JP2000105367A - 液晶装置、その製造方法及び電子機器 - Google Patents

液晶装置、その製造方法及び電子機器

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JP2000105367A
JP2000105367A JP10276226A JP27622698A JP2000105367A JP 2000105367 A JP2000105367 A JP 2000105367A JP 10276226 A JP10276226 A JP 10276226A JP 27622698 A JP27622698 A JP 27622698A JP 2000105367 A JP2000105367 A JP 2000105367A
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scattering
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Eiji Chino
英治 千野
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Seiko Epson Corp
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    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
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    • G02F1/133553Reflecting elements

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  • Liquid Crystal (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】散乱機能が良好であり、液晶層の厚みが均一な
反射型液晶装置を実現する。 【解決手段】下側基板2の液晶3側の面には凹凸が形成
された反射層8を有する液晶装置であり、反射層8上に
は、液晶3側の面が概ね平坦面である散乱層9が形成さ
れている。さらには、散乱層9上には液晶を駆動するた
めの信号が供給される透明電極7が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置にかかわ
り、特に、液晶パネルの内側に反射層を有する反射型の
液晶装置およびその製造方法に関する。
【0002】
【背景の技術】現在、反射型液晶装置は消費電力が小さ
いために携帯機器や装置の付属的表示部などに多用され
ている。
【0003】現在多く採用されている反射型液晶装置
は、図5に示すような構成である。すなわち、液晶パネ
ルの上側に偏光板51を設け、下側には偏光板52及び
反射板53を設けるというものである。ところが、この
ような反射型液晶装置にあっては、液晶層54と反射板
53の間に基板55が介在してしまうため、基板厚みに
起因する視差あるいは二重映りが生じてしまう そこで、近年にあっては液晶パネル内面に反射電極層を
設けた液晶装置が用いられはじめている。このような液
晶パネルの内面に反射電極層を設けた反射型液晶装置に
あっては、液晶を駆動するための信号を印加する電極を
金属電極とし、その金属電極を反射板として機能させる
ことにより、液晶層と反射層との距離をなくして、視差
あるいは二重映りを防止している。
【0004】ところで、一般に用いられている反射型の
液晶装置にあっては、反射板によって反射された光を散
乱させる必要がある。なぜならば反射光が鏡面反射状態
のまま観察者側に出射すると、特定の視野角以外の表示
が暗くなったり、また、表示がかがみのようになり見に
くくなるからである。
【0005】上述した液晶パネル内面に反射電極層を設
けるタイプの反射型液晶放置にあっては、反射光を散乱
光にするために反射板に凹凸を設けたり(特開平8ー9
5051、7ー199166などを参照)あるいは、基
板と偏光板との間に散乱板を設けたりしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述した従
来の液晶装置は反射電極に凹凸を設けているために、液
晶層のギャップにむらが生じてしまい表示のコントラス
トに悪影響を及ぼしてしまう。
【0007】反射電極上に透明な絶縁膜を塗布すること
によってこのギャップむらはある程度解決することがで
