JP3952603B2 - 電磁波低減反射防止膜および該反射防止膜を有する光学部材 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は電磁波シールド効果を有する反射防止コートおよび反射防止コートを有する光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管やその他の電子機器から放射される電磁波が、人体へ影響を与えるのではないかという疑問が提起され、関心が高まっている。
これら電磁波による影響を避けるために、従来しばしば見られる方法は、金網などの透視可能の導電物で覆うことであった。
しかし、ブラウン管などをこれら導電物で覆った場合、金網などを構成する細線で画面が見えにくくなり、使用者の目が疲れるという問題があった。
【０００３】
これに対して、画面表面などに金属細線の網の変わりに透光性薄膜の積層体を設け、反射防止効果と共に電磁波低減効果を得ようとする試みが提案されている。例えば、特開平６−３４８０１号公報に開示されたものは、基材から順に透明導電体層として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、低屈折率層として酸化シリコン、高屈折率層として酸化チタンの３層の積層体を用いている。これは、反射防止効果によって画面が見やすくなったが、透明導電層の膜厚が３００オングストローム以下と薄く、電磁波のシールド効果が低く、十分な効果を上げていない。
【０００４】
また、特願平９−２６９２０４号に開示されたものは、透光性低屈折率層と透光性高屈折率層の積層構造において、高屈折率層に透明導電層として、酸化インジウム錫を材料として用い、その膜厚を１０００オングストローム以上としたものである。
導電層を厚くしたことにより、シート抵抗が低下し、電磁波シールド効果は向上し、実用上十分な性能が得られた。しかし、プラスチック透明基材に形成したとき、高温高湿環境で保管すると、コート膜の色ムラや膜浮きが生じやすく、耐環境性の点で問題があった。
【０００５】
さらに、メニスカスタイプのレンズに上記のような電磁波シールド効果を有する薄膜をコートする場合は、凹面にコートするのが通例であった。これはすり傷の発生や汚れ防止のためであった。しかし、凹面へコートされた、膜厚１０００オングストローム以上の透明導電層を有する電磁波低減反射防止膜では、高温高湿環境（６０℃、湿度９０％に１週間放置）で、レンズ基材の伸縮のため、コート剥がれやコート色の色ムラ等が生じる問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れた電磁波低減反射防止膜を得ようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／cm2以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第３の低屈折率層の緻密性を上記第１の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする。
また、本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／ cm 2 以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第１、第２の高屈折率層を透明導電層とし、上記第１の高屈折率層の構造と上記第２の高屈折率層の構造を異なるものとしたことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、以下の態様によって実施される。
本発明の電磁波低減反射防止膜の構成の１例を具体的に示せば、図１において、透明基材上から、第１の低屈折率の透明薄膜層Ｌ1、第１の高屈折率の透明薄膜層Ｈ1、第２の低屈折率の透明薄膜層Ｌ2、第２の高屈折率の透明薄膜層Ｈ2、第３の低屈折率の透明薄膜層Ｌ3からなり、
低屈折率の透明薄膜層Ｌ1は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 ２〜３×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 ２〜５Å／ｓｅｃ
膜厚 １２０〜２００Å
透明薄膜層Ｌ2は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 １．５×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 １０〜２０Å／ｓｅｃ
膜厚 ２５０〜３００Å
透明薄膜層Ｌ3は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 ５×１０~3ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 ３０〜５０Å／ｓｅｃ
