JP2000114237A - 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 - Google Patents
半導体装置の製造方法および半導体製造装置Info
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- JP2000114237A JP2000114237A JP10281805A JP28180598A JP2000114237A JP 2000114237 A JP2000114237 A JP 2000114237A JP 10281805 A JP10281805 A JP 10281805A JP 28180598 A JP28180598 A JP 28180598A JP 2000114237 A JP2000114237 A JP 2000114237A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】半導体装置の製造におけるドライエッチング工
程にて、それまでに処理したウエハのエッチング時間の
情報を次のウエハのエッチング時に利用することを特徴
とする機構の提供。 【解決手段】それまでに処理したウエハのエッチング時
間の情報から、エッチングの最大時間を計算し、次のウ
エハの最大時間として設定する。これにより終点判定が
異常であっても製品のエッチングを適当な時間で終了さ
せることが出来る。
程にて、それまでに処理したウエハのエッチング時間の
情報を次のウエハのエッチング時に利用することを特徴
とする機構の提供。 【解決手段】それまでに処理したウエハのエッチング時
間の情報から、エッチングの最大時間を計算し、次のウ
エハの最大時間として設定する。これにより終点判定が
異常であっても製品のエッチングを適当な時間で終了さ
せることが出来る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
におけるドライエッチング工程において、それまでに処
理したウエハのエッチング時間の情報を次のウエハのエ
ッチング時に利用することを特徴とする機構に関するも
のであり、更にその機構を搭載した半導体製造装置に関
するものである。
におけるドライエッチング工程において、それまでに処
理したウエハのエッチング時間の情報を次のウエハのエ
ッチング時に利用することを特徴とする機構に関するも
のであり、更にその機構を搭載した半導体製造装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造におけるドライエッチ
ング工程では通常、正確なエッチング時間を確保するた
めに終点判定を行っている。もしノイズ等何らかの外乱
により正確な終点判定が行われなかった場合、予め設定
した最大時間にて装置が停止する。
ング工程では通常、正確なエッチング時間を確保するた
めに終点判定を行っている。もしノイズ等何らかの外乱
により正確な終点判定が行われなかった場合、予め設定
した最大時間にて装置が停止する。
【０００３】この最大時間はエッチング開始前に設定し
た値であり、処理中の変更はできない。
た値であり、処理中の変更はできない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】エッチングの最大時間
は前項に記載したように予め設定した値であるため、処
理を行う品物についての最適な時間には設定されていな
い。そのため、以下に示すような不具合が生じる場合が
有る。
は前項に記載したように予め設定した値であるため、処
理を行う品物についての最適な時間には設定されていな
い。そのため、以下に示すような不具合が生じる場合が
有る。
【０００５】（１）最大時間が長く設定されている場
合、終点判定が異常となると過剰なオーバーエッチで製
品が不良となる。
合、終点判定が異常となると過剰なオーバーエッチで製
品が不良となる。
【０００６】（２）最大時間が短く設定されている場
合、処理した品物によっては終点判定が行われる前にエ
ッチングが終了してしまう。
合、処理した品物によっては終点判定が行われる前にエ
ッチングが終了してしまう。
【０００７】そこで、適切な長さの最大エッチング時間
が装置に設定されていることが必要となる。
が装置に設定されていることが必要となる。
【０００８】本発明は、それまでに処理したウエハのエ
ッチング時間の情報を次のウエハのエッチング時に最大
エッチング時間として利用することを特徴とする機構、
およびその機構を有する半導体製造装置の提供を目的と
する。
ッチング時間の情報を次のウエハのエッチング時に最大
エッチング時間として利用することを特徴とする機構、
およびその機構を有する半導体製造装置の提供を目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
機構は、直前に処理されたウエハのエッチング時間を記
憶して次のウエハ処理時に最大時間を設定する情報とし
て用いることを特徴とする。
機構は、直前に処理されたウエハのエッチング時間を記
