JP2000104008A

JP2000104008A - 耐候性に優れた被覆組成物

Info

Publication number: JP2000104008A
Application number: JP10275228A
Authority: JP
Inventors: Akira Nakabayashi; 亮中林
Original assignee: Asahi Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Asahi Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 1998-09-29
Filing date: 1998-09-29
Publication date: 2000-04-11

Abstract

(57)【要約】【課題】耐候性、耐久性に優れた塗膜を形成し得る高
耐久性の被覆組成物を提供する。【解決手段】ヒドラジン残基を有する光安定剤および
／又はヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤と、ポリカ
ルボニル化合物及び／又はポリエポキシ化合物を含有す
る被覆組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、耐候性に優れた被
覆組成物に関し、該被覆組成物は、塗料、建材の下地処
理材又は仕上げ材、接着剤、紙加工剤、または織布、不
織布の仕上げ剤等として有用である。さらに、具体的に
は、ヒドラジン残基を有する光安定剤および／又はヒド
ラジン残基を有する紫外線吸収剤とポリカルボニル化合
物及び／又はポリエポキシ化合物を含有する被覆組成物
を用いたクリアーコート剤、トップコート剤、塗料、ア
ンダーコート剤、布や紙の含浸剤、接着剤等として各種
用途に利用することができる優れた被覆組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、コーティング分野においてメンテ
ナンスフリーを目的とした塗膜の耐候性の向上が強く望
まれている。例えば、乳化重合により得られるアクリル
系エマルジョンは、常温あるいは加熱下で乾燥形成した
被膜が比較的良好な耐久性を示すことから、水性塗料用
の樹脂として多く用いられているが、屋外や紫外線に長
期間曝露された場合には、艶の低下、変色、膨れなど変
質の問題があり、その改良が強く望まれている。

【０００３】この課題に対し、耐久性を改善する手段と
してアクリル系エマルジョンに紫外線吸収剤や光安定剤
を用いる方法が提案されている。例えば特開平３−３７
２８８号公報と特開平４−２９８５７３号公報にはアク
リル系エマルジョンに紫外線吸収剤および／または光安
定剤を後添加する方法、特開昭６４−２０２０１号公報
と特開平７−２９２００９号公報には紫外線吸収剤を乳
化重合中に添加する方法等が提案されているが、このよ
うな方法を使用した場合、長期間の屋外曝露では雨水や
結露水により紫外線吸収剤と光安定剤が流出してしまう
ためか、耐久性や耐水性が不十分であった。

【０００４】

【発明が解決が解決しようとする課題】本発明は、耐候
性、耐久性に優れた塗膜を形成し得る高耐久性の被覆組
成物を提供することを目的とするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】発明者らは上記課題を解
決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。即ち本
発明は、ヒドラジン残基を有する光安定剤および／又は
ヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤とポリカルボニル
化合物及び／又はポリエポキシ化合物を含有する被覆組
成物である。

【０００６】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいてヒドラジン残基とは、式（１）で表される基を意
味する。

【０００７】

【化１】

【０００８】（式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜２
０のアルキル基を表す。）本発明における上記ヒドラジ
ン残基を有する光安定剤としては、ヒドラジン残基を有
するヒンダードフェノール誘導体、ヒドラジン残基を有
するヒンダードアミン誘導体等が挙げられる。また、本
発明における上記ヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤
としては、ヒドラジン残基を有するベンゾフェノン誘導
体、ヒドラジン残基を有するベンゾトリアゾール誘導
体、ヒドラジン残基を有するトリアジン誘導体等が挙げ
られる。

【０００９】これらヒドラジン残基を有する光安定剤お
よびヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤の中で、耐候
性の向上効果の点からヒドラジン残基を有するヒンダー
ドフェノール誘導体および／又はヒドラジン残基を有す
るヒンダードアミン誘導体が好ましい。上記ヒドラジン
残基を有するヒンダードフェノール誘導体としては、例
えば３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼン
プロピオン酸ヒドラジド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ安息香酸ヒドラジド、３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンゼン酢酸ヒドラジド等が挙げ
られる。

