JP2000107716A - Ultraviolet washing apparatus - Google Patents

Ultraviolet washing apparatus

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JP2000107716A
JP2000107716A JP10276744A JP27674498A JP2000107716A JP 2000107716 A JP2000107716 A JP 2000107716A JP 10276744 A JP10276744 A JP 10276744A JP 27674498 A JP27674498 A JP 27674498A JP 2000107716 A JP2000107716 A JP 2000107716A
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Japan
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ultraviolet
cleaned
ultraviolet lamp
lamp unit
supported
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JP10276744A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyoshi Shimada
清 嶋田
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Original Assignee
SPC Electronics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize ultraviolet lamp units and decrease the number of the ultraviolet lamps to be used and lower the electric power consumption by installing a transporting means for transporting the ultraviolet lamp units parallel to and horizontally on the surface of an object matter to be washed supported by a supporting means. SOLUTION: A substrate 104, which is an object to be washed, transported by a transportation roller 106 is set still on a supporting stand 12, which is a supporting means in an ultraviolet washing apparatus 10. Ultraviolet lamp units 14 each of which comprises one ultraviolet lamp 110 are installed above the substrate 104 in the ultraviolet washing apparatus 10. The ultraviolet lamp units 14 are so installed as to be moved parallel to and horizontally (in the A direction) on a surface region S of the substrate 104 partitioned by the outer circumferential rim 104a by the operation of a motor 1, which is a transporting means. The ultraviolet lamp unit 14 is so set as to be movable from the position corresponding to the right side end part 104R of the substrate to the position corresponding to the left side end part 104L of the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線洗浄装置に
関し、さらに詳細には、紫外線の照射により生成される
酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、例え
ば、半導体基板あるいは液晶表示用基板などの各種の電
子部品基板(以下、本明細書においては、半導体基板あ
るいは液晶表示用基板などの各種の電子部品基板を総称
して、単に「基板」と称する。)などの被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultraviolet cleaning apparatus, and more particularly, to an ultraviolet cleaning apparatus utilizing, for example, a semiconductor substrate or a liquid crystal display substrate by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light. Attached to the surface of an object to be cleaned, such as various electronic component substrates (hereinafter, various electronic component substrates such as a semiconductor substrate or a substrate for a liquid crystal display are collectively referred to simply as a “substrate”). The present invention relates to an ultraviolet cleaning device for removing organic matter that has been removed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の紫外線洗浄装置として、例えば、
特開平5−224167号公報に開示された紫外線洗浄
装置が知られている。
2. Description of the Related Art As a conventional ultraviolet cleaning apparatus, for example,
An ultraviolet cleaning apparatus disclosed in JP-A-5-224167 is known.

【0003】図1には特開平5−224167号公報に
開示された紫外線洗浄装置を含む洗浄装置の概念的な側
面概略構成説明図が示されており、また、図2には図1
に示す紫外線洗浄装置の拡大図が示されているが、これ
ら図1ならびに図2には、被洗浄物として基板を洗浄処
理している状態が示されている。
FIG. 1 is a schematic side view of a cleaning apparatus including an ultraviolet cleaning apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-224167, and FIG.
1 and 2 show a state in which a substrate is cleaned as an object to be cleaned.

【0004】上記した図1ならびに図2を参照しなが
ら、特開平5−224167号公報に開示された紫外線
洗浄装置を含む洗浄装置を説明すると、この洗浄装置
は、紫外線洗浄装置100と、洗浄液洗浄装置102と
より構成されている。そして、基板104は搬送ローラ
ー106上に載置され、搬送ローラー106の回転によ
って紫外線洗浄装置100から洗浄液洗浄装置102へ
と搬送されるように構成されている。
A cleaning apparatus including an ultraviolet cleaning apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-224167 will be described with reference to FIGS. 1 and 2. The cleaning apparatus includes an ultraviolet cleaning apparatus 100 and a cleaning liquid cleaning apparatus. It is composed of a device 102. Then, the substrate 104 is placed on the transport roller 106 and is configured to be transported from the ultraviolet cleaning device 100 to the cleaning liquid cleaning device 102 by the rotation of the transport roller 106.

【0005】ここで、紫外線洗浄装置100には、基板
104に紫外線を照射するための紫外線ランプ・ユニッ
ト108が配設されており、紫外線ランプ・ユニット1
08は5本の紫外線ランプ110から構成されている。
Here, the ultraviolet cleaning unit 100 is provided with an ultraviolet lamp unit 108 for irradiating the substrate 104 with ultraviolet light.
Reference numeral 08 includes five ultraviolet lamps 110.

【0006】また、洗浄液洗浄装置102には、基板1
04に洗浄液を噴射するスプレー・ノズル112と、基
板104に純水を噴射するシャワー・ノズル114と、
基板104を乾燥するためのエアー・ナイフ116とが
配設されている。
[0006] The cleaning liquid cleaning apparatus 102 includes a substrate 1
A spray nozzle 112 for spraying a cleaning liquid onto the substrate 04, a shower nozzle 114 for spraying pure water onto the substrate 104,
An air knife 116 for drying the substrate 104 is provided.

【0007】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
においては、まず、搬送ローラー106によって基板1
04を紫外線洗浄装置100内に移送し、紫外線ランプ
・ユニット108の5本の紫外線ランプ110によって
紫外線を基板104に照射して、紫外線の照射により生
成される酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して
基板104の表面に付着した有機物を除去する。
In the above-described structure, in the ultraviolet cleaning apparatus, first, the substrate 1 is transported by the transport roller 106.
04 is transferred into the ultraviolet cleaning apparatus 100, the substrate 104 is irradiated with ultraviolet light by the five ultraviolet lamps 110 of the ultraviolet lamp unit 108, and the oxidation energy and photon energy generated by the irradiation of the ultraviolet light are used. Organic substances attached to the surface of the substrate 104 are removed.

