JP2000113626A - 密閉型光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】製造工程や装置等を増やさずに生産性がよく、
光ディスクに精度よくエンコーダを設けることが困難で
あった。 【解決手段】情報が記録される記録層と前記記録層上に
形成された反射膜とを備えた基板と、基板の円周方向に
Ｎ極とＳ極の領域が交互に形成された磁性体膜の回転子
と、基板の回転の中心となる回転軸と、回転軸を回転可
能に支持する軸受と、基板を回転可能に収納するケース
と、ケースに設けた記録層に照射するレーザ光を透過す
る照射窓と、記録層又は反射膜を用いて基板の回転数を
検出する回転検出パターンと、ケースに設けた回転検出
パターンに照射する検出光を透過する検出窓とを具備す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、密閉されたケース
に収納され、情報の記録や再生が可能な密閉型光ディス
クに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光情報記録媒体としては、直径約
１２０ｍｍのコンパクト・ディスク（ＣＤ：Compact Di
sk）等の光ディスクがある。このような光ディスクは、
透明な基板の片面に情報面が形成され、情報を記録又は
再生するためのレーザ光は、基板を介して情報面に照射
される。光ディスクは、基板が外部に露出しているた
め、傷や埃がつきやすく、基板に傷や埃がつくことによ
り情報を正確に読み出せなくなるという欠点がある。

【０００３】また、傷等から光ディスクを保護するため
に、シャッタを有するケースに光ディスクを収納した光
ディスクカートリッジがある。光ディスクカートリッジ
における光ディスクの記録再生を行う記録再生装置は、
光ディスクの中心孔に設置された金属製のクランパを、
モータの回転軸に備えられたターンテーブルのマグネッ
ト等で吸着させて光ディスクを回転させ、シャッタを開
いてレーザ光を光ディスクに照射し、情報の記録再生を
行う。

【０００４】光ディスクカートリッジにおいては、光デ
ィスクのクランパをターンテーブルのマグネットで吸着
するため、クランパがターンテーブルの設置部に対して
ずれやすく、光ディスクの回転に面振れが生じ、正確に
情報の記録再生が行えなくなるという欠点がある。ま
た、光ディスクカートリッジは、シャッタを備えている
ため、記録再生装置は、シャッタを開閉する機構が必要
となり、構成が複雑になるという欠点がある。

【０００５】このような欠点を解決するため、光ディス
クを密閉型のケースに収納した光情報記録媒体（密閉型
光ディスク）が、例えば特開平４−１３７２９０号公報
に開示されている。

【０００６】図１１は、従来の密閉型光ディスク及び再
生装置を説明するための模式図である。図１１に示す密
閉型光ディスク１において、光ディスク２は、回転の中
心に回転軸１０が備えられ、ケース３に固定された軸受
１１に係合し、密閉されたケース２内に回転可能な状態
で収納されている。光ディスク２は、基板４の一方の面
に情報が記録された記録層２７が形成されており、光デ
ィスク２の内周側には、回転駆動力を得るためのロータ
２８が形成されている。ロータ２８は、密閉型光ディス
ク１の外部に配置された電機子２９から供給される磁界
の影響を受けて、光ディスク２を回転させる。

【０００７】密閉型光ディスク１は、光ヘッド３０によ
り、光ディスク２の記録層２７に記録されている信号が
読み取られる。回転速度検出器３１が読み取られた信号
からビットクロックを検出する。周波数制御器３２は、
そのビットクロックの周波数が所定の周波数となるよう
に、電機子２９に供給する電流を制御し、光ディスク２
の回転数を制御している。

【０００８】しかしながら、前述した密閉型光ディスク
１を再生する再生装置においては、光ディスク２に記録
されている信号からビットクロックを検出して光ディス
ク２の回転を制御しているため、光ディスク２から信号
を検出していない場合に、光ディスク２を回転制御する
ことが困難であった。すなわち、トラックジャンプにお
いては、光ヘッド３０におけるトラッキング制御を外し
てフォーカス制御のみを行っている状態のため、光ディ
スク２からの信号からビットクロックを検出することが
できないため、光ディスク２の回転を制御することがで
きなかった。

