impaired.
Therefore, in the present invention, the surface treatment surface such as the corona discharge treatment surface has a static and dynamic friction coefficient of about 0.4 μ to 0.7 μ, preferably about 0.5 μ to 0.7 μ. It is preferable.
In the above, if the static and dynamic friction coefficient is 0.4μ, more preferably less than 0.5μ, there is a problem that the wettability is bad, and if the static and dynamic friction coefficient exceeds 0.7μ, This is undesirable because it causes a blocking phenomenon.
[0014]
Next, in the present invention, the plasma processing surface constituting the barrier film, the laminate and the like according to the present invention will be described. As the plasma processing surface, a plasma gas generated by ionizing gas by glow discharge is used. Thus, the plasma treatment surface can be formed by using a plasma surface treatment method or the like for performing surface modification.
That is, in the present invention, the plasma processing surface is formed by performing plasma processing by using one or more inorganic gases such as oxygen gas, nitrogen gas, argon gas and helium gas as the plasma gas. Can do.
Thus, in the present invention, as the plasma treatment performed on the surface of the base film, the plasma treatment is performed using oxygen gas or a mixed gas of oxygen gas and argon gas during the plasma discharge treatment. It is preferable that the plasma treatment can be performed at a lower voltage by such a plasma treatment, thereby preventing discoloration of the surface of the base film and providing a good plasma treatment surface on the surface. It can be provided.
[0015]
By the way, in the present invention, as the above plasma treatment, in particular, oxygen gas or a mixed gas of oxygen gas and argon gas is used, and a metal or metal oxide vapor deposition film is further formed on the surface of the base film. It is desirable to perform in-line immediately before forming.
That is, in the present invention, a surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is provided in advance on one surface of the base film, and then the base film is wound, for example, A substrate is mounted by in-line plasma treatment immediately before forming a metal or metal oxide vapor deposition film on the other surface of the base film, mounted on a supply roll or the like in a vacuum evaporation system. In addition to removing moisture and dust adhering to the other side of the film, oxygen molecules activated in the plasma cause a chemical reaction with the surface of the base film, making it thin on the treated surface. In addition, it is possible to provide a plasma-treated surface on which an oxide film having high smoothness is formed.
Furthermore, in the present invention, by performing in-line plasma treatment immediately before forming a metal or metal oxide deposition film on the surface of the base film, for example, a hydroxyl group (—OH) is formed on the surface of the base film. It is also possible to provide a plasma processing surface on which a base) is formed.
[0016]
Thus, in the present invention, as described later, on the plasma-treated surface in which an oxide film or a hydroxyl group (—OH group) is formed on the surface of the base film by the plasma treatment as described above. When a deposited film of metal or metal oxide is formed by vapor deposition, a very dense deposited film of metal or inorganic oxide can be formed without any impurities such as impurities between the layers. They are excellent in tight adhesion between the two, and as a result, a very thin barrier film against oxygen gas or water vapor can be sufficiently formed with a thin film thickness.
Moreover, in the present invention, the metal or metal oxide vapor-deposited film can be formed with a thinner film thickness as described above, so that it can be sufficiently a high barrier thin film against oxygen gas or water vapor. In post-processing such as film winding, printing, laminating, or bag making, it is possible to prevent the occurrence of cracks and the like in the metal or metal oxide deposited film, so-called It also has the advantage that post-processing suitability can be improved.
Furthermore, in the present invention, as described above, since the close adhesion between the base film and the vapor deposition film of metal or metal oxide is excellent, other resin films or laminates such as sheets are used. Suitability is also improved.
In addition, in the present invention, since the plasma treatment is performed in-line immediately before the formation of the metal or metal oxide vapor deposition film on the surface of the base film, the manufacturing cost of the barrier film is also compared with other methods. It is extremely excellent.
[0017]
In the present invention, in the above plasma treatment, the plasma treatment conditions are extremely important, and the effects obtained by the conditions are completely different.
Thus, in the present invention, plasma treatment conditions include plasma discharge power, glow discharge pressure, and the like.
In the present invention, as the plasma treatment, for example, the stronger the plasma treatment, the better the tight adhesion, but if it is too strong, the substrate film is not preferable because it causes heat loss. In the present invention, the plasma discharge power is about 40 W · min / m.2~ 100W ・ min / m2The position is the most preferred.
In the present invention, the plasma power source may be alternating current or direct current, and the glow discharge pressure is 0.5 to 5.0 × 10 5.-2The mbar position is preferable. If the vacuum is too high, the stability of the plasma is lacking, and if the vacuum is low, the action effect of the plasma on the substrate film is weakened.
[0018]
By the way, in the present invention, as a method of generating plasma in plasma processing, for example, three types of devices such as direct current glow discharge, radio frequency (AF) discharge, and microwave discharge are used. Can be done.
In the present invention, the X-ray manufactured by VG Scientific, UK, is used for the plasma treatment surface formed by the plasma treatment as described above on the surface of the base film immediately before the formation of the metal or metal oxide vapor deposition film. By using a photoelectron spectroscopic analyzer (model name, XPS) and performing elemental analysis of the treated surface, as described above, moisture and dust attached to the surface of the base film are removed, Furthermore, the oxygen molecules activated in the plasma cause a chemical reaction with the surface of the substrate film, thereby forming a thin and highly smooth oxide film on the treated surface. For example, it can be confirmed that the surface is a plasma-treated surface in which a functional group such as a hydroxyl group (—OH group) is formed on the surface of the material film.
Specifically, XPS analysis of the surface to 100 mm was performed under the measurement conditions of MgKα1.2 as the X-ray source, 15 Kv and 20 mA as the X-ray output, and the oxide film formation state was determined as O / C on the surface. The composition ratio of (oxygen and carbon) can be measured and confirmed, and the formation state of a hydroxyl group (—OH group) or the like is O1.SThe peak obtained at the 532 eV position can be measured and confirmed.
[0019]
Next, in the present invention, the metal or metal oxide vapor deposition film constituting the barrier film or laminate according to the present invention will be described. As the metal or metal oxide vapor deposition film, basically, Any thin film obtained by making a metal or an oxide of the metal amorphous can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium (Ca), potassium ( K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y), etc. A crystalline thin film can be used.