きるが、そのようにすると凹凸状反射電極の拡散機能が
著しく低下してしまう。
【0008】さらには、液晶と反射電極との間に絶縁膜
が介在することになるので液晶の駆動電圧を上げる必要
性が生じてくる。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が講じた手段は、以下の通りである。
【0010】本発明の液晶装置は、対向配置した一対の
基板間に液晶を狭持しており、一方の前記基板の前記液
晶側の面には凹凸が形成された反射面を有する液晶装置
であって、前記反射層上には、前記液晶側の面が概ね平
坦面である散乱層が形成されている。
【0011】散乱層としては、互いに溶解しあわず、か
つ屈折率が異なる2種類以上の透明性物質を含有する散
乱層を使用する。たとえば、高分子樹脂を主成分とし、
かつ高分子樹脂と屈折率の異なる粒子を含有する散乱層
を用いればよい。さらに具体的には、アクリル樹脂の中
に、ポリスチレン、ポリカーボネート、ナイロンなどの
粒子を混入させた高分子樹脂体をスピンコート法によっ
て、反射層上に塗布すれば液晶側の面が概ね平坦面であ
る散乱層が形成される。
【0012】液晶パネルに入射する外光は液晶層を通過
した後、散乱層に入射する。そして散乱層によって散乱
されつつ反射層に入射し、反射層の凹凸によってさらに
散乱されて再び散乱層に入射する。そして散乱層にて散
乱されつつ再び液晶層に入射し透過する。このとき液晶
とき液晶層への印加電圧によって明状態と暗状態、およ
びその中間の明るさを制御する。
【0013】本発明によれば、反射層の凹凸によって散
乱された光が、散乱層において再び散乱されるので散乱
機能が低下しない、。また、散乱層の液晶側の面が概ね
平坦となっているために、液晶層の厚みが均一となりコ
ントラスト特性の低下が防止できる。
【0014】また、前記散乱層上には前記液晶を駆動す
るための信号が印加される透明電極が形成されていると
好ましい。
【0015】凹凸を有する反射電極に信号を印加する場
合には、電極の凹凸が液晶層にかかる電解に悪影響を及
ぼすことがあるが、平たんな散乱層上に形成した透明電
極は当然のことながら表面が平たんであるので、電極凹
凸に起因する電解の乱れが生じない。したがって、表示
むらのない反射型の液晶装置が実現できる。
【0016】本発明の液晶装置の製造方法は、対向配置
した一対の基板間に液晶を狭持しており、一方の前記基
板の前記液晶側の面には凹凸が形成された反射層を有す
る液晶装置の製造方法であって、前記反射層上に、散乱
層を、前記液晶側の面が概ね平坦となるように形成する
工程を含むことを特徴とする。
【0017】散乱層としては、上述した散乱層を用い
る。平坦に形成するためには、スピンコート、スクリー
ン印刷などによって、混合物を基板上に塗布して散乱層
を形成すればよい。
【0018】また、前記散乱層上に、前記液晶を駆動す
るための信号が印加される透明電極を形成する工程をさ
らに有すると好ましい。透明電極としては、ITO(イ
ンジウム酸化物とスズ酸化物との混合物)などをスパッ
タなどによって散乱層上に形成すればよい。
【0019】また、本発明の電子機器は、液晶装置をそ
の表示部として備える電子機器であって、前記液晶装置
は、対向配置した一対の基板間に液晶を狭持しており、
一方の前記基板の前記液晶側の面には凹凸が形成された
反射層を有し、前記反射層上には、前記液晶側の面が概
ね平坦である散乱層が形成されている液晶装置であるこ
とを特徴とする。
【0020】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
にかかる実施形態について説明する。
【0021】(第1の実施の形態)図1は本発明にかか
わる液晶装置の第1の実施の形態の構造を示す図であ
る。この実施形態は基本的に単純マトリクス型の液晶表
示装置に関するものであるが、同様の構成によりアクテ
ィブマトリクス型の装置や他のセグメント型の装置、そ
の他の液晶装置にも適用することは可能である。
【0022】この実施形態では、2枚の透明基板1、2
の間に液晶層3が枠状のシール材によって封止された液
晶パネルが形成されている。液晶層3は、所定のツイス
ト角を持つネマチック液晶で構成されている。前方の透
明基板1の内面上にはカラーフィルター5が形成され、
このカラーフィルター5はR(赤)、G(緑)、および
B(青)の3色の着色層が所定のパターンで配列されて
いる。カラーフィルター5の表面上には透明な保護膜4
が被覆されており、この保護膜の表面上に複数のストラ
イプ状の透明電極6がITOなどにより形成されてい
