JP2000090829A - Manufacture for image display device - Google Patents

Manufacture for image display device

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JP2000090829A
JP2000090829A JP10263035A JP26303598A JP2000090829A JP 2000090829 A JP2000090829 A JP 2000090829A JP 10263035 A JP10263035 A JP 10263035A JP 26303598 A JP26303598 A JP 26303598A JP 2000090829 A JP2000090829 A JP 2000090829A
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JP
Japan
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substrate
positioning
support frame
electron
image forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP10263035A
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Japanese (ja)
Inventor
Osamu Takamatsu
修 高松
Masahiro Tagawa
昌宏 多川
Shinya Koyama
信也 小山
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JP2000090829A publication Critical patent/JP2000090829A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform a high accurate alignment and to reduce misalignment even in a high temperature process, in assembling of a plate-type image forming device. SOLUTION: In this method, a sealed container formed by connecting a first substrate 1 with a second substrate 7 through support frames 2 is manufactured. This method includes a first process for arranging the support frames 2 on the first substrate 1 and fixing positioning fixing members 4 to other part than the support frames 2, a second process for forming a positioning connecting layer 6 on each positioning fixing member 4, a third process for positioning the first substrate 1 and the second substrate 7 and fixing them with the positioning connecting layer 6, a fourth process for pressurizing regions disposed with the support frames 2 of the first substrate 1 and/or the second substrate 7, and a fifth process for softening a seal agent 3 arranged on the first substrate 1 and the second substrate 7 or seal agent 3 arranged on the support frames 2 in a thermal process and bending, crushing, cooling, and solidifying the first substrate 1 or the second substrate 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成装置の製
造方法に関し、特に、電子放出素子等を配列した基板
と、蛍光体等を配列し基板とを高精度で位置決めし接合
することができる画像形成装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an image forming apparatus, and more particularly, to a substrate on which electron-emitting devices and the like are arranged and a substrate on which phosphors and the like are arranged can be positioned and joined with high precision. The present invention relates to a method for manufacturing an image forming apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、型画像形成装置として、アクティ
ブマトリクス型液晶が、CRTにかわって、用いられる
様になってきた。また、アクティブマトリクス型液晶
は、自発光型でないため、バックライトを用い、表示を
おこなうものであるが、光の利用効率が低いために、さ
らに明るい画像形成装置が望まれていた。このため、プ
ラズマディスプレーや、電界電子放出素子や表面伝導型
電子放出素子(例えば、特開平7−235255号公
報)等の冷陰極電子放出素子から放出した電子を加速し
衝突させ、蛍光体を発光させ表示をおこなう自発光型画
像形成装置の開発が実用化されつつある。これら平板型
画像形成装置は、数十インチの大面積化もおこなわれつ
つある。特に、これらの画像形成装置においては、高精
度および容易な組み立て方法が望まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an active matrix type liquid crystal has been used as a type image forming apparatus instead of a CRT. The active matrix type liquid crystal is not a self-luminous type, and performs display using a backlight. However, since the light use efficiency is low, a brighter image forming apparatus has been desired. For this reason, electrons emitted from a cold cathode electron-emitting device such as a plasma display, a field electron-emitting device, and a surface conduction electron-emitting device (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255) are accelerated and collided to emit light from a phosphor. The development of a self-luminous image forming apparatus for displaying an image is being put to practical use. These flat-panel image forming apparatuses have been increasing in area to several tens of inches. In particular, in these image forming apparatuses, a highly accurate and easy assembling method is desired.

【0003】図7及び図8を参照して、特開平5−23
2451号公報に開示された平板型画像形成装置の組み
立て方法を説明する。液晶ガラス基板の一対の基板1,
2(以下第1基板、第2基板)の位置合わせを説明す
る。第1基板、第2基板には、電極パターン、位置合わ
せパターン、シール材が、施されている。これら第1、
第2基板は、位置合わせ装置に設置される。位置合わせ
装置によって、第1基板、第2基板は、加熱、保温され
る。次に、第1基板と第2基板は、位置合わせパターン
を介して、位置合わせがなされる。次に、第1基板、第
2基板は加圧され、同時に位置合わせされる。最後に、
加圧した状態で、所定時間保持された後、加圧が解除さ
れ、組み立てられた液晶セルは、位置合わせ装置からと
りはずされる。こうして、高温状態で位置ずれが発生し
ても、位置合わせがおこなわれるため、高精度に第1基
板と第2基板が位置合わせができるとされている。ま
た、該公開公報において、従来技術として、室温で、位
置合わせ後、光硬化性接着材で、仮止めを行い、さら
に、シール材を加熱、硬化させる方法も記述されてい
る。
Referring to FIG. 7 and FIG.
A method of assembling the flat plate type image forming apparatus disclosed in Japanese Patent No. 2451 will be described. A pair of liquid crystal glass substrates 1,
2 (hereinafter, the first substrate and the second substrate) will be described. The first substrate and the second substrate are provided with an electrode pattern, a positioning pattern, and a sealing material. These first,
The second substrate is set on the alignment device. The first substrate and the second substrate are heated and kept warm by the alignment device. Next, the first substrate and the second substrate are aligned through an alignment pattern. Next, the first substrate and the second substrate are pressurized and simultaneously aligned. Finally,
After being held for a predetermined time in the pressurized state, the pressurization is released, and the assembled liquid crystal cell is removed from the alignment device. In this way, even if the positional shift occurs in a high temperature state, the alignment is performed, so that the first substrate and the second substrate can be aligned with high accuracy. The publication also describes, as a conventional technique, a method of performing temporary fixing with a photocurable adhesive after positioning at room temperature, and further heating and curing the sealing material.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の冷陰極
電子放出素子を用いた平板型画像表示装置においては、
第1基板上の素子と第2基板上の画像形成部材(発光部
材)を1:1で対応させ、数十μ〜数百μの画素を形成
する際、第1基板上の素子と第2基板上の画像形成部材
の位置合わせが不十分な場合、画素の輝度ばらつきとな
ったり、カラーの場合は、RGBの各色が混色したり、
画像品位を損なうことが発生する。このため、第1基板
上の素子と第2基板上の画像形成部材の位置合わせは、
高精度であることが必要となる。上記液晶においては、
第1基板と第2基板を高温で加熱し、第1基板と第2基
板間に配された接着材を軟化しながら、加圧し、さら
に、高温加熱状態で第1基板と第2基板の位置合わせを
おこなった後、接着材の固化を行うことで、第1基板と
第2基板の組立をおこなう。このため、高温槽内でアラ
イメントをおこなう場合や加圧治具にヒーターを設置し
たりしておこなう。このため、アライメント装置に高温
仕様の精度が要求される問題や工程が複雑になり、低コ
スト化の必要性等の問題を発生する。一方、同公報でも
指摘している様に、室温位置合わせ、仮止めによる製造
方法では、接着材の軟化により、位置ずれが発生する等
問題が発生する可能性がある。
However, in the above-mentioned flat panel type image display device using the cold cathode electron-emitting device,
The elements on the first substrate correspond to the image forming members (light-emitting members) on the second substrate at a ratio of 1: 1. If the alignment of the image forming member on the substrate is insufficient, the brightness of the pixels may vary, and in the case of color, each color of RGB may be mixed,
The image quality may be impaired. Therefore, the alignment between the element on the first substrate and the image forming member on the second substrate is
High precision is required. In the above liquid crystal,
The first substrate and the second substrate are heated at a high temperature and pressurized while softening the adhesive disposed between the first substrate and the second substrate. Further, the positions of the first substrate and the second substrate are heated at a high temperature. After the alignment, the first substrate and the second substrate are assembled by solidifying the adhesive. For this reason, alignment is performed in a high-temperature bath, or a heater is installed in a pressing jig. For this reason, the problem that the accuracy of the high-temperature specification is required for the alignment apparatus and the process are complicated, and the problems such as the necessity of cost reduction occur. On the other hand, as pointed out in the same publication, in the manufacturing method using room temperature alignment and temporary fixing, there is a possibility that a problem such as displacement occurs due to softening of the adhesive.

