JP2000098101A - 電磁波低減反射防止コート - Google Patents
電磁波低減反射防止コートInfo
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- JP2000098101A JP2000098101A JP10273517A JP27351798A JP2000098101A JP 2000098101 A JP2000098101 A JP 2000098101A JP 10273517 A JP10273517 A JP 10273517A JP 27351798 A JP27351798 A JP 27351798A JP 2000098101 A JP2000098101 A JP 2000098101A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オフィスオートメーション機器、テレビのブ
ラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮断す
ることが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少
なくすることが出来る耐環境性に優れた電磁波低減反射
防止膜を提供する。 【解決手段】 透明基材上に形成した透明導電層を有す
る反射防止コートにおいて、透明導電層の中間に異なる
膜構造又は異なる材料からなる１層又は複数の中間層を
設けた膜構成を有する電磁波低減反射防止コートとす
る。
ラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮断す
ることが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少
なくすることが出来る耐環境性に優れた電磁波低減反射
防止膜を提供する。 【解決手段】 透明基材上に形成した透明導電層を有す
る反射防止コートにおいて、透明導電層の中間に異なる
膜構造又は異なる材料からなる１層又は複数の中間層を
設けた膜構成を有する電磁波低減反射防止コートとす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電磁波シールド効
果を有する反射防止コートに関する。
果を有する反射防止コートに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、オフィスオートメーション機器、
テレビのブラウン管やその他の電子機器から放射される
電磁波が、人体へ影響を与えるのではないかという疑問
が提起され、関心が高まっている。これら電磁波による
影響を避けるために、従来しばしば見られる方法は、金
網などの透視可能の導電物で覆うことであった。しか
し、ブラウン管などをこれら導電物で覆った場合、金網
などを構成する細線で画面が見えにくくなり、使用者の
目が疲れるという問題があった。
テレビのブラウン管やその他の電子機器から放射される
電磁波が、人体へ影響を与えるのではないかという疑問
が提起され、関心が高まっている。これら電磁波による
影響を避けるために、従来しばしば見られる方法は、金
網などの透視可能の導電物で覆うことであった。しか
し、ブラウン管などをこれら導電物で覆った場合、金網
などを構成する細線で画面が見えにくくなり、使用者の
目が疲れるという問題があった。
【０００３】これに対して、画面表面などに金属細線の
網の代わりに透光性薄膜の積層体を設け、反射防止効果
と共に電磁波低減効果を得ようとする試みが提案されて
いる。例えば、特開平６−３４８０１号公報に開示され
たものは、基材から順に透明導電体層として酸化インジ
ウム錫（ＩＴＯ）、低屈折率層として酸化シリコン、高
屈折率層として酸化チタンの３層の積層体を用いてい
る。これは、反射防止効果によって画面が見やすくなっ
たが、透明導電層の膜厚が３００オングストローム以下
と薄く、電磁波のシールド効果が低く、十分な効果を上
げていない。
網の代わりに透光性薄膜の積層体を設け、反射防止効果
と共に電磁波低減効果を得ようとする試みが提案されて
いる。例えば、特開平６−３４８０１号公報に開示され
たものは、基材から順に透明導電体層として酸化インジ
ウム錫（ＩＴＯ）、低屈折率層として酸化シリコン、高
屈折率層として酸化チタンの３層の積層体を用いてい
る。これは、反射防止効果によって画面が見やすくなっ
たが、透明導電層の膜厚が３００オングストローム以下
と薄く、電磁波のシールド効果が低く、十分な効果を上
げていない。
【０００４】また、特願平９−２６９２０４号に開示さ
れたものは、透光性低屈折率層と透光性高屈折率層の積
層構造において、高屈折率層に透明導電層として、酸化
インジウム錫を材料として用い、その膜厚を１０００オ
ングストローム以上としたものである。
れたものは、透光性低屈折率層と透光性高屈折率層の積
層構造において、高屈折率層に透明導電層として、酸化
インジウム錫を材料として用い、その膜厚を１０００オ
ングストローム以上としたものである。
【０００５】導電層を厚くしたことにより、シート抵抗
が低下し、電磁波シールド効果は向上し、実用上十分な
性能が得られた。しかし、プラスチック透明基材に形成
したとき、高温高湿環境で保管すると、コート膜の色ム
ラや膜浮きが生じやすく、耐環境性の点で問題があっ
た。
が低下し、電磁波シールド効果は向上し、実用上十分な
性能が得られた。しかし、プラスチック透明基材に形成
したとき、高温高湿環境で保管すると、コート膜の色ム
ラや膜浮きが生じやすく、耐環境性の点で問題があっ
た。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記課題を
解決するためになされたものである。即ち、オフィスオ
ートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器か
ら発生する電磁波を有効に遮断することが出来、視界を
妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る
耐環境性に優れた電磁波低減反射防止膜を提供すること
を目的としたものである。
解決するためになされたものである。即ち、オフィスオ
ートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器か
ら発生する電磁波を有効に遮断することが出来、視界を
妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る
耐環境性に優れた電磁波低減反射防止膜を提供すること
を目的としたものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成を採ることによって達成される。
成を採ることによって達成される。
【０００８】即ち、透明基材上に形成した透明導電層を
有する反射防止コートにおいて、透明導電層の中間に異
なる膜構造又は異なる材料からなる１層又は複数の中間
層を設けた膜構成を有することを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。
有する反射防止コートにおいて、透明導電層の中間に異
なる膜構造又は異なる材料からなる１層又は複数の中間
層を設けた膜構成を有することを特徴とする電磁波低減
反射防止コート。
【０００９】更に、透明導電層を酸化インジューム又は
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を
酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タ
ンタル、又は前記各々の酸化物を主成分とした混合物、
又は前記透明導電層より膜の緻密度の低い酸化インジュ
ーム、又はインジュームを主成分とする酸化物で形成し
たことを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を
酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タ
ンタル、又は前記各々の酸化物を主成分とした混合物、
又は前記透明導電層より膜の緻密度の低い酸化インジュ
ーム、又はインジュームを主成分とする酸化物で形成し
たことを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
【００１０】更に、中間層として酸化シリコン層を１層
又は２層形成したことを特徴とする電磁波低減反射防止
コート。
又は２層形成したことを特徴とする電磁波低減反射防止
コート。
【００１１】更に、中間層として酸化ジルコニウム層又
は酸化ジルコニウムとチタンの混合層を１層又は２層形
成したことを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
は酸化ジルコニウムとチタンの混合層を１層又は２層形
成したことを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
【００１２】更に、中間層として酸化チタン層又は酸化
タンタル層又は酸化チタンと酸化タンタルの混合層を１
層又は２層形成したことを特徴とする電磁波低減反射防
止コート。
タンタル層又は酸化チタンと酸化タンタルの混合層を１
層又は２層形成したことを特徴とする電磁波低減反射防
止コート。
【００１３】更に、透明導電層を酸化インジューム又は
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を
前記透明導電層より膜の緻密度が低い酸化インジューム
又はインジュームを主成分とする酸化物で形成したこと
を特徴とする電磁波低減反射防止コート。
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を
前記透明導電層より膜の緻密度が低い酸化インジューム
又はインジュームを主成分とする酸化物で形成したこと
を特徴とする電磁波低減反射防止コート。
【００１４】又、透明基材上に形成した透明導電層を有
する反射防止コートにおいて、透明導電層の下地層とし
て、透明導電層と異なる材料からなる層を設けた膜構成
を有することを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
する反射防止コートにおいて、透明導電層の下地層とし
て、透明導電層と異なる材料からなる層を設けた膜構成
を有することを特徴とする電磁波低減反射防止コート。
【００１５】更に、透明導電層を酸化インジューム又は
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、下地層を
基材に近い側から高屈折率金属酸化物層と酸化シリコン
層の積層体としたことを特徴とする電磁波低減反射防止
コート。
インジュームを主成分とする酸化物で形成し、下地層を
基材に近い側から高屈折率金属酸化物層と酸化シリコン
層の積層体としたことを特徴とする電磁波低減反射防止
コート。
【００１６】更に、高屈折率金属酸化物層を酸化ジルコ
ニウム、酸化チタン、酸化タンタル又は前記各々の酸化
物を主成分とした混合物で形成したことを特徴とする電
磁波低減反射防止コート。
ニウム、酸化チタン、酸化タンタル又は前記各々の酸化
物を主成分とした混合物で形成したことを特徴とする電
磁波低減反射防止コート。
【００１７】
【実施例】次に、本発明の電磁波低減反射防止コートの
実施例を説明する。
実施例を説明する。