膜厚 ８００〜９００Å
上記透明薄膜層Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3の蒸着条件で、ポリカーボネート樹脂基板上に厚さ１０００Åの単層コートを蒸着し、スチールウール試験で膜の硬さをテストすると共に、断面の電子顕微鏡観察を行い、膜の構造を見た。その結果を表１に示す。
【表１】
膜の緻密性の高い膜は、膜の堆積状況が均一で、粒塊が少なかった。一方、低い膜は粒塊の発生が多く、ボソボソとした感じを与えた。
【０００９】
高屈折率の透明薄膜層Ｈ1はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
酸素ガス圧 ２〜３×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着材料 酸化インジウム錫焼結体（Ｓｎ含有量５〜１０ｗ％）
蒸着速度 ２００〜１２０Å／ｍｉｎ
ＲＦ放電電力 ７００〜８００Ｗ
膜厚 １００〜２００Å
透明薄膜層Ｈ2はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
上記透明薄膜層Ｈ1、Ｈ2の蒸着条件で、ポリカーボネート樹脂基板上に厚さ１０００Åの単層コートを蒸着し、断面の電子顕微鏡観察を行い、膜の構造を比較した。
膜の緻密性の高い膜Ｈ2は、膜の堆積状況が均一で、粒塊が少なかった。一方、低い膜Ｈ1は粒塊の発生が多く、ボソボソとした感じを与えた。
【００１０】
図３のメニスカスタイプのプラスチックレンズは、例えば眼鏡用レンズ等として用いられる。その表面に電磁波低減反射防止コートを形成するとき、凸面側に形成する。
透明導電層の膜厚が１０００Å以上のとき、図１または図２の構成の電磁波低減反射防止コートは、一方向の内部応力（圧縮応力）を有している。そのため、湾曲した基板の凹面にコートしたときは、６０℃、９０％湿度環境に１週間放置すると、コート膜浮きやコート色ムラが生じる。これに対して、凸面にコートしたときは、同様の環境テストにおいても、問題の発生は少なく、実用上問題とならない。特に、メニスカスタイプの凸レンズでその効果は大きい。
【００１１】
【実施例】
（実施例１）
以下実施例を示す。図１における高屈折率の透明薄膜層Ｈ2を２種類の膜構造の積層体として、図２の電磁波低減反射防止膜を得た。基材に近い側を上記膜Ｈ1と同じ緻密性の低い膜構造の層Ｈ21とし、基材に遠い側をより緻密性の高い膜構造の層Ｈ22とする。それぞれの層Ｈ21、Ｈ22の蒸着条件は、それぞれ上記の層Ｈ1、Ｈ2の蒸着条件と同じである。
図２に示す構成の電磁波低減反射防止コートの形成条件の１例は以下の通りである。
【００１２】
各膜層の膜厚および屈折率は、
である。この電磁波低減反射防止膜は、光学反射防止性能、膜付き（テープ剥離テスト、クロスカット法）耐環境性のいずれでも良好であり、シート抵抗は３０Ω／cm2、電磁波遮蔽性能は２５ｄＢであった。
【００１３】
（比較例１）
実施例１においてＬ1層の蒸着条件を酸素ガス圧５×１０~3ＰＡＳに、蒸着速度を４０Å／ｓｅｃに変更した。他の条件は同じである。
（比較例２）
実施例１においてＬ3層の蒸着条件をＬ1層の蒸着条件と同じとした。ただし膜厚は８００Åである。
【００１４】
（実施例２）
実施例１において、基材としてポリカーボネート樹脂に紫外線効果樹脂からなるハードコートを形成したものを用い、Ｈ1層の蒸着時の酸素ガス圧を３×１０~2ＰＡＳとし、ＲＦ放電電力６５０Ｗを印加、また、Ｌ3層蒸着時の酸素ガス圧を３×１０~3ＰＡＳ、蒸着速度を５０Å／ｓｅｃとした。他の条件は実施例１と同じである。
【００１５】
（実施例３）
実施例１において、Ｈ1層を、蒸着材料として酸化インジウムと酸化亜鉛の混合焼結体を用い、ＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。
Ｈ21層はＨ1層と同じ混合層とし、膜厚を１１０Åとする。Ｈ22層はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。蒸着材料としてはインジウム金属と亜鉛金属を用い、酸素圧力２×１０~2ＰＡＳ下で蒸着速度はインジウム金属で１７０Å／ｓｅｃ、亜鉛金属で５Å／ｓｅｃとした。
他は実施例１と同じである。
【００１６】
（実施例４）
実施例１において、Ｈ21層をＨ22層と同じ条件でコートした。他は実施例１と同じである。
【００１７】
（実施例５）
メニスカス形状のポリカーボネート樹脂成形のレンズの凸面に、実施例１の電磁波低減反射防止コートを形成した。
（比較例３）
実施例５において、凸面ではなく凹面に実施例１のコートを形成した。
【００１８】
上記実施例と比較例との評価を下の表に示す。
【表２】
【００１９】