【0008】その後に、搬送ローラー106によって基
板104を洗浄液洗浄装置102内に移送し、スプレー
・ノズル112から洗浄液を噴射して、洗浄液により基
板104の洗浄を行い、次に、シャワー・ノズル114
から純水を噴射して、基板104の表面に残留する洗浄
液を洗い流し、さらに、エアー・ナイフ116により基
板104の表面に残留する純水の水切りを行って、基板
104を乾燥して次の工程に移送するものである。
After that, the substrate 104 is transferred into the cleaning liquid cleaning apparatus 102 by the transport roller 106, the cleaning liquid is sprayed from the spray nozzle 112, and the substrate 104 is cleaned with the cleaning liquid.
The cleaning liquid remaining on the surface of the substrate 104 is washed away by spraying pure water from the substrate 104. Further, the pure water remaining on the surface of the substrate 104 is drained by an air knife 116, and the substrate 104 is dried. It is to be transferred to.

【0009】ところで、上記した従来の紫外線洗浄装置
100においては、基板104の表面の寸法、即ち、基
板104の外周縁104aにより区切られる表面領域S
の寸法(図3参照)と同一か、あるいは、表面領域Sの
寸法以上の大きさの紫外線ランプ・ユニット108を基
板104上に配置して、基板104の表面に紫外線を照
射する処理を行っている。
By the way, in the above-mentioned conventional ultraviolet cleaning apparatus 100, the dimensions of the surface of the substrate 104, that is, the surface area S divided by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104.
3 (see FIG. 3) or an ultraviolet lamp unit 108 having a size equal to or larger than the size of the surface area S is disposed on the substrate 104, and a process of irradiating the surface of the substrate 104 with ultraviolet light is performed. I have.

【0010】即ち、従来の紫外線洗浄装置100におい
ては、紫外線ランプ・ユニット108が基板104の外
周縁104aにより区切られる表面領域Sの寸法(図3
参照)と同一か、あるいは、表面領域Sの寸法以上の大
きさとなされているため、紫外線ランプ・ユニット10
8の大きさ、ひいては紫外線ランプ・ユニット108に
使用される紫外線ランプ110の本数は、処理しようと
する基板104の外周縁104aにより区切られる表面
領域Sの寸法に依存し(図1乃至図2に示す例において
は、紫外線ランプ110の本数は5本である。)、処理
しようとする基板104の外周縁104aにより区切ら
れる表面領域Sの寸法が大きくなれば、当然のことなが
ら紫外線ランプ・ユニット108が大きくなって紫外線
ランプ110の本数が多くなり、電力消費量も増大する
ことになるという問題点があった。
That is, in the conventional ultraviolet cleaning apparatus 100, the size of the surface area S defined by the ultraviolet lamp unit 108 by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104 (see FIG. 3).
) Or larger than the size of the surface area S, so that the ultraviolet lamp unit 10
The size of 8 and thus the number of UV lamps 110 used in the UV lamp unit 108 depend on the size of the surface area S delimited by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104 to be processed (see FIGS. 1 and 2). In the example shown, the number of the ultraviolet lamps 110 is five.) If the size of the surface area S delimited by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104 to be processed becomes larger, the ultraviolet lamp unit 108 is naturally And the number of ultraviolet lamps 110 increases, and the power consumption also increases.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記したよ
うな従来の技術の有する問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、紫外線ランプ・ユニッ
トの大きさ、ひいては紫外線ランプ・ユニットに使用さ
れる紫外線ランプの本数が処理しようとする基板などの
被洗浄物の外周縁により区切られる表面領域の寸法に依
存することなく、従来の紫外線洗浄装置に比して紫外線
ランプ・ユニットの大きさを小型化し、ひいては紫外線
ランプ・ユニットに使用される紫外線ランプの本数を低
減させて電力消費量を低下することのできる紫外線洗浄
装置を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object to reduce the size of the ultraviolet lamp unit and, consequently, the ultraviolet light. The number of UV lamps used in the lamp unit does not depend on the size of the surface area delimited by the outer peripheral edge of the object to be cleaned such as a substrate to be processed. It is an object of the present invention to provide an ultraviolet cleaning apparatus capable of reducing the size of the unit and, consequently, reducing the number of ultraviolet lamps used in the ultraviolet lamp unit to reduce power consumption.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による紫外線洗浄装置は、紫外線の照射によ
り生成される酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用
して、被洗浄物の表面に付着した有機物を除去する紫外
線洗浄装置において、少なくとも1以上の紫外線ランプ
を備えてなり、かつ、全体の寸法が被洗浄物の表面の寸
法よりも小さい紫外線ランプ・ユニットを、被洗浄物の
上方位置で当該被洗浄物に対して平行かつ水平に移動さ
せたり、あるいは回転させたり、また、少なくとも1以
上の紫外線ランプを備えてなり、かつ、全体の寸法が被
洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユニッ
トの下において、紫外線ランプ・ユニットに対して基板
を平行かつ水平に移動させたり、あるいは回転させたり
などしたものである。
In order to achieve the above object, an ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention utilizes an oxidizing energy and a photon energy generated by irradiation of ultraviolet light to adhere to a surface of an object to be cleaned. In the ultraviolet cleaning apparatus for removing organic matter, an ultraviolet lamp unit including at least one or more ultraviolet lamps and having an overall size smaller than a size of a surface of the object to be cleaned is provided at a position above the object to be cleaned. Ultraviolet light that is moved or rotated in parallel and horizontal with respect to the object to be cleaned, and is provided with at least one or more ultraviolet lamps, and whose overall size is smaller than the size of the surface of the object to be cleaned. Under the lamp unit, the board is moved horizontally or parallel to the ultraviolet lamp unit, or rotated. .