Thus, as a material suitable for packaging materials, etc., a thin film in which a metal such as aluminum (Al) or an oxide of a metal such as silicon (Si) or aluminum (Al) is made amorphous (amorphous) is used. Can be mentioned.
Thus, a thin film obtained by making the above metal oxide amorphous (amorphous) can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc. For example, SiOXAlOX, MgOXMO etc.X(In the formula, M represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element.)
[0020]
Moreover, as a range of said X value, silicon (Si) is 0-2, aluminum (Al) is 0-1.5, magnesium (Mg) is 0-1, calcium (Ca) is 0 to 1, potassium (K) is 0 to 0.5, tin (Sn) is 0 to 2, sodium (Na) is 0 to 0.5, boron (B) is 0 to 1, 5, Titanium (Ti) can take values in the range of 0 to 2, lead (Pb) in the range of 0 to 1, zirconium (Zr) in the range of 0 to 2, and yttrium (Y) in the range of 0 to 1.5.
In the above, when X = 0, it is a complete metal and is not transparent, and the upper limit of the range of X is a completely oxidized value.
In the present invention, as a packaging material, generally, silicon (Si) and aluminum (Al) other than silicon (Si) are rarely used, and silicon (Si) is 1.0 to 2.0, aluminum (Al ) Having a value in the range of 0.5 to 1.5 can be used.
[0021]
In the present invention, the film thickness of the metal or metal oxide deposition film as described above varies depending on the type of metal or metal oxide used, but is, for example, about 50 to 2000 mm, preferably 100 to 1000 mm. It is desirable to select and form arbitrarily within the range.
More specifically, in the case of an aluminum deposited film, a film thickness of about 50 to 600 mm, more preferably about 100 to 450 mm, is desirable, and in the case of an aluminum oxide or silicon oxide deposited film, The film thickness is about 50 to 500 mm, more preferably about 100 to 300 mm.
In the above film thickness, when the film thickness is thinner than the above film thickness, it is not preferable because the barrier property against oxygen gas, water vapor and the like is lowered, and when it is thicker than the above film thickness, During the post-processing step, it is preferable because cracks or the like occur in the deposited film of metal or metal oxide, the barrier property against oxygen gas, water vapor, etc. is remarkably lowered, and the tight adhesion to the substrate film is further reduced. There is nothing.
In the present invention, the metal oxide vapor-deposited film is not limited to one layer of metal oxide vapor-deposited film, but may be a laminate of two or more layers. Alternatively, the metal oxide can be used in one kind or a mixture of two or more kinds to form a metal oxide vapor deposition film mixed with different materials.
[0022]
Next, in the present invention, a method of forming a metal or inorganic oxide deposition film on the plasma-treated surface of the substrate film will be described. Examples of such a method include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion pre- Chemical vapor deposition methods (Physical Vapor Deposition method, PVD method), or chemical vapor deposition methods such as plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition. Deposition method, CVD method) and the like.
In the present invention, a method for forming a metal or metal oxide vapor-deposited film will be described in detail. A metal or metal oxide as described above is used as a raw material, and this is heated to form a film on the plasma-treated surface of the base film. Vacuum deposition method for vapor deposition, or oxidation reaction deposition method using metal or metal oxide as raw material, introducing oxygen gas etc. to oxidize and depositing on the plasma treated surface of the base film, and further oxidation A deposited film can be formed using a plasma-assisted oxidation reaction deposition method in which the reaction is supported by plasma.
In the present invention, when a silicon oxide vapor deposition film is formed, the vapor deposition film can be formed by a plasma chemical vapor deposition method using organosiloxane as a raw material.
[0023]
In the present invention, a method for forming a vapor deposition film of metal or metal oxide will be described with reference to a specific example thereof. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an example of a winding type vacuum vapor deposition apparatus.
As shown in FIG. 3, first, in the vacuum chamber 12 constituting the take-up vacuum deposition apparatus 11, the static and dynamic friction coefficients are set to 0.1% on the one surface in advance from the unwinding roll 13. The base film 1 provided with a surface-treated surface consisting of 4 μ to 0.7 μ is fed out.
Next, the base film 1 fed out from the unwinding roll 13 as described above passes through the coating drum 14 and is guided into the vapor deposition chamber 15.
Thus, in the present invention, immediately before the base film 1 is guided into the vapor deposition chamber 15, the plasma processing apparatus 20 is disposed as a pretreatment unit, and the plasma processing apparatus 20 allows the base film 1 to be The other surface of the material film 1, that is, the surface opposite to the above-described surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is sufficiently plasma-treated to form a plasma-treated surface. Then, the base film 1 is guided into the vapor deposition chamber-15.
On the other hand, in the vapor deposition chamber-15, the vapor deposition source (for example, aluminum or aluminum oxide) heated by the crucible 16 is evaporated, and if necessary, oxygen gas or the like is ejected from the oxygen blowing port 17, A metal or metal oxide vapor deposition film is formed on the plasma-treated surface of the base film 1 on the cooled coating drum 14 introduced into the vapor deposition chamber 15 through the masks 18, 18. Next, the base film 1 on which a metal or metal oxide vapor deposition film is formed is fed into the vacuum chamber 12 and further wound on a winding roll 19, whereby the metal or A metal oxide deposition film can be formed.
[0024]
In the present invention, a specific example of the above-described plasma chemical vapor deposition method is illustrated. FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a plasma chemical vapor deposition apparatus.
As shown in FIG. 4, one surface of the plasma chemical vapor deposition apparatus 21 is previously provided at a constant speed from an unwinding roll 23 disposed in a vacuum chamber 22 through an auxiliary roll 24. The base film 1 provided with a surface-treated surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 to 0.7 μm is fed out and conveyed onto the cooling / electrode drum 25 circumferential surface.
Thus, in the present invention, immediately before the base film 1 is guided onto the circumferential surface of the cooling / electrode drum 25, the plasma processing apparatus 34 is disposed as a pre-processing unit. The other surface of the substrate film 1, that is, the surface opposite to the surface treatment surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ provided in advance is sufficiently plasma-treated. Then, the base film 1 is conveyed onto the circumferential surface of the cooling / electrode drum 25.