【発明の効果】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、構成する各層の条件を最適に選ぶことにより、従来の電磁波低減反射防止膜に比して特に複雑化することもなく、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れたものを得ることが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電磁波低減反射防止膜の１実施例の膜構成を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波低減反射防止膜の他の実施例の膜構成を示す断面図である。
【図３】本発明の電磁波低減反射防止膜をメニスカスレンズに実施した場合の説明図である。
【産業上の利用分野】
本発明は電磁波シールド効果を有する反射防止コートおよび反射防止コートを有する光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管やその他の電子機器から放射される電磁波が、人体へ影響を与えるのではないかという疑問が提起され、関心が高まっている。
これら電磁波による影響を避けるために、従来しばしば見られる方法は、金網などの透視可能の導電物で覆うことであった。
しかし、ブラウン管などをこれら導電物で覆った場合、金網などを構成する細線で画面が見えにくくなり、使用者の目が疲れるという問題があった。
【０００３】
これに対して、画面表面などに金属細線の網の変わりに透光性薄膜の積層体を設け、反射防止効果と共に電磁波低減効果を得ようとする試みが提案されている。例えば、特開平６−３４８０１号公報に開示されたものは、基材から順に透明導電体層として酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、低屈折率層として酸化シリコン、高屈折率層として酸化チタンの３層の積層体を用いている。これは、反射防止効果によって画面が見やすくなったが、透明導電層の膜厚が３００オングストローム以下と薄く、電磁波のシールド効果が低く、十分な効果を上げていない。
【０００４】
また、特願平９−２６９２０４号に開示されたものは、透光性低屈折率層と透光性高屈折率層の積層構造において、高屈折率層に透明導電層として、酸化インジウム錫を材料として用い、その膜厚を１０００オングストローム以上としたものである。
導電層を厚くしたことにより、シート抵抗が低下し、電磁波シールド効果は向上し、実用上十分な性能が得られた。しかし、プラスチック透明基材に形成したとき、高温高湿環境で保管すると、コート膜の色ムラや膜浮きが生じやすく、耐環境性の点で問題があった。
【０００５】
さらに、メニスカスタイプのレンズに上記のような電磁波シールド効果を有する薄膜をコートする場合は、凹面にコートするのが通例であった。これはすり傷の発生や汚れ防止のためであった。しかし、凹面へコートされた、膜厚１０００オングストローム以上の透明導電層を有する電磁波低減反射防止膜では、高温高湿環境（６０℃、湿度９０％に１週間放置）で、レンズ基材の伸縮のため、コート剥がれやコート色の色ムラ等が生じる問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れた電磁波低減反射防止膜を得ようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／cm2以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第３の低屈折率層の緻密性を上記第１の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする。
また、本発明の電磁波低減反射防止膜は、透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／ cm 2 以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第１、第２の高屈折率層を透明導電層とし、上記第１の高屈折率層の構造と上記第２の高屈折率層の構造を異なるものとしたことを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、以下の態様によって実施される。
本発明の電磁波低減反射防止膜の構成の１例を具体的に示せば、図１において、透明基材上から、第１の低屈折率の透明薄膜層Ｌ1、第１の高屈折率の透明薄膜層Ｈ1、第２の低屈折率の透明薄膜層Ｌ2、第２の高屈折率の透明薄膜層Ｈ2、第３の低屈折率の透明薄膜層Ｌ3からなり、
低屈折率の透明薄膜層Ｌ1は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 ２〜３×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 ２〜５Å／ｓｅｃ