【0013】即ち、本発明による紫外線洗浄装置によれ
ば、被洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・
ユニットを用いて、被洗浄物の表面に紫外線を照射する
ことができる。
That is, according to the ultraviolet cleaning apparatus of the present invention, an ultraviolet lamp smaller than the surface of the object to be cleaned.
Using the unit, the surface of the object to be cleaned can be irradiated with ultraviolet light.

【0014】従って、被洗浄物の表面の寸法が大きくな
っても、それに合わせて大型化した紫外線ランプ・ユニ
ットを必要とせず、ひいては紫外線ランプ・ユニットに
使用する紫外線ランプの本数を低減させて、電力消費量
を低下することができるものである。
Therefore, even if the size of the surface of the object to be cleaned becomes large, a large-sized ultraviolet lamp unit is not required, and the number of ultraviolet lamps used in the ultraviolet lamp unit can be reduced. The power consumption can be reduced.

【0015】そして、本発明のうち請求項1に記載の発
明は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと
光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着し
た有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物
を静止状態で支持する支持手段と、少なくとも1以上の
紫外線ランプを備えてなり、上記支持手段の上方に配置
されるとともに、上記支持手段に支持された被洗浄物の
表面に対して平行かつ水平に移動可能に配設され、か
つ、全体の寸法が上記支持手段に支持された被洗浄物の
表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユニットと、上
記紫外線ランプ・ユニットを上記支持手段に支持された
被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動させる移動
手段とを有するようにしたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet rays. An apparatus, comprising: support means for supporting an object to be cleaned in a stationary state; and at least one or more ultraviolet lamps. The apparatus is disposed above the support means and has a surface of the object to be cleaned supported by the support means. An ultraviolet lamp unit which is disposed so as to be movable in parallel and horizontally with respect to, and whose overall size is smaller than the size of the surface of the object to be cleaned supported by the support means, and Moving means for moving the object to be cleaned, which is supported by the supporting means, in parallel and horizontally with respect to the surface of the object to be cleaned.

【0016】また、本発明のうち請求項2に記載の発明
は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着した
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物を
静止状態で支持する支持手段と、上記支持手段を、上記
支持手段に支持された被洗浄物の表面に対して平行かつ
水平に移動させる移動手段と、少なくとも1以上の紫外
線ランプを備えてなり、上記支持手段の上方に固定的に
配置され、かつ、全体の寸法が上記支持手段に支持され
た被洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユ
ニットとを有するようにしたものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet rays. In the apparatus, supporting means for supporting the object to be cleaned in a stationary state, moving means for moving the supporting means parallel and horizontally to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means, at least one or more An ultraviolet lamp unit comprising an ultraviolet lamp, fixedly disposed above the support means, and having an overall size smaller than a size of a surface of the object to be cleaned supported by the support means. It was made.

【0017】また、本発明のうち請求項3に記載の発明
は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着した
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物を
静止状態で支持する支持手段と、上記支持手段を、上記
支持手段に支持された被洗浄物の表面に対して平行かつ
水平に移動させる第1の移動手段と、少なくとも1以上
の紫外線ランプを備えてなり、上記支持手段の上方に配
置されるとともに、上記支持手段に支持された被洗浄物
の表面に対して平行かつ水平に移動可能に配設され、か
つ、全体の寸法が上記支持手段に支持された被洗浄物の
表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユニットと、上
記紫外線ランプ・ユニットを上記支持手段に支持された
被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動させる第2
の移動手段とを有するようにしたものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet rays. In the apparatus, a supporting means for supporting the object to be cleaned in a stationary state, a first moving means for moving the supporting means parallel and horizontally to a surface of the object to be cleaned supported by the supporting means, At least one ultraviolet lamp is provided, is disposed above the support means, is disposed so as to be movable in parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the support means, and An ultraviolet lamp unit whose dimension is smaller than the dimension of the surface of the object to be cleaned supported by the support means, and the ultraviolet lamp unit on the surface of the object to be cleaned supported by the support means. Second moving parallel and horizontally in
And moving means.

【0018】また、本発明のうち請求項4に記載の発明
は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着した
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物を
静止状態で支持する支持手段と、少なくとも1以上の紫
外線ランプを備えてなり、上記支持手段の上方に配置さ
れるとともに、中心部位を中心として、上記支持手段に
支持された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転
可能に配設され、かつ、全体の寸法が上記支持手段に支
持された被洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ラン
プ・ユニットと、上記紫外線ランプ・ユニットを上記支
持手段に支持された被洗浄物の表面に対して平行かつ水
平に回転させる回転手段とを有するようにしたものであ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet rays. The apparatus comprises a support means for supporting the object to be cleaned in a stationary state, and at least one or more ultraviolet lamps. The apparatus is disposed above the support means and supported by the support means around a central portion. An ultraviolet lamp unit disposed so as to be rotatable in parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned, and having an overall size smaller than the size of the surface of the object to be cleaned supported by the support means; And a rotating means for rotating the ultraviolet lamp unit in a direction parallel and horizontal to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means.

【0019】また、本発明のうち請求項5に記載の発明
は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着した
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物を
静止状態で支持する支持手段と、上記支持手段を、上記
支持手段の中心部位を中心として、上記支持手段に支持
された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転させ
る回転手段と、少なくとも1以上の紫外線ランプを備え
てなり、上記支持手段の上方に固定的に配置され、か
つ、全体の寸法が上記支持手段に支持された被洗浄物の
表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユニットとを有
するようにしたものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus that removes organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light. In the apparatus, a supporting means for supporting the object to be cleaned in a stationary state, and the supporting means, with the center of the supporting means as a center, parallel and horizontally to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means. A rotating means for rotating, and at least one or more ultraviolet lamps, which are fixedly disposed above the supporting means, and whose overall dimensions are smaller than the dimensions of the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means. Also has a small ultraviolet lamp unit.