【００１０】また、上記ヒドラジン残基を有するヒンダ
ードアミン誘導体しては、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）−Ｎ’−アミノオキサミ
ド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジニル）−Ｎ’−アミノオキサミド、Ｎ−（１−ベ
ンジル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）−Ｎ’−アミノオキサミド、Ｎ−（１−ベンゾイ
ル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル）−Ｎ’−アミノオキサミド、Ｎ−（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジニル）−Ｎ’−アミノテ
レフタルアミド、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジニル）−Ｎ’−アミノグルタルアミド、
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル）−Ｎ’−アミノアジパミド、Ｎ−（１−アセチル−
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）−
Ｎ’−アミノオキサミド、Ｎ−（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジニル）−Ｎ’−アミノマロンア
ミド、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジニル）−Ｎ−ブチル−Ｎ’−アミノオキサミド、
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（Ｎ−（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジニル）オキサミド酸ヒド
ラジド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（Ｎ−（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）スクシ
ンアミド酸ヒドラジド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビ
ス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）マロンアミド酸ヒドラジド）、Ｎ，Ｎ’−ヘキ
サメチレンビス（Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジニル）アジパミド酸ヒドラジド）等が挙
げられる。

【００１１】本発明のヒドラジン誘導体組成物は、水性
媒体中への分散安定性や溶解性を補助する目的で、界面
活性剤を併用しても良い。上記界面活性剤としては、例
えば、高級脂肪酸、樹脂酸、酸性脂肪アルコール、硫酸
エステル、高級アルキルスルフォン酸、スルフォン酸ア
ルキルアリル、スルフォン化ひまし油、スルフォこはく
酸エステル、アルケニルコハク酸等の塩に代表されるア
ニオン性界面活性剤、あるいはエチレンオキサイドと長
鎖脂肪アルコールまたはフェノール類、リン酸類との公
知の反応生成物に代表されるノニオン性界面活性剤、４
級アンモニウム塩等を含有するカチオン性界面活性剤、
（部分鹸化）ポリビニルアルコール等の高分子分散安定
剤等やそれらの併用が挙げられる。

【００１２】本発明の被覆組成物は、上記ヒドラジン残
基を有する光安定剤および／又はヒドラジン残基を有す
る紫外線吸収剤と、ポリカルボニル化合物及び／又はポ
リエポキシ化合物を含んでなる。ヒドラジン残基を有す
る光安定剤および／又はヒドラジン残基を有する紫外線
吸収剤とポリカルボニル化合物との被覆組成物では、ヒ
ドラジン残基とカルボニル基の脱水縮合反応により、光
安定剤および／又は紫外線吸収剤がポリカルボニル化合
物に化学的に固定され優れた耐候性を発揮する。

【００１３】ヒドラジン残基を有する光安定剤および／
又はヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤とポリエポキ
シ化合物との被覆組成物では、ヒドラジン残基とエポキ
シ基の付加反応により、光安定剤および／又は紫外線吸
収剤がポリエポキシ化合物に化学的に固定され優れた耐
候性を発揮する。該被覆組成物のうち、ヒドラジン残基
を有する光安定剤および／又はヒドラジン残基を有する
紫外線吸収剤とポリカルボニル化合物との組み合わせ
は、ヒドラジン残基とカルボニル基の反応制御が容易で
あり、貯蔵安定性が非常に優れる上、耐候性に優れた皮
膜を比較的低温で与えることができるため特に好まし
い。

【００１４】上記ポリカルボニル化合物としては、例え
ばカルボニル基を含有する共重合体、特開平２−２３８
０１５号公報に記載されているがごときヒドロキシアセ
トン等のカルボニル基のあるモノまたはポリアルコール
を原料とするカルボニル基含有ポリウレタン類、アセト
アセチル化ポリビニルアルコール、特開平９−３２４０
９５号公報に記載されているがごとき側鎖にジアセトン
基を有するポリビニルアルコール系樹脂、アセトアセチ
ル化ヒドロキシアルキルセルロース等、及びこれらの併
用が挙げられる。