【0005】一方、前記、電子放出素子から発生した電
子線を蛍光体に衝突発光させる画像形成装置において
は、さらに、真空容器を構成する必要があるため、前記
第1基板と第2基板間に配された接着材にあたる接合材
は、ガラス材料をもちいて、真空を維持する様に、接合
される。このため、上記、液晶の場合が、有機系接着材
であるため、軟化温度が、150℃前後なのに比べ、4
00℃以上の高温であるため、更に、上記高精度の位置
合わせ、組み立て装置上の問題は、厳しいものとなる。
また、第1基板と第2基板を加熱する温度分布や温度差
は、第1基板と第2基板の熱膨張差を発生し、位置合わ
せの精度の低下や応力の発生をともない、真空容器の破
壊を発生する場合もあった。
On the other hand, in the above-mentioned image forming apparatus in which an electron beam generated from an electron-emitting device collides with a phosphor to emit light, it is necessary to further form a vacuum container, so that a space between the first substrate and the second substrate is required. The bonding material corresponding to the provided adhesive is bonded using a glass material so as to maintain a vacuum. For this reason, since the liquid crystal is an organic adhesive, the softening temperature is about 4 ° C. compared to about 150 ° C.
Since the temperature is as high as 00 ° C. or more, the problem of the high-precision alignment and assembling apparatus becomes severe.
In addition, the temperature distribution and the temperature difference for heating the first substrate and the second substrate cause a difference in thermal expansion between the first substrate and the second substrate, which causes a decrease in alignment accuracy and generation of a stress. In some cases, destruction occurred.

【0006】そこで、本発明は、これら平板型画像形成
装置の組み立てに於いて、高精度に位置合わせが行え、
さらに、高温工程でも位置ずれの少ない平板型画像形成
装置の製造方法を提供することを課題としている。
In view of the above, according to the present invention, in assembling these flat plate type image forming apparatuses, positioning can be performed with high accuracy.
It is still another object of the present invention to provide a method of manufacturing a flat-plate type image forming apparatus which has a small displacement even in a high-temperature process.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めの本発明は、第1基板と第2基板とを支持枠を介して
接合した密閉容器の製造方法であって、第1基板上に、
支持枠を配設し、前記支持枠外に位置決め固定部材を固
定する工程と、前記位置決め固定部材上に位置決め接合
層を形成する工程と、前記第1基板と前記第2基板と
を、位置決めして前記位置決め接合層により固定する工
程と、前記第1基板及び又は前記第2基板の支持枠の配
設された領域を加圧する工程と、加熱により前記第1基
板及び前記第2基板に配設したシール剤又は支持枠に配
設したシール剤を、軟化させる工程と、冷却して固化さ
せる工程とを含んでいる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention for solving the above-mentioned problems is a method for manufacturing a sealed container in which a first substrate and a second substrate are joined via a support frame, and wherein the method comprises the steps of: To
Arranging a support frame, fixing a positioning fixing member outside the support frame, forming a positioning bonding layer on the positioning fixing member, positioning the first substrate and the second substrate, A step of fixing with the positioning bonding layer, a step of pressing a region where the support frame of the first substrate and / or the second substrate is disposed, and a step of applying heat to the first substrate and the second substrate by heating. The method includes a step of softening the sealant or the sealant disposed on the support frame, and a step of cooling and solidifying the sealant.

【0008】又、本発明は、前記第1基板は画像信号に
基づいて電子を放出する電子放出素子が配された基板で
あり、前記第2基板は前記電子放出素子から放出された
電子の照射により発光する発光部材が配された基板であ
り、前記第1基板と前記第2基板とを前記支持枠を介し
て接合した密閉容器を含む画像形成装置の製造方法であ
って、上述した製造方法でその密閉容器を製造するよう
にしている。
Further, in the present invention, the first substrate is a substrate provided with an electron-emitting device for emitting electrons based on an image signal, and the second substrate is irradiated with the electrons emitted from the electron-emitting device. A method for manufacturing an image forming apparatus, comprising: a substrate provided with a light emitting member that emits light according to (1), wherein the first substrate and the second substrate are joined via the support frame. Manufactures the closed container.

【0009】すなわち、本発明においては、基板上に配
置された支持枠、さらにその外側の基板上に固定された
複数の位置決め固定部材と他方の基板とを位置決めした
後、他方の基板と基板上の複数の位置決め固定部材を接
合させ仮固定を行う。続いて、加熱しながら基板の支持
枠領域内を加圧することで支持枠上に形成されたシール
材を潰し、それに伴い基板を撓ませる事により気密シー
ルを行うものである。この時、複数の位置決め固定部材
により仮固定されているために位置ずれを生じる事無く
基板間の位置を高精度に規定できる。
That is, in the present invention, after positioning the other frame with the support frame disposed on the substrate, and a plurality of positioning and fixing members fixed on the outer substrate, the other frame is positioned on the other frame. Are temporarily fixed by joining the plurality of positioning fixing members. Subsequently, the sealing material formed on the support frame is crushed by pressing the inside of the support frame region of the substrate while heating, and the substrate is bent accordingly, thereby performing the hermetic sealing. At this time, the position between the substrates can be defined with high precision without causing a positional shift because the position is temporarily fixed by the plurality of positioning and fixing members.

【0010】更にあらかじめ第1基板と第2基板間に、
配設された複数の位置決め固定部材により仮固定ができ
ているため、高温で組み立てる場合でもアライメントす
る必要が無く、複雑な装置も必要なくなるため、装置の
簡略化ができる。
Further, between the first substrate and the second substrate,
Since the plurality of positioning and fixing members are temporarily fixed, alignment is not required even when assembling at a high temperature, and a complicated device is not required, so that the device can be simplified.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1は、本発明の画像形成装置の製造方法
の工程図である。
FIG. 1 is a process chart of a method for manufacturing an image forming apparatus according to the present invention.