る。透明電極6の表面上には配向膜10が形成され、所
定方向にラビング処理が施されている。
【0023】一方、後方の透明基板2の内面上には粗面
化処理が施されており、凹凸形状となっている。粗面化
処理は、サンドブラスト処理、サンドブラスト処理後の
フッ酸などによるエッチング処理などにより行う。
【0024】粗面化された基板上には、アルミニウムか
らなる反射層8が蒸着法により50〜300nmの厚み
で形成されている。基板が凹凸状になっているため、基
板上に蒸着される反射層8表面も凹凸形状となる。反射
層8としてはアルミニウム、あるいはアルミニウム合金
を用いると好ましいが、銀、クロムなどの他の金属、合
金でも代用可能である。
【0025】反射層8上にはスピンコート法によってア
クリル樹脂中に、ポリスチレン、ポリカーボネート、ナ
イロンなどの粒子を混在させて散乱層9が0.1〜5μ
mの厚みで塗布されている。なお、散乱層9の表面は、
ポリシラザン、アクリルなどの塗布による処理を施すこ
とによって平坦化してもよい。
【0026】散乱層9上には、上記カラーフィルター5
の着色層毎に形成されたストライプ状の透明電極7が上
記透明電極6と交差する用に複数配列されている。そし
て、透明電極7及び絶縁層9の表面上には上記と同様の
配向膜が形成される。
【0027】なお、前方の透明基板1の外面上には偏光
板11が配置され、偏光板11と透明基板1との間に位
相差板13が配置されている。
【0028】表示原理について説明する。外光は図1に
おける偏光板11、位相差板13、カラーフィルター5
をそれぞれ通過し、液晶層3および透明電極7を通過
後、散乱層9によって散乱されつつ散乱層9を透過し、
凹凸を有する反射層8によって散乱反射される。そし
て、再び散乱層によって散乱されつつ散乱層を透過す
る。そして透明電極8および液晶層3を通過し、偏光板
11から出射される。この時、液晶層3への印加電圧に
応じて、明状態と暗状態、およびその中間の明るさを制
御する。
【0029】(第2の実施の形態)本発明は、アクティ
ブマトリクス型の液晶装置に応用できる。
【0030】図2は、本実施例の形態をアクティブマト
リクス型の液晶装置に応用する場合の断面図を示し、特
に、TFT素子を利用した場合の構成を示す。図2にお
いて、基板21上にはITOからなる透明電極22(画
素電極)に接続されたTFT素子20が設けられてい
る。アルミニウムーネオジウム(Nd3wt%)合金か
らなる反射層26は、透明基板21上に形成した層間絶
縁膜23上に形成されている。反射層28上には、第1
の実施の形態と同様にして形成した散乱層9が設けられ
ている。散乱層9上にはドレイン電極25に接続された
透明電極24が形成されている。その他の構成について
は第1の実施の形態と同様であるのでここではその説明
を省略する。
【0031】本実施の形態によれば、散乱特性が良好な
明るいTFT液晶パネルが実現する。
【0032】(第3の実施の形態)図3は、本実施の形
態をアクティブマトリクス型の液晶装置に応用する場合
の素子断面図を示し、特には、TFDあるいはMIM素
子に代表される2端子素子を利用した場合の構成を示
す。
【0033】図3において、基板31上にはタンタルか
らなる第1の導電層32が形成されており、第1の導電
層32上にはタンタルを陽極酸化して得た絶縁層33が
形成されている。絶縁層33上にはクロムからなる第2
の導電層32bが形成されている。また、粗面化処理さ
れた基板31上に形成された凹凸状の反射層34上に
は、第1の実施の形態と同様の方法で形成した散乱層9
が形成されている。散乱層9上に形成された透明電極
(画素電極)35は、第2の導電層33bに接続されて
いる。反射層34は、透明電極35の下側対応位置に設
けられている。
【0034】他の構成については第1の実施の形態と同
様であるのでここではその説明は省略する。
【0035】本実施の形態によれば散乱特性が良好な明
るいTFDパネルが実現する。
【0036】(第4の実施の形態)本発明の電子機器の
例を図4(a)〜(c)に3つ示す。
【0037】図4(a)は携帯電話であり、本体41の
前方上方部に表示部42が設けられる。表示部42とし
ては第1ないし第3の実施の形態で紹介したいずれの液
晶装置も使用可能である。
【0038】図4(b)は腕時計であり、本体43の中
央に表示部44が設けられている。表示部44としては
第1ないし第3の実施の形態で紹介したいずれの液晶装
置も使用可能である。
【0039】図4(c)は携帯情報機器であり、本体4
5の上部に表示部46、下部に入力部47が設けられて