Next, the base film 1 is transported onto the circumferential surface of the cooling / electrode drum 25 and supplied from the raw material volatilization supply devices 26, 27, and 28, for example, an organosilicon compound as a vaporized monomer gas, oxygen gas, etc. Then, a mixed gas composed of inert gas, etc. is introduced into the vacuum chamber 22 through the raw material supply nozzle 29, and thus a metal oxide vapor deposition film such as a silicon oxide vapor deposition film is generated by the glow discharge plasma 30. Is formed on the plasma-treated surface of the base film 1 described above.
At this time, a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum 25 from a power source 31 disposed outside the vacuum chamber 22, and a magnet 32 is provided in the vicinity of the cooling / electrode drum 25. It is arranged to promote the generation of plasma and to prepare a metal oxide deposition film such as a silicon oxide deposition film.
Next, the base film 1 on which the metal oxide vapor deposition film such as the silicon oxide vapor deposition film is formed is wound around the take-up roll 33 via the auxiliary roll 24, and the metal according to the present invention. An oxide vapor deposition film can be formed.
In the figure, 33 represents a vacuum pump.
[0025]
In the above, the thin film mainly composed of a silicon oxide vapor deposition film as a metal oxide vapor deposition film is composed of a silicon compound having at least silicon and oxygen as constituent elements, and further, as a trace constituent element, a kind of carbon or hydrogen It is desirable that the above elements are included and the film thickness is in the range of 50 to 500 mm, more preferably in the range of 100 to 300 mm.
Thus, in the present invention, the above-described silicon oxide thin film is a vapor-deposited film formed using a plasma chemical vapor deposition method using an organic silicon compound as a raw material and utilizing a low-temperature plasma generator or the like. be able to.
In the above, as the organosilicon compound, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethyl Silane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can be used. .
In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is easy to handle and the deposited film formed In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.
In the above, as the low-temperature plasma generator, for example, generators such as high-frequency plasma, pulse wave plasma, and microwave plasma can be used. Therefore, in the present invention, highly active and stable plasma is used. It is desirable to use a high-frequency plasma generator.
[0026]
In the present invention, among the metal or metal oxide vapor deposition films as described above, aluminum or aluminum oxide vapor deposition films formed by physical vapor deposition using the above-described take-up vacuum vapor deposition apparatus or the like are used. A barrier film in which the base film and the metal or metal oxide vapor deposition film are firmly and closely bonded to each other, effectively interacting with the plasma treated surface described later, and effectively exhibiting the synergistic effect of both. It can be manufactured.
In particular, in the present invention, as described above, immediately before the deposition of the metal or metal oxide deposition film in-line, plasma treatment is performed to form a plasma treated surface, and the base film and the metal or metal oxide are deposited. This improves the tight adhesion with the film.
[0027]
Next, in the present invention, the resin film and the like constituting the laminated material manufactured using the barrier film according to the present invention will be described. Various films can be used as the resin film and the like. For example, first, a heat-seal resin film or sheet constituting the heat-seal resin layer can be used.
Thus, the heat-seal resin film or sheet constituting the heat-seal resin layer is usually a metal or metal oxide deposited film of the barrier film according to the present invention. It is laminated on the surface.
In the present invention, as the above-mentioned heat-seal resin film or sheet, specifically, a resin film or sheet that can be melted by heat and fused to each other can be used. , For example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, ethylene-α-olefin copolymer polymerized using a single site catalyst (metallocene catalyst), Polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene- Propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene polymer, polyethylene, polypropylene, etc. Polyolefin resins modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, etc., acid-modified polyolefin resins, polyvinyl acetate resins, poly (meth) acrylic resins A film or sheet of resin such as resin, polyvinyl chloride resin, or the like can be used.
Thus, in the present invention, the resin film or sheet as described above is used, and this is dry-laminated by a dry laminating method or the like to form a heat-sealable resin layer. It is something that can be done.
Alternatively, in the present invention, for example, the heat-sealable resin layer as described above is used, and the heat-sealable resin layer is formed by extruding and laminating by an extrusion laminating method or the like. You can also.
In the present invention, the thickness of the heat sealable resin layer is preferably about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.
[0028]
In the above, when dry laminating, an adhesive for dry laminating can be used. For example, homopolymers such as polyvinyl acetate adhesive, ethyl ethyl butyl, 2-ethylhexyl ester, etc. -Or polyacrylic acid ester adhesive, cyanoacrylate adhesive, ethylene and vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, etc., and copolymers of these with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc. It consists of ethylene copolymer adhesives, such as copolymers with monomers such as acids, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, urea resins or melamine resins. Amino resin adhesive, phenol resin adhesive, epoxy adhesive, polyurethane Adhesive, reactive (meth) acrylic adhesive, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesive made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesive, alkali metal silicate, low melting point glass, etc. Inorganic adhesives and other dry laminate adhesives can be used.
The composition system of the above adhesive for dry lamination may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the properties are film sheet type, powder type, Any form such as a solid form may be used, and the adhesion mechanism may be any form such as a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.
Thus, the dry laminating adhesive is applied by, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a coating method, etc., or a printing method. The coating amount is 0.1 to 10.0 g / m.2(Dry state) is desirable.
[0029]
In the present invention, among the above-mentioned adhesives for dry lamination, in particular, one or two liquids mainly comprising a polyurethane compound obtained by reaction of a di- or polyisocyanate compound with a di- or polyoxy compound. It is desirable to use a curable laminating adhesive.
Specifically, for example, aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate 1 obtained by reacting a polyfunctional isocyanate such as an aliphatic polyisocyanate such as a salt with a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol, a polyester polyol, a polyacrylate polyol, or the like. An adhesive composition for dry lamination comprising a liquid or two-component curable polyurethane compound as a main component of a vehicle is used, and for example, a roll coat, a gravure coat, a knife coat, a dip coat is used. -Coating by spraying, spray coating, other coating methods, then solvent, dilute Drying the agent, Dorairamine - can form a preparative adhesive layer.