【0013】図中1は第1基板、2は支持枠、3はシー
ル材、4は位置決め固定部材で、5は画像形成部材(電
子放出素子)、6は接合層、7は第2基板、8は画像表
示部材(発光部材)であり、4の位置決め固定部材は第
1の基板と第2の基板を固定する様に支持枠より外側に
複数個配置される。
In the figure, 1 is a first substrate, 2 is a support frame, 3 is a sealing material, 4 is a positioning and fixing member, 5 is an image forming member (electron-emitting device), 6 is a bonding layer, 7 is a second substrate, Reference numeral 8 denotes an image display member (light emitting member), and a plurality of positioning and fixing members 4 are arranged outside the support frame so as to fix the first substrate and the second substrate.

【0014】まず、第1基板1上に位置決め固定部材4
を固定する。第1基板1は、ガラス等で構成されたリア
プレートであり、電子放出素子を用いた画像形成装置で
は、電子放出素子が配置される。また、プラズマデスプ
レーでは、プラズマ領域を限定するための隔壁、さら
に、反射型では、蛍光体等が設置される。該位置決め固
定部材4はガラス、セラミックス等の材料を用いる事が
できるが、第1基板1と熱膨張係数が同程度のものが好
ましい。尚、第1基板と第2基板との基板間距離が1m
m以下程度で接合層のみで固定できる場合には位置決め
固定部材4を省くことができる。更に位置決め固定部材
4と第1基板1とはフリットガラスや耐熱性の接着剤等
により任意の位置に接合する。更に、シール材3の形成
された支持枠2を任意の場所に設置する。該シール材3
には有機系の接着剤などを用いる事もできるが真空容器
として用いる場合には耐熱、気密性を必要とする為、酸
化鉛を主体としたフリットガラスを用いるのが好まし
い。尚、第1基板と第2基板との基板間距離が1mm以
下程度でシール材のみでシールできる場合には支持枠2
を省くことができる。(図1(a)) 続いて、第1基板1上に配設された位置決め固定部材4
上に接合層6を形成する。該接合層6は第1基板と第2
基板を仮固定するために用いられるが、仮固定後は後工
程のシール材軟化の熱工程でも位置ずれを生じない必要
がある。このため接合層としては室温又はその近傍で硬
化し、シール材の軟化温度でも軟化しない耐熱性の高い
無機系接着剤を用いることが好ましい。尚、シール材の
軟化温度より軟化点の高いフリットガラスやシール材の
軟化温度より硬化温度は低いが結晶するフリットガラス
等を用いる事も可能である。(図1(b)) 次に第2基板7と第1基板1とを位置決めした後、第1
基板1と第2基板7とを任意の間隔まで接近させること
で、第1基板に配置された位置決め固定部材4上の接合
層6と第2基板7とを接合させる。この時、支持枠のシ
ール材は変形しないため、接合層6は支持体のシール材
よりも先に接触するようにより高く形成しておく必要が
ある。該第2基板2は、ガラス等で構成されたフェイス
プレートであり、電子放出素子を用いた画像形成装置で
は、電子と衝突し発光する蛍光体が配置される。また、
プラズマディスプレーでは、配線等が設置されている。
尚、接合層6にシール材より高融点のフリットガラスを
用いる場合には局部加熱によりシール材近傍より接合層
の温度を高くすることで可能となる。又、無機系接着剤
で常温又はその近傍で硬化する接着剤を用いる場合は塗
布形成後、硬化する前に接触する必要があるが、その後
そのまま保持させるか適度な温度に上昇させ、接合層6
を固化させて第1基板と第2基板を仮固定する。尚、位
置決め固定部材のその平面的配置は、図2に示す様に支
持枠外に配置する必要がある。尚、この場合は、大面積
の基板から、複数個のセルを切り出す場合や、各画像形
成装置の外部ひきだし配線の外に設置でき、配置上有利
である。また、位置決め固定部材は、図に示される様
に、3個でもよいが、3個に限られるものではない。
(図1(c)) 次に第1基板1あるいは、又は第2基板7の支持枠及び
それより内側の画像表示領域部に荷重を印加する事など
により加圧する。続いて第1基板1及び第2基板7ある
いは支持枠に配設されたシール材3を加熱により軟化さ
せた後、該シール材3を冷却により固化する。尚、位置
決め固定部材4の所は仮固定されているため、変形は生
じないが、シール材の配置させている領域は加圧されて
いるためシール材3の軟化に伴い基板が変形することに
より該シール材3が潰れ、シールが確実となる。ここで
第1基板1と第2基板は位置決め固定部材4で仮固定さ
れているため位置ずれを生じるようなことはない。また
この時、この状態のまま温度を上昇させシール材3を軟
化させてもよいが、加圧した状態でユニット化して電気
炉等に投入すれば、バッチ式に処理できるため量産には
有利にできる。(図1(d)) 次に基板を冷却し取り出すことにより画像形成装置の容
器が製造される。(図1(e))例えば、電子放出素子
を用いた画像形成装置では、容器内部は真空とされる。
また、プラズマを用いた画像形成装置では、ガスが封入
される。尚、支持枠2、位置決め固定部材4は、印刷隔
壁を用いてもよく、あるいは、フェイスプレートあるい
は、リアプレートと一体化されててもよく、必ずしも、
第1基板、第2基板と別部材である必要はない。尚、真
空容器として、使用する場合は、不図示の排気管より、
容器内が排気され、真空が形成された後、排気管が封止
される。若しくは、真空チャンバー内で容器を形成する
のであれば、必ずしも排気管は必要としない。
First, the positioning and fixing member 4 is placed on the first substrate 1.
Is fixed. The first substrate 1 is a rear plate made of glass or the like. In an image forming apparatus using the electron-emitting devices, the electron-emitting devices are arranged. In the case of the plasma display, a partition for limiting the plasma region is provided, and in the case of the reflection type, a phosphor or the like is provided. The positioning and fixing member 4 can be made of a material such as glass or ceramics, but preferably has a thermal expansion coefficient similar to that of the first substrate 1. The distance between the first substrate and the second substrate is 1 m.
In the case where the positioning and fixing member 4 can be fixed only by the bonding layer at about m or less, the positioning fixing member 4 can be omitted. Further, the positioning and fixing member 4 and the first substrate 1 are joined at an arbitrary position with frit glass, a heat-resistant adhesive, or the like. Further, the support frame 2 on which the sealing material 3 is formed is installed at an arbitrary place. The sealing material 3
Although an organic adhesive or the like can be used for this, when it is used as a vacuum container, heat resistance and airtightness are required, so that frit glass mainly containing lead oxide is preferably used. If the distance between the first substrate and the second substrate is about 1 mm or less and the sealing can be performed only with the sealing material, the supporting frame 2 is used.
Can be omitted. (FIG. 1A) Subsequently, the positioning and fixing member 4 disposed on the first substrate 1
The bonding layer 6 is formed thereon. The bonding layer 6 includes a first substrate and a second substrate.
It is used to temporarily fix the substrate, but after the temporary fixation, it is necessary that no displacement occurs even in the heat process of softening the sealing material in the subsequent process. For this reason, it is preferable to use an inorganic adhesive having high heat resistance, which hardens at or around room temperature and does not soften even at the softening temperature of the sealing material, as the bonding layer. It is also possible to use frit glass having a softening point higher than the softening temperature of the sealing material, frit glass having a lower curing temperature than the softening temperature of the sealing material, but being crystallized. (FIG. 1B) Next, after positioning the second substrate 7 and the first substrate 1, the first substrate
By bringing the substrate 1 and the second substrate 7 closer to an arbitrary interval, the bonding layer 6 on the positioning and fixing member 4 arranged on the first substrate and the second substrate 7 are bonded. At this time, since the sealant of the support frame does not deform, the bonding layer 6 needs to be formed higher so as to come in contact with the sealant of the support before the sealant. The second substrate 2 is a face plate made of glass or the like. In an image forming apparatus using an electron-emitting device, a phosphor that collides with electrons and emits light is arranged. Also,
In the plasma display, wiring and the like are provided.
In the case where frit glass having a higher melting point than the sealing material is used for the bonding layer 6, this can be achieved by increasing the temperature of the bonding layer from near the sealing material by local heating. When an inorganic adhesive that cures at or near room temperature is used, it is necessary to make contact after the coating is formed and before curing.
Is solidified to temporarily fix the first substrate and the second substrate. Note that the planar arrangement of the positioning and fixing member needs to be disposed outside the support frame as shown in FIG. In this case, it is possible to cut out a plurality of cells from a large-area substrate, or to install the cells outside the external drawer wiring of each image forming apparatus, which is advantageous in arrangement. The number of positioning and fixing members may be three as shown in the figure, but is not limited to three.
(FIG. 1 (c)) Next, pressure is applied by applying a load to the support frame of the first substrate 1 or the second substrate 7 and the image display area inside the support frame. Subsequently, after the sealing material 3 provided on the first substrate 1 and the second substrate 7 or the support frame is softened by heating, the sealing material 3 is solidified by cooling. Since the positioning and fixing member 4 is temporarily fixed, no deformation occurs. However, since the area where the sealing material is disposed is pressurized, the substrate is deformed as the sealing material 3 is softened. The sealing material 3 is crushed, and sealing is ensured. Here, since the first substrate 1 and the second substrate are temporarily fixed by the positioning and fixing member 4, there is no occurrence of positional displacement. At this time, the sealing material 3 may be softened by raising the temperature in this state. However, if the unit is pressurized and put into an electric furnace or the like, it can be processed in a batch manner, which is advantageous for mass production. it can. (FIG. 1D) Next, the substrate of the image forming apparatus is manufactured by cooling and removing the substrate. (FIG. 1E) For example, in an image forming apparatus using an electron-emitting device, the inside of the container is evacuated.
In an image forming apparatus using plasma, gas is sealed. In addition, the support frame 2 and the positioning and fixing member 4 may use a printing partition, or may be integrated with a face plate or a rear plate.
It is not necessary to be a separate member from the first substrate and the second substrate. When used as a vacuum container, an exhaust pipe (not shown)
After the inside of the container is evacuated and a vacuum is formed, the exhaust pipe is sealed. Alternatively, if the container is formed in a vacuum chamber, an exhaust pipe is not necessarily required.