膜厚 １２０〜２００Å
透明薄膜層Ｌ2は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 １．５×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 １０〜２０Å／ｓｅｃ
膜厚 ２５０〜３００Å
透明薄膜層Ｌ3は真空蒸着法によって形成した酸化シリコン層であり、蒸着条件は
酸素ガス圧 ５×１０~3ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着速度 ３０〜５０Å／ｓｅｃ
膜厚 ８００〜９００Å
上記透明薄膜層Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3の蒸着条件で、ポリカーボネート樹脂基板上に厚さ１０００Åの単層コートを蒸着し、スチールウール試験で膜の硬さをテストすると共に、断面の電子顕微鏡観察を行い、膜の構造を見た。その結果を表１に示す。
【表１】
【０００９】
高屈折率の透明薄膜層Ｈ1はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
酸素ガス圧 ２〜３×１０~2ＰＡＳ
基板温度 ７０〜９０℃
蒸着材料 酸化インジウム錫焼結体（Ｓｎ含有量５〜１０ｗ％）
蒸着速度 ２００〜１２０Å／ｍｉｎ
ＲＦ放電電力 ７００〜８００Ｗ
膜厚 １００〜２００Å
透明薄膜層Ｈ2はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウム錫層で、蒸着条件は、
膜の緻密性の高い膜Ｈ2は、膜の堆積状況が均一で、粒塊が少なかった。一方、低い膜Ｈ1は粒塊の発生が多く、ボソボソとした感じを与えた。
【００１０】
図３のメニスカスタイプのプラスチックレンズは、例えば眼鏡用レンズ等として用いられる。その表面に電磁波低減反射防止コートを形成するとき、凸面側に形成する。
透明導電層の膜厚が１０００Å以上のとき、図１または図２の構成の電磁波低減反射防止コートは、一方向の内部応力（圧縮応力）を有している。そのため、湾曲した基板の凹面にコートしたときは、６０℃、９０％湿度環境に１週間放置すると、コート膜浮きやコート色ムラが生じる。これに対して、凸面にコートしたときは、同様の環境テストにおいても、問題の発生は少なく、実用上問題とならない。特に、メニスカスタイプの凸レンズでその効果は大きい。
【００１１】
【実施例】
（実施例１）
以下実施例を示す。図１における高屈折率の透明薄膜層Ｈ2を２種類の膜構造の積層体として、図２の電磁波低減反射防止膜を得た。基材に近い側を上記膜Ｈ1と同じ緻密性の低い膜構造の層Ｈ21とし、基材に遠い側をより緻密性の高い膜構造の層Ｈ22とする。それぞれの層Ｈ21、Ｈ22の蒸着条件は、それぞれ上記の層Ｈ1、Ｈ2の蒸着条件と同じである。
図２に示す構成の電磁波低減反射防止コートの形成条件の１例は以下の通りである。
各膜層の膜厚および屈折率は、
【００１３】
（比較例１）
実施例１においてＬ1層の蒸着条件を酸素ガス圧５×１０~3ＰＡＳに、蒸着速度を４０Å／ｓｅｃに変更した。他の条件は同じである。
（比較例２）
実施例１においてＬ3層の蒸着条件をＬ1層の蒸着条件と同じとした。ただし膜厚は８００Åである。
【００１４】
（実施例２）
実施例１において、基材としてポリカーボネート樹脂に紫外線効果樹脂からなるハードコートを形成したものを用い、Ｈ1層の蒸着時の酸素ガス圧を３×１０~2ＰＡＳとし、ＲＦ放電電力６５０Ｗを印加、また、Ｌ3層蒸着時の酸素ガス圧を３×１０~3ＰＡＳ、蒸着速度を５０Å／ｓｅｃとした。他の条件は実施例１と同じである。
【００１５】
（実施例３）
実施例１において、Ｈ1層を、蒸着材料として酸化インジウムと酸化亜鉛の混合焼結体を用い、ＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。
Ｈ21層はＨ1層と同じ混合層とし、膜厚を１１０Åとする。Ｈ22層はＲＦイオンプレーティング蒸着法により形成した酸化インジウムと酸化亜鉛の混合層とした。蒸着材料としてはインジウム金属と亜鉛金属を用い、酸素圧力２×１０~2ＰＡＳ下で蒸着速度はインジウム金属で１７０Å／ｓｅｃ、亜鉛金属で５Å／ｓｅｃとした。
他は実施例１と同じである。
【００１６】
（実施例４）
実施例１において、Ｈ21層をＨ22層と同じ条件でコートした。他は実施例１と同じである。
【００１７】
（実施例５）
メニスカス形状のポリカーボネート樹脂成形のレンズの凸面に、実施例１の電磁波低減反射防止コートを形成した。
（比較例３）
実施例５において、凸面ではなく凹面に実施例１のコートを形成した。
【００１８】
上記実施例と比較例との評価を下の表に示す。