【００１５】これらの中で好ましいポリカルボニル化合
物は、カルボニル基含有エチレン性不飽和単量体（イ）
と、該単量体（イ）と共重合可能なエチレン性不飽和単
量体（ロ）とを共重合することによって得られるカルボ
ニル基を含有する共重合体であり、さらに好ましくはポ
リカルボニル化合物が、カルボニル基含有エチレン性不
飽和単量体（イ）０．１〜３０重量％と、該単量体
（イ）と共重合可能なエチレン性不飽和単量体（ロ）７
０〜９９．９重量％とを共重合することによって得られ
るカルボニル基を含有する共重合体である。

【００１６】カルボニル基含有エチレン性不飽和単量体
（イ）としては、ダイアセトンアクリルアミド、ダイア
セトンメタクリルアミド、アクロレイン、ビニルメチル
ケトン、アセトアセトキシエチルメタクリレート、アセ
トアセトキシエチルアクリレート、ホルミルスチロール
等や、その併用が挙げられる。単量体（イ）と共重合可
能なエチレン性不飽和単量体（ロ）としては、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、カルボキシル基を
持つエチレン性不飽和単量体類、エポキシ基を持つエチ
レン性不飽和単量体類、アクリルアミド系単量体、メタ
クリルアミド系単量体、シアン化ビニル類等が挙げら
れ、（メタ）アクリル酸エステルの例としては、アルキ
ル部の炭素数が１〜１８の（メタ）アクリル酸アルキル
エステル、アルキル部の炭素数が１〜１８の（メタ）ア
クリル酸ヒドロキシアルキルエステル、エチレンオキサ
イド基の数が１〜１００個の（ポリ）オキシエチレン
（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド基の数が
１〜１００個の（ポリ）オキシプロピレン（メタ）アク
リレート、エチレンオキサイド基の数が１〜１００個の
（ポリ）オキシエチレンジ（メタ）アクリレート等が挙
げられる。（メタ）アクリル酸エステルの具体例として
は、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エ
チル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリ
ル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸メチルシ
クロヘキシル、（メタ）アクリル酸ドデシル等が挙げら
れる。（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル
の具体例としては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシ
エチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシシクロヘキシル、
（メタ）アクリル酸ドデシル等が挙げられる。（ポリ）
オキシエチレン（メタ）アクリレートの具体例として
は、（メタ）アクリル酸エチレングリコール、メトキシ
（メタ）アクリル酸エチレングリコール、（メタ）アク
リル酸ジエチレングリコール、メトキシ（メタ）アクリ
ル酸ジエチレングリコール、（メタ）アクリル酸テトラ
エチレングリコール、メトキシ（メタ）アクリル酸テト
ラエチレングリコール等が挙げられる。（ポリ）オキシ
プロピレン（メタ）アクリレートの具体例としては、
（メタ）アクリル酸プロピレングリコール、メトキシ
（メタ）アクリル酸プロピレングリコール、（メタ）ア
クリル酸ジプロピレングリコール、メトキシ（メタ）ア
クリル酸ジプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸
テトラプロピレングリコール、メトキシ（メタ）アクリ
ル酸テトラプロピレングリコール等が挙げられる。（ポ
リ）オキシエチレンジ（メタ）アクリレートの具体例と
しては、ジ（メタ）アクリル酸エチレングリコール、ジ
（メタ）アクリル酸ジエチレングリコール、メトキシ
（メタ）アクリル酸ジエチレングリコール、ジ（メタ）
アクリル酸テトラエチレングリコール等が挙げられる。

【００１７】カルボキシル基を持つエチレン性不飽和単
量体類として具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、
イタコン酸、フマール酸、マレイン酸、マレイン酸の半
エステル、クロトン酸などがあり、（メタ）アクリルア
ミド系単量体類としては、例えば（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブト
キシメチル（メタ）アクリルアミドなどがあり、シアン
化ビニル類としては、例えば（メタ）アクリロニトリル
などがある。