憶して次のウエハ処理時に最大時間を設定する情報とし
て用いることを特徴とする。
【００１０】この発明によれば、エッチングの最大時間
を適当な値に設定することができる。
を適当な値に設定することができる。
【００１１】本発明の請求項２記載の製造装置は、請求
項１記載の機構を有することを特徴とする。
項１記載の機構を有することを特徴とする。
【００１２】この発明によれば、エッチング時間が最適
な値に設定されるため例え終点判定に異常があっても適
切な時間でエッチングが終了し、製品の歩留まりを低下
させることが無いという効果を有する。
な値に設定されるため例え終点判定に異常があっても適
切な時間でエッチングが終了し、製品の歩留まりを低下
させることが無いという効果を有する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００１４】図１は、請求項１記載の発明に関わる機構
のフローチャートを表す。
のフローチャートを表す。
【００１５】予め設定した初期設定時間T0を１枚目の最
大時間とする（TM1=T0)。１枚目の終点判定にて１枚目
のEND時間を記録し、この時間より２枚目の最大時間を
設定する。
大時間とする（TM1=T0)。１枚目の終点判定にて１枚目
のEND時間を記録し、この時間より２枚目の最大時間を
設定する。
【００１６】ここで、１枚目のエッチング時間（ジャス
ト）をT1、オーバーエッチ時間をTO1とする。END時間の
マージンとして最大時間はそれまでのエッチング時間の
α倍に設定すると仮定すると、２枚目のウエハの処理に
おける最大時間TM2は次の式で表される。
ト）をT1、オーバーエッチ時間をTO1とする。END時間の
マージンとして最大時間はそれまでのエッチング時間の
α倍に設定すると仮定すると、２枚目のウエハの処理に
おける最大時間TM2は次の式で表される。
【００１７】
【数１】
【００１８】このTM2を最大時間として設定し、２枚目
の処理を行う。この時のエッチング時間（ジャスト）を
T2、オーバーエッチ時間をTO2とすると、３枚目の最大
時間TM3は次の式で表される。
の処理を行う。この時のエッチング時間（ジャスト）を
T2、オーバーエッチ時間をTO2とすると、３枚目の最大
時間TM3は次の式で表される。
【００１９】
【数２】
【００２０】以下、同様にしてそれまでのエッチング時
間の情報から次のウエハの処理最大時間を計算して設定
する。N枚目の最大時間は次の式で表される。
間の情報から次のウエハの処理最大時間を計算して設定
する。N枚目の最大時間は次の式で表される。
【００２１】
【数３】
【００２２】上記の式により計算された最大時間を設定
する。
する。
【００２３】これにより、エッチング時間は最適な値と
して設定され、終点判定が何らかの異常により正常に働
かなかったとしても適切な時間にてエッチング処理を終
了させる事が出来る。
して設定され、終点判定が何らかの異常により正常に働
かなかったとしても適切な時間にてエッチング処理を終
了させる事が出来る。
【００２４】上記の機構をエッチング装置に搭載するこ
とにより、エッチングの終了判定時においてENDの判定
が異常であっても、上記機構の働きにより、装置は不良
品を作らない許容範囲内でエッチング処理は終了するこ
とができる。
とにより、エッチングの終了判定時においてENDの判定
が異常であっても、上記機構の働きにより、装置は不良
品を作らない許容範囲内でエッチング処理は終了するこ
とができる。
【００２５】また、上記機構において全てのエッチング
時間情報を記憶しておくことで、全てのウエハの処理が
終わった段階でそのロット内の各ウエハがどれだけの時
間エッチングされたかを判定することが出来る。
時間情報を記憶しておくことで、全てのウエハの処理が
終わった段階でそのロット内の各ウエハがどれだけの時
間エッチングされたかを判定することが出来る。
【００２６】ここでは一例として終了判定ＯＫの平均エ
ッチング時間TAVEと比較して各ウエハはどれだけエッチ
ングされたのかを評価する。各ウエハのエッチング時間
をT1，T2，・・・,TNとする。このときTAVEは以下の式で表
される。
ッチング時間TAVEと比較して各ウエハはどれだけエッチ
ングされたのかを評価する。各ウエハのエッチング時間
をT1，T2，・・・,TNとする。このときTAVEは以下の式で表
される。
【００２７】
【数４】
【００２８】ロット平均とのエッチング時間差ΔTは以
下の式にて表される。
下の式にて表される。
【００２９】(1)ΔT>0の場合：ΔTだけオーバーエッチ
ング (2)ΔT<0の場合：ΔTだけエッチング不足 どちらの場合でも正常に終了判定が行われていればエッ
チング時間は品物が良品となる許容範囲内にあるため、
品物は全てＯＫであると言える。
ング (2)ΔT<0の場合：ΔTだけエッチング不足 どちらの場合でも正常に終了判定が行われていればエッ
チング時間は品物が良品となる許容範囲内にあるため、
品物は全てＯＫであると言える。
【００３０】また終了判定が異常であったとしても、本
