JP2000251767A - Image display device, and its manufacture - Google Patents

Image display device, and its manufacture

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JP2000251767A
JP2000251767A JP11049193A JP4919399A JP2000251767A JP 2000251767 A JP2000251767 A JP 2000251767A JP 11049193 A JP11049193 A JP 11049193A JP 4919399 A JP4919399 A JP 4919399A JP 2000251767 A JP2000251767 A JP 2000251767A
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JP
Japan
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base
support frame
image forming
forming apparatus
substrate
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JP11049193A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Tagawa
昌宏 多川
Osamu Takamatsu
修 高松
Shinya Koyama
信也 小山
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Canon Inc
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device high in assembling accuracy, high in image quality, and high in productivity, by placing a spacer and a support frame for supporting between a first substrate and a second substrate and providing a flexible portion projecting from the support frame. SOLUTION: A vessel is made of glass or the like and is constituted with a first and a second substrate 1, 2 having patterns such as electrodes and wiring and a support frame 3. For an image forming device using an electron emitting element, its inside is vacuumed. Into the image display device using a plasma, gas is filled. Flexible portions movable vertically are provided at four edges of the support frame 3 through a cutting means such as polishing means, and are bent and deformed by a pressurizing means applied through the first and the second substrate 1, 2. The support frame 3 is made of the same material as the first and the second substrate 1, 2, and even if the material is a flexible portion of the same material or small in size, it has sufficient elastic coefficient and excellent airtightness. Because the flexible portions are provided at the four edges of the support frame 3, and positional displacement in the screen horizontal direction is certainly prevented.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、平板型画像形成装
置及びその製造方法に関し、第1の基体と、第2の基体
及び/又は支持枠を有する真空可能な気密容器を備えた
画像形成装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat plate type image forming apparatus and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an image forming apparatus having a vacuum-tight airtight container having a first base and a second base and / or a support frame. And its manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】平板型画像形成装置として、近年、アク
ティブマトリクス型液晶が、CRTにかわって、用いら
れる様になってきた。また、アクティブマトリクス型液
晶は自発光型でないため、バックライトを用い表示をお
こなうものであるが、光の利用効率が低いために、さら
に明るい画像形成装置が望まれていた。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix type liquid crystal has been used as a flat panel type image forming apparatus instead of a CRT. In addition, since the active matrix type liquid crystal is not a self-luminous type, display is performed using a backlight. However, since the light use efficiency is low, a brighter image forming apparatus has been desired.

【0003】このため、プラズマディスプレイや電界電
子放出素子や表面伝導型電子放出素子(例えば、特開平
7−235255号公報)等の冷陰極電子放出素子から
放出した電子を加速し、蛍光体に衝突させ、蛍光体を発
光させ表示をおこなう自発光型画像形成装置の開発が実
用化されつつある。これら平板型画像形成装置は、数十
インチの大面積化もおこなわれつつある。特に、これら
の画像形成装置においては、高精度および容易な組み立
て方法が望まれている。
For this reason, electrons emitted from a cold cathode electron-emitting device such as a plasma display, a field electron-emitting device, and a surface conduction electron-emitting device (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255) are accelerated to collide with a phosphor. Then, the development of a self-luminous type image forming apparatus that performs display by causing a phosphor to emit light is being put to practical use. These flat-panel image forming apparatuses have been increasing in area to several tens of inches. In particular, in these image forming apparatuses, a highly accurate and easy assembling method is desired.

【0004】図11に、これら平板型画像形成装置の組
み立ての方法例として、液晶表示装置をあげる。特開平
5−232451号公報に記載の平板型画像形成装置の
組み立ての方法を用いて説明する。液晶ガラス基板の一
対の基板1、2(以下、第1の基板(体)、第2の基板
(体))位置合わせを説明する。第1の基板、第2の基
板には、電極パターン、位置合わせパターン、シール材
が、施されている(S11,S12)。これら第1、第
2の基板は、位置合わせ装置に設置される。位置合わせ
装置によって、第1の基板、第2の基板は、加熱、保温
される(S13)。次に、第1の基板と第2の基板は、
シール材の軟化とともに、位置合わせパターンを介し
て、位置合わせがなされる(S14)。次に、第1の基
板、第2の基板は加圧され、同時に位置合わせされる
(S15,S16)。最後に、加圧した状態で所定時間
保持された後、加圧が解除され(S17)、組み立てら
れた液晶セルは、位置合わせ装置からとりはずされる。
FIG. 11 shows a liquid crystal display device as an example of a method of assembling these flat plate type image forming apparatuses. This will be described using the method of assembling the flat plate type image forming apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-232451. The alignment of a pair of liquid crystal glass substrates 1 and 2 (hereinafter, a first substrate (body) and a second substrate (body)) will be described. The first substrate and the second substrate are provided with an electrode pattern, a positioning pattern, and a sealing material (S11, S12). These first and second substrates are installed in an alignment device. The first substrate and the second substrate are heated and kept warm by the alignment device (S13). Next, the first substrate and the second substrate
With the softening of the sealing material, alignment is performed via the alignment pattern (S14). Next, the first substrate and the second substrate are pressed and aligned at the same time (S15, S16). Finally, after the pressurized state is maintained for a predetermined time, the pressurization is released (S17), and the assembled liquid crystal cell is removed from the alignment device.