【００１８】エポキシ基を持つエチレン性不飽和単量体
類として具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジル、
（メタ）アクリル酸２，３−シクロヘキセンオキサイ
ド、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。また上
記以外の具体例としては、例えばエチレン、プロピレ
ン、イソブチレン等のオレフィン類、ブタジエン等のジ
エン類、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロオレフィ
ン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ｎ−酪酸ビニ
ル、安息香酸ビニル、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、
ピバリン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、バー
サチック酸ビニル、ラウリン酸ビニル等のカルボン酸ビ
ニルエステル類、酢酸イソプロペニル、プロピオン酸イ
ソプロペニル等のカルボン酸イソプロペニルエステル
類、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテ
ル、シクロヘキシルビニルエーテル等のビニルエーテル
類、スチレン、ビニルトルエン等の芳香族ビニル化合
物、酢酸アリル、安息香酸アリル等のアリルエステル
類、アリルエチルエーテル、アリルフェニルエーテル等
のアリルエーテル類、さらにγ−（メタ）アクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、４−（メタ）アクリロイ
ルオキシ−２，２，６，６，−テトラメチルピペリジ
ン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，
６，６，−ペンタメチルピペリジン、パーフルオロメチ
ル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピル（メ
タ）アクリレート、パーフルオロプロピロメチル（メ
タ）アクリレート、ビニルピロリドン、トリメチロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
酸アリル等やそれらの併用が挙げられる。

【００１９】ポリカルボニル化合物は、懸濁重合、乳化
重合又は溶液重合により得られることが好ましく、乳化
重合によって得られるラテックスであることはさらに好
ましい。ポリカルボニル化合物は、スルホン酸基又はス
ルホネート基を有するエチレン性不飽和単量体、硫酸エ
ステル基を有するエチレン性不飽和単量体、およびそれ
らの混合物よりなる群から選ばれるアニオン型エチレン
性不飽和単量体（ハ）の存在下、共重合することによっ
て得られることが好ましい。

【００２０】スルホン酸基又はスルホネート基を有する
エチレン性不飽和単量体は、ラジカル重合性の二重結合
を有し、かつスルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウ
ム塩またはカリウム塩である基により一部が置換され
た、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜４のアル
キルエーテル基、炭素数２〜４のポリアルキルエーテル
基、炭素数６または１０のアリール基及びコハク酸基か
らなる群より選ばれる置換基を有する化合物であるか、
スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウム塩またはカ
リウム塩である基が結合しているビニル基を有するビニ
ルスルホネート化合物である。

【００２１】硫酸エステル基を有するエチレン性不飽和
単量体は、ラジカル重合性の二重結合を有し、かつ硫酸
エステル基のアンモニウム塩、ナトリウム塩またはカリ
ウム塩である基により一部が置換された、炭素数１〜２
０のアルキル基、炭素数２〜４のアルキルエーテル基、
炭素数２〜４のポリアルキルエーテル基及び炭素数６ま
たは１０のアリール基からなる群より選ばれる置換基を
有する化合物である。

【００２２】スルホン酸基のアンモニウム塩、ナトリウ
ム塩またはカリウム塩である基により一部が置換された
コハク酸基を有する化合物の具体例として、アリルスル
ホコハク酸塩、たとえば、式（２）、（３）、（４）、
（５）で表される化合物が挙げられる。