発明による機構の働きによりオーバーエッチング量は最
大時間の設定量αが品物の許容範囲内に設定されている
ため、品物は正常であると判断することが出来る。
発明による機構の働きによりオーバーエッチング量は最
大時間の設定量αが品物の許容範囲内に設定されている
ため、品物は正常であると判断することが出来る。
【００３１】またエッチング不足の場合でも、その不足
量がΔTの値により分かるためこの値に応じて追加エッ
チングを行う事が出来る。
量がΔTの値により分かるためこの値に応じて追加エッ
チングを行う事が出来る。
【００３２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の機構は直前
に処理されたウエハのエッチング時間を記憶して次のウ
エハ処理時に最大時間を設定する情報として用いること
を特徴とするため、エッチングの最大時間を適当な値に
設定することができる。
に処理されたウエハのエッチング時間を記憶して次のウ
エハ処理時に最大時間を設定する情報として用いること
を特徴とするため、エッチングの最大時間を適当な値に
設定することができる。
【００３３】また、本発明の製造装置は直前に処理され
たウエハのエッチング時間を記憶して次のウエハ処理時
に最大時間を設定する情報として用いることのできる機
構を有することを特徴とする。そのため、エッチング時
間が最適な値に設定され、例え終点判定に異常があって
も適切な時間でエッチングが終了し、製品の歩留まりを
低下させることが無いという効果を有する。
たウエハのエッチング時間を記憶して次のウエハ処理時
に最大時間を設定する情報として用いることのできる機
構を有することを特徴とする。そのため、エッチング時
間が最適な値に設定され、例え終点判定に異常があって
も適切な時間でエッチングが終了し、製品の歩留まりを
低下させることが無いという効果を有する。
【００３４】また、全てのウエハのエッチング時間と平
均値を比較することにより、そのエッチング状態を判定
することが出来る。
均値を比較することにより、そのエッチング状態を判定
することが出来る。
【図１】本発明の一実施の形態を示すフローチャート
図。
図。
Claims (2)
- 【請求項１】半導体装置の製造におけるドライエッチン
グ工程にて、それまでに処理したウエハのエッチング時
間の情報を、次のウエハのエッチング時に利用すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項２】半導体装置の製造におけるドライエッチン
グ工程にて、それまでに処理したウエハのエッチング時
間の情報を、次のウエハのエッチング時に利用する機構
を設けたことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10281805A JP2000114237A (ja) | 1998-10-02 | 1998-10-02 | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10281805A JP2000114237A (ja) | 1998-10-02 | 1998-10-02 | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000114237A true JP2000114237A (ja) | 2000-04-21 |
Family
ID=17644240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10281805A Withdrawn JP2000114237A (ja) | 1998-10-02 | 1998-10-02 | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000114237A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007194548A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Seiko Epson Corp | エンドポイント検証方法及びエンドポイント検証システム |
-
1998
- 1998-10-02 JP JP10281805A patent/JP2000114237A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007194548A (ja) * | 2006-01-23 | 2007-08-02 | Seiko Epson Corp | エンドポイント検証方法及びエンドポイント検証システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040115 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040120 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040318 |