JP2000094325A - 処理液用ノズル装置およびそれを用いた処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】この発明は基板を処理する処理液を均一に噴出
させることができるようにしたスリット装置を提供する
ことにある。 【構成】 基板１１を処理するための処理液を上記被処
理物に向けて噴出する所定の長さ寸法を有する洗浄用ノ
ズル装置において、第１の板状部材２１と第２の板状部
材２２とをスペーサ３２を介して接合し、上記第１の板
状部材と第２の板状部材との接合面間には上記処理液が
供給される空間部２６を形成するとともに、上記スペー
サには一端が上記空間部に連通し他端が接合する上記一
対の板状部材の端面に開放する複数のスリット３３が長
手方向全長に所定間隔で形成されていることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は被処理物を処理す
る処理液を噴出する処理液用ノズル装置及びそのノズル
装置が用いられた処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば液晶表示装置や半導体装置の製
造工程においては、被処理物としての液晶用ガラス基板
や半導体ウエハなどの基板に回路パタ−ンを形成する成
膜プロセスやフォトプロセスがあり、これらのプロセス
においては、上記基板を処理室において処理液で処理す
るということが行われている。

【０００３】基板の処理としてはたとえば処理液として
純水や薬液を用いた洗浄処理などがある。基板を処理液
によって処理する方法としては洗浄槽に薬液を蓄え、そ
こに基板を浸漬するディップ方式や１枚の基板に対して
処理液を噴出して処理する枚葉方式などがあり、最近で
は処理効果や処理効率の高い枚葉方式が採用されること
が多くなっている。

【０００４】枚葉方式によって基板を処理する場合、基
板の搬送路に対向させてノズル装置を配置し、このノズ
ル装置から搬送される基板に向けて処理液を噴出するこ
とで処理を行うようにしている。このような処理に際
し、その処理効果を高めるためには上記ノズル装置によ
って基板の全面に処理液を均一に噴出できるようにする
ことが重要である。

【０００５】従来、上記ノズル装置は所定の長さ寸法の
一対の板状部材を接合し、これら板状部材の接合面間に
処理液が供給される空間部および一端がこの空間部に連
通し他端が板状部材の端面に開放するスリットを上記板
状部材の長手方向ほぼ全長にわたって形成する。そし
て、上記空間部に処理液を所定の圧力で供給すること
で、その処理液を上記スリットから基板に向けて噴出
し、その基板を処理するようにしている。

【０００６】ところで、図５に示すようにノズル装置１
にスリット２を幅寸法Ｗ１で形成した場合、上記スリッ
ト２から噴出する処理液Ｌの幅寸法Ｗ２はスリット２の
幅寸法Ｗ１より小さくなるということが確認されてい
る。これは、スリット２の幅方向両端部における処理液
の流れ抵抗が他の部分に比べて大きくなるためであると
考えられている。

【０００７】つまり、スリット２の両端部においては処
理液Ｌの流路となる前後方向及び一側の三方向が閉塞さ
れているのに対し、中途部では前後方向の二方向だけし
か閉塞されていない。そのため、両端部と中途部では処
理液とスリット内面との接触抵抗に差が生じ、スリット
２の幅方向両端部で処理液Ｌが流れにくくなる。

【０００８】このように、処理液Ｌがスリット２の幅方
向両端部で流れにくくなると、基板３のスリット２の両
端部に対応する部分が確実に処理されなくなるというこ
とがある。

【０００９】また、基板３に対する処理の均一化を計る
ために、処理液Ｌの幅寸法Ｗ２が短くなる分、ノズル装
置１の長さ寸法を長くし、スリット２の幅寸法Ｗ１を長
くすることで対応することもできるが、そのようにして
対応すると、ノズル装置１の長尺化を招き、それによっ
て処理装置が大型化するということがある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のノ
ズル装置はそのスリットの長手方向両端部における処理
液の流量が減少するため、被処理物を均一に処理するこ
とができなかったり、処理の均一化を計るためにはノズ
ル装置を被処理物の幅寸法よりも十分に長尺化しなけれ
ばならないため、大型化を招くなどのことがあった。

【００１１】この発明は、長手方向両端部において処理
液の流量が減少することがないようにした処理用ノズル
装置及びそれを用いた処理装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理物を処理するための処理液を上記被処理物に向けて噴
出する所定の長さ寸法を有する洗浄用ノズル装置におい
て、第１の板状部材と第２の板状部材とをスペーサを介
して接合し、上記第１の板状部材と第２の板状部材との
接合面間には上記処理液が供給される空間部を形成する
とともに、上記スペーサには一端が上記空間部に連通し
他端が接合する上記一対の板状部材の端面に開放する複
数のスリットが長手方向全長に所定間隔で形成されてい
ることを特徴とする。

