JP2000099163A - 温度制御装置 - Google Patents

温度制御装置

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JP2000099163A
JP2000099163A JP10262852A JP26285298A JP2000099163A JP 2000099163 A JP2000099163 A JP 2000099163A JP 10262852 A JP10262852 A JP 10262852A JP 26285298 A JP26285298 A JP 26285298A JP 2000099163 A JP2000099163 A JP 2000099163A
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JP
Japan
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temperature
water
flow rate
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cold water
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JP10262852A
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English (en)
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Kazuma Sekiya
一馬 関家
Miki Yoshida
幹 吉田
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Disco Corp
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Disco Abrasive Systems Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ウェーハのダイシング時に供給する切
削水、洗浄水等の種々の作用要素に供給する水の温度を
制御する場合において、所望の温度への制御を容易かつ
迅速に行うと共に、流量の変化に対する追随性を向上さ
せる。 【解決手段】 予め冷水タンクに所定温度の冷水を貯水
すると共に、温水タンクに所定温度の温水を貯水してお
き、冷水と温水とを混合させることにより、所定温度に
調整された混合水を、作用要素に安定的に供給する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、冷水と温水とを適
宜の割合で混合することにより所望の温度の混合水を生
成して作用要素に供給する温度制御装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】例えば図6に示すような、被加工物を切
削してダイシングを行うダイシング装置60において半
導体ウェーハのダイシングを行う場合は、半導体ウェー
ハWは保持テープTを介してフレームFに保持されてチ
ャックテーブル61に吸引保持される。
【0003】そして、チャックテーブル61がX軸方向
に移動してアライメント手段62の直下に位置付けら
れ、パターンマッチング等の処理によって切削領域が検
出され、切削領域と回転ブレード45とのY軸方向の位
置合わせが行われた後、更にチャックテーブル61がX
軸方向に移動し、回転ブレード45の作用を受けて切削
が行われる。
【0004】切削時は、高速回転する回転ブレード45
と半導体ウェーハWとの接触部に摩擦による熱が生ずる
ため、当該接触部を冷却するために、図7に示すよう
に、切削水供給ノズル44から切削水が供給される。そ
して、半導体ウェーハWを含む切削領域の熱歪みを防止
して精密に切削するために、切削水の温度を一定に保つ
必要もある。
【0005】更に、切削により生じた切削屑が混じった
切削水を排除するために、洗浄水噴射部48から洗浄水
が噴射されるが、この洗浄水も一定の温度に保つ必要が
ある。
【0006】また、回転ブレード45はスピンドル29
の先端に装着されており、スピンドル29は、スピンド
ルハウジング11内に設けたスラストエアーベアリン
グ、ラジアルエアーベアリングによって回転可能に支持
されている。
【0007】半導体ウェーハWの切削時は、スピンドル
29が高速回転することによってスピンドル29に熱膨
張が生じやすく、かかる熱膨張によって回転ブレード4
5による切削位置にずれが生じ、精密切削に誤差が生ず
ることになる。そこで、スピンドルハウジング11内に
温度制御用の水を流通させることにより、スピンドル2
9及びスピンドルハウジング11の温度を一定に保つた