【００２３】

【化２】

【００２４】

【化３】

【００２５】

【化４】

【００２６】

【化５】

【００２７】｛式（２）〜（５）中、Ｒ^1'は水素または
メチル基であり、Ｒ^2'は炭素数５〜１２のシクロアルキ
ル基、炭素数５〜１０のアリール基、炭素数６〜１９の
アラルキル基等の炭化水素基、又はその１部が水酸基、
カルボン酸基等で置換されたもの、もしくはポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル基（アルキル部分の炭素数
が０〜２０、アルキレン部分の炭素数が２〜４）、ポリ
オキシアルキレンアルキルフェニルエーテル基（アルキ
ル部分の炭素数が０〜２０、アルキレン部分の炭素数が
２〜４）等のアルキレンオキサイド部分を含む有機基で
ある。Ａは炭素数２〜４のアルキレン基または一部が置
換されたアルキレン基である。ｎは０〜２００の整数で
ある。Ｍはアンモニウム、ナトリウム、またはカリウム
である。｝上記式（２）及び（３）を含むものとして、
例えば、エレミノールＪＳ−２（商品名）（三洋化成
（株）製）があり、上記式（４）及び（５）を含むもの
として、例えば、ラテムルＳ−１２０、Ｓ−１８０Ａま
たはＳ−１８０（商品名）（花王（株）製）等がある。

【００２８】またスルホン酸基のアンモニウム塩、ナト
リウム塩又はカリウム塩である基により一部が置換され
た、炭素数２〜４のアルキルエーテル基又は炭素数２〜
４のポリアルキルエーテル基を有する化合物の例とし
て、式（６）または（７）で表される化合物が挙げられ
る。

【００２９】

【化６】

【００３０】（式中Ｒ^3'、Ｒ^4'の各々は、それぞれ独立
に、炭素数６〜１８のアルキル基、アルケニル基又はア
ラルキル基であり、Ｒ^5'は水素またはプロペニル基であ
る。Ａは炭素数２〜４のアルキレン基である。ｎは１〜
２００の整数である。Ｍはアンモニウム、ナトリウム又
はカリウムである。）

【００３１】

【化７】

【００３２】（式中、Ｒ^6'は水素またはメチル基であ
り、Ｒ^7'は炭素数８〜２４のアルキル基またはアシル基
である。Ａは炭素数２〜４のアルキレン基である。ｍは
０〜２０の整数であり、ｎは０〜５０の整数である。Ｍ
はアンモニウム、ナトリウム又はカリウムである。）上記式（６）で表されるアルキルフェノールエーテル系
化合物として、例えばアクアロンＨＳ−１０（商品名）
（第一工業製薬（株）製）があり、上記式（７）で表さ
れる化合物として、例えばアデカリアソープＳＥ−１０
２５Ｎ（商品名）（旭電化工業（株）製）がある。

【００３３】その他、スルホネート基により一部が置換
されたアリール基を有する化合物の具体例として、ｐ−
スチレンスルホン酸のアンモニウム塩、ナトリウム塩お
よびカリウム塩、が挙げられる。スルホン酸基のアンモ
ニウム塩、ナトリウム塩又はカリウム塩である基が結合
しているビニル基を有するビニルスルホネート化合物と
して例えば、２−スルホエチルアクリレート等のアルキ
ルスルホン酸（メタ）アクリレートやメチルプロパンス
ルホン酸（メタ）アクリルアミド、アリルスルホン酸等
のアンモニウム塩、ナトリウム塩およびカリウム塩が挙
げられる。

【００３４】硫酸エステル基のアンモニウム塩、ナトリ
ウム塩またはカリウム塩により一部が置換された炭素数
２〜４のアルキルエーテル基又は炭素数２〜４のポリア
ルキルエーテル基を有する化合物としては、例えば上記
の式（６）と（７）で表される、スルホネート基により
一部が置換されたアルキルエーテル基を有する化合物が
ある。

【００３５】これらのアニオン型エチレン性不飽和単量
体（ハ）は、エマルジョン中にエマルジョン粒子にラジカル重合した共重合物とし
て存在しているか、未反応物としてエマルジョン粒子へ吸着、あるいは
エマルジョン水相中に存在しているか、又は水溶性単量体との共重合物あるいは単量体同士の共
重合物としてエマルジョン粒子へ吸着、あるいはエマル
ジョン水相中に存在している。