【００１３】請求項２の発明は、所定方向に搬送される
被処理物に対向配置された洗浄用ノズル装置から処理液
を噴出し、上記被処理物を処理する処理装置において、
上記洗浄用ノズル装置は請求項１に記載された構成であ
ることを特徴とする。

【００１４】請求項１と請求項２の発明によれば、スペ
ーサに複数のスリットを所定間隔で形成し、各スリット
から処理液を噴出させるようにしたことで、各スリット
から噴出する処理液の抵抗をほぼ同じにできるから、長
手方向全長から処理液を均一に噴出させることができ
る。

【００１５】

【実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を図１乃
至図４を参照して説明する。

【００１６】図４は被処理物としての半導体ウエハや液
晶用ガラス基板などの基板１１を純水やオゾン水などの
処理液Ｌで処理するための処理装置を示し、この処理装
置は処理槽１２を備えている。この処理槽１２の一端側
には搬入口１３が形成され、他端には搬出口１４が形成
されている。

【００１７】上記搬入口１３からは上記基板１１が搬送
機構１５を構成する搬送ローラ１６によって搬入され
る。搬入口１３から処理槽１２内へ搬入された基板１１
は一対の第１のエアナイフ１７によって前工程でその上
下面に付着した液体が除去されてから処理用ノズル装置
１８の下方に搬送される。

【００１８】上記ノズル装置１８からは処理液Ｌが噴出
され、上記基板１はその処理液Ｌによって洗浄などの所
定の処理がなされた後、一対の第２のエアナイフ１９に
よって表面に付着した処理液Ｌが除去されてから搬出口
１４より処理槽１２の外部へ搬出されるようになってい
る。

【００１９】上記ノズル装置１８は図１と図２に示すよ
うに構成されている。すなわち、ノズル装置１８は矩形
板状の第１の板状部材２１と第２の板状部材２２とがこ
れら板状部材に比べて薄い板状のスペーサ２３を介して
接合され、その上端部と下端部とがそれぞれねじ２４に
よって結合固定されてなる。第１、第２の板状部材２
１，２２の長さ寸法は上記基板１１の長さ寸法よりもわ
ずかに大きく設定されている。

【００２０】上記第１の板状部材２１と第２の板状部材
２２との接合面間には、上記第１の板状部材２１の内面
に形成された凹部２５によって一対の板状部材の長手方
向ほぼ全長にわたる空間部２６が形成されている。

【００２１】上記第２の板状部材２２の上記空間部２６
に対応する部分には複数、この実施の形態では図２に示
すように４つの供給口２７が長手方向の中心に対して左
右対称に形成されている。

【００２２】各供給口２７には接続リング２８が設けら
れ、この接続リング２８から上記供給口２７にはＬ字状
の継手２９が捩じ込まれている。この継手２９は処理液
Ｌの図示しない供給源に同じく図示しないホースを介し
て接続されている。それによって、上記供給口２７から
上記空間部２６へは上記供給源からの処理液Ｌが所定の
圧力で供給されるようになっている。

【００２３】上記スペーサ２３には、上記空間部２６と
対応する位置に開口部３１が形成されている。この開口
部３１は上記空間部２６よりも上下方向の高さ寸法が小
さく設定されていて、開口部３１の下側には所定寸法の
帯状部３２を残してスペーサ２３の下端に開放する複数
のスリット３３が長手方向のほぼ全長にわたって所定間
隔、この実施の形態では等間隔で、かつ同じ幅寸法で形
成されている。長手方向両端に位置するスリット３３の
間隔は上記基板１１の幅寸法とほぼ同じに設定されてい
る。

【００２４】なお、一対の板状部材２１，２２の長さ寸
法は基板１１の幅寸法よりもわずかに大きく設定されて
いる。

【００２５】上記スリット３３の上端部は上記空間部２
６に対向位置している。したがって、上記供給口２７か
ら上記空間部２６へ供給された処理液Ｌは、図１に矢印
で示すようにこの空間部２６に位置するスリット３３の
上端部からスリット３３を通り、その下端の開放端から
噴出するようになっている。