めの温度制御が行われている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】半導体ウェーハWと回
転ブレード45との接触部、スピンドルハウジング11
等の作用要素に供給する水は、通常はタンクに蓄えられ
ており、タンク内の水は、そのタンクに備えられたヒー
ターの電圧や冷凍機コンプレッサの回転数を制御するこ
とによって所定の温度に設定されている。
【0009】しかしながら、上記のようにしてタンク内
の水そのものの温度を変化させる場合は、所望の温度に
達するまでにかなりの時間を要する。また、流量の変化
に対する追従性が悪いという問題もある。
【0010】このように、作用要素に供給する水の温度
を制御する場合においては、所望の温度への制御を迅速
に行うと共に、流量の変化に対しても容易かつ迅速に対
応することができるようにすることに解決すべき課題を
有している。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、作用要素に供給する水の
温度を制御する温度制御装置であって、冷水を貯水する
冷水タンクと、温水を貯水する温水タンクと、冷水と温
水とを混合する混合部とを少なくとも備え、該混合部に
よって所定温度に調整された混合水を作用要素に供給す
る温度制御装置を提供するものである。
【0012】そして、冷水タンクから混合部に至る経路
に第一の流量調整手段が配設され、温水タンクから混合
部に至る経路に第二の流量調整手段が配設され、第一の
流量調整手段によって冷水の流量が調整され、第二の流
量調整手段によって温水の流量が調整され、混合部によ
って所定温度の混合水が生成されること、冷水の温度を
検出する第一の温度センサーと、温水の温度を検出する
第二の温度センサーとが配設されると共に、混合水の温
度を検出する第三の温度センサーが所要位置に配設され
ること、所望温度を記憶する温度記憶手段と、該温度記
憶手段に記憶された温度と第三の温度センサーによって
検出された温度とを比較して両温度の温度差が許容値の
範囲内であるか否かを判断する温度比較手段とが含まれ
ており、該温度比較手段により求めた温度差が許容値を
超えている場合は、第一の流量調整手段及び/または第
二の流量調整手段を適宜調整して混合水の温度を所望温
度に調整すること、を付加的要件とするものである。
【0013】このように構成される温度制御装置におい
ては、冷水と温水とを混合させて混合水の温度を制御す
るため、作用要素に最適な温度の混合水を素早く生成す
ることができる。また、混合水の流量が変化した場合に
も、混合比を一定としておくことにより、流量の変化に
関係なく常に一定温度の混合水を生成して作用要素に供
給することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態とし
て、まず、図1に示す構成の温度制御装置10について
説明する。この温度制御装置10は、例えば図6に示し
たダイシング装置に搭載若しくは接続されるものであ
り、スピンドルハウジング11に設けられた供給口12
及び排出口13と接続されている。なお、以下において
は従来例と同様の部位には共通の符号を付して説明する
こととする。
【0015】温度制御装置10には、例えば水温が5〜
15℃程度の冷水を貯水する冷水タンク14、及び、例
えば水温が30〜40℃程度の温水を貯水する温水タン
ク15を備えている。冷水タンク14には第一のポンプ
16を介して第一の流量調整手段17が、温水タンク1
5には第二のポンプ18を介して第二の流量調整手段1
9がそれぞれ接続されており、第一の流量調整手段17
の調整により冷水の流量を調整し、第二の流量調整手段
19の調整により温水の流量を調整することができる。
また、第一の流量調整手段17及び第二の流量調整手段
19は、制御手段20に接続されている。
【0016】冷水タンク14と第一のポンプ16との間
には第一の温度センサー21が接続されており、冷水タ
ンク14から流出する冷水の温度を測定して制御手段2
0において認識することができる。また、温水タンク1
5と第二のポンプ18との間には第二の温度センサー2
2が接続されており、温水タンク22から流出する温水
の温度を測定して制御手段20において認識することが
できる。そして、第一の温度センサー21、第二の温度
センサー22により測定された温度に基づき、制御手段
20による制御の下で流量の調整が行われる。
【0017】第一の流量調整手段17を介して流出する
冷水と第二の流量調整手段19を介して流出する温水と
は混合部23によって混合される。ここでの混合比率
は、第一の温度センサー21及び第二の温度センサー2
2により測定した温度に基づき、第一の流量調整手段1
7及び第二の流量調整手段19の調整によって適宜の値
に設定することができる。
【0018】混合部23において生成された混合水は、
第三の流量調整手段24を介してフィルタ25へと流れ