【0005】こうして、高温状態で位置ずれが発生して
も、位置合わせがおこなわれるため、高精度に第1の基
板と第2基板が位置合わせができるとされている。ま
た、該公開公報において、従来技術として、室温で、位
置合わせ後、光硬化性接着材で仮止めを行い、さらにシ
ール材を加熱、硬化させる方法も記述されている。
[0005] In this way, even if a positional shift occurs in a high temperature state, the alignment is performed, so that the first substrate and the second substrate can be aligned with high accuracy. The publication also describes, as a conventional technique, a method of performing temporary fixing with a photocurable adhesive after positioning at room temperature, and further heating and curing the sealing material.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】平板型画像形成装置に
おいて、第1の基体上の素子と第2の基体上の画像形成
部材を1:1の対応させ、数十μ〜数百μの画素を形成
する。この際、素子と画像形成部材の位置合わせが不十
分な場合、画素の輝度ばらつきとなったり、カラーの場
合は、RCBの各色が混色したり、画像品位を損なうこ
とが発生する。このため、第1の基体上の素子と第2の
基体上の画像形成部材の位置合わせは、高精度であるこ
とが必要となる。
In a flat plate type image forming apparatus, the elements on the first base and the image forming members on the second base are in a one-to-one correspondence, and pixels of several tens μ to several hundred μ are provided. To form At this time, if the alignment between the element and the image forming member is insufficient, the brightness of the pixels may vary, and in the case of color, the colors of the RCB may be mixed or the image quality may be impaired. For this reason, it is necessary that the alignment between the element on the first base and the image forming member on the second base be highly accurate.

【0007】上記液晶においては、第1の基体と第2の
基体を高温で加熱し、第1の基体と第2の基体間に配さ
れた接着材を軟化しながら加圧し、さらに、高温加熱状
態で第1の基体と第2の基体の位置合わせをおこなった
後、接着材の固化を行うことで、第1の基体と第2の基
体の位置合わせをおこなう。このため、高温槽内でアラ
イメントをおこなう場合や加圧治具にヒーターを設置し
たりしておこなう。
In the above-mentioned liquid crystal, the first substrate and the second substrate are heated at a high temperature, and the adhesive disposed between the first substrate and the second substrate is pressurized while being softened. After the first base and the second base are aligned in this state, the adhesive is solidified to perform the first base and the second base. For this reason, alignment is performed in a high-temperature bath, or a heater is installed in a pressing jig.

【0008】このため、アライメント装置が、高温仕様
の精度が要求される問題や複雑な工程になり、生産性の
低下の問題等を発生する。
For this reason, the alignment apparatus requires a high-temperature specification accuracy or a complicated process, which causes a problem such as a decrease in productivity.

【0009】また、前記電子放出素子から発生した電子
線を蛍光体に衝突発光させる画像形成装置においては、
さらに、真空容器を構成する必要があるため、前記第1
の基体と第2の基体間に配された接着材にあたる接合材
は、ガラス材料をもちいて真空を維持する様に接合され
る。この際、上記液晶の場合接着材が有機系接着材であ
るため、軟化温度が150度前後なのに比べ、ガラス材
料では400度以上の高温になる為、更に高精度の位置
合わせ、組立装置上の問題は厳しいものとなる。
Further, in an image forming apparatus for causing an electron beam generated from the electron-emitting device to collide with a phosphor and emit light,
Further, since it is necessary to constitute a vacuum container, the first
The bonding material corresponding to the adhesive disposed between the first substrate and the second substrate is bonded using a glass material so as to maintain a vacuum. At this time, in the case of the liquid crystal, since the adhesive is an organic adhesive, the softening temperature is about 150 ° C., whereas the glass material has a high temperature of 400 ° C. or more. The problem becomes severe.

【0010】一方、同公報でも指摘している様に、室温
位置合わせ、仮止めによる製造方法では、接着材の軟化
により、位置ずれが発生する等問題が発生する。
[0010] On the other hand, as pointed out in the same publication, in the manufacturing method using room temperature alignment and temporary fixing, problems such as displacement occur due to softening of the adhesive material.

【0011】本発明は、これら平板型画像形成装置の組
み立て精度を高精度にし、画像品位の高い生産性の高い
平板型画像形成装置とその製造方法を提供するものであ
る。
An object of the present invention is to provide a flat plate type image forming apparatus with high assembling accuracy of these flat type image forming apparatuses, high image quality and high productivity, and a method of manufacturing the same.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の画像形成装置
は、第1の基体と、第2の基体と、該第1の基体と該第
2の基体間を支持するスペーサと支持枠が配設された画
像形成装置において、該支持枠より突出した可撓部を有
することを特徴とする画像形成装置である。
An image forming apparatus according to the present invention comprises a first base, a second base, a spacer for supporting the first base and the second base, and a support frame. An image forming apparatus provided with a flexible portion protruding from the support frame.