【0015】こうして画像形成装置の容器が製造され
る。以上、説明した様に、第1基板と第2基板のシール
材の形成された領域より基板端側で、室温又はその近傍
で仮固定し、さらに加熱しながら基板のシール材の配置
された領域を加圧する事により、シール材を軟化させ、
それに伴い基板を撓ませる事により気密シールを行うこ
とができる。この時、複数の位置決め固定部材により仮
固定されているため、位置ずれを生じる事無く基板間の
位置を高精度に規定できる。このため高温時でも位置精
度の良い組立が可能となる。
Thus, the container of the image forming apparatus is manufactured. As described above, the first substrate and the second substrate are temporarily fixed at or near room temperature on the substrate end side from the region where the sealing material is formed, and further heated while heating the region where the sealing material is disposed. By pressurizing, the sealing material is softened,
A hermetic seal can be obtained by bending the substrate accordingly. At this time, since the plurality of positioning and fixing members are temporarily fixed, the position between the substrates can be defined with high accuracy without causing a position shift. Therefore, it is possible to assemble with high positional accuracy even at a high temperature.

【0016】[0016]

【実施例】[実施例1]本発明の実施例1を図1を参照
して説明する。本実施例では、冷陰極電子放出素子であ
る表面伝導型電子放出素子を電子放出素子として、複数
個第1基板に形成し、第2基板には、蛍光体を設置し、
有効表示エリアを対角3インチとする縦、横比3:4の
カラー画像形成装置を作製した。
Embodiment 1 Embodiment 1 of the present invention will be described with reference to FIG. In the present embodiment, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, are formed on a first substrate as electron-emitting devices, and a phosphor is provided on a second substrate.
A color image forming apparatus having an effective display area of 3 inches diagonally and an aspect ratio of 3: 4 was manufactured.

【0017】まず、第1基板1の作製として青板ガラス
上にシリコン酸化膜をスパッタ法で形成した基板上に下
配線をスクリーン印刷で形成した。次に、下配線と上配
線間に層間絶縁層を形成する、さらに、上配線を形成し
た。次に、下配線と上配線とに接続された素子電極を形
成した。
First, as the production of the first substrate 1, a lower wiring was formed by screen printing on a substrate in which a silicon oxide film was formed on a soda lime glass by a sputtering method. Next, an interlayer insulating layer was formed between the lower wiring and the upper wiring, and an upper wiring was further formed. Next, device electrodes connected to the lower wiring and the upper wiring were formed.

【0018】次に、導電性薄膜をスパッタ法で形成した
後、パターニングし、所望の形態とし、フォーミング前
の電子放出素子群5を形成した。尚、リアプレート上に
は、表面伝導型放出素子がN×M個形成されている。
(N,Mは2以上の正の整数であり、目的とする表示画
素数に応じて適宜設定される。たとえば、高品位テレビ
ジョンの表示を目的とした表示装置においては、N=3
000,M=1000以上の数を設定することが望まし
い。)前記N×M個の表面伝導型放出素子は、M本の行
方向配線(上配線と述べる場合もある)とN本の列方向
配線(下配線と述べる場合もある)により単純マトリク
ス配線されている。本実施例では各100本とした。図
2を用いて、表面伝導型放出素子の説明をする。図2
は、本発明を適用可能な表面伝導型電子放出素子の構成
を示す模式図であり、図2aは平面図、図2bは断面図
である。
Next, a conductive thin film was formed by a sputtering method and then patterned to obtain a desired form, and an electron-emitting device group 5 before forming was formed. Note that N × M surface conduction type emission elements are formed on the rear plate.
(N and M are positive integers of 2 or more and are appropriately set according to the target number of display pixels. For example, in a display device for displaying high-definition television, N = 3.
It is desirable to set a number of 000, M = 1000 or more. The N × M surface conduction electron-emitting devices are arranged in a simple matrix by M row-directional wirings (sometimes referred to as upper wirings) and N column-directional wirings (sometimes referred to as lower wirings). ing. In this embodiment, the number is 100 each. The surface conduction electron-emitting device will be described with reference to FIG. FIG.
FIGS. 2A and 2B are schematic views showing a configuration of a surface conduction electron-emitting device to which the present invention can be applied. FIG. 2A is a plan view and FIG. 2B is a cross-sectional view.