【００１８】本発明の電磁波低減反射防止コートの構成
は、図１で示す構成１を基本構成としている。
は、図１で示す構成１を基本構成としている。
【００１９】（構成１）図１（ａ）で示すように、透明
基材から順に第１の低屈折率層Ｌ１、第１の高屈折率層
Ｈ１、第２の低屈折率層Ｌ２、第２の高屈折率層Ｈ２、
第３の低屈折率層Ｌ３の積層体の形成、又は図１（ｂ）
で示すように、透明基材から順に第１の高屈折率層Ｈ
１、第２の低屈折率層Ｌ２、第２の高屈折率層Ｈ２、第
３の低屈折率層Ｌ３の積層体の形成を基本構成としてい
る。
基材から順に第１の低屈折率層Ｌ１、第１の高屈折率層
Ｈ１、第２の低屈折率層Ｌ２、第２の高屈折率層Ｈ２、
第３の低屈折率層Ｌ３の積層体の形成、又は図１（ｂ）
で示すように、透明基材から順に第１の高屈折率層Ｈ
１、第２の低屈折率層Ｌ２、第２の高屈折率層Ｈ２、第
３の低屈折率層Ｌ３の積層体の形成を基本構成としてい
る。
【００２０】透明基材は、ガラス基材、プラスチック基
材（アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゼオネック
ス樹脂等の透明樹脂）が用いられ、低屈折率層Ｌ１，Ｌ
２，Ｌ３は酸化シリコン層又はフッ化マグネシューム層
で形成され、高屈折率層Ｈ１は酸化インジューム層又は
インジュームと錫の混合酸化物層（ＩＴＯ）、酸化ジル
コニウム、酸化チタン、酸化タンタル等の１種類又は混
合層、インジュームと亜鉛の混合酸化物層、高屈折率層
Ｈ２は透明導電層よりなっていて、透明導電層Ｈ２の膜
厚は１０００Å以上で形成されている。
材（アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゼオネック
ス樹脂等の透明樹脂）が用いられ、低屈折率層Ｌ１，Ｌ
２，Ｌ３は酸化シリコン層又はフッ化マグネシューム層
で形成され、高屈折率層Ｈ１は酸化インジューム層又は
インジュームと錫の混合酸化物層（ＩＴＯ）、酸化ジル
コニウム、酸化チタン、酸化タンタル等の１種類又は混
合層、インジュームと亜鉛の混合酸化物層、高屈折率層
Ｈ２は透明導電層よりなっていて、透明導電層Ｈ２の膜
厚は１０００Å以上で形成されている。
【００２１】（Ａ）透明導電層が中間層との積層で形成
した場合は次の通りである。
した場合は次の通りである。
【００２２】図２は、透明導電層の高屈折率層Ｈ２が中
間層との積層で形成している図で、（ａ）は中間層が１
層の場合、（ｂ）は中間層が２層の場合の図である。
間層との積層で形成している図で、（ａ）は中間層が１
層の場合、（ｂ）は中間層が２層の場合の図である。
【００２３】高屈折率層Ｈ２：Ｈ21，Ｈ22，Ｈ23，・・
・Ｈ2i各々の膜厚の合計は１０００Å以上で、透明導電
層であり、酸化インジューム又はインジュームを主成分
とする酸化物、例えばインジュームと錫の混合酸化物
（錫の混合割合が２〜１０重量％）、インジュームと亜
鉛の混合酸化物（亜鉛の混合割合が２〜１０重量％）に
より形成される。
・Ｈ2i各々の膜厚の合計は１０００Å以上で、透明導電
層であり、酸化インジューム又はインジュームを主成分
とする酸化物、例えばインジュームと錫の混合酸化物
（錫の混合割合が２〜１０重量％）、インジュームと亜
鉛の混合酸化物（亜鉛の混合割合が２〜１０重量％）に
より形成される。
【００２４】中間層のＨ2I-1，Ｈ2I-2，・・・Ｈ
2I-jは、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタ
ン、酸化タンタル、低緻密度酸化インジューム、低緻密
度インジュームを主成分とする酸化物の１種又は複数の
混合物により形成される。
2I-jは、酸化シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタ
ン、酸化タンタル、低緻密度酸化インジューム、低緻密
度インジュームを主成分とする酸化物の１種又は複数の
混合物により形成される。
【００２５】このような層構成の効果は、次の通りであ
る。
る。
【００２６】Ｈ２層を中間層の無い１層構成とした時、
酸化インジューム又はインジュームを主成分とした酸化
物は、蒸着法で層状に形成した時大きな圧縮応力を持ち
易く、図１（ａ）の構成では高温高湿環境（６０℃９０
％湿度）に放置した時、コートの変色や筋状の膜うきが
発生してしまう。しかし、中間層を１層又は複数層設け
ることにより、上記異常は減少し実用上問題は生じなく
なる。
酸化インジューム又はインジュームを主成分とした酸化
物は、蒸着法で層状に形成した時大きな圧縮応力を持ち
易く、図１（ａ）の構成では高温高湿環境（６０℃９０
％湿度）に放置した時、コートの変色や筋状の膜うきが
発生してしまう。しかし、中間層を１層又は複数層設け
ることにより、上記異常は減少し実用上問題は生じなく
なる。
【００２７】（構成２） （Ｂ）構成１と同じ基本構成であり、透明導電層が下地
層との積層で形成した場合は次の通りである。
層との積層で形成した場合は次の通りである。
【００２８】図３は、透明導電層の高屈折率層Ｈ２が下
地層との積層で形成している図で、下地層２層の場合の
図である。
地層との積層で形成している図で、下地層２層の場合の
図である。
【００２９】透明導電材料よりなるＨ21は、酸化インジ
ューム又はインジュームを主成分とする酸化物、例えば
インジュームと錫の混合酸化物（錫の混合割合が２〜１
０重量％）、インジュームと亜鉛の混合酸化物（亜鉛の
混合割合が２〜１０重量％）により形成され、膜厚１０
００Å以上の透明導電層である。
ューム又はインジュームを主成分とする酸化物、例えば
インジュームと錫の混合酸化物（錫の混合割合が２〜１
０重量％）、インジュームと亜鉛の混合酸化物（亜鉛の
混合割合が２〜１０重量％）により形成され、膜厚１０