【0020】また、本発明のうち請求項6に記載の発明
は、紫外線の照射により生成される酸化エネルギーと光
子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面に付着した
有機物を除去する紫外線洗浄装置において、被洗浄物を
静止状態で支持する支持手段と、上記支持手段を、上記
支持手段の中心部位を中心として、上記支持手段に支持
された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転させ
る第1の回転手段と、少なくとも1以上の紫外線ランプ
を備えてなり、上記支持手段の上方に配置されるととも
に、中心部位を中心として、上記支持手段に支持された
被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転可能に配設
され、かつ、全体の寸法が上記支持手段に支持された被
洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ・ユニッ
トと、上記紫外線ランプ・ユニットを上記支持手段に支
持された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転さ
せる第2の回転手段とを有するようにしたものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided an ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet rays. In the apparatus, a supporting means for supporting the object to be cleaned in a stationary state, and the supporting means, with the center of the supporting means as a center, parallel and horizontally to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means. A first rotating means for rotating, and at least one or more ultraviolet lamps, are disposed above the supporting means, and are arranged on the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means with a center portion as a center. An ultraviolet lamp unit disposed so as to be rotatable in parallel and horizontally with respect to the body, and having an overall size smaller than a size of a surface of the object to be cleaned supported by the support means; The pump unit is obtained so as to have a second rotating means for rotating parallel and horizontal to the surface of the object to be cleaned, which is supported by the support means.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明に
よる紫外線洗浄装置の実施の形態の一例を詳細に説明す
るものとする。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of an ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0022】なお、図4以下の説明においては、図1乃
至図3における各構成と同一または相当する構成に関し
ては、図1乃至図3において用いた符号と同一の符号を
用いて示すものとする。
In the following description of FIG. 4, the same or corresponding components as those in FIGS. 1 to 3 will be denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 3. .

【0023】図4は、本発明による紫外線洗浄装置の第
1の実施の形態を示す図2に対応する概念的な側面概略
構成説明図であり、この紫外線洗浄装置10において
は、搬送ローラー106によって搬送されてきた被洗浄
物たる基板104は、紫外線洗浄装置10内において支
持手段たる支持台12上で静止される。
FIG. 4 is a conceptual side view schematically illustrating the structure of an ultraviolet light cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, corresponding to FIG. 2. The transported substrate 104 to be cleaned is stopped on the support base 12 as support means in the ultraviolet cleaning apparatus 10.

【0024】そして、紫外線洗浄装置10内の基板10
4の上方には、1本の紫外線ランプ110から構成され
る紫外線ランプ・ユニット14が配設されている。
The substrate 10 in the ultraviolet cleaning device 10
Above 4, an ultraviolet lamp unit 14 including one ultraviolet lamp 110 is provided.

【0025】この紫外線ランプ・ユニット14は、移動
手段たるモーター16の作動によって、基板104の外
周縁104aにより区切られる表面領域Sに対して平行
かつ水平、即ち、図4上矢印A方向に移動可能に配設さ
れている。
The ultraviolet lamp unit 14 can be moved parallel and horizontal to the surface area S defined by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104, that is, in the direction of arrow A in FIG. It is arranged in.

【0026】ここで、紫外線ランプ・ユニット14は、
図4において基板104の右側端部104Rに対応する
位置から左側端部104Lに対応する位置まで移動可能
に設定されている(図4において一点鎖線によって示さ
れた符号14を参照する。)。
Here, the ultraviolet lamp unit 14 is
In FIG. 4, it is set so as to be movable from a position corresponding to the right end 104R of the substrate 104 to a position corresponding to the left end 104L (see the reference numeral 14 indicated by a dashed line in FIG. 4).

【0027】なお、この実施の形態においては、紫外線
ランプ110としては、低圧水銀灯が用いられている。
In this embodiment, a low-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet lamp 110.

【0028】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
10により基板104の紫外線洗浄処理を行うには、搬
送ローラー106によって基板104を紫外線洗浄装置
10内に搬送し、基板104を紫外線洗浄装置10内に
おいて支持台12上で静止させ、その後に、紫外線ラン
プ・ユニット14の紫外線ランプ110を点灯する。
In the above configuration, in order to perform the ultraviolet cleaning process on the substrate 104 by the ultraviolet cleaning device 10, the substrate 104 is transported into the ultraviolet cleaning device 10 by the transport roller 106, and the substrate 104 is transferred into the ultraviolet cleaning device 10. After being stopped on the support table 12, the ultraviolet lamp 110 of the ultraviolet lamp unit 14 is turned on.

【0029】そして、モーター16の作動によって、紫
外線ランプ・ユニット14を、図4において基板104
の右側端部104Rに対応する位置から左側端部104
Lに対応する位置まで移動させて、基板104の表面領
域Sに紫外線を照射して洗浄を行う。
Then, the operation of the motor 16 causes the ultraviolet lamp unit 14 to be connected to the substrate 104 in FIG.
From the position corresponding to the right end 104R to the left end 104
The substrate is moved to a position corresponding to L, and the surface region S of the substrate 104 is irradiated with ultraviolet rays to perform cleaning.

【0030】なお、この際に、図4において基板104
の右側端部104Rに対応する位置から左側端部104
Lに対応する位置まで、紫外線ランプ110を往復移動
させてもよい。
At this time, the substrate 104 in FIG.
From the position corresponding to the right end 104R to the left end 104
The ultraviolet lamp 110 may be reciprocated to a position corresponding to L.