【０００９】また、光ディスク２に記録されている信号
を再生していない場合においても光ディスク２の回転を
制御する方法としては、光ディスク２にエンコーダを備
え、エンコーダ等を用いて光ディスクの回転数を検出し
制御する方法がある。このエンコーダを用いる方法は、
上記公報に明示されていないが、光ディスク２に板状の
エンコーダを貼り付けたり、また、光ディスク２上にエ
ンコーダを印刷して、ケース３内の光ディスク２にエン
コーダを設け、そのエンコーダを用いて回転数を検出し
て光ディスク２の回転数を制御するものと考えられる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような板状のエンコーダを貼り付ける場合は、光ディ
スクに偏心が生じることのないように、板状のエンコー
ダを光ディスクに精度よく貼り付けなければならない。
このようなことは、密閉型光ディスクを製造するうえで
は、エンコーダを精度よく取り付けるための装置が必要
となり、また、製造工程においては、光ディスクにエン
コーダを設けるための工程が増えるため、製造コストが
高くなると共に、生産性が悪くなるという欠点があっ
た。

【００１１】また、光ディスク上にエンコーダを印刷す
る場合、光ディスクにエンコーダを精度よく印刷するこ
とは可能であるが、製造工程において、光ディスクにエ
ンコーダを印刷する工程が増え、製造コストが高くなる
と共に、生産性が悪くなるという欠点がある。

【００１２】したがって、本発明は、製造工程や製造装
置等を増やすことなく、生産することができるエンコー
ダを備えた密閉型光ディスクを提供することを目的とし
ている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】そのため請求項１記載の
本発明は、微小な凹凸のピットが形成されたピット部と
レーザ光を反射する反射膜とを備えた基板と、基板の回
転の中心となる回転軸と、基板の円周方向にＮ極とＳ極
の領域が交互に形成された磁性体の回転子と、回転軸を
回転可能に支持する軸受と、基板を回転可能に収納する
ケースと、ケースに設けピット部に照射するレーザ光を
透過する照射窓と、基板の回転数を光学的に検出するた
めに、前記ピット部の有無により形成した回転検出パタ
ーンと、ケースに設け回転検出パターンに照射した検出
光を透過する検出窓とを具備したことを特徴としてい
る。

【００１４】また、請求項２記載の本発明は、情報が記
録される記録膜とレーザ光を反射する反射膜とを備えた
基板と、基板の回転の中心となる回転軸と、基板の円周
方向にＮ極とＳ極の領域が交互に形成された磁性体の回
転子と、回転軸を回転可能に支持する軸受と、基板を回
転可能に収納するケースと、ケースに設け記録膜に照射
するレーザ光を透過する照射窓と、基板の回転数を光学
的に検出するために、前記記録膜の有無により形成した
回転検出パターンと、ケースに設け回転検出パターンに
照射した検出光を透過する検出窓とを具備したことを特
徴としている。

【００１５】微小な凹凸のピットが形成されたピット部
又は情報が記録される記録膜とレーザ光を反射する反射
膜とを備えた基板と、基板の回転の中心となる回転軸
と、基板の円周方向にＮ極とＳ極の領域が交互に形成さ
れた磁性体の回転子と、回転軸を回転可能に支持する軸
受と、基板を回転可能に収納するケースと、ケースに設
けピット部又は記録膜に照射するレーザ光を透過する照
射窓と、基板の回転数を光学的に検出するために、反射
膜の有無により形成した回転検出パターンと、ケースに
設け回転検出パターンに照射した検出光を透過する検出
窓とを具備したことを特徴としている。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の密閉型光ディス
クの一実施例の概略構成を示す模式図である。図１にお
いて、密閉型光ディスク１は、情報が記録された光ディ
スク２を、密閉されたケース３内に収納している。光デ
ィスク２は、透明な基板４に微小な凹凸のピットが形成
されたピット部５が形成され、ピット部５上には反射膜
６が形成されている。本実施例においては、密閉型光デ
ィスクの光ディスクを再生専用の光ディスクとしている
が、これに限定されるものではなく、書き換えが可能な
書換型光ディスクであってもよく、また、追記が可能な
追記型光ディスクであってもよい。

【００１７】光ディスク２の内周部には、光ディスク２
の回転数を検出するための回転検出パターン７がピット
部５の有無により形成され、光ディスク２の外周部に
は、光ディスク２を回転させるための回転子８が備えら
れている。