込む。ここで、第三の流量調整手段24は制御手段20
による制御の下で、フィルタ25への混合水の流量を調
整する。
【0019】また、混合部23と第三の流量調整手段2
4との間には第三の温度センサー26が接続されてお
り、混合水の温度を測定して制御手段20において認識
することができる。
【0020】制御手段20は、CPU、メモリ等により
構成されており、本実施の形態における作用要素である
スピンドルハウジング11に供給する混合水の所望の温
度を予め記憶しておく温度記憶手段27と、温度記憶手
段27に記憶された温度と第三の温度センサー26によ
って測定された実際の混合水の温度とを比較する温度比
較手段28を備えている。
【0021】そして、温度比較手段28においては、第
三の温度センサー26により計測された混合水の温度と
温度記憶手段27に記憶された所望の温度とを比較し、
両温度の温度差が所定の許容値を超えている場合は、制
御手段20の制御の下、第一の流量調整手段17、第二
の流量調整手段19を調整して混合水の温度を調整す
る。ここで、判断の基準となる所定の許容値は、温度比
較手段28に備えたメモリ等に予め記憶させておくこと
ができる。
【0022】フィルタ25においては、混合水中に混入
したごみ等が取り除かれて供給口12へと供給される。
そして、供給された混合水は、スピンドルハウジング1
1内に設けられた流通経路(図示せず)を流通すること
により、スピンドル29を含むスピンドルハウジング1
1全体の温度制御に供される。
【0023】スピンドルハウジング11内を流通した混
合水は、排出口13から排出されて適宜の割合で冷却手
段30と加温手段31とに分岐する。ここで、冷却手段
30は例えば冷凍機コンプレッサにより、加温手段31
は例えばヒーターにより構成される。
【0024】そして、冷却手段30により冷却された水
は冷水タンク14に、加温手段31により加温された水
は温水タンク15にそれぞれ供給され、再び混合部23
によって混合されてスピンドルハウジング11へと供給
される。
【0025】次に、本発明の第二の実施の形態として、
図2に示す温度制御装置40について説明する。この温
度制御装置40は、被加工物の切削時に供給される切削
水、洗浄水の温度を制御して供給する装置であり、スピ
ンドルハウジング11の先端に配設されたブレードカバ
ー41に設けられた切削・洗浄水供給口42、43に接
続されている。そして、切削・洗浄水供給口42、43
から供給された混合水は、切削水として切削水供給ノズ
ル44から回転ブレード45と半導体ウェーハWとの接
触部に供給され、洗浄水として洗浄水噴射部48から半
導体ウェーハWの表面に対して噴射される。
【0026】図2に示す温度制御装置40においては、
冷水タンク14に貯水された冷水及び温水タンク15に
貯水された温水から混合水が生成されるまでの構成は図
1に示した温度制御装置10と同様であるため、これら
については図1の例と同様の符号を付し、その説明は省
略することとする。
【0027】切削・洗浄水供給口42、43から供給さ
れて回転ブレード45と半導体ウェーハWとの接触部に
供給された切削水及び洗浄水は、図1の温度制御装置1
0のように再利用することができないため、水源46に
は、冷水タンク14及び温水タンク15に供給する水が
貯水されている。
【0028】水源46に貯水された水は、第四の流量調
整手段47によって流量を調整されて冷却手段30及び
加温手段31に供給され、冷却された水は冷水タンク1
4に、加温された水は温水タンク15にそれぞれ供給さ
れる。
【0029】なお、図1及び図2における冷却手段30
及び加温手段31は、例えば図3に示すように、2枚の
プレート50、51間にサンドイッチ状に多数のペルチ
ェ素子52が挟持された構成のサーモモジュール53を
用いて構成されていてもよい。プレート50、51の内
側の面には、導通部54が形成されており、対峙する導
通部間にはP型半導体またはN型半導体からなるペルチ
ェ素子52が介在し、導通部54にハンダ付け等により
溶接されている。そして、全体としては、図4に示すよ
うに、P型半導体とN型半導体とが導通部54を介して
交互に接続された構成となっており、2つの電極55、
56間に電圧を印加することにより、導通部54に放熱
または吸熱が起こり、一方のプレート50は吸熱板とし
て、他方のプレート51は放熱板としての役割を果たす
ことになる。
【0030】従って、図5に示す如く、サーモモジュー
ル53を構成する吸熱板を冷水タンクに備えて冷却手段
30を構成し、放熱板を温水タンクに備えて加温手段3
1を構成することで、冷却手段30及び加温手段31の
構成を簡略化することができる。また、電極55、56
間に印加する電圧を制御することにより、冷却手段30
及び加温手段31における冷却、加温の温度を制御する
ことができる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る温度