【0031】次に、図5を参照しながら、本発明による
紫外線洗浄装置の第2の実施の形態について説明する。
Next, a second embodiment of the ultraviolet ray cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0032】即ち、図5は、本発明による紫外線洗浄装
置の第2の実施の形態を示す図2に対応する概念的な側
面概略構成説明図であり、この紫外線洗浄装置20にお
いては、搬送ローラー106によって搬送されてきた被
洗浄物たる基板104は、紫外線洗浄装置20内におい
て支持手段たる支持台22上で静止される。
FIG. 5 is a conceptual side view schematically illustrating the configuration of a second embodiment of the ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention, corresponding to FIG. 2. In this ultraviolet cleaning apparatus 20, a conveying roller is used. The substrate 104, which is the object to be cleaned, transported by the substrate 106, is stopped on the support base 22 as support means in the ultraviolet cleaning apparatus 20.

【0033】そして、支持台22はモーター24の作動
によって、基板104の外周縁104aにより区切られ
る表面領域Sに対して平行かつ水平、即ち、図5上矢印
B方向に移動可能に配設されている。
The support base 22 is arranged so as to be parallel and horizontal to the surface area S defined by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104 by the operation of the motor 24, that is, movable in the direction of the arrow B in FIG. I have.

【0034】ここで、支持台22の移動範囲は、図5に
おいて、基板104の右側端部104Rが洗浄装置20
の右側端部20Rに対応する位置まで移動し、基板10
4の左側端部104Lが洗浄装置20の左側端部20L
に対応する位置まで移動可能なように設定されている
(図5において一点鎖線によって示された符号22、符
号104、符号104Rおよび符号104Lを参照す
る。)。
Here, the moving range of the support base 22 is such that the right end 104R of the substrate 104 in FIG.
To the position corresponding to the right end 20R of the
4 is the left end portion 20L of the cleaning device 20.
(See FIG. 5, reference numerals 22, 104, 104R, and 104L indicated by dashed lines in FIG. 5).

【0035】そして、紫外線洗浄装置20内の基板10
4の上方には、1本の紫外線ランプ110から構成され
る紫外線ランプ・ユニット26が固定的に配設されてい
る。
Then, the substrate 10 in the ultraviolet cleaning device 20
Above 4, an ultraviolet lamp unit 26 composed of one ultraviolet lamp 110 is fixedly arranged.

【0036】ここで、紫外線ランプ・ユニット26は、
図5において紫外線洗浄装置10内の上方略中央部に配
設されることが好ましい。
Here, the ultraviolet lamp unit 26 is
In FIG. 5, it is preferable to be provided at a substantially upper central portion in the ultraviolet cleaning device 10.

【0037】なお、この実施の形態においては、紫外線
ランプ110としては、低圧水銀灯が用いられている。
In this embodiment, a low-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet lamp 110.

【0038】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
20により基板104の紫外線洗浄処理を行うには、搬
送ローラー106によって基板104を紫外線洗浄装置
20内に搬送し、基板104を紫外線洗浄装置10内に
おいて支持台12上で静止させる。
In the above configuration, in order to perform the ultraviolet cleaning process on the substrate 104 by the ultraviolet cleaning device 20, the substrate 104 is transported into the ultraviolet cleaning device 20 by the transport roller 106, and the substrate 104 is transferred into the ultraviolet cleaning device 10. It rests on the support base 12.

【0039】その後に、モーター24の作動により、図
5において、基板104の右側端部104Rが洗浄装置
20の右側端部20Rに対応する位置まで移動し、基板
104の左側端部104Lが洗浄装置20の左側端部2
0Lに対応する位置まで移動するように、支持台22を
図5上矢印B方向に移動し、その際に紫外線ランプ・ユ
ニット14の紫外線ランプ110を点灯し、基板104
の表面領域Sに紫外線を照射して洗浄を行う。
Thereafter, the operation of the motor 24 causes the right end 104R of the substrate 104 to move to a position corresponding to the right end 20R of the cleaning device 20 in FIG. 20 left end 2
The support base 22 is moved in the direction indicated by the arrow B in FIG. 5 so as to move to the position corresponding to 0 L. At this time, the ultraviolet lamp 110 of the ultraviolet lamp unit 14 is turned on, and the substrate 104 is turned on.
The surface area S is irradiated with ultraviolet rays for cleaning.

【0040】なお、基板104の右側端部104Rが洗
浄装置20の右側端部20Rに対応する位置まで移動
し、基板104の左側端部104Lが洗浄装置20の左
側端部20Lに対応する位置まで移動するように、支持
台22を図5上矢印B方向に移動する際に、図5上矢印
B方向に往復移動させてもよい。
The right end 104R of the substrate 104 moves to a position corresponding to the right end 20R of the cleaning device 20, and the left end 104L of the substrate 104 moves to a position corresponding to the left end 20L of the cleaning device 20. When the support base 22 is moved in the direction of the arrow B in FIG. 5 so as to move, it may be reciprocated in the direction of the arrow B in FIG.

【0041】次に、図6を参照しながら、本発明による
紫外線洗浄装置の第3の実施の形態について説明する。
Next, a third embodiment of the ultraviolet ray cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0042】即ち、図6は、本発明による紫外線洗浄装
置の第3の実施の形態を示す概念的な上面概略構成説明
図であり、この紫外線洗浄装置30においては、搬送ロ
ーラー106によって搬送されてきた被洗浄物たる基板
104は、紫外線洗浄装置10内において支持手段たる
支持台32上で静止される。
That is, FIG. 6 is a conceptual schematic top view showing the construction of a third embodiment of the ultraviolet ray cleaning device according to the present invention. The substrate 104, which is the object to be cleaned, is stopped on the support table 32 as a support means in the ultraviolet cleaning apparatus 10.