In the above, the film thickness of the adhesive layer for dry lamination is 0.1 to 6.0 g / m.2(Dry state) is desirable.
Thus, in the present invention, by using the polyurethane compound as described above, the extensibility, elasticity and the like of the coating film constituting the dry laminating adhesive layer are improved. For example, laminating The suitability of post-processing such as processing or bag making processing is improved, and the occurrence of cracks or the like in the deposited film of metal or metal oxide during post-processing is prevented.
[0030]
Therefore, in the present invention, the above-mentioned adhesive layer for dry lamination is 300 mm / min. In an environment of 23 ° C. and 50% RH using a No. 4 dumbbell according to JIS K6301. It is desirable to have a tensile elongation of 300% to 550% as measured under the following speed conditions.
In the present invention, the tensile elongation of the above-mentioned adhesive layer improves the tight adhesion with the metal or metal oxide deposited film, printed pattern layer, etc. constituting the laminated material, whereby the metal or metal oxide This prevents the occurrence of cracks in the deposited film.
In the above, if the tensile elongation is less than 300%, it lacks flexibility, and cracks or the like occur in the deposited film of metal or metal oxide in the post-processing such as laminating or bag making or box making. Further, when the tensile elongation exceeds 550%, the flexibility becomes excessive and the tearability is inferior, for example, the opening property of the packaging container is inferior.
In the present invention, the dry laminating adhesive composition containing the polyurethane-based compound as described above may further include, for example, a cellulose derivative such as nitrocellulose, and other bonds, if necessary. An agent or the like can be optionally added.
[0031]
In the present invention, when performing the extrusion lamination, the anchor coat such as isocyanate (urethane), polyethyleneimine, polybutadiene, or organic titanium is used, if necessary. A tinting agent or the like can be used.
In the present invention, the above-mentioned anchor coating agent is coated by, for example, a roll coat, a gravure coat, a knife coat, a dip coat, a spray coat, or other coating methods. Then, the solvent, diluent and the like can be dried to form an anchor coating agent layer.
In the above, the film thickness of the anchor coating agent layer is 0.1 to 6.0 g / m.2(Dry state) is desirable.
[0032]
Next, in the laminated material according to the present invention, for example, a resin film or sheet having strength, toughness, and heat resistance can be laminated. Specifically, For example, a film or a sheet of tough resin such as polyester resin, polyamide resin, polyaramid resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacetal resin, fluorine resin, etc. -G, etc. can be used.
Thus, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
The thickness of the film is about 5 μm to 100 μm, preferably about 10 μm to 50 μm.
In the present invention, the base film as described above is subjected to surface printing or back printing by a normal printing method with a desired printing pattern such as letters, figures, symbols, patterns, patterns, etc., for example. May be.
[0033]
Further, in the laminated material according to the present invention, for example, it can be laminated using various paper base materials constituting the paper layer. Specifically, in the present invention, the paper base material is shaped For example, a paper substrate such as a highly sized bleached or unbleached paper substrate, or pure white roll paper, kraft paper, paperboard, processed paper, Others can be used.
In the above, the paper substrate constituting the paper layer has a basis weight of about 80 to 600 g / m.2, Preferably a basis weight of about 100 to 450 g / m2It is desirable to use the one of the order.
Of course, in the present invention, the paper substrate constituting the paper layer and the various resin films or sheets listed above can be used in combination.
[0034]
Furthermore, in the present invention, in the laminated material according to the present invention, for example, low density polyethylene having a barrier property such as water vapor, water, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene- Resin film or sheet such as propylene copolymer, or resin film such as polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer having barrier properties against oxygen, water vapor, etc. It is possible to laminate various colored resin films or sheets having light-shielding properties obtained by adding a colorant such as a pigment to a sheet or resin, and kneading into a film by adding a desired additive. .
These materials can be used alone or in combination.
The thickness of the above-mentioned film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 150 μm.
[0035]
In the present invention, since the packaging container is usually subjected to severe physical and chemical conditions, the packaging material constituting the packaging container is required to have strict packaging suitability and deformation. Various conditions such as prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability, quality maintenance, workability, hygiene, and the like are required. Materials satisfying such various conditions can be arbitrarily selected and used. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene Copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methyl pentene Polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene Resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin , Saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, and other known resin films or sheets. Can be used.
In addition, for example, a film such as cellophane, a synthetic paper, or the like can be used.
In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.
Further, in the present invention, any layer constituting the laminated material according to the present invention may be formed of, for example, offset printing, gravure printing, silk screen printing, or other desired characters, graphics, designs, symbols, etc. It goes without saying that a printed pattern layer can also be formed.
[0036]
Next, in the present invention, a method for producing a laminated material using the above materials will be described. As such a method, a method for laminating a normal packaging material, for example, a wet lamination method, Can be performed by dry lamination method, solventless dry lamination method, extrusion lamination method, T-die extrusion molding method, co-extrusion lamination method, inflation method, co-extrusion inflation method, etc. it can.
Thus, in the present invention, when performing the above-mentioned lamination, if necessary, pretreatment such as corona treatment and ozone treatment can be applied to the film, and for example, isocyanate (urethane) Type), polyethyleneimine type, polybutadiene type, organic titanium type anchor coating agents, polyurethane type, polyacrylic type, polyester type, epoxy type, polyvinyl acetate type, cellulose type, etc. Known pretreatments such as an adhesive for laminating, an anchor coating agent, an adhesive and the like can be used.
Further, in the present invention, when the above-described lamination is performed, for example, a primer having, as a main component of a vehicle, polyurethane, polyacrylic, polyester, epoxy, polyvinyl acetate, cellulose, or the like. -Agents can also be used.
[0037]
Next, in the present invention, a description will be given of a method for making a bag or a box using the laminated material as described above. For example, when the packaging container is a flexible packaging bag made of a plastic film or the like, the above method is used. Using the laminated material manufactured in Step 1, the inner heat-seal resin layer faces the opposite side, and the two layers are folded or overlapped with each other. -A bag body can be constructed by providing a seal portion.