【0019】図2において71は基板、72と73は素
子電極、74は導電性薄膜、75は電子放出部である。
素子電極72,73を通じて、導電性薄膜74にフォー
ミング処理を施すことで、導電性薄膜を局所的に破壊、
変形もしくは変質せしめ、電気的に高抵抗な状態にした
部分を形成し、さらに、放出電流を著しく改善する活性
化工程を該表面伝導型電子放出素子の上述導電性薄膜7
4に電圧を印加し、素子に電流を流すことにより、上述
の電子放出部75を形成した。(尚、従来技術でのべた
特許公報特開平7−235255号公報と同様のもので
ある。)続いて、位置決め固定部材4を図3の位置に3
個所固定した。位置決め固定部材4は青板ガラス製で高
さ3mm、直径4mmの円柱を用い、無機接着剤のAR
EMCO製セラマボンド503により固定した。続いて
シール材3の形成された支持枠2を第1基板上に設置し
た。支持枠2は青板ガラスで構成され、支持枠2の上下
面にシール材3としてフリットガラスをディスペンサー
を用いて塗布した後、120℃10分の乾燥、380℃
10分の仮焼成を行うことにより形成したものを用い
た。フリットガラスには日本電気硝子製のLS3081
を用い厚みは0.2mmとした。(図1(a)) 次に第1基板1上に配設された位置決め固定部材4の上
面に接合層6を形成した。接合層6には位置決め固定部
材4の固定に用いたものと同じ無機接着剤のAREMC
O製セラマボンド503をポッティングにより支持枠の
シール材より高くなるように形成した。
In FIG. 2, 71 is a substrate, 72 and 73 are device electrodes, 74 is a conductive thin film, and 75 is an electron emitting portion.
By forming the conductive thin film 74 through the device electrodes 72 and 73, the conductive thin film is locally broken,
An activation step of deforming or altering the material to form an electrically high-resistance portion and significantly improving the emission current is performed by the above-described conductive thin film 7 of the surface conduction electron-emitting device.
By applying a voltage to 4 and flowing a current to the device, the above-described electron-emitting portion 75 was formed. (It is the same as that of Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-235255 described in the prior art.) Then, the positioning and fixing member 4 is moved to the position shown in FIG.
Fixed in places. The positioning and fixing member 4 is made of soda lime glass and has a height of 3 mm and a diameter of 4 mm.
It was fixed with a Ceramabond 503 made by EMCO. Subsequently, the support frame 2 on which the sealing material 3 was formed was set on the first substrate. The support frame 2 is made of soda lime glass. After applying frit glass as a sealing material 3 on the upper and lower surfaces of the support frame 2 using a dispenser, drying at 120 ° C. for 10 minutes, 380 ° C.
What was formed by performing temporary baking for 10 minutes was used. The frit glass is LS3081 made by NEC Glass
And the thickness was 0.2 mm. (FIG. 1A) Next, a bonding layer 6 was formed on the upper surface of the positioning and fixing member 4 provided on the first substrate 1. The same inorganic adhesive AREMC as used for fixing the positioning fixing member 4 is used for the bonding layer 6.
The O-cerama bond 503 was formed by potting so as to be higher than the sealing material of the support frame.

【0020】続いて第2基板を第1基板1上にセッティ
ングし、第1基板1と第2基板7とを位置決めした。
(図1(b))第2基板7の作製として青板ガラス基板
に蛍光体、黒色導電体を印刷法により形成した。更に樹
脂により蛍光膜の内面側表面の平滑化処理を行い、その
後Alを真空蒸着等を用いて堆積させた後、樹脂を焼失
させメタルバック形成し、画像表示部8を形成した。
尚、フェースプレートの下面には、蛍光膜が形成されて
いてカラー表示装置では、蛍光膜の部分にはCRTの分
野で用いられる赤、緑、青、の3原色の蛍光体が塗り分
けられている。各色の蛍光体は、たとえば図4の(A)
に示すようにストライプ状に塗り分けられ、蛍光体のス
トライプの間には黒色の導電体が設けてある。黒色の導
電体を設ける目的は、電子ビームの照射位置に多少のず
れがあっても表示色にずれが生じないようにする事や、
外光の反射を防止して表示コントラストの低下を防ぐ
事、電子ビームによる蛍光膜のチャージアップを防止す
る事などである。黒色の導電体には、黒鉛を主成分とし
て用いたが、上記の目的に適するものであればこれ以外
の材料を用いても良い。
Subsequently, the second substrate was set on the first substrate 1, and the first substrate 1 and the second substrate 7 were positioned.
(FIG. 1B) As a second substrate 7, a phosphor and a black conductor were formed on a blue glass substrate by a printing method. Further, the inner surface of the fluorescent film was smoothed with a resin, and then Al was deposited by vacuum evaporation or the like, and then the resin was burned off to form a metal back, thereby forming an image display section 8.
Note that a fluorescent film is formed on the lower surface of the face plate. In a color display device, phosphors of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to the fluorescent film portion. I have. The phosphor of each color is, for example, as shown in FIG.
As shown in the figure, the stripes are separately applied, and a black conductor is provided between the phosphor stripes. The purpose of providing the black conductor is to prevent the display color from shifting even if there is a slight shift in the irradiation position of the electron beam,
The purpose is to prevent reflection of external light to prevent a decrease in display contrast, and to prevent charge-up of a fluorescent film by an electron beam. Although graphite is used as a main component for the black conductor, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.

【0021】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図4(A)に示したストライプ状の配列に限られるもの
ではなく、たとえば図4(B)に示すようなデルタ状配
列や、それ以外の配列であってもよい。
The method of applying the phosphors of the three primary colors is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 4A, but may be, for example, a delta arrangement as shown in FIG. Other arrangements may be used.

【0022】なお、モノクロームの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜に用いればよ
く、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよい。
When a monochrome display panel is manufactured, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film, and a black conductive material may not be necessarily used.