【0043】そして、紫外線洗浄装置30内の基板10
4の上方には、1本の紫外線ランプ110から構成され
る紫外線ランプ・ユニット34が配設されている。
Then, the substrate 10 in the ultraviolet cleaning device 30 is
Above 4, an ultraviolet lamp unit 34 including one ultraviolet lamp 110 is provided.

【0044】この紫外線ランプ・ユニット34は、回転
手段たるモーター36の作動によって、紫外線ランプ・
ユニット34の中心部位を中心として、基板104の外
周縁104aにより区切られる表面領域Sに対して平行
かつ水平、即ち、図6上矢印C方向に回転可能に配設さ
れている。
The ultraviolet lamp unit 34 is operated by a motor 36 as a rotating means.
The unit 34 is arranged so as to be parallel and horizontal with respect to a surface area S delimited by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104, that is, rotatable in the direction of the arrow C in FIG.

【0045】なお、この実施の形態においては、紫外線
ランプ110としては、低圧水銀灯が用いられている。
In this embodiment, a low-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet lamp 110.

【0046】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
30により基板104の紫外線洗浄処理を行うには、搬
送ローラー106によって基板104を紫外線洗浄装置
30内に搬送し、基板104を紫外線洗浄装置30内に
おいて支持台32上で静止させ、その後に、紫外線ラン
プ・ユニット34の紫外線ランプ110を点灯する。
In the above configuration, in order to perform the ultraviolet cleaning process on the substrate 104 by the ultraviolet cleaning device 30, the substrate 104 is transported into the ultraviolet cleaning device 30 by the transport roller 106, and the substrate 104 is transferred into the ultraviolet cleaning device 30. After being stopped on the support 32, the ultraviolet lamp 110 of the ultraviolet lamp unit 34 is turned on.

【0047】そして、モーター36の作動によって、紫
外線ランプ・ユニット34を、図6上矢印C方向に回転
し、基板104の表面領域Sに紫外線を照射して洗浄を
行う。
Then, by the operation of the motor 36, the ultraviolet lamp unit 34 is rotated in the direction of arrow C in FIG. 6, and the surface area S of the substrate 104 is irradiated with ultraviolet light for cleaning.

【0048】次に、図7を参照しながら、本発明による
紫外線洗浄装置の第4の実施の形態について説明する。
Next, a fourth embodiment of the ultraviolet ray cleaning apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG.

【0049】即ち、図7は、本発明による紫外線洗浄装
置の第4の実施の形態を示す概念的な上面概略構成説明
図であり、この紫外線洗浄装置40においては、搬送ロ
ーラー106によって搬送されてきた被洗浄物たる基板
104は、紫外線洗浄装置40内において支持手段たる
支持台42上で静止される。
FIG. 7 is a schematic top view illustrating the construction of a fourth embodiment of an ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention. In the ultraviolet cleaning apparatus 40, the apparatus is conveyed by conveying rollers 106. The substrate 104, which is the object to be cleaned, is stopped on the support base 42 as support means in the ultraviolet cleaning apparatus 40.

【0050】そして、支持台42はモーター44の作動
によって、支持台42の中心部位を中心として、基板1
04の外周縁104aにより区切られる表面領域Sに対
して平行かつ水平に図7上矢印D方向に回転可能に配設
されている。
The support base 42 is driven by the motor 44 to move the substrate 1 around the center of the support base 42.
7 is rotatable in the direction of arrow D in FIG.

【0051】そして、紫外線洗浄装置40内の基板10
4の上方には、1本の紫外線ランプ110から構成され
る紫外線ランプ・ユニット46が固定的に配設されてい
る。
The substrate 10 in the ultraviolet cleaning device 40
Above 4, an ultraviolet lamp unit 46 composed of one ultraviolet lamp 110 is fixedly provided.

【0052】ここで、紫外線ランプ・ユニット46は、
図7において紫外線洗浄装置40内の上方略中央部に配
設されることが好ましい。
Here, the ultraviolet lamp unit 46 is
In FIG. 7, it is preferable to be provided at a substantially upper central portion in the ultraviolet cleaning device 40.

【0053】なお、この実施の形態においては、紫外線
ランプ110としては、低圧水銀灯が用いられている。
In this embodiment, a low-pressure mercury lamp is used as the ultraviolet lamp 110.

【0054】以上の構成において、この紫外線洗浄装置
40により基板104の紫外線洗浄処理を行うには、搬
送ローラー106によって基板104を紫外線洗浄装置
40内に搬送し、基板104を紫外線洗浄装置40内に
おいて支持台42上で静止させる。
In the above configuration, in order to perform the ultraviolet cleaning process on the substrate 104 by the ultraviolet cleaning device 40, the substrate 104 is transported into the ultraviolet cleaning device 40 by the transport roller 106, and the substrate 104 is transported in the ultraviolet cleaning device 40. It rests on the support base 42.

【0055】その後に、モーター44の作動により、図
7において、支持台42を図7上矢印D方向に回転す
る。
Thereafter, the support base 42 is rotated in the direction of arrow D in FIG. 7 by the operation of the motor 44 in FIG.

【0056】そして、この支持台42の図7上矢印D方
向の回転の際に、紫外線ランプ・ユニット46の紫外線
ランプ110を点灯し、基板104の表面領域Sに紫外
線を照射して洗浄を行う。
When the support table 42 rotates in the direction indicated by the arrow D in FIG. 7, the ultraviolet lamp 110 of the ultraviolet lamp unit 46 is turned on, and the surface area S of the substrate 104 is irradiated with ultraviolet light for cleaning. .