【００１８】ケース３には、レーザ光（検出光）を用い
て回転検出パターン７から光ディスク２の回転数を検出
するための検出窓９が備えられている。検出窓９は、光
ディスク２に対してケース３の上部と下部に設け、光デ
ィスク２の上部の検出窓９から回転検出パターン７にレ
ーザ光を照射し、回転検出パターン７を透過して、光デ
ィスク２の下部の検出窓９に到達するレーザ光を受光し
て、光ディスク２の回転数を検出する。

【００１９】ここで、本実施例では、検出窓９を光ディ
スク２に対してケース３の上部と下部に設けているがこ
れに限定されない。すなわち、検出窓９を光ディスク２
に対してケースの３の上部又は下部のどちらか一方に設
け、検出窓９から回転検出パターン７にレーザ光を照射
し、回転検出パターン７から反射した反射光が再度検出
窓９を透過したレーザ光を受光して、光ディスク２の回
転数を検出するようにしてもよい。

【００２０】光ディスク２は、中心部に回転軸１０が備
えられ、回転軸１０は、ケース３に備えられた軸受１１
に回転可能に支持されている。ケース３には、光ディス
ク２の記録膜５に照射させるレーザ光を透過するための
照射窓１２が備えられている。

【００２１】図２は、本実施例の密閉型光ディスクにお
ける回転子及び回転検出パターンの概略構成を示す模式
図である。図２において、回転子８は、磁性体（磁性
膜）からなり、光ディスク２の円周方向に領域が分けら
れている。それらの領域は、後述する回転検出パターン
７の区別された領域に基づいて、光ディスク２の円周方
向に磁極「Ｎ」と磁極「Ｓ」が交互に形成されている。
回転子８は、マスク等を用いて、磁性体を塗布する、又
は、磁性体を蒸着する等により容易に形成することがで
きる。図２においては、回転子８を６つの領域に分割し
ており、このことにより、密閉型光ディスクの記録再生
装置では３相交流により回転駆動させることができる。

【００２２】また、密閉型光ディスク１の光ディスク２
に形成されている回転検出パターン７は、ピット部５が
形成されていないために、検出光が透過する高透過部１
３と、ピット部５が形成されているために検出光が乱反
射して、検出光が殆ど透過しない低透過部１４とが交互
に形成されている。高透過部１３と低透過部１４は、回
転子８の領域と同様の領域に分けられて形成されてい
る。この回転検出パターン７に、ケース３に形成された
検出窓９を介してレーザ光を照射し、回転検出パターン
７を透過した透過光を検出することによって、光ディス
ク２の回転を光学的に検出することができる。

【００２３】ここで、密閉型光ディクにおける回転検出
パターン７について詳細に説明する。図３は、本実施例
の密閉型光ディスクにおける光ディスクの概略断面を示
す模式図である。図４は、本実施例の密閉型光ディスク
における光ディスクの製造工程の一部を説明する模式図
である。図３において、光ディスク２の内周側には、ピ
ット部５の有無により回転検出パターン７を形成し、回
転検出パターン７より外周部には、ピット部５を形成し
て情報を記録する。

【００２４】このような光ディスクは、図４に示すよう
な製造工程により製造され、回転検出パターン７は、こ
の製造工程中の情報を原盤に記録するカッティング工程
において形成する。すなわち、図３に示す回転検出パタ
ーン７は、光ディスク２の製造工程におけるカッティン
グ工程において、情報を記録すると共に、ピット部５の
有無により基板４上に形成することができるため、製造
工程や製造装置を増やすことなく、容易に回転検出パタ
ーン７を形成することができる。

【００２５】具体的には、図４（ａ）に示すように、原
盤１５に対物レンズ１６を用いてレーザ光１７を照射
し、情報をカッティングすると共に、回転検出パターン
７が形成される部分に、高透過部１３と低透過部１４と
を形成して回転検出パターン７をカッティングする。こ
のとき、回転検出パターン７は、前述したように、原盤
１５にピット部５を形成しない部分が高透過部１３とな
り、ピット部５を形成した部分が低透過部１４となる。
情報及び回転検出パターン７がカッティングされた原盤
１５は現像され、前記情報及び回転検出パターン７に対
応する凹凸が形成される。