Thus, as a bag-making method, the above-mentioned laminated material is folded with the inner layer faces facing each other, or the two sheets are overlapped, and the peripheral edge of the outer periphery is, for example, a side sheet. Seal type, two-sided seal type, three-sided seal type, four-sided seal type, envelope-sealed seal type, jointed seal type (pillar seal type), pleated seal type The various types of packaging containers according to the present invention can be manufactured by heat sealing in the form of a heat sealing such as a flat bottom sealing type, a square bottom sealing type, or the like.
In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) or the like can be manufactured, and in the present invention, a tube container or the like can also be manufactured using the above-described laminated material.
In the above, as the heat seal method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal and the like are known. It can be done by the method.
In the present invention, a spout such as a one-piece type, a two-piece type, or the like, or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.
[0038]
Next, in the case of a liquid-filled paper container including a paper base material as a packaging container, for example, as a laminated material, a laminated material in which a paper base material is laminated is manufactured, and a blank plate for manufacturing a desired paper container is prepared from this. After that, the body, bottom, head, etc. can be boxed by using the blank plate, and for example, a brick type, flat type or gable top type liquid paper container can be manufactured. .
Further, the shape can be any of a rectangular container, a cylindrical paper can such as a round shape, and the like.
Especially in the present invention, when manufacturing the above-mentioned paper container etc., it is possible to remarkably improve the foldability, the engraving property, etc. for engraving creased lines, etc., thereby improving the sealing failure and the like. , The stability of the seal of the seal part can be improved.
[0039]
In the present invention, the packaging container produced as described above can be used for various beverages such as liquid beverages, confectionery, powder, liquid or solid seasonings, and other chemicals such as adhesives and adhesives. Products, detergents and other cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers, and other various items such as packaging.
In addition, the laminated material concerning this invention can be bonded together to the flange part of a plastic molding container, for example, and can also be used as a cover material.
[0040]
【Example】
The present invention will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
(1). A roll-up vacuum deposition apparatus was used, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm as the substrate film had a haze value (cloudiness) of 1.6% and a surface roughness of 31 nm.
The haze value (cloudiness) is measured using a Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. model name, direct reading haze meter, and the surface roughness is measured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. model name. Measured with SURCOM 480A (the same applies to the following examples and comparative examples).
Furthermore, one surface of the 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the base film was previously subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients were 0.60 μm and 0.60 μm, respectively. 0.56μ.
The above-mentioned static and dynamic friction coefficients are values obtained by measuring the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient at 50 mm / min using a sliding tester (model TR-2) manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. (the following examples and comparative examples) The same is true for.
First, the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is mounted on the feed roll of a take-up vacuum deposition apparatus so that the non-corona treated surface is deposited, and then the biaxially stretched polyethylene terephthalate film is attached. The non-corona-treated surface of the film, that is, the other surface, was subjected to plasma treatment under the following conditions using a discharge plasma generator in-line to form a plasma-treated surface.
(Plasma treatment conditions)
Glow discharge gas: Oxygen gas
Power supply: DC
Discharge power: 60 W · min / m2
Glow discharge pressure: 2.0 × 10-2mbar
Next, after forming a plasma treatment surface in-line, a film thickness of 400 mm is formed on the plasma treatment surface by vacuum deposition using an electron beam (EB) heating method using aluminum as a deposition source under the following deposition conditions. A barrier film according to the present invention was manufactured by forming a deposited film of aluminum.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2 × 10-Fourmbar
Degree of vacuum in winding chamber: 2 × 10-2mbar
Electronic beam power: 25 kW
Film transport speed: 150 m / min
Deposition surface: Plasma treatment surface
(2). Next, a primer composition (trade name: PD-4, manufactured by The Inktec Co., Ltd.) is used on the aluminum vapor deposition film surface of the barrier film produced as described above, and is coated by a gravure roll coating method. Film thickness 0.02g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of the barrier film produced above, a two-component curable polyurethane-based dry laminate adhesive (manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, product name, Takelac A) -515 / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer is formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film is dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface. Manufactured.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal-type flexible packaging bag using the above-mentioned laminated material and filling and packaging it with a sprinkle etc., it is sufficient for distribution, storage, sales, etc. in the market. It was something I could endure.
[0041]
Example 2
(1). A roll-up vacuum deposition apparatus was used, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm as the substrate film had a haze value (cloudiness) of 1.6% and a surface roughness of 31 nm.
One surface of a 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the base film is previously subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients are 0.60 μm and 0.60 μm, respectively. 0.56μ.
First, the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is mounted on the feed roll of a take-up vacuum deposition apparatus so that the non-corona treated surface is deposited, and then the biaxially stretched polyethylene terephthalate film is attached. The non-corona-treated surface of the film, that is, the other surface, was subjected to plasma treatment under the following conditions using a discharge plasma generator in-line to form a plasma-treated surface.
(Plasma treatment conditions)
Glow discharge gas: Oxygen gas
Power supply: DC
Discharge power: 60 W · min / m2
Glow discharge pressure: 2.0 × 10-2mbar
Plasma treated surface: Non-corona treated surface
Next, after forming the plasma treatment surface in-line, the aluminum treatment gas is supplied to the plasma treatment surface, oxygen gas is supplied, and the following vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method is performed. A barrier film according to the present invention was manufactured by forming a vapor-deposited film of aluminum oxide having a thickness of 200 mm according to the vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2 × 10-Fourmbar
Degree of vacuum in winding chamber: 2 × 10-2mbar
Electronic beam power: 35 kW
Film transport speed: 480 m / min
Deposition surface: Plasma treatment surface
(2). Next, a primer composition (product name: PD-4, manufactured by The Inktec Co., Ltd.) is used on the aluminum oxide vapor deposition film surface of the barrier film produced as described above, and coating is performed by a gravure roll coating method. -Film thickness of 0.02 g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of the barrier film produced above, a two-component curable polyurethane-based dry laminate adhesive (manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, product name, Takelac A) -515 / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer is formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film is dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface. Manufactured.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal-type flexible packaging bag using the above-mentioned laminated material and filling and packaging it with Syria flakes, etc., distribution, storage and sales in the market It was able to endure enough.
[0042]
Example 3
(1). A roll-up vacuum deposition apparatus was used, and a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was used as the base film.