００Å以上の透明導電層である。
【００３０】下地層Ｈ2U-1は、酸化ジルコニウム、酸化
チタン、酸化タンタル、又は上記酸化物の混合物により
形成され、下地層Ｈ2U-2は酸化シリコンにより形成され
る。
チタン、酸化タンタル、又は上記酸化物の混合物により
形成され、下地層Ｈ2U-2は酸化シリコンにより形成され
る。
【００３１】このような層構成の効果は、構成１の効果
と同じで、高温高湿放置でのコートの変色、筋状膜うき
がなくなる。
と同じで、高温高湿放置でのコートの変色、筋状膜うき
がなくなる。
【００３２】ここで、構成１、構成２における各種層の
条件での比較例１に対する実施例１〜１１の結果を表１
〜６に、又同様に構成１、構成２における各種層の条件
での比較例２に対する実施例１２〜１４の結果を表７，
８に示す。
条件での比較例１に対する実施例１〜１１の結果を表１
〜６に、又同様に構成１、構成２における各種層の条件
での比較例２に対する実施例１２〜１４の結果を表７，
８に示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】
【表３】
【００３６】
【表４】
【００３７】
【表５】
【００３８】
【表６】
【００３９】
【表７】
【００４０】
【表８】
【００４１】耐環境性の６０℃９０％の環境に１週間放
置した後のコート色の変化は、 ×：変化大きく実用上不適 △：変化少、問題なし ○：変化なし、問題なし 膜うきは、 ×：筋上にうき発生、実用上不適 ○：うき発生なし、問題なし で示した。
置した後のコート色の変化は、 ×：変化大きく実用上不適 △：変化少、問題なし ○：変化なし、問題なし 膜うきは、 ×：筋上にうき発生、実用上不適 ○：うき発生なし、問題なし で示した。
【００４２】上記表１〜６で示すように、本実施例１〜
１４のコートは環境性は何れも問題がなかった。又、光
学特性（反射防止性能）は良好であり、電磁波低減効果
は、シート抵抗５０Ω／ｃｍ2以下が可能となり、入力
信号１００ＭＨZの電磁波における減衰率は２５ｄＢ以
上であり、実用上良好であった。
１４のコートは環境性は何れも問題がなかった。又、光
学特性（反射防止性能）は良好であり、電磁波低減効果
は、シート抵抗５０Ω／ｃｍ2以下が可能となり、入力
信号１００ＭＨZの電磁波における減衰率は２５ｄＢ以
上であり、実用上良好であった。
【００４３】この結果本発明は、各種機器から発生する
電磁波を有効に遮断することが出来、視界を妨げること
がなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に
優れた電磁波低減反射防止膜となった。
電磁波を有効に遮断することが出来、視界を妨げること
がなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に
優れた電磁波低減反射防止膜となった。
【００４４】
【発明の効果】本発明により、オフィスオートメーショ
ン機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電
磁波を有効に遮断することが出来、視界を妨げることが
なく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優
れた電磁波低減反射防止膜が提供されることとなった。
ン機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電
磁波を有効に遮断することが出来、視界を妨げることが
なく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優
れた電磁波低減反射防止膜が提供されることとなった。
【図１】電磁波低減反射防止コートの基本構成を示す図
である。
である。
【図２】透明導電層の高屈折率層が中間層との積層で形
成している図である。
成している図である。
【図３】透明導電層の高屈折率層が下地層との積層で形
成している図である。
成している図である。
Ｈ１，Ｈ２，Ｈ21，Ｈ22，Ｈ23 高屈折率層 Ｈ2I-1，Ｈ2I-2 中間層 Ｈ2U-1，Ｈ2U-2 下地層 Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３ 低屈折率層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 中村 新吾 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内
Claims (9)
- 【請求項１】 透明基材上に形成した透明導電層を有す
る反射防止コートにおいて、透明導電層の中間に異なる
膜構造又は異なる材料からなる１層又は複数の中間層を
設けた膜構成を有することを特徴とする電磁波低減反射
防止コート。 - 【請求項２】 透明導電層を酸化インジューム又はイン
ジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を酸化
シリコン、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタ
ル、又は前記各々の酸化物を主成分とした混合物、又は
前記透明導電層より膜の緻密度の低い酸化インジュー
ム、又はインジュームを主成分とする酸化物で形成した
ことを特徴とする請求項１に記載の電磁波低減反射防止
コート。 - 【請求項３】 中間層として酸化シリコン層を１層又は
２層形成したことを特徴とする請求項１又は２に記載の
電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項４】 中間層として酸化ジルコニウム層又は酸
化ジルコニウムとチタンの混合層を１層又は２層形成し