【００２６】次に、図４（ｂ）に示すように、原盤１５
の凹凸が形成された面上に導電膜を形成し、メッキ工程
を経ることによりスタンパ１８が得られる。このスタン
パ１８には、ピット部５による情報と回転検出パターン
７が転写される。

【００２７】次に、図４（ｃ）に示すように、スタンパ
１８を用いてポリカーボネイト等の樹脂を射出成形する
ことにより基板４を形成する。この工程により、基板４
に情報と回転検出パターン７が形成される。

【００２８】そして、図４（ｄ）に示すように、情報が
記録された領域のピット部５上に反射膜６を形成するこ
とにより、情報と回転検出パターン７とが形成された光
ディスク２を製造することができる。この後、光ディス
ク２に回転軸１０を取り付け、ケース３に収納する。

【００２９】以上のように、光ディスク２の製造工程に
おけるカッティング工程において、情報を記録すると共
に、ＣＤ等で用いられている、ピットにより文字等を形
成するピットアートと同様の方法を用いて基板４に回転
検出パターン７をカッティングすることができるため、
製造工程や製造装置を増やすことなく、光ディスク２に
回転検出パターン７を容易に形成することができる。

【００３０】このようにして製作した光ディスク２は、
回転検出パターン７にレーザ光を照射して、回転検出パ
ターン７の高透過部１３を透過したレーザ光から光ディ
スク２の回転数を検出する。すなわち、低透過部１４
は、ピット部５が形成されているため、レーザ光が乱反
射して光ディスク２をほとんど透過せず、高透過部１３
は、レーザ光がそのまま透過する。この透過光を検出す
ることにより光ディスク２の回転数を検出することがで
きる。

【００３１】また、回転検出パターン７は、反射膜６を
用いて形成してもよい。図５は、本実施例の密閉型光デ
ィスクにおける光ディスクの他の実施例の概略断面を示
す模式図である。図６は、本実施例の密閉型光ディスク
における光ディスクの他の実施例の製造工程の一部を説
明する模式図である。図５において、光ディスク２の内
周側には、反射膜６の有無により回転検出パターン７を
形成し、回転検出パターン７より外周部には、ピット部
５を形成して情報を記録する。

【００３２】このような光ディスクは、図６に示すよう
な製造工程により製造され、回転検出パターン７は、こ
の製造工程中の反射膜を形成する工程において形成す
る。すなわち、図５に示すように、光ディスク２の製造
工程における反射膜を形成する工程において、情報が記
録されたピット部５上に反射膜を形成すると共に、マス
ク１９を用いて反射膜６の有無により回転検出パターン
７を形成することができるため、製造工程や製造装置を
増やすことなく、容易に回転検出パターン７を形成する
ことができる。

【００３３】具体的には、図６（ａ）に示すように、原
盤１５に対物レンズ１６を用いてレーザ光１７を照射
し、情報が記録される部分にピット部５を形成し、ピッ
トにより情報を記録する。

【００３４】次に、図６（ｂ）に示すように、メッキ工
程において原盤１５からスタンパ１８を得る。このスタ
ンパ１８には、情報が記録されたピット部５が転写され
る。

【００３５】次に、図６（ｃ）に示すように、スタンパ
１８を用いて、ポリカーボネイト等の樹脂を射出成形す
ることにより基板４を形成する。この工程により、基板
４に情報がピット部５が形成される。

【００３６】そして、図６（ｄ）に示すように、回転検
出パターン７を形成する部分に、高透過部１３と低透過
部１４とに対応したパターンが形成されたマスク１９を
用いて、基板４上に高透過部１３と低透過部１４とを形
成すると共に、ピット部５上に反射膜６を形成する。こ
のことにより、情報が記録され、回転検出パターン７が
形成された光ディスク２を製造することができる。この
後、光ディスク２に回転軸を取り付け、ケース３に収納
する。

【００３７】以上のように、ピット部５上に反射膜６を
形成する場合に、マスク等を用いて、反射膜６の有無に
よる高透過部１３と低透過部１４を形成することによ
り、光ディスク２上に回転検出パターン７を容易に形成
することができる。