Note that the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm as the base film had a haze value (cloudiness) of 0.9% and a surface roughness of 30 nm.
Further, one surface of the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm as the base film was previously subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients were 0.45 μ and 0, respectively. 40μ.
First, the above-mentioned biaxially stretched nylon 6 film is mounted on the roll-out type vacuum evaporation apparatus so that it is deposited on the non-corona treated surface, and then the biaxially stretched nylon 6 film is non-corona. A plasma treatment surface was formed on the treatment surface, that is, the other surface using an in-line discharge plasma generator under the following conditions.
(Plasma treatment conditions)
Glow discharge gas: Oxygen gas
Power supply: DC
Discharge power: 60 W · min / m2
Glow discharge pressure: 2.0 × 10-2mbar
Plasma treated surface: Non-corona treated surface
Next, on the plasma-treated surface of the biaxially stretched nylon 6 film, aluminum is used as a deposition source, and an electron beam (EB) heating method is used to supply oxygen gas, while using a reaction vacuum deposition method, the following: A barrier film according to the present invention was manufactured by forming a vapor-deposited film of aluminum oxide having a thickness of 200 mm according to the vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2 × 10-Fourmbar
Degree of vacuum in winding chamber: 2 × 10-2mbar
Electronic beam power: 25 kW
Film transport speed: 150 m / min
Deposition surface: Plasma treatment surface
(2). Next, a primer composition (product name: PD-4, manufactured by The Inktec Co., Ltd.) is used on the aluminum oxide vapor deposition film surface of the barrier film produced as described above, and coating is performed by a gravure roll coating method. -Film thickness of 0.02 g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the corona-treated surface of the biaxially stretched nylon 6 film of the barrier film produced as described above, a two-component curable polyurethane dry laminate adhesive (product name, Takelac A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited). / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer is formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film is dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface. Manufactured.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal type soft packaging bag using the above laminated material and filling and packaging it with snacks, etc., it is sufficient for distribution, storage, sales, etc. in the market. It was something I could endure.
[0043]
Example 4
(1). A plasma chemical vapor deposition apparatus was used, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the substrate film.
The biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm as the substrate film had a haze value (cloudiness) of 1.6% and a surface roughness of 31 nm.
One surface of a 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the base film is previously subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients are 0.60 μm and 0.60 μm, respectively. 0.56μ.
First, the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is mounted on the delivery roll of the plasma chemical vapor deposition apparatus so that it is deposited on the non-corona treated surface, and then the biaxially stretched polyethylene terephthalate film is not coated. A plasma treatment surface was formed on the corona treatment surface and the other surface using an in-line discharge plasma generator under the following conditions.
(Plasma treatment conditions)
Glow discharge gas: Oxygen gas
Power supply: DC
Discharge power: 60 W · min / m2
Glow discharge pressure: 2.0 × 10-2mbar
Plasma treated surface: Non-corona treated surface
Next, on the plasma-treated surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film, a deposited film of silicon oxide having a thickness of 100 mm was formed under the following deposition conditions to produce a barrier film according to the present invention. .
(Deposition conditions)
Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm)
Degree of vacuum in the vacuum chamber: 5.2 × 10-6mbar
Degree of vacuum in the deposition chamber: 5.1 × 10-2mbar
Cooling / electrode drum power supply: 60 w · min / m2
Film transport speed: 90m / min
Deposition surface: Plasma treatment surface
(2). Next, a primer composition (product name: PD-4, manufactured by The Inktec Co., Ltd.) is used on the silicon oxide vapor-deposited film surface of the barrier film produced as described above, and is coated by a gravure roll coating method. -Film thickness of 0.02 g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of the barrier film produced above, a two-component curable polyurethane-based dry laminate adhesive (manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited, product name, Takelac A) -515 / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer is formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film is dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface. Manufactured.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal type soft packaging bag using the above-mentioned laminated material and filling and packaging snack cereal etc. into this, it is sufficient for distribution, storage, sales, etc. in the market. It could endure.
[0044]
Example 5
Using the barrier film according to the present invention produced in the above Example 1, low density polyethylene is used on the aluminum deposition film surface of the barrier film, and this is melt-extruded to a thickness of 20 μm. An unstretched polypropylene film having a thickness of 50 μm was extruded and laminated.
On the other hand, the low-density polyethylene resin is used on the corona-treated surface of the 25 μm-thick biaxially stretched polypropylene film, and this is extruded and laminated as described above while biaxially stretching the barrier film while melting and extruding it to a thickness of 20 μm. The corona-treated surfaces of the polyethylene terephthalate film were made to face each other and both were extruded and laminated to produce a laminate according to the present invention.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal type soft packaging bag using the above-mentioned laminated material and filling and packaging it with confectionery, corn flakes, etc., distribution and storage in the market It was able to withstand sales.
[0045]
Example 6
Using the barrier film according to the present invention produced in Example 2 above, using low-density polyethylene on the aluminum oxide vapor deposition film surface of the barrier film, while melt-extruding it to a thickness of 20 μm, An unstretched polypropylene film having a thickness of 50 μm was extruded and laminated.
On the other hand, the low-density polyethylene resin is used on the corona-treated surface of the 25 μm-thick biaxially stretched polypropylene film, and this is extruded and laminated as described above while biaxially stretching the barrier film while melting and extruding it to a thickness of 20 μm. The corona-treated surfaces of the polyethylene terephthalate film were made to face each other and both were extruded and laminated to produce a laminate according to the present invention.
In addition, as a result of manufacturing a three-sided seal-type flexible packaging bag using the above-mentioned laminated material and filling and packaging it with dry matter, snacks, etc., it is possible to distribute, store and sell in the market. It could withstand enough.
[0046]
Comparative Example 1
(1). A roll-up vacuum deposition apparatus was used, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
In addition, the 12-micrometer-thick biaxially-stretched polyethylene terephthalate film as said base film had a haze value (cloudiness) of 3.4%, and the surface roughness was 36 nm.
In addition, one surface of a 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the base film is preliminarily subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients are 0.51 μm and 0.39 μm.