【0023】また、蛍光膜のリアプレート側の面には、
CRTの分野では公知のメタルバックを設けてある。メ
タルバックを設けた目的は、蛍光膜が発する光の一部を
鏡面反射して光利用率を向上させる事や、負イオンの衝
突から蛍光膜を保護する事や、電子ビーム加速電圧を印
加するための電極として作用させる事や、蛍光膜を励起
した電子の導電路として作用させる事などである。な
お、蛍光膜に低電圧用の蛍光体材料を用いた場合には、
メタルバックは用いない。また、加速電圧の印加用や蛍
光膜の導電性向上を目的として、フェースプレート基板
と蛍光膜との間に、たとえばITOを材料とする透明電
極を設けてもよい。続いて第1基板1と第2基板7とを
接近させ、第2基板7を支持枠2上のシール材3に押し
当てて、そのまま温度を70℃に上昇させ30分保持す
ることで、接合層6と第2基板と固着した。(図1
(c)) 次に上記基板1,2を加圧装置に設置した。図5は加圧
装置の概念図である。(尚、図1と同符号のものは、図
1と同一のものである。)加圧装置は、上ホルダー9
1、下ホルダー92、加圧手段9、ホルダースライドガ
イド94等から構成される。
Also, the surface of the fluorescent film on the rear plate side is
A known metal back is provided in the field of CRT. The purpose of the metal back is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film, to protect the fluorescent film from the collision of negative ions, and to apply an electron beam acceleration voltage. To act as an electrode, or to act as a conductive path for the excited electrons of the fluorescent film. When a low-voltage fluorescent material is used for the fluorescent film,
No metal back is used. A transparent electrode made of, for example, ITO may be provided between the face plate substrate and the fluorescent film for the purpose of applying an acceleration voltage or improving the conductivity of the fluorescent film. Subsequently, the first substrate 1 and the second substrate 7 are brought close to each other, and the second substrate 7 is pressed against the sealing material 3 on the support frame 2, and the temperature is raised to 70 ° C. and held for 30 minutes, thereby joining the substrates. The layer 6 was fixed to the second substrate. (Figure 1
(C)) Next, the substrates 1 and 2 were set in a pressure device. FIG. 5 is a conceptual diagram of the pressurizing device. (The components having the same reference numerals as those in FIG. 1 are the same as those in FIG. 1).
1, a lower holder 92, a pressing means 9, a holder slide guide 94 and the like.

【0024】下ホルダー92上に、仮固定の完了した第
1基板1と第2基板7を設置する。その後、上ホルダー
91をホルダースライドガイドを通じて、第2基板7の
上に設置する。この時上ホルダー91の凸部分(第2基
板7に接する部分)が支持枠2の領域に架かるように配
置する。続いて加圧手段9により加圧する。この時、加
圧手段としては1kgの重りを用いた。加圧手段9の実
効的な大きさは、ほぼ、支持枠2で囲まれる面積と同等
のものを用いた。(図1(d)) 続いて上記加圧装置を、電気炉に導入し、400℃まで
加熱しフリットを軟化させ10分間保持した後、電気炉
を徐冷し、フリツトを固化させた。最後に加圧装置よ
り、第1基板1、第2基板7及び支持枠2が接着した画
像形成装置をとりだした。(図1(e))この時シール
材3の軟化に伴い第2基板7が沈み込むことにより、シ
ール材3が潰れ気密性容器を得る事ができる。
On the lower holder 92, the first substrate 1 and the second substrate 7, which have been temporarily fixed, are set. After that, the upper holder 91 is set on the second substrate 7 through the holder slide guide. At this time, the upper holder 91 is arranged so that the convex portion (the portion in contact with the second substrate 7) spans the region of the support frame 2. Subsequently, pressure is applied by the pressing means 9. At this time, a 1 kg weight was used as a pressing means. The effective size of the pressurizing means 9 was substantially the same as the area surrounded by the support frame 2. (FIG. 1 (d)) Subsequently, the pressure device was introduced into an electric furnace, heated to 400 ° C. to soften the frit and held for 10 minutes, and then the electric furnace was gradually cooled to solidify the frit. Finally, the image forming apparatus to which the first substrate 1, the second substrate 7, and the support frame 2 were adhered was taken out from the pressing device. (FIG. 1 (e)) At this time, the second substrate 7 sinks with the softening of the sealing material 3, so that the sealing material 3 is crushed and an airtight container can be obtained.

【0025】このようにして所望する画像形成装置を製
造した。
Thus, a desired image forming apparatus was manufactured.

【0026】以上のようにして完成した画像形成装置内
の雰囲気を排気管(図示せず)を通じ真空ポンプにて排
気し、十分な真空度に達した後、容器外端子(図示せ
ず)を通じ電子放出素子に電圧を印加し、電子放出部
を、導電性薄膜のフォーミング工程、活性化工程により
作成した。さらに、一連の工程終了後、250℃で、1
0時間ベーキングを行った。
The atmosphere in the image forming apparatus completed as described above is evacuated by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after reaching a sufficient degree of vacuum, through an external terminal (not shown). A voltage was applied to the electron-emitting device, and an electron-emitting portion was formed by a conductive thin film forming step and an activation step. Further, after a series of processes, at 250 ° C., 1
Baking was performed for 0 hours.

【0027】次に、室温で、10-6Pa程度の真空度ま
で、排気し、不図示の排気管をガスバーナーで熱するこ
とで溶着し外囲器の封止を行った。
Next, the chamber was evacuated to a degree of vacuum of about 10 -6 Pa at room temperature, and the envelope was sealed by heating an exhaust pipe (not shown) with a gas burner.

【0028】最後に封止後の真空度を維持するために、
高周波加熱法でゲッター処理を行った。
Finally, to maintain the degree of vacuum after sealing,
Getter treatment was performed by a high-frequency heating method.

【0029】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子を通じ、
走査信号及び変調信号を不図示の信号発生手段よりそれ
ぞれ、印加することにより、電子放出させ、高圧端子H
vを通じ、メタルバックあるいは透明電極(不図示)に
数kV以上の高圧を印加し、電子ビームを加速し、蛍光
膜に衝突させ、励起・発光させることで画像を表示し
た。
In the image display device of the present invention completed as described above, each electron-emitting device is connected to a terminal outside the container.
By applying a scanning signal and a modulation signal from signal generation means (not shown), electrons are emitted and the high voltage terminal H
An image was displayed by applying a high voltage of several kV or more to a metal back or a transparent electrode (not shown) through v, accelerating the electron beam, colliding with the fluorescent film, and exciting and emitting light.

【0030】その結果、電子放出素子と蛍光体の位置ず
れに起因した輝度ばらつきや、混色は観察されなかっ
た。
As a result, no luminance variation or color mixing due to the displacement between the electron-emitting device and the phosphor was observed.