たことを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁波低減
反射防止コート。 - 【請求項５】 中間層として酸化チタン層又は酸化タン
タル層又は酸化チタンと酸化タンタルの混合層を１層又
は２層形成したことを特徴とする請求項１又は２に記載
の電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項６】 透明導電層を酸化インジューム又はイン
ジュームを主成分とする酸化物で形成し、中間層を前記
透明導電層より膜の緻密度が低い酸化インジューム又は
インジュームを主成分とする酸化物で形成したことを特
徴とする請求項１又は２に記載の電磁波低減反射防止コ
ート。 - 【請求項７】 透明基材上に形成した透明導電層を有す
る反射防止コートにおいて、透明導電層の下地層とし
て、透明導電層と異なる材料からなる層を設けた膜構成
を有することを特徴とする電磁波低減反射防止コート。 - 【請求項８】 透明導電層を酸化インジューム又はイン
ジュームを主成分とする酸化物で形成し、下地層を基材
に近い側から高屈折率金属酸化物層と酸化シリコン層の
積層体としたことを特徴とする請求項７に記載の電磁波
低減反射防止コート。 - 【請求項９】 高屈折率金属酸化物層を酸化ジルコニウ
ム、酸化チタン、酸化タンタル又は前記各々の酸化物を
主成分とした混合物で形成したことを特徴とする請求項
８に記載の電磁波低減反射防止コート。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27351798A JP3952609B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 電磁波低減反射防止コート |
| EP99114415A EP0975207B1 (en) | 1998-07-23 | 1999-07-22 | Electromagnetic wave attenuating transparent member |
| US09/358,557 US6319598B1 (en) | 1998-07-23 | 1999-07-22 | Electromagnetic wave attenuating transparent member |
| DE69935050T DE69935050D1 (de) | 1998-07-23 | 1999-07-22 | Durchsichtiges Element zur Dämpfung von elektromagnetischen Wellen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27351798A JP3952609B2 (ja) | 1998-09-28 | 1998-09-28 | 電磁波低減反射防止コート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000098101A true JP2000098101A (ja) | 2000-04-07 |
| JP3952609B2 JP3952609B2 (ja) | 2007-08-01 |
Family
ID=17528970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27351798A Expired - Fee Related JP3952609B2 (ja) | 1998-07-23 | 1998-09-28 | 電磁波低減反射防止コート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3952609B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345492A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Canon Inc | 光学素子及びミラー並びに反射防止膜 |
| GB2431931A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-09 | Fu Ching Technologies Co Ltd | Anti-reflection layer and manufacturing method and apparatus |
-
1998
- 1998-09-28 JP JP27351798A patent/JP3952609B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005345492A (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-15 | Canon Inc | 光学素子及びミラー並びに反射防止膜 |
| JP4630574B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2011-02-09 | キヤノン株式会社 | 光学素子及びミラー並びに反射防止膜 |
| GB2431931A (en) * | 2005-11-04 | 2007-05-09 | Fu Ching Technologies Co Ltd | Anti-reflection layer and manufacturing method and apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3952609B2 (ja) | 2007-08-01 |
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