制御装置においては、冷水と温水とを混合させて混合水
の温度を制御するため、作用要素に最適な温度の混合水
を素早く生成することができ、作用要素における所望の
作業を効率良く行うことができる。
【0032】また、混合水の流量が変化した場合にも、
混合比を一定としておくことによって、流量の変化に関
係なく常に一定温度の混合水を生成して作用要素に供給
することができるため、例えばスピンドルの温度を一定
に保つことができる等、作用要素における動作の信頼性
を確保することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る温度制御装置の第一の実施の形態
を示す説明図である。
【図2】同温度制御装置の第二の実施の形態を示す説明
図である。
【図3】同温度制御装置の冷却手段及び加温手段を構成
するサーモモジュールの一例を示す斜視図である。
【図4】同サーモモジュールにおける接続状態を示す説
明図である。
【図5】同サーモモジュールにより構成された冷却手段
及び加温手段を示す説明図である。
【図6】ダイシング装置を示す斜視図である。
【図7】同ダイシング装置において半導体ウェーハをダ
イシングする様子を示す斜視図である。
【符号の説明】
10……温度制御装置 11……スピンドルハウジング
12……供給口 13……排出口 14……冷水タンク 15……温水タ
ンク 16……第一のポンプ 17……第一の流量調整手段
18……第二のポンプ 19……第二の流量調整手段 20……制御手段 21
……第一の温度センサー 22……第二の温度センサー 23……混合部 24…
…第三の流量調整手段 25……フィルタ 26……第三の温度センサー 27……温度記憶手段 28……温度比較手段 29……スピンドル 30……冷却手段 31……加温
手段 40……温度制御装置 41……ブレードカバー 42、43……切削・洗浄水供給口 44……切削水供
給ノズル 45……回転ブレード 46……水源 47……第四の
流量調整手段 48……洗浄水噴射部 50、51……プレート 52
……ペルチェ素子 53……サーモモジュール 54……導通部 55、5
6……電極

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 作用要素に供給する水の温度を制御する
    温度制御装置であって、 冷水を貯水する冷水タンクと、温水を貯水する温水タン
    クと、該冷水と該温水とを混合する混合部とを少なくと
    も備え、 該混合部によって所定温度に調整された混合水を該作用
    要素に供給する温度制御装置。
  2. 【請求項2】 冷水タンクから混合部に至る経路に第一
    の流量調整手段が配設され、温水タンクから混合部に至
    る経路に第二の流量調整手段が配設され、 該第一の流量調整手段によって冷水の流量が調整され、
    該第二の流量調整手段によって温水の流量が調整され、
    該混合部によって所定温度の混合水が生成される請求項
    1に記載の温度制御装置。
  3. 【請求項3】 冷水の温度を検出する第一の温度センサ
    ーと、温水の温度を検出する第二の温度センサーとが配
    設されると共に、混合水の温度を検出する第三の温度セ
    ンサーが所要位置に配設される請求項1または2に記載
    の温度制御装置。
  4. 【請求項4】 所望温度を記憶する温度記憶手段と、該
    温度記憶手段に記憶された温度と第三の温度センサーに
    よって検出された温度とを比較して両温度の温度差が許
    容値の範囲内であるか否かを判断する温度比較手段とが
    含まれており、 該温度比較手段により求めた該温度差が許容値を超えて
    いる場合は、第一の流量調整手段、第二の流量調整手段
    を適宜調整して混合水の温度を所望温度に調整する請求
    項1、2または3に記載の温度制御装置。
JP10262852A 1998-09-17 1998-09-17 温度制御装置 Withdrawn JP2000099163A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011128797A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Ckd Corp 温度制御システム
JP2017135411A (ja) * 2017-04-18 2017-08-03 株式会社東京精密 温度制御装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011128797A (ja) * 2009-12-16 2011-06-30 Ckd Corp 温度制御システム
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