【００３６】とくにの状態の比率を高めることによっ
て、エマルジョンより得られるフィルムの耐水性を良好
なものとすることができる。またアニオン型エチレン性
不飽和単量体（ハ）は、エマルジョンより得られるフィ
ルムの熱分解ガスクロマトグラム質量分析（Ｐｙ−ＧＣ
−ＭＳ）、又は熱分解質量分析（Ｐｙ−ＭＳ）により同
定することができる。他の方法として、エマルジョンの
水相成分を分離した後、高速原子衝撃質量分析（ＦＡＢ
マススペクトル）によって同定することも可能である。

【００３７】本発明では、アニオン型エチレン性不飽和
単量体（ハ）以外に通常の界面活性剤を併用することが
できる。例えば、脂肪酸石鹸、アルキルスルホン酸塩、
アルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキ
ル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリール硫酸塩
等のアニオン性界面活性剤やポリオキシエチレンアルキ
ルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロッ
クコポリマー等の非反応性ノニオン型界面活性剤、α−
〔１−〔（アリルオキシ）メチル〕−２−（ノニルフェ
ノキシ）エチル〕−ω−ヒドロキシポリオキシエチレン
（商品名：アデカリアソープＮＥ−２０、ＮＥ−３０、
ＮＥ−４０等、旭電化工業（株）製）、ポリオキシエチ
レンアルキルプロペニルフェニルエーテル（商品名：ア
クアロンＲＮ−１０、ＲＮ−２０、ＲＮ−３０、ＲＮ−
５０等、第一製薬工業（株）製）等の反応性ノニオン型
界面剤といわれるエチレン性不飽和単量体と共重合なノ
ニオン型界面活性剤等が用いられる。

【００３８】本発明において、ポリカルボニル化合物を
得るに当たって、ラジカル重合触媒として、熱または還
元性物質などによってラジカル分解してエチレン性不飽
和単量体の付加重合を起こさせるもので、水溶性または
油溶性の過硫酸塩、過酸化物、アゾビス化合物等が使用
される。その例としては、過硫酸カリウム、過硫酸ナト
リウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素、ｔ−ブチル
ハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾ
エート、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２
−アゾビス（２−ジアミノプロパン）ハイドロクロライ
ド、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）等があり、その量としてはエチレン性不飽和単量体
に対して通常０．１〜１重量％配合される。通常は常圧
下、６５〜９０℃の重合温度で実施されるのが好ましい
が、モノマーの重合温度における蒸気圧等の特性に合わ
せ、高圧下でも実施することができる。なお、重合速度
の促進、及び７０℃以下での低温の重合を望まれるとき
には、例えば重亜硫酸ナトリウム、塩化第一鉄、アスコ
ルビン酸塩、ロンガリット等の還元剤をラジカル重合触
媒と組み合わせて用いると有利である。さらに分子量を
調節するために、ドデシルメルカプタン等の連鎖移動剤
を任意に添加することも可能である。

【００３９】本発明において、ポリカルボニル化合物を
長期に安定に保つため、ｐＨ５〜１０の範囲に調整する
ことが好ましく、必要に応じてアンモニア、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、ジメチルアミノエタノール等
のアミン類、塩酸、硫酸、酢酸、乳酸等の酸類を添加す
ることも可能である。また、本発明の被覆組成物に用い
ることができるポリエポキシ化合物としては、例えば
（メタ）アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有エチ
レン性不飽和単量体を必須成分として他の不飽和単量体
と塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法な
どによって共重合させることにより得られるエポキシ基
を含有する共重合体や、ビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、環式脂肪族系エ
ポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリ
シジルアミン系エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ
樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ化
合物を水に分散させたもの、及びこれらの併用が挙げら
れる。

【００４０】本発明の（Ａ）ヒドラジン残基を有する光
安定剤および／又はヒドラジン残基を有する紫外線吸収
剤と、（Ｂ）ポリカルボニル化合物及び／又は（Ｃ）ポ
リエポキシ化合物を含んでなる被覆組成物は、その固形
分重量比が（Ａ）／（（Ｂ）＋（Ｃ））＝０．０１／９
９．９９〜５０／５０の範囲内であることが好ましい。
これにより耐候性に優れた皮膜を与えることができる。
この比率が０．０１／９９．９９未満である場合は、耐
候性の性能が出現しないので好ましくない。５０／５０
を超えると、得られる皮膜が非常に脆いものとなり好ま
しくない。