【００３８】このようにして作製した光ディスク２は、
回転検出パターン７にレーザ光を照射して、光ディスク
２を透過したレーザ光から光ディスク２の回転数を検出
する。すなわち、低透過部１４は、レーザ光を反射する
反射膜６が形成されているため、光ディスク２を透過せ
ず、高透過部１３は、レーザ光がそのまま透過する。こ
の透過光を検出することにより光ディスク２の回転数を
検出することができる。また、回転検出パターン７にレ
ーザ光を照射して、光ディスクから反射したレーザ光か
ら光ディスク２の回転数を検出するようにしてもよい。

【００３９】また、回転検出パターン７は、記録膜２０
を用いて形成してもよい。図７は、本実施例の密閉型光
ディスクにおける光ディスクの他の実施例の概略断面を
示す模式図である。図８は、本実施例の密閉型光ディス
クにおける光ディスクの他の実施例の製造工程の一部を
説明する模式図である。図７において、光ディスク２の
内周側には、記録膜２０の有無で回転検出パターン７を
形成し、回転検出パターン７より外周部には、記録膜２
０を形成する。

【００４０】このような光ディスクは、図８に示すよう
な製造工程により製造され、回転検出パターン７は、こ
の製造工程中の記録膜２０を形成する工程において形成
される。すなわち、光ディスク２の製造工程における記
録膜２０を形成する工程において、情報を記録する領域
に記録膜２０を形成すると共に、マスク１９を用いて記
録膜２０の有無により、回転検出パターン７が基板４上
に形成されるため、製造工程や製造方法を増やすことな
く、回転検出パターン７を容易に形成することができ
る。

【００４１】具体的には、図８（ａ）に示すように、原
盤１５に感光剤２１を塗布し、レーザ光を照射してプリ
グルーブ２２となる部分を形成する。

【００４２】次に、図８（ｂ）に示すように、原盤１５
の感光剤２１を現像液で現像することにより、原盤１５
にプリグルーブ２２が形成される。

【００４３】次に、図８（ｃ）に示すように、メッキ工
程において原盤１５からスタンパ１８を得る。このスタ
ンパ１８には、プリグルーブ２２が転写される。

【００４４】次に、図８（ｄ）に示すように、スタンパ
１８を用いてポリカーボネイト等の樹脂を射出成形する
ことにより、基板４を形成する。

【００４５】図８（ｅ）に示すように、前述した射出成
形された基板４には、プリグルーブ２２が転写される。

【００４６】そして、図８（ｆ）に示すように、基板４
に記録膜２０を形成すると共に、マスク１９を用いて、
記録膜２０の有無により高透過部１３と低透過部１４と
からなる回転検出パターン７を形成する。このことによ
り、情報が記録され回転検出パターン７が形成された光
ディスク２を製造することができる。この後、光ディス
ク２に回転軸を取り付け、ケース３に収納する。

【００４７】以上のように、記録膜２０を形成するとき
に、マスク等を用いて、記録膜２０の有無により高透過
部１３と低透過部１４とを形成することによって、光デ
ィスク２上に回転検出パターン７を容易に形成すること
ができる。本実施例においては、記録膜２０と反射膜６
とにより回転検出パターン７を形成してもよい。

【００４８】このようにして作製した光ディスク２は、
回転検出パターン７にレーザ光を照射して、光ディスク
２を透過したレーザ光から光ディスク２の回転数を検出
する。すなわち、低透過部１４は、レーザ光を反射する
記録膜２３が形成されているため、光ディスク２を透過
せず、高透過部１３は、レーザ光がそのまま透過する。
この透過光を検出することにより光ディスク２の回転数
を検出することができる。また、回転検出パターン７に
レーザ光を照射して、光ディスクから反射したレーザ光
から光ディスク２の回転数を検出するようにしてもよ
い。

【００４９】したがって、光ディスク２の回転数を検出
するための回転検出パターン７を、ピット部５、反射膜
６又は記録膜２０を用いて形成することができるため、
製造工程や製造装置を増やすことなく、また、エンコー
ダ等を光ディスク２に貼り付ける又は印刷する場合に比
べて、回転検出パターン７を容易に形成することができ
る。また、光ディスク２にエンコーダ等を貼り付けない
ため、光ディスク２の記録再生時に回転ムラ等が発生せ
ず、安定した回転を得ることができる。