First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is mounted on a delivery roll of a take-up vacuum deposition apparatus, and then aluminum is placed on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. A barrier film was produced by forming a 400-nm thick aluminum vapor-deposited film under the following vapor deposition conditions by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method as a vapor deposition source.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2 × 10-Fourmbar
Degree of vacuum in winding chamber: 2 × 10-2mbar
Electronic beam power: 25 kW
Film transport speed: 150 m / min
Deposition surface: Corona-treated surface
(2). Next, using the barrier film produced above, the same as in Example 1 above, first, the primer composition (the Inktec Co., Ltd., trade name PD-4) was used and coated by the gravure roll coating method to obtain a film thickness of 0.02 g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of the barrier film produced above, a two-component curable polyurethane dry laminate adhesive (product name, Takelac A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited). / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer was formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface to produce a laminate.
[0047]
Comparative Example 2
(1). A roll-up vacuum deposition apparatus was used, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
In addition, the 12-micrometer-thick biaxially-stretched polyethylene terephthalate film as said base film had a haze value (cloudiness) of 3.4%, and the surface roughness was 36 nm.
One surface of the 12-μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film as the base film was previously subjected to corona discharge treatment, and the static and dynamic friction coefficients were 0.51 μm and 0.39 μm.
First, the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film is mounted on the feeding roll of a take-up vacuum deposition apparatus, and then aluminum is deposited on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. A barrier film is manufactured by forming an aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 200 mm under the following vapor deposition conditions by a reactive vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method. did.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber: 2 × 10-Fourmbar
Degree of vacuum in winding chamber: 2 × 10-2mbar
Electronic beam power: 35 kW
Film transport speed: 480 m / min
Deposition surface: Corona-treated surface
(2). Next, using the barrier film produced above, the primer composition (the Inktec Co., Ltd., trade name PD-4) was used and coated by the gravure roll coating method to obtain a film thickness of 0.02 g / m2(Dry state) primer layer is formed, and on the surface of the primer layer, a two-component curing type polyurethane-based dry laminate adhesive (product name, Takerak A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited) / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer (dried state) was formed, and then a low-density polyethylene film having a thickness of 50 μm was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface.
On the other hand, on the surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film of the barrier film produced above, a two-component curable polyurethane dry laminate adhesive (product name, Takelac A-515, manufactured by Takeda Pharmaceutical Company Limited). / Takenet A-50) and coating by gravure roll coating method to obtain a film thickness of 4.0 g / m2A dry laminate adhesive layer was formed in a dry state, and then a 25 μm thick biaxially stretched polypropylene film was dry laminated on the dry laminate adhesive layer surface to produce a laminate.
[0048]
Comparative Example 3
A biaxially stretched polyethylene terephthalate was used in the same manner as in Comparative Example 1 above, using a winding-type vacuum vapor deposition apparatus, and using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm as the substrate. A barrier film was produced by forming an aluminum vapor deposition film having a thickness of 400 mm on one side of the film.
Next, a low-density polyethylene was used on the aluminum deposition film surface of the barrier film produced above, and an unstretched polypropylene film having a thickness of 50 μm was extruded and laminated while being melt-extruded to a thickness of 20 μm. .
On the other hand, the low-density polyethylene resin is used on the corona-treated surface of the 25 μm-thick biaxially stretched polypropylene film, and this is extruded and laminated as described above while biaxially stretching the barrier film while melting and extruding it to a thickness of 20 μm. The surfaces of the polyethylene terephthalate film were opposed to each other, and both were extruded and laminated to produce a laminate.
[0049]
Experimental example
Using each of the barrier films produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 and laminates, tests were conducted on the evaluation items shown below, and the data were measured.
(1). Measurement of oxygen permeability
Using the barrier film produced above and a laminated material, under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH, a measuring instrument manufactured by MOCON, USA [model name, OXTRAN 2/20] ] Was used to measure.
(2). Measurement of water vapor transmission rate
Using the barrier film produced above and a laminated material, under the conditions of a temperature of 37.8 ° C. and a humidity of 100% RH, a measuring machine manufactured by MOCON, USA [model name, PERMTRAN 2/20)].
(3). Laminate strength measurement
Each laminate material produced above was used, and the laminate strength was measured at a tensile rate of 50 mm / min and T-peel strength using a tensile tester for a sample cut into a 15 mm wide strip.
The measurement results are shown in Table 1 below.
[0050]
Figure 0005084983
Figure 0005084983
In Table 1 above, the unit of oxygen permeability is (cc / m2· Day · 23 ° C · 90% RH), and the unit of water vapor permeability is (g / m2· Day · 40 ° C · 100% RH), and the unit of laminating strength is (gf / 15 mm width), and the value on the left side is the laminating with biaxially oriented polypropylene film / substrate film. The value on the right side is the laminating strength value with the deposited film / heat seal layer of metal or metal oxide.
[0051]
As apparent from Table 1 above, each of the laminated materials according to Examples 1 to 6 has oxygen barrier properties, water vapor barrier properties, laminating strength, and the like as compared with the laminated materials according to Comparative Examples 1 to 3. It was excellent.
[0052]
【Effect of the invention】
As is apparent from the above description, the present invention focuses on a base film having a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less, and is provided on one surface of the base film. In addition, a surface treatment surface having a static and dynamic friction coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is provided in advance, on the other hand, immediately before forming a metal or metal oxide vapor deposition film on the other surface of the base film, A plasma treatment surface by plasma discharge treatment is formed on the other surface of the base film, and then a metal or metal oxide vapor deposition film is formed on the plasma treatment surface to produce a barrier film. The base film has a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less, and the surface is extremely smooth. Coefficient from 0.4μ to 0.7μ On the other hand, the plasma-treated surface can be formed very well on the other surface of the above-mentioned base film, and thus one surface of the base film has a static and dynamic friction coefficient of 0. .Since it has a surface treated surface of 4 μ to 0.7 μm, it has a strong surface tension, excellent wettability, etc., extremely good adhesiveness, and excellent laminating properties with other plastic films, On the other hand, a dense vapor-deposited inorganic oxide film can be formed on the other surface of the base film through the plasma-treated surface, and even with a thinner film thickness than the conventional product. It has a sufficiently high barrier property, and also has excellent adhesion between the surface of the base film and the vapor-deposited film of the inorganic oxide. Metal or metal in post-processing such as printing, lamination, bag making, etc. Cracks in metal oxide vapor deposition film Occurrence is not observed, it has a very high barrier property against oxygen gas or water vapor, etc., and is excellent in transparency, for example, filled with various articles such as food and drink, pharmaceuticals, cosmetics, chemicals, electronic parts, etc. A barrier film useful for packaging and a laminate using the same can be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a layer structure of an example of a barrier film according to the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of a laminated material according to the present invention manufactured using the barrier film according to the present invention shown in FIG. 1. FIG.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a take-up vacuum deposition apparatus.