【0057】従って、上記した第1の実施の形態乃至第
4の実施の形態においては、いずれの実施の形態におい
ても、従来の紫外線照射装置と比較すると、基板104
の外周縁104aにより区切られる表面領域Sの寸法よ
りも小さな紫外線ランプ・ユニット14、26、34、
46を用いて、基板104の外周縁104aにより区切
られる表面領域Sの全面に紫外線を照射することができ
るようになり、紫外線ランプ・ユニット14、26、3
4、46を小型化することができるようになり、ひいて
は紫外線ランプ・ユニット14、26、34、46にお
いて使用する紫外線ランプ110の本数を従来に比して
低減することができ(特開平5−224167号公報に
開示された紫外線洗浄装置においては紫外線ランプ11
0を5本用いていたが、上記した第1の実施の形態乃至
第4の実施の形態においてはいずれも紫外線ランプ11
0を1本のみ用いている。)、電力消費量を低下するこ
とができる。
Therefore, in each of the above-described first to fourth embodiments, the substrate 104 has a larger thickness than the conventional ultraviolet irradiation apparatus.
UV lamp units 14, 26, 34, smaller than the dimension of the surface area S delimited by the outer peripheral edge 104a of
With the use of 46, the entire surface region S delimited by the outer peripheral edge 104a of the substrate 104 can be irradiated with ultraviolet rays, and the ultraviolet lamp units 14, 26, 3
4 and 46 can be reduced in size, and the number of ultraviolet lamps 110 used in the ultraviolet lamp units 14, 26, 34 and 46 can be reduced as compared with the prior art (Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei. In the ultraviolet cleaning apparatus disclosed in Japanese Patent Application Publication No.
5 are used, but in each of the first to fourth embodiments, the ultraviolet lamp 11 is used.
Only 0 is used. ), The power consumption can be reduced.

【0058】なお、上記した第1の実施の形態乃至第4
の実施の形態は、各実施の形態を適宜組み合わせてもよ
い。例えば、第1の実施の形態と第2の実施の形態とを
組み合わせて、紫外線ランプ・ユニットと支持台との双
方を移動させるようにしてもよく、また、第3の実施の
形態と第4の実施の形態とを組み合わせて、紫外線ラン
プ・ユニットと支持台との双方を回転させるようにして
もよい。さらに、第1の実施の形態と第4の実施の形態
とを組み合わせて、紫外線ランプ・ユニットを移動させ
るとともに支持台を回転させるようにしたり、また、第
2の実施の形態と第3の実施の形態とを組み合わせて、
紫外線ランプ・ユニットを回転させるとともに支持台を
移動させるようにしてもよい。
It should be noted that the first to fourth embodiments described above.
The embodiments may be appropriately combined with each other. For example, the first embodiment and the second embodiment may be combined to move both the ultraviolet lamp unit and the support, and the third embodiment and the fourth embodiment may be combined. In combination with the above embodiment, both the ultraviolet lamp unit and the support base may be rotated. Further, the first embodiment and the fourth embodiment are combined to move the ultraviolet lamp unit and rotate the support table, or to combine the second embodiment and the third embodiment. Combine with the form of
The support table may be moved while rotating the ultraviolet lamp unit.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、紫外線ランプ・ユニットの大きさ、ひいて
は紫外線ランプ・ユニットに使用される紫外線ランプの
本数が処理しようとする基板の外周縁により区切られる
表面領域の寸法に依存することがなく、従来の紫外線洗
浄装置に比して紫外線ランプ・ユニットの大きさを小型
化し、ひいては紫外線ランプ・ユニットに使用される紫
外線ランプの本数を低減させて電力消費量を低下するこ
とのできるという優れた効果を奏する。
Since the present invention is constructed as described above, the size of the ultraviolet lamp unit and, consequently, the number of ultraviolet lamps used in the ultraviolet lamp unit are determined by the outer peripheral edge of the substrate to be processed. Irrespective of the size of the surface area delimited by the above, the size of the UV lamp unit can be reduced compared to the conventional UV cleaning device, and thus the number of UV lamps used in the UV lamp unit can be reduced. Thus, an excellent effect that power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】特開平5−224167号公報に開示された紫
外線洗浄装置を含む洗浄装置の概念的な側面概略構成説
明図である。
FIG. 1 is a schematic side view schematically illustrating the configuration of a cleaning apparatus including an ultraviolet cleaning apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-224167.

【図2】図1に示す紫外線洗浄装置の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the ultraviolet cleaning device shown in FIG.

【図3】基板の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a substrate.

【図4】本発明による紫外線洗浄装置の第1の実施の形
態を示す図2に対応する概念的な側面概略構成説明図で
ある。
FIG. 4 is a conceptual side view schematic configuration explanatory view corresponding to FIG. 2 and showing a first embodiment of the ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention.

【図5】本発明による紫外線洗浄装置の第2の実施の形
態を示す図2に対応する概念的な側面概略構成説明図で
ある。
FIG. 5 is a conceptual side view schematic configuration explanatory view corresponding to FIG. 2 and showing a second embodiment of the ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention.

【図6】本発明による紫外線洗浄装置の第3の実施の形
態を示す概念的な上面概略構成説明図である。
FIG. 6 is a conceptual top schematic configuration view showing a third embodiment of the ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention.