【0031】[実施例2]本発明の実施例2においては
軽量化をはかるために、耐大気圧部材として、スペーサ
ーを設置した以外は実施例1と同様に作製した。尚、画
像形成装置の有効表示エリアの大きさは、縦、横比3:
4で、対角10インチである。図7に仮固定後の概略工
程図を示す。図中20は黒色導電体、21はスペーサー
である。スペーサーは、ガラス製で厚み200μm、高
さ3.6mmの平板状スペーサーであり、その表面に、
2次電子放出効率が2より小さく高抵抗な膜(本実施例
ではCrOxを用いた)を形成したものを用い、第2基
板の画像表示部に形成された黒色導電体上に導電性のフ
リットガラスを用いて接着した。図7(a)に示すよう
に仮固定後には支持枠上に形成させたシール材の所で第
2基板が突き当たっているために、スペーサーは基板1
上から数百μmの間隔を有した状態に配置される。次
に、実施例1と同様に加圧装置にセットし、電気炉に導
入し、400℃まで加熱しフリットを軟化させ10分間
保持した後、電気炉を徐冷し、フリットを固化させた。
尚、位置決め固定部材4と接合層16の合計の高さは支
持枠2とシール材3の合計の高さ以上であればよい。図
7(b)最後に加圧装置より、第1基板1、第2基板7
及び支持枠2が接着した画像形成装置をとりだした。図
1(c)この時シール材3の軟化に伴い第2基板7が変
形することにより、シール材3が潰れ画像形成装置の容
器を得る事ができた。また、この方法では仮固定後の工
程ではスペーサーが第2基板より離れているため、組立
中に画像形成部に損傷を与える事がないばかりか、数十
〜数百μmの厚みのスペーサに損傷を与える事もない。
更にスペーサーにより画面の中央部でも基板間の間隔を
規定できる事から精度良く組み立てられることがわかっ
た。
Example 2 In Example 2 of the present invention, in order to reduce the weight, a device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a spacer was provided as an atmospheric pressure resistant member. Note that the size of the effective display area of the image forming apparatus has a vertical to horizontal ratio of 3:
4 is 10 inches diagonal. FIG. 7 shows a schematic process diagram after the temporary fixing. In the figure, 20 is a black conductor, and 21 is a spacer. The spacer is a flat plate-shaped spacer made of glass and having a thickness of 200 μm and a height of 3.6 mm.
Using a film having a secondary electron emission efficiency of less than 2 and a high-resistance film (CrOx is used in this embodiment), a conductive frit is formed on a black conductor formed in an image display portion of the second substrate. Glued using glass. As shown in FIG. 7 (a), after the temporary fixation, the second substrate abuts on the sealing material formed on the support frame, so that the spacer is the substrate 1
They are arranged with a spacing of several hundred μm from above. Next, it was set in a pressure device in the same manner as in Example 1, introduced into an electric furnace, heated to 400 ° C. to soften the frit and held for 10 minutes, and then the electric furnace was gradually cooled to solidify the frit.
The total height of the positioning and fixing member 4 and the bonding layer 16 may be equal to or greater than the total height of the support frame 2 and the sealing material 3. FIG. 7 (b) Finally, the first substrate 1 and the second substrate 7 are
Then, the image forming apparatus to which the support frame 2 was adhered was taken out. At this time, the second substrate 7 is deformed due to the softening of the sealing material 3 at this time, so that the sealing material 3 is crushed and a container of the image forming apparatus can be obtained. Further, in this method, since the spacer is separated from the second substrate in the step after the temporary fixing, not only does the image forming portion not be damaged during assembly, but also the spacer having a thickness of several tens to several hundreds μm is damaged. I do not give.
Furthermore, it was found that the spacers can regulate the distance between the substrates even at the center of the screen, so that the assembly can be performed with high accuracy.

【0032】更に、完成した本発明の画像表示装置を実
施例1と同様に発光させ画像を表示したところ、電子放
出素子と蛍光体の位置ずれに起因した輝度ばらつきや、
混色は観察されなかった。尚、本実施例では、第2基板
側にスペーサを先に固定したが、第1基板側に先に固定
してもよい。
Further, when the completed image display device of the present invention emits light and displays an image in the same manner as in the first embodiment, the brightness variation due to the displacement between the electron-emitting device and the phosphor,
No color mixing was observed. In this embodiment, the spacer is fixed on the second substrate first, but may be fixed on the first substrate first.

【0033】[実施例3]本発明の実施例3において
は、電子放出素子に冷陰極電子放出素子の一種である電
界放出素子を用いた点と支持枠を用いずシール材と基板
間距離規定用の部材を用い、位置決め固定部材は用いず
に接合層のみで第1基板と第2基板を仮固定した以外は
実施例1と同様に作製した。
[Embodiment 3] In Embodiment 3 of the present invention, a point that a field emission device which is a kind of cold cathode electron emission device is used as an electron emission device, and a distance between a sealing material and a substrate is defined without using a support frame. Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1 except that the first substrate and the second substrate were temporarily fixed only with the bonding layer without using the positioning and fixing member.

【0034】尚、画像形成装置の有効表示エリアの大き
さは、縦、横比3:4で、対角2インチである。電界放
出素子には図6に示した構成のものを用いた。図中13
1はリアプレート、132はフェイスプレート、133
は陰極、134はゲート電極、135は絶縁層、136
は収束電極である。従来公知の製法で陰極、ゲート電
極、配線等を作成した。尚、陰極材料はMOとした。シ
ール材は第1基板上にフリットガラスをディスペンサー
を用いて塗布した後、120℃10分の乾燥、380℃
10分の仮焼成を行うことにより形成したものを用い
た。フリットガラスには日本電気硝子製のLS3081
を用い厚みは0.3mmとした。尚、この塗布フリット
の一部に後から基板間距離規定用の部材としてφ200
μmの硝子片を分散させた。こうして作製したところ実
施例1と同様に確実に仮固定が行え、位置ずれの無い良
好な画像表示装置を製造できることがわかった。
Incidentally, the size of the effective display area of the image forming apparatus is 2 inches diagonally with an aspect ratio of 3: 4. The field emission device having the configuration shown in FIG. 6 was used. 13 in the figure
1 is a rear plate, 132 is a face plate, 133
Is a cathode, 134 is a gate electrode, 135 is an insulating layer, 136
Is a focusing electrode. A cathode, a gate electrode, a wiring, and the like were prepared by a conventionally known manufacturing method. The cathode material was MO. After applying frit glass on the first substrate using a dispenser, the sealing material is dried at 120 ° C. for 10 minutes,
What was formed by performing temporary baking for 10 minutes was used. The frit glass is LS3081 made by NEC Glass
And the thickness was 0.3 mm. A part of the coating frit is used as a member for defining the distance between the substrates.
A μm glass piece was dispersed. As a result, it was found that the temporary fixing can be reliably performed in the same manner as in Example 1, and that a good image display device without displacement can be manufactured.

【0035】更に、完成した本発明の画像表示装置を実
施例1と同様に発光させ画像を表示したところ、電界放
出素子と蛍光体の位置ずれに起因した輝度ばらつきや、
混色は観察されなかった。
Further, when the completed image display device of the present invention emits light and displays an image in the same manner as in the first embodiment, the brightness variation due to the misalignment between the field emission device and the phosphor,
No color mixing was observed.

【0036】[0036]

【発明の効果】以上説明した本発明によれば、基板上に
配置された支持枠、さらにその外側の基板上に固定され
た複数の位置決め固定部材と他方の基板とを位置決めし
た後、他方の基板と基板上の複数の位置決め固定部材を
接合させ仮固定を行い、続いて、加熱しながら基板の支
持枠領域内を加圧し、基板を撓ませる事により支持枠上
に形成されたシール材を潰し固化する事により、気密シ
ールを行うので、位置ずれを生じる事無く基板間の位置
を高精度に規定できる。
According to the present invention described above, after positioning the supporting frame disposed on the substrate, the plurality of positioning fixing members fixed on the outer substrate and the other substrate, and then positioning the other frame, The substrate and the plurality of positioning and fixing members on the substrate are joined and temporarily fixed, and then the inside of the support frame area of the substrate is pressed while being heated, and the sealing material formed on the support frame is bent by bending the substrate. Since the airtight seal is performed by crushing and solidifying, the position between the substrates can be defined with high accuracy without causing a positional shift.