【００５０】前述した密閉型光ディスク１を回転駆動さ
せて、情報の記録再生を行う記録再生装置について説明
する。図９は、本実施例の密閉型光ディスクの記録再生
装置の概略構成を示す模式図である。図９において、密
閉型光ディスク１は、回転検出パターン７による光ディ
スク２の回転数を検出するための検出窓９を、光ディス
ク２の回転検出パターン７を挟むように、ケース３の上
部及び下部に設けている。ここで、本実施例では、光デ
ィスク２の回転数を回転検出パターン７を透過した透過
光を用いて検出しているが、回転検出パターン７から反
射した反射光を用いて検出するようにしてもよい。

【００５１】記録再生装置２３は、複数のコイル２４を
備えている。また、記録再生装置２３は、光ディスク２
の回転検出パターン７に検出光を照射する照射部２５
と、回転検出パターン７の高透過部１３を透過した検出
光を受光する受光部２６とを備えている。コイル２４に
電流を流して磁界を発生することにより、光ディスク２
に備えられた回転子８を、反発又は吸引して光ディスク
２を回転させる。コイル２４に流す電流は、光ディスク
２の回転検出パターン７より検出した回転数に基づいて
変調され、光ディスク２が所定の回転数となるように制
御する。

【００５２】したがって、記録再生装置２３は、光ディ
スク２にレーザ光１７を照射し、光ディスクの情報の記
録再生をしていない場合でも、光ディスク２の回転を制
御することができ、コイル２４に流す電流量を変化させ
ることにより、容易に光ディスク２の回転数を変えるこ
とができる。また、光ディスク２と回転軸１０のみが回
転するため、従来のモータを使用した場合より振動等が
少なく、対物レンズ１４を備えた光ヘッドや他の回路等
に与える振動の悪影響が少ない。また、コイル２４及び
回転子８により光ディスク２を回転させることができる
ため、従来のモータを用いた場合より、光ディスク２を
回転させる記録再生装置２３の薄型化及び小型化ができ
る。

【００５３】次に、前述した記録再生装置における情報
の記録再生について説明する。図１０は、本実施例の密
閉型光ディスクにおける光ディスクと照射窓の関係を説
明するための模式図である。図１０において、光ディス
ク２は、基板４の一方の面に記録膜５が形成され、ピッ
ト部５上には反射膜６が形成されている。回転子８は反
射膜６上に形成されている。ピット部５に記録された情
報を再生する場合、レーザ光１７は、対物レンズ１６に
より集光され、照射窓１２と基板４を介してピット部５
上に収束する。照射窓１２は、対物レンズ１６と基板４
との間に配置されているため、照射窓１２を透過するレ
ーザ光１７が照射窓１２の傷等により受ける影響が小さ
い。

【００５４】すなわち、レーザ光１７は、対物レンズ１
６により除々に収束するため、照射窓１２に入射するレ
ーザ光１７の断面積は、対物レンズ１６に入射したレー
ザ光１６より、やや小さくなる程度である。換言すれ
ば、回折限界まで収束されたビームスポットに比べて大
きい面積である。そのため、照射窓１２にピット部５の
ピット程度の大きさの傷が生じた場合でも、傷等により
レーザ光１７の光量が変化する割合が少なく、レーザ光
１７に全体の光量に対して悪影響を与えることが少な
い。したがって、照射窓１２に傷等が生じた場合でも、
記録信号又は再生信号の劣化が少ない。

【００５５】基板４と照射窓１２の材料は、その光学的
特性が同じ透明な樹脂を用いることが望ましい。基板４
と照射窓１２との間の空隙は、空気であるため屈折率は
１である。例えば、カバーガラスの厚さが１．２ｍｍで
光学設計された対物レンズ１４を用いた場合、照射窓１
２の厚さを０．６ｍｍ、基板４の厚さを０．６ｍｍとす
ることにより、対物レンズ１４により集光されるレーザ
光１３が、記録膜５上に設計どおりのビームスポットを
形成する。すなわち、照射窓１２の厚さと基板４の厚さ
の合計が、対物レンズ１４の設計におけるカバーガラス
の厚さとなるようにすればよい。

【００５６】以上のように、密閉型光ディスクでは、光
ディスクが密閉されたケース内に収納されているため、
基板又は記録面に傷がつき再生信号に悪影響を与えるこ
とがない。また、ケースを用いているため、密閉型光デ
ィスクとしての強度が高く破損することがない。