【図7】本発明による紫外線洗浄装置の第4の実施の形
態を示す概念的な上面概略構成説明図である。
FIG. 7 is a schematic top schematic configuration view showing a fourth embodiment of the ultraviolet cleaning apparatus according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20、30、40 紫外線洗浄装置 12、22、32、42 支持台 14、26、34、46 紫外線ランプ・ユニッ
ト 16、24、36、44 モーター 104 基板 110 紫外線ランプ
10, 20, 30, 40 UV cleaning device 12, 22, 32, 42 Support 14, 26, 34, 46 UV lamp unit 16, 24, 36, 44 Motor 104 Substrate 110 UV lamp

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に配置されるとともに、前記支持手段に支
持された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動可
能に配設され、かつ、全体の寸法が前記支持手段に支持
された被洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ
・ユニットと、 前記紫外線ランプ・ユニットを前記支持手段に支持され
た被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動させる移
動手段とを有する紫外線洗浄装置。
1. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to a surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means, at least one or more ultraviolet lamps, arranged above the supporting means, and arranged to be movable in parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means. And an ultraviolet lamp unit whose overall size is smaller than the dimension of the surface of the object to be cleaned supported by the support means, and the ultraviolet lamp unit is mounted on the surface of the object to be cleaned supported by the support means. And a moving means for moving in parallel and horizontally.
【請求項2】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 前記支持手段を、前記支持手段に支持された被洗浄物の
表面に対して平行かつ水平に移動させる移動手段と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に固定的に配置され、かつ、全体の寸法が
前記支持手段に支持された被洗浄物の表面の寸法よりも
小さい紫外線ランプ・ユニットとを有する紫外線洗浄装
置。
2. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means, moving means for moving the supporting means in parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means, and at least one or more ultraviolet lamps, An ultraviolet lamp unit fixedly disposed and having an ultraviolet lamp unit whose overall size is smaller than the size of the surface of the object to be cleaned supported by the support means;
【請求項3】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 前記支持手段を、前記支持手段に支持された被洗浄物の
表面に対して平行かつ水平に移動させる第1の移動手段
と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に配置されるとともに、前記支持手段に支
持された被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動可
能に配設され、かつ、全体の寸法が前記支持手段に支持
された被洗浄物の表面の寸法よりも小さい紫外線ランプ
・ユニットと、 前記紫外線ランプ・ユニットを前記支持手段に支持され
た被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に移動させる第
2の移動手段とを有する紫外線洗浄装置。
3. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances adhered to a surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means for moving the support means in parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the support means; and at least one ultraviolet lamp; The object to be cleaned, which is arranged above and is movable parallel and horizontal to the surface of the object to be cleaned supported by the support means, and has an overall size supported by the support means. An ultraviolet lamp unit smaller than the size of the surface of the object; and a second movement for moving the ultraviolet lamp unit parallel and horizontally with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the support means. Ultraviolet cleaning device having a means.
【請求項4】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に配置されるとともに、中心部位を中心と
して、前記支持手段に支持された被洗浄物の表面に対し
て平行かつ水平に回転可能に配設され、かつ、全体の寸
法が前記支持手段に支持された被洗浄物の表面の寸法よ
りも小さい紫外線ランプ・ユニットと、 前記紫外線ランプ・ユニットを前記支持手段に支持され
た被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転させる回
転手段とを有する紫外線洗浄装置。
4. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means, at least one or more ultraviolet lamps, disposed above the support means, and parallel and horizontal with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the support means, with a central portion as the center. An ultraviolet lamp unit rotatably disposed and having an overall size smaller than a dimension of a surface of the object to be cleaned supported by the support means; and an ultraviolet lamp unit supporting the ultraviolet lamp unit by the support means. A rotating means for rotating horizontally and parallel to the surface of the object to be cleaned;
【請求項5】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 前記支持手段を、前記支持手段の中心部位を中心とし
て、前記支持手段に支持された被洗浄物の表面に対して
平行かつ水平に回転させる回転手段と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に固定的に配置され、かつ、全体の寸法が
前記支持手段に支持された被洗浄物の表面の寸法よりも
小さい紫外線ランプ・ユニットとを有する紫外線洗浄装
置。
5. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances attached to the surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means, rotating means for rotating the supporting means parallel to and horizontally with respect to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means around a central portion of the supporting means; and at least one or more ultraviolet lamps. An ultraviolet lamp unit comprising: an ultraviolet lamp unit fixedly disposed above the support means and having an overall size smaller than a dimension of a surface of the object to be cleaned supported by the support means.
【請求項6】 紫外線の照射により生成される酸化エネ
ルギーと光子エネルギーとを利用して、被洗浄物の表面
に付着した有機物を除去する紫外線洗浄装置において、 被洗浄物を静止状態で支持する支持手段と、 前記支持手段を、前記支持手段の中心部位を中心とし
て、前記支持手段に支持された被洗浄物の表面に対して
平行かつ水平に回転させる第1の回転手段と、 少なくとも1以上の紫外線ランプを備えてなり、前記支
持手段の上方に配置されるとともに、中心部位を中心と
して、前記支持手段に支持された被洗浄物の表面に対し
て平行かつ水平に回転可能に配設され、かつ、全体の寸
法が前記支持手段に支持された被洗浄物の表面の寸法よ
りも小さい紫外線ランプ・ユニットと、 前記紫外線ランプ・ユニットを前記支持手段に支持され
た被洗浄物の表面に対して平行かつ水平に回転させる第
2の回転手段とを有する紫外線洗浄装置。
6. An ultraviolet cleaning apparatus for removing organic substances adhered to a surface of an object to be cleaned by utilizing oxidation energy and photon energy generated by irradiation of ultraviolet light, wherein the apparatus supports the object to be cleaned in a stationary state. Means, first rotating means for rotating the supporting means in parallel and horizontal to the surface of the object to be cleaned supported by the supporting means, about a central portion of the supporting means, at least one or more An ultraviolet lamp is provided, and is disposed above the support means, and is disposed so as to be rotatable in parallel and horizontal with respect to a surface of the object to be cleaned supported by the support means, with a center portion as a center, And an ultraviolet lamp unit whose overall size is smaller than the size of the surface of the object to be cleaned supported by the support means; and the ultraviolet lamp unit supported by the support means. Ultraviolet cleaning device and a second rotating means for rotating parallel and horizontal to the surface of the object to be cleaned was.
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