【0037】又、本発明によれば、更にあらかじめ第1
基板と第2基板間に、配設された複数の位置決め固定部
材により仮固定ができているため、高温で組み立てる場
合でもアライメントする必要が無く、複雑な装置も必要
なくなるため、装置の簡略化ができる。
According to the present invention, the first
Since a plurality of positioning and fixing members are temporarily fixed between the substrate and the second substrate, there is no need for alignment even when assembling at a high temperature, and a complicated device is not required. it can.

【0038】又、本発明によれば、、電界電子放出素
子、表面伝導型電子放出素子等の電子放出素子を複数配
置し、放出された電子によって蛍光体を発光させて画像
を表示する平板型画像形成装置のみならず、液晶ディス
プレイパネルやプラズマディスプレイパネルを高精度で
組み立て製造することができる。
According to the present invention, a plurality of electron-emitting devices such as a field electron-emitting device and a surface conduction electron-emitting device are arranged, and a phosphor is emitted by the emitted electrons to display an image. Not only the image forming apparatus but also a liquid crystal display panel or a plasma display panel can be assembled and manufactured with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の画像形成装置の製造方法の工程図。FIG. 1 is a process chart of a method for manufacturing an image forming apparatus of the present invention.

【図2】実施例1で用いた表面伝導型電子放出素子の平
面図。
FIG. 2 is a plan view of the surface conduction electron-emitting device used in Example 1.

【図3】本発明の位置決め固定部材の配置例を示す平面
図。
FIG. 3 is a plan view showing an example of the positioning and fixing member of the present invention.

【図4】実施例1で用いた蛍光膜のパターン例。FIG. 4 is a pattern example of a fluorescent film used in Example 1.

【図5】実施例1で用いた画像形成装置組み立て用装置
(加圧装置)。
FIG. 5 is an image forming apparatus assembling apparatus (pressing apparatus) used in the first embodiment.

【図6】実施例3で用いた電界放出素子の図。FIG. 6 is a diagram of a field emission device used in Example 3.

【図7】実施例2の画像形成装置の製造方法の概略断面
図。
FIG. 7 is a schematic sectional view of a method for manufacturing the image forming apparatus according to the second embodiment.

【図8】従来の組み立てフロー図。FIG. 8 is a conventional assembly flowchart.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1基板 2 支持枠 3 シール材 4 位置決め固定部材 5 電子放出素子 6 接合層 7 第2基板 8 画像表示部材(発光部材) 9 加圧手段 71 基板 72,73 素子電極 74 導電性薄膜 75 電子放出部 801,20 黒色導電体 21 スペーサー 91 上ホルダー 92 下ホルダー 94 ホルダースライドガイド 131 リアプレート 132 フェイスプレート 133 陰極 134 ゲート電極 135 絶縁層 136 収束電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st board | substrate 2 support frame 3 sealing material 4 positioning fixing member 5 electron emission element 6 joining layer 7 2nd board 8 image display member (light emitting member) 9 pressurizing means 71 board | substrate 72, 73 device electrode 74 conductive thin film 75 electron Emission portions 801 and 20 Black conductor 21 Spacer 91 Upper holder 92 Lower holder 94 Holder slide guide 131 Rear plate 132 Face plate 133 Cathode 134 Gate electrode 135 Insulating layer 136 Focusing electrode

フロントページの続き (72)発明者 小山 信也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA01 AA09 BC01 BC03 Continuation of the front page (72) Inventor Shinya Koyama 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo F-term in Canon Inc. (reference) 5C012 AA01 AA09 BC01 BC03

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1基板と第2基板とを支持枠を介して
接合した密閉容器の製造方法であって、 前記第1基板上に、前記支持枠を配設し、前記支持枠外
に位置決め固定部材を固定する工程と、 前記位置決め固定部材上に位置決め接合層を形成する工
程と、 前記第1基板と前記第2基板とを、位置決めして前記位
置決め接合層により固定する工程と、 前記第1基板及び又は前記第2基板の支持枠の配設され
た領域を加圧する工程と、 加熱することで前記第1基板及び前記第2基板に配設し
たシール剤及び又は支持枠に配設したシール剤を軟化さ
せる工程と、冷却する工程とを含む密閉容器の製造方
法。
1. A method for manufacturing a closed container in which a first substrate and a second substrate are joined via a support frame, wherein the support frame is disposed on the first substrate and positioned outside the support frame. Fixing a fixing member, forming a positioning bonding layer on the positioning fixing member, positioning the first substrate and the second substrate, and fixing the first substrate and the second substrate with the positioning bonding layer; Pressurizing a region where the support frame of the first substrate and / or the second substrate is disposed; and heating the substrate and / or the sealant disposed on the first substrate and the second substrate and / or the support frame. A method for producing a sealed container, comprising a step of softening a sealant and a step of cooling.
【請求項2】 前記位置決め固定部材を複数配設するこ
とを特徴とする請求項1記載の密閉容器の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein a plurality of the positioning and fixing members are provided.
【請求項3】 前記位置決め固定部材を、無機系接着剤
で固定することを特徴とする請求項1記載の密閉容器の
製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the positioning and fixing member is fixed with an inorganic adhesive.
【請求項4】 前記位置決め接合層は、無機系接着剤層
であることを特徴とする請求項1記載の密閉容器の製造
方法。
4. The method according to claim 1, wherein the positioning bonding layer is an inorganic adhesive layer.
【請求項5】 前記シール材は、フリットガラスである
ことを特徴とする請求項1記載の密閉容器の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the sealing material is frit glass.
【請求項6】 前記第1基板は画像信号に基づいて電子
を放出する電子放出素子が配された基板であり、前記第
2基板は電子放出素子から放出された電子の照射により
発光する発光部材が配された基板であり、前記第1基板
と前記第2基板とを前記支持枠を介して接合した密閉容
器を含む画像形成装置の製造方法であって、 前記密閉
容器は、請求項1,2,3,4,5のいずれかに記載さ
れた密閉容器の製造方法により製造することを特徴とす
る画像形成装置の製造方法。
6. The first substrate is a substrate on which an electron-emitting device that emits electrons based on an image signal is disposed, and the second substrate is a light-emitting member that emits light by irradiation of the electrons emitted from the electron-emitting device. A method of manufacturing an image forming apparatus including a sealed container in which the first substrate and the second substrate are joined via the support frame, wherein the sealed container is A method for manufacturing an image forming apparatus, which is manufactured by the method for manufacturing a closed container according to any one of 2, 3, 4, and 5.
【請求項7】 前記発光部材は、蛍光体であることを特
徴とする請求項6記載の画像形成装置の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the light emitting member is a phosphor.
【請求項8】 前記電子放出素子は、冷陰極電子放出素
子であることを特徴とする請求項6記載の画像形成装置
の製造方法。
8. The method according to claim 6, wherein the electron-emitting device is a cold cathode electron-emitting device.
【請求項9】 前記冷陰極電子放出素子は、表面伝導型
電子放出素子であることを特徴とする請求項8記載の画
像形成装置の製造方法。
9. The method according to claim 8, wherein the cold cathode electron-emitting device is a surface conduction electron-emitting device.
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