【００４１】また、本発明の被覆組成物には、ベンゾフ
ェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系等の公
知のカルボニル基を有さない紫外線吸収剤や、ヒンダー
ドフェノール系、ヒンダードアミン系等の公知のヒドラ
ジン残基を有さない光安定剤を併用しても良い。本発明
の被覆組成物には、必要により通常塗料等に添加配合さ
れる成分、例えば顔料、充填剤、分散剤、湿潤剤、増粘
剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤、可塑剤、成膜
助剤、防錆剤、染料、防腐剤等がそれぞれの目的に応じ
て選択、組み合わせて配合することができる。

【００４２】本発明の被覆組成物は、クリアーコート
剤、トップコート剤、塗料、アンダーコート剤、布や紙
の含浸剤、各種接着剤等として各種用途に利用すること
ができる。具体的には、塗料、建材の下地処理材又は仕
上げ材、接着剤、粘着剤、紙加工剤または織布、不織布
の仕上げ材として有用となる。塗料、建材の下地処理材
又は仕上げ材としては、例えばコンクリート、セメント
モルタル、スレート板、ケイカル板、石膏ボード、押し
出し成形板、発泡性コンクリート等の無機建材、織布あ
るいは不織布を基材とした建材、金属建材等の各種下地
に対する塗料又は建築仕上げ材、さらには複層仕上げ塗
材用の主材およびトップコート、薄付け仕上塗材、厚付
け仕上塗材、石材調仕上げ材、グロスペイント等の合成
樹脂エマルジョンペイント、金属用塗料、木部塗料、瓦
用塗料等が挙げられる。

【００４３】接着剤としては、例えば自動車内装用接着
剤、建築部材用接着剤、各種フィルムのラミネート接着
剤等として用いられる、金属、プラスチック、木材、ス
レート、紙、布等に対するウエット接着剤及びコンタク
ト接着剤等が挙げられる。粘着剤としては、例えば片面
テープ、両面テープ、ラベル、アルバム等に使用され
る、永久粘着剤、再剥離型粘着剤等が挙げられる。

【００４４】

【発明の実施の形態】実施例中の部は重量部を意味す
る。また、実施例および比較例で得られた被覆組成物の
物性試験については、該被覆組成物を用いて下記に示す
配合組成で塗料を調整し、以下に示す試験方法に従って
試験を実施した。＜塗料配合組成＞エナメル塗料配合物の調整顔料ディスパージョン水８２．５部分散剤：ポイズ５３０（商品名、花王（株）製）７．５部トリポリリン酸ナトリウムの５％水溶液７．５部増粘剤：ダイセルＨＥＣＳＰ−６００（商品名、ダイセル化学工業（株）製）の３％水溶液２５．０部消泡剤：ノプコ１４９７ＶＤ（商品名、サンノプコ（株）製）２．５部ルチル型酸化チタン：タイピュアＲ−９００（商品名、デュポン（株）製）３７５．０部レットダウン成分各実施例、比較例の被覆組成物（固形分換算）４６０．０部エチレングリコールモノブチルエーテル４５．０部水３０．０部消泡剤：ノプコ１４９７ＶＤ（商品名、サンノプコ（株）製）１．０部＜試験方法＞初期光沢値、光沢保持率エナメル塗料配合物をワイヤーコーターＮｏ．５０を用
いて、硫酸アルマイト板に塗布し、室温にて３０日間乾
燥させた。その直後の６０°−６０°鏡面反射率を初期
光沢値として測定した（これを光沢保持率の試験開始時
間、即ちゼロ時間とする）。

【００４５】引き続きサンシャイン型ウエザオメーター
（スガ試験機（株）製、ＷＥＬ−ＳＵＮ−ＤＣ）を使用
して曝露試験（降雨サイクル；１２分／時間、ブラック
パネル温度６０〜６６℃）を行った。曝露３０００時間
後の６０°−６０°鏡面反射率を最終的な光沢値として
測定し、これを初期光沢値で割り、この値を光沢保持率
として算出した。