【００５７】また、回転検出パターンを記録膜又は反射
膜により容易に形成することができ、その回転検出パタ
ーンを用いることにより、光ディスクを再生していない
状態においても光ディスクを回転制御することができ
る。

【００５８】

【発明の効果】本発明によれば、密閉型光ディスクにお
いて、製造工程や装置等を増やさずに生産性がよく、光
ディスクに精度よくエンコーダを設けることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の密閉型光ディスクの一実施例の概略構
成を示す模式図。

【図２】本実施例の密閉型光ディスクにおける回転子及
び回転検出パターンの概略構成を示す模式図。

【図３】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの概略断面を示す模式図。

【図４】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの製造工程の一部を説明する模式図。

【図５】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの他の実施例の概略断面を示す模式図。

【図６】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの他の実施例の製造工程の一部を説明する模式図。

【図７】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの他の実施例の概略断面を示す模式図。

【図８】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディス
クの他の実施例の製造工程の一部を説明する模式図。

【図９】本実施例の密閉型光ディスクの記録再生装置の
概略構成を示す模式図。

【図１０】本実施例の密閉型光ディスクにおける光ディ
スクと照射窓の関係を説明するための模式図。

【図１１】従来の密閉型光ディスク及び再生装置を説明
するための模式図。

【符号の説明】 １・・密閉型光ディスク、２・・光ディスク、３・・ケ
ース、４・・基板、５・・ピット部、６・・反射膜、７
・・回転検出パターン、８・・回転子、９・・検出窓、
１０・・回転軸、１１・・軸受、１２・・照射窓、１３
・・高透過部、１４・・低透過部、１５・・原盤、１６
・・対物レンズ、１７・・レーザ光、１８・・スタン
パ、１９・・マスク、２０・・記録膜、２１・・感光
剤、２２・・プリグルーブ、２３・・記録再生装置、２
４・・コイル、２５・・照射部、２６・・受光部、２７
・・記録層、２８・・ロータ、２９・・電機子、３０・
・光ヘッド、３１・・回転速度検出器、３２・・周波数
制御器。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】微小な凹凸のピットが形成されたピット部
   とレーザ光を反射する反射膜とを備えた基板と、該基板
   の回転の中心となる回転軸と、前記基板の円周方向にＮ
   極とＳ極の領域が交互に形成された磁性体の回転子と、
   前記回転軸を回転可能に支持する軸受と、前記基板を回
   転可能に収納するケースと、該ケースに設け前記ピット
   部に照射するレーザ光を透過する照射窓と、前記基板の
   回転数を光学的に検出するために前記ピット部の有無に
   より形成した回転検出パターンと、前記ケースに設け前
   記回転検出パターンに照射した検出光を透過する検出窓
   とを具備したことを特徴とする密閉型光ディスク。
2. 【請求項２】情報が記録される記録膜とレーザ光を反射
   する反射膜とを備えた基板と、該基板の回転の中心とな
   る回転軸と、前記基板の円周方向にＮ極とＳ極の領域が
   交互に形成された磁性体の回転子と、前記回転軸を回転
   可能に支持する軸受と、前記基板を回転可能に収納する
   ケースと、該ケースに設け前記記録膜に照射するレーザ
   光を透過する照射窓と、前記基板の回転数を光学的に検
   出するために前記記録膜の有無により形成した回転検出
   パターンと、前記ケースに設け前記回転検出パターンに
   照射した検出光を透過する検出窓とを具備したことを特
   徴とする密閉型光ディスク。
3. 【請求項３】微小な凹凸のピットが形成されたピット部
   又は情報が記録される記録膜とレーザ光を反射する反射
   膜とを備えた基板と、該基板の回転の中心となる回転軸
   と、前記基板の円周方向にＮ極とＳ極の領域が交互に形
   成された磁性体の回転子と、前記回転軸を回転可能に支
   持する軸受と、前記基板を回転可能に収納するケース
   と、該ケースに設け前記ピット部又は前記記録膜に照射
   するレーザ光を透過する照射窓と、前記基板の回転数を
   光学的に検出するために前記反射膜の有無により形成し
   た回転検出パターンと、前記ケースに設け前記回転検出
   パターンに照射した検出光を透過する検出窓とを具備し
   たことを特徴とする密閉型光ディスク。