【表２】
【発明の効果】
本発明の電磁波低減反射防止膜は、構成する各層の条件を最適に選ぶことにより、従来の電磁波低減反射防止膜に比して特に複雑化することもなく、オフィスオートメーション機器、テレビのブラウン管や他の機器から発生する電磁波を有効に遮蔽することが出来、視界を妨げることがなく、目の疲労を少なくすることが出来る耐環境性に優れたものを得ることが出来た。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の電磁波低減反射防止膜の１実施例の膜構成を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波低減反射防止膜の他の実施例の膜構成を示す断面図である。
【図３】本発明の電磁波低減反射防止膜をメニスカスレンズに実施した場合の説明図である。
Claims (12)
- 透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／cm2以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第３の低屈折率層の緻密性を上記第１の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする電磁波低減反射防止膜。
- 透明基材から順に、第１の低屈折率層、第１の高屈折率層、第２の低屈折率層、第２の高屈折率層、第３の低屈折率層の５層の順次積層された透光性薄膜で構成され、上記透光性薄膜のシート抵抗が、１００Ω／cm2以下であり、かつ、上記第１、第２、第３の低屈折率層の材料は酸化シリコンであり、上記第１と第３の低屈折率層の構造が異なっていると共に、上記第１、第２の高屈折率層を透明導電層とし、上記第１の高屈折率層の構造と上記第２の高屈折率層の構造を異なるものとしたことを特徴とする電磁波低減反射防止膜。
- 上記第３の低屈折率層の緻密性を上記第１の低屈折率層の緻密性より高くしたことを特徴とする請求項２に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第２の高屈折率層を、２種類の層の積層によって構成したことを特徴とする請求項２または３に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記２種類の層は、基材に近い側を緻密性の低い層とし、基材より遠い側を緻密性の高い層としたことを特徴とする請求項４の電磁波低減反射防止膜。
- 上記２種類の層は、基材に近い側を粒塊状に成長した構造の膜とし、基材より遠い側を粒塊が少なく均一性の高い構造の層としたことを特徴とする請求項４あるいは請求項５の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第１の高屈折率層を１種類の膜構造で形成したことを特徴とする請求項２ないし請求項６のいずれかに記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第１の高屈折率層を緻密性の低い層構造としたことを特徴とする請求項７に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記第１の高屈折率層を粒塊状に成長した構造としたことを特徴とする請求項７あるいは請求項８に記載の電磁波低減反射防止膜。
- 上記高屈折率層を酸化インジウムあるいは酸化インジウムと錫の混合物としたことを特徴とする請求項２ないし請求項９のいずれかに記載の電磁波低減反射防止膜。
- 請求項１ないし請求項１０のいずれかの電磁波低減反射防止膜をその凸面部に設けたことを特徴とする反射防止膜を有する光学部材。
- 上記光学部材はメニスカスレンズであり、その凸面部に上記電磁波低減反射防止膜を設けたことを特徴とする請求項１１の反射防止膜を有するレンズ。
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| US09/358,557 US6319598B1 (en) | 1998-07-23 | 1999-07-22 | Electromagnetic wave attenuating transparent member |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JP2000039502A JP2000039502A (ja) | 2000-02-08 |
| JP3952603B2 true JP3952603B2 (ja) | 2007-08-01 |
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ID=16782754
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