【００２６】上記構成の処理装置によれば、搬送機構１
５によって基板１１が処理槽１２内へ搬送されてくる
と、まず、第１のエアナイフ１７によって基板１１に付
着した液体、たとえば前工程での処理液などが除去され
てからノズル装置１８の下方を通過する。

【００２７】上記ノズル装置１８のスリット３３からは
処理液Ｌが基板１１に向けて噴出される。それによっ
て、基板１１の上面はその処理液Ｌによって処理される
ことになる。

【００２８】ノズル装置１８は、一対の板状部材２１，
２２の接合面間にスペーサ２３を設け、このスペーサ２
３に長手方向に対して等間隔で複数のスリット３３を形
成した。そして、処理液Ｌは、上記空間部２６からこの
空間部２６に上端部を連通させたスリット３３に流入さ
せ、このスリット３３の下端から噴出させるようにして
いる。

【００２９】各スリット３３はその厚さ方向（前後方
向）両側と幅方向両側との周囲四方向が閉塞されてい
て、その条件はノズル装置１８の長手方向のどの位置の
スリット３３も同じになっているから、ノズル装置１８
の各スリット３３からは同じ条件、つまり同じ流れ抵抗
で処理液Ｌが噴出する。

【００３０】それによって、各スリット３３からの処理
液Ｌの流出量はほぼ同じになるから、基板１１は上記ノ
ズル装置１８によって幅方向全長がほぼ均一に処理さ
れ、さらに基板１１が搬送機構１５によって搬送される
ことでその全面が均一に処理されることになる。

【００３１】しかも、上記ノズル装置１８の長手方向全
長から処理液Ｌがほぼ均一に噴出されることで、このノ
ズル装置１８の長さ寸法を基板１１の幅寸法よりもわず
かに大きくすればよいから、幅方向両端部を有効に利用
することができなかった従来のノズル装置に比べてその
長さ寸法を短くすることができる。

【００３２】つまり、ノズル装置１８を従来に比べて短
尺化することができるから、その分、処理槽１２を小さ
くし、処理装置の小型化を計ることができる。

【００３３】なお、この発明は上記一実施の形態に限定
されず、種々変形可能である。たとえば、スペーサに形
成されるスリットの幅寸法を長手方向中央部に比べて両
端部を大きくすることで、その幅寸法に応じて処理液の
噴出量の分布状態を変化させるようにしてもよい。

【００３４】

【発明の効果】請求項１と請求項２の発明によれば、一
対の板状部材の間にスペーサを介在させ、そのスペーサ
に複数のスリットを所定間隔で形成し、各スリットから
処理液を噴出させるようにした。

【００３５】そのため、各スリットから噴出する処理液
の抵抗をほぼ同じにし、長手方向全長から処理液を均一
に噴出させることができるから、被処理物の処理を均一
に行うことができる。しかも、ノズル装置のほぼ全長を
被処理物の処理に有効に利用することが可能となるか
ら、長手方向両端部を有効に利用できなかった従来のノ
ズル装置に比べてその長さ寸法を短くし、ノズル装置や
それが用いられた処理装置の小型化を計ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態のノズル装置を示す縦
断面図。

【図２】同じくノズル装置の分解斜視図。

【図３】同じくノズル装置からの処理液の噴出状態の説
明図。

【図４】同じくこの発明のノズル装置が用いられた処理
装置の概略的構成図。

【図５】従来のノズル装置からの処理液の噴出状態の説
明図。

【符号の説明】

１１…基板（被処理物） １２…処理槽 １５…搬送手段 ２１…第１の板状部材 ２２…第２の板状部材 ２６…空間部 ３３…スリット

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物を処理するための処理液を上記
   被処理物に向けて噴出する所定の長さ寸法を有する洗浄
   液用ノズル装置において、 第１の板状部材と第２の板状部材とをスペーサを介して
   接合し、上記第１の板状部材と第２の板状部材との接合
   面間には上記処理液が供給される空間部を形成するとと
   もに、上記スペーサには一端が上記空間部に連通し他端
   が接合する上記一対の板状部材の端面に開放する複数の
   スリットが長手方向全長に所定間隔で形成されているこ
   とを特徴とする処理液用ノズル装置。
2. 【請求項２】 所定方向に搬送される被処理物に対向配
   置された洗浄用ノズル装置から処理液を噴出し、上記被
   処理物を処理する処理装置において、 上記処理液用ノズル装置は請求項１に記載された構成で
   あることを特徴とする処理装置。