【００４６】

【参考例１】ポリカルボニル化合物の調整。還流冷却器、滴下槽、温度計および撹拌装置を有する反
応器に、イオン交換水２１８部、界面活性剤（商品名：
アデカリアソープＳＥ−１０２５Ｎ、旭電化工業（株）
製）の２５％水溶液３．７部を投入し、反応容器中の温
度を８０℃に上げてから、次にメタクリル酸９部、スチ
レン４．５部、アクリル酸ブチル２３４部、ダイアセト
ンアクリルアミド１３．５部、メタクリル酸メチル１８
９部、イオン交換水２２５部、アデカリアソープＳＥ−
１０２５Ｎを１４．４部、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニルエーテル（商品名：エマルゲン９５０、花王
（株）製）の２５％水溶液１０部、過硫酸アンモニウム
１部の混合液を反応容器中へ滴下槽より３時間かけて流
入させた。流入中は反応容器中の温度を８０℃に保っ
た。流入終了後、反応容器中の温度を８０℃にして２時
間保った。その後室温まで冷却し、２５％アンモニア水
溶液を添加してｐＨを８に調整してから１００メッシュ
の金網で濾過し、固形分４６．８％、平均粒径１０６ｎ
ｍのカルボニル基含有共重合体水性エマルジョンを得
た。

【００４７】

【実施例１】参考例１で合成したカルボニル基含有共重
合体水性エマルジョン１００部（水を含む。以下同じ）
にＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ニル）−Ｎ’−アミノオキサミド０．７部を添加し、混
合することにより被覆組成物を得た。得られた被覆組成
物を用いて塗料を調整し、各試験に供した。その結果を
表１に示す。

【００４８】

【実施例２】参考例１で合成したカルボニル基含有共重
合体水性エマルジョン１００部に３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸ヒドラジド
０．９部を添加し、混合することにより被覆組成物を得
た。得られた被覆組成物を用いて塗料を調整し、各試験
に供した。その結果を表１に示す。

【００４９】

【実施例３】参考例１で合成したカルボニル基含有共重
合体水性エマルジョン１００部に３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸ヒドラジド
０．４７部、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジニル）−Ｎ’−アミノオキサミド０．７部を
添加し、混合することにより被覆組成物を得た。得られ
た被覆組成物を用いて塗料を調整し、各試験に供した。
その結果を表１に示す。

【００５０】

【比較例１】参考例１で合成したカルボニル基含有共重
合体水性エマルジョン単独で塗料を調整し、各試験に供
した。その結果を表１に示す。

【００５１】

【比較例２】参考例１で合成したカルボニル基含有共重
合体水性エマルジョン１００部に２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジン０．７部を添加し、混合する
ことにより被覆組成物を得た。得られた被覆組成物を用
いて塗料を調整し、各試験に供した。その結果を表１に
示す。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【発明の効果】本発明の被覆組成物は、それを用いて塗
膜等を形成した場合に、初期光沢および光沢維持率に優
れた皮膜が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ヒドラジン残基を有する光安定剤および
／又はヒドラジン残基を有する紫外線吸収剤と、ポリカ
ルボニル化合物及び／又はポリエポキシ化合物を含有す
る被覆組成物。
【請求項２】ヒドラジン残基を有する光安定剤が、ヒ
ドラジン残基を有するヒンダードアミン誘導体及び／又
はヒドラジン残基を有するヒンダードフェノール誘導体
であることを特徴とする請求項１記載の被覆組成物。
【請求項３】ポリカルボニル化合物がカルボニル基含
有アクリル系共重合体水分散液であることを特徴とする
請求項１または２記載の被覆組成物。
【請求項４】ポリエポキシ化合物がエポキシ基含有ア
クリル系共重合体水分散液であることを特徴とする請求
項１または２記載の被覆組成物。