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a configuration of a plasma chemical deposition apparatus.
[Explanation of symbols]
A barrier film
B Laminate
1 Base film
2 Surface treatment surface
3 Plasma processing surface
4 Metal or metal oxide deposition film
5, 5a Resin film

Claims (3)

ヘイズ値が2.5%以下であり、かつ、表面粗さが35nm以下である基材フィルムの一方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設ける前に予めコロナ処理により、静および動摩擦係数が0.4μ〜0.7μからなる表面処理面を設け、
他方、上記の基材フィルムの他方の面に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設ける直前であって、インラインで、酸素ガス、または、酸素ガスとアルゴンガスとの混合ガスを使用し、プラズマ放電電力として、40W・分/m 2 〜100W・分/m 2 の範囲、また、グロ−放電圧力として、0.5〜5.0×10 -2 mbarの範囲のプラズマ処理条件でプラズマ処理し、基材フィルムの表面に付着している水分や塵が除去され、更に、その処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜が形成されると共に水酸基(−OH基)からなる官能基が形成されているプラズマ処理面を設け、
しかる後、上記のプラズマ処理面の上に、金属または金属酸化物の蒸着膜を設け、
そして、上記の表面処理面の面に、強度を有して強靱であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルムを積層し、
他方、上記の金属または金属酸化物の蒸着膜の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂のフィルムを積層すること
を特徴とする積層材の製造法。
Static and dynamic friction by corona treatment in advance before providing a metal or metal oxide vapor-deposited film on one surface of a substrate film having a haze value of 2.5% or less and a surface roughness of 35 nm or less. A surface treatment surface having a coefficient of 0.4 μ to 0.7 μ is provided,
On the other hand, immediately before providing a metal or metal oxide vapor-deposited film on the other surface of the above-mentioned base film , oxygen gas or a mixed gas of oxygen gas and argon gas is used in-line, plasma as discharge power range of 40W · min / m 2 to 100 W · min / m 2 also, glow - as a discharge pressure, and plasma treatment in the plasma processing conditions in the range of 0.5 to 5.0 × 10 -2 mbar Water and dust adhering to the surface of the base film are removed, and a thin and highly smooth oxide film is formed on the treated surface, and a functional group consisting of a hydroxyl group (-OH group) is formed. Provided with a plasma treatment surface,
Thereafter, a metal or metal oxide deposition film is provided on the plasma-treated surface,
And, on the surface of the surface treatment surface, a resin film having strength and toughness and heat resistance is laminated,
On the other hand, a method for producing a laminated material, comprising laminating a heat-seal resin film on the surface of the metal or metal oxide vapor-deposited film.
金属または金属酸化物の蒸着膜が、アルミニウムまたは酸化アルミニウムの蒸着膜からなることを特徴とする上記の請求項1に記載する積層材の製造法。  2. The method for producing a laminated material according to claim 1, wherein the vapor deposition film of metal or metal oxide is a vapor deposition film of aluminum or aluminum oxide. 金属または金属酸化物の蒸着膜が、膜厚100Å〜300Åであることを特徴とする上記の請求項1〜2のいずれか1項に記載する積層材の製造法。The method for producing a laminated material according to any one of claims 1 to 2 , wherein the vapor-deposited film of metal or metal oxide has a thickness of 100 to 300 mm.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5251388B2 (en) * 2008-09-18 2013-07-31 凸版印刷株式会社 Laminate manufacturing equipment
JP4755290B1 (en) * 2010-03-23 2011-08-24 尾池工業株式会社 Method for producing gas barrier film having hot water resistance and gas barrier film having hot water resistance
JP4731630B1 (en) * 2010-03-23 2011-07-27 尾池工業株式会社 Gas barrier film manufacturing method and gas barrier film
JP4755289B1 (en) * 2010-03-23 2011-08-24 尾池工業株式会社 Method for producing gas barrier film having hot water resistance and gas barrier film having hot water resistance
KR101793639B1 (en) 2016-06-15 2017-11-03 도레이첨단소재 주식회사 Manufacturing method of film having improved gas barrier property and low surface roughness
JP7292651B2 (en) * 2018-04-17 2023-06-19 エルジー・ケム・リミテッド Light diffusion barrier film
JP7127363B2 (en) * 2018-05-23 2022-08-30 凸版印刷株式会社 Laminated film and package
CN113681877B (en) * 2021-07-12 2023-02-28 广东美士达药包材料股份有限公司 Treatment device for preventing back side corona of composite packaging film

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0651809B2 (en) * 1987-08-19 1994-07-06 東レ株式会社 Biaxially oriented polypropylene film with improved antistatic properties
JPH01165630A (en) * 1987-12-22 1989-06-29 Toray Ind Inc Discharge treatment method
JP4612125B2 (en) * 1997-01-14 2011-01-12 大日本印刷株式会社 Transparent barrier film, laminated material using the same, and packaging container
JP4156056B2 (en) * 1997-09-03 2008-09-24 大日本印刷株式会社 Aluminum oxide-deposited composite film and method for producing the same
JP4478223B2 (en) * 1997-12-10 2010-06-09 大日本印刷株式会社 Aluminum oxide vapor deposited film and method for producing the same
JP4090571B2 (en) * 1998-05-19 2008-05-28 大日本印刷株式会社 Transparent barrier film and laminate using the same
JP3085461B2 (en) * 1998-07-27 2000-09-11 東洋紡績株式会社 Gas barrier aliphatic polyester film

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