いる。表示部46としては第1ないし第3の実施の形態
で紹介したいずれの液晶装置も使用可能である。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、反
射層の凹凸によって散乱された光が、散乱層において再
び散乱されるので散乱機能が低下しない。また、散乱層
の液晶側の面が概ね平坦となっているために、液晶層の
厚みが均一となりコントラスト特性の低下が防止でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における液晶装置の一例の断面図を示す
図である。
【図2】本発明を、TFT素子を使用した液晶装置に応
用する場合の断面図である。
【図3】本発明を、TFD素子を使用した液晶装置に応
用する場合の断面図である。
【図4】本発明の液晶措置を搭載した電子機器の例を示
す図であり、(a)は携帯電話、(b)は腕時計、
(c)は携帯情報機器を示す。
【図5】従来の液晶装置の断面図である。
【符号の説明】
1、2、21、31・・・透明基板 3・・・液晶層 5・・・カラーフィルタ 6、7、24、35・・・透明電極 8、26、34・・・反射層 9・・・散乱層
フロントページの続き Fターム(参考) 2H042 BA02 BA03 BA15 BA20 DA02 DA03 DA04 DC02 DE00 2H091 FA02Y FA11Z FA16Z FA31Z FB02 FB08 FB12 FC12 FC25 FC26 GA13 HA07 LA17 2H092 JA03 JA24 MA10 MA17 MA22 MA37 NA01 PA08 PA10 PA11 PA12 QA07

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】対向配置した一対の基板間に液晶を狭持し
    ており、一方の前記基板の前期液晶側の面には凹凸が形
    成された反射層を有する液晶装置であって、 前記反射層上には、前記液晶側の面が概ね平坦面である
    散乱層が形成されていることを特徴とする液晶装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の液晶装置であって、 前記散乱層は互いに溶解せず、かつ互いに屈折率が異な
    る少なくとも2種類の透明性物質を含有することを特徴
    とする液晶装置。
  3. 【請求項3】請求項2に記載の液晶装置であって、 前記散乱層は高分子樹脂を主成分としており、前記高分
    子樹脂と屈折率の異なる粒子を含有することを特徴とす
    る液晶装置。
  4. 【請求項4】請求項1に記載の液晶装置であって、 前記散乱層上には前記液晶を駆動するための信号が印加
    される透明電極が形成されていることを特徴とする液晶
    装置。
  5. 【請求項5】対向配置した一対の基板間に液晶を狭持し
    ており、一方の前記基板の前記液晶側の面には凹凸が形
    成された反射層を有する液晶装置の製造方法であって、 前記反射層上に、散乱層を、前記液晶側の面が概ね平坦
    となるように形成する工程を含むことを特徴とする液晶
    装置の製造方法。
  6. 【請求項6】請求項5に記載の液晶装置の製造方法であ
    って、 前記散乱層上に、前記液晶を駆動するための信号が印加
    される透明電極を形成する工程をさらに有することを特
    徴とする液晶装置の製造方法。
  7. 【請求項7】液晶装置をその表示部として備える電子機
    器であって、 前記液晶装置は、対向は位置した一対の基板間に液晶を
    狭持しており、一方の前記基板の前記液晶側の面には凹
    凸が形成された反射層を有し、前記反射層上には、前記
    液晶側の面が概ね平坦面である散乱層が形成されている
    液晶装置であることを特徴とする電子機器。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7123325B2 (en) 2001-03-29 2006-10-17 Nec Lcd Technologies, Ltd Liquid crystal display panel having reflection electrodes improved in smooth surface morphology and process for fabrication thereof

Cited By (3)

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