【0013】本発明の画像形成装置は、前記可撓部が前
記支持枠の四隅に設けられていることを特徴とする画像
形成装置である。
The image forming apparatus according to the present invention is characterized in that the flexible portions are provided at four corners of the support frame.

【0014】本発明の画像表示装置は、特に、第1の基
体には、冷陰極電子放出素子等の電子放出素子が配設さ
れ、第2の基体には、蛍光体等の画像形成部材が配設さ
れたことを特徴とする画像表示装置、および、プラズマ
ディスプレイ等であるが、必ずしも、これに限らず、第
1の基体と第2の基体間の位置合わせおよび、スペーサ
を必要とする画像表示装置では、本発明が適用される。
In the image display device of the present invention, an electron-emitting device such as a cold cathode electron-emitting device is provided on the first base, and an image forming member such as a phosphor is provided on the second base. An image display device, a plasma display, and the like, which are provided, but are not necessarily limited thereto, and an image that requires alignment between the first base and the second base and a spacer. The present invention is applied to a display device.

【0015】本発明の画像形成装置の製造方法は、以下
の工程を有する製造方法である。
The method for manufacturing an image forming apparatus according to the present invention is a manufacturing method having the following steps.

【0016】第1の基体及び第2の基体又は支持枠上に
第1の接着材と第2の接着材を配設する第1の工程、第
1の基体と第2の基体を位置決めし、支持枠に接触させ
第1の基体と第2の基体を第1の接着材を用いて仮止め
する第2の工程、第1の基体或いは/及び第2の基体を
加圧する第3の工程、第1の基体及び第2の基体又は支
持枠上に配設された第2の接着材を熱工程により軟化さ
せる第4の工程、第2の接着材を固化させ、第1の基
体、第2の基体、支持枠を接合する第5の工程。
A first step of disposing a first adhesive and a second adhesive on the first substrate and the second substrate or the support frame, positioning the first substrate and the second substrate, A second step of temporarily fixing the first base and the second base by using the first adhesive by bringing the first base and the second base into contact with the support frame, a third step of pressing the first base and / or the second base, A fourth step of softening the first adhesive provided on the first substrate and the second substrate or the second adhesive provided on the support frame by a heating step, and solidifying the second adhesive; The fifth step of joining the base and the support frame.

【0017】本発明の画像形成装置の製造方法は、前記
第1の接着材を前記支持枠より突出した可撓部に配設す
ることを特徴とする画像形成装置の製造方法である。
The method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention is a method of manufacturing an image forming apparatus, wherein the first adhesive is disposed on a flexible portion protruding from the support frame.

【0018】本発明の画像形成装置の製造方法は、前記
第1の接着材が無機系接着材で有ること、前記第2の接
着材がフリットガラスで有ることを特徴とする画像形成
装置の製造方法である。
[0018] The method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention is characterized in that the first adhesive is an inorganic adhesive and the second adhesive is frit glass. Is the way.

【0019】[作用]本発明によれば、第1の基体と、
第2の基体と、該第1の基体と該第2の基体間を支持す
るスペーサと支持枠が配設された画像形成装置におい
て、該支持枠より突出した可撓部があるため、第1の基
体及び/又は第2の基体の画面水平方向の位置関係を保
ちながら、画面垂直方向に可動することができ、別途治
具等を用いて位置決めを行う必要がない。
[Operation] According to the present invention, the first base member,
In an image forming apparatus in which a second base, a spacer for supporting between the first base and the second base, and a support frame are provided, a flexible portion protruding from the support frame is provided. The substrate and / or the second substrate can be moved in the vertical direction of the screen while maintaining the positional relationship in the horizontal direction of the screen, and there is no need to perform positioning using a separate jig or the like.

【0020】また、可撓部が支持枠の四隅に設けられて
いるので確実に画面水平方向の位置ずれが防止できる。
Further, since the flexible portions are provided at the four corners of the support frame, the displacement in the horizontal direction of the screen can be reliably prevented.

【0021】本発明の画像形成装置は、上記構成である
ため、第1の基体には、冷陰極電子放出素子等の電子放
出素子が配設され、第2の基体には、蛍光体等の画像形
成部材が配設されたこと画像形成装置の真空容器やプラ
ズマディスプレイの容器も構成できる。
Since the image forming apparatus of the present invention has the above configuration, an electron-emitting device such as a cold-cathode electron-emitting device is provided on the first base, and a fluorescent material or the like is provided on the second base. The vacuum container of the image forming apparatus in which the image forming member is provided and the container of the plasma display can also be configured.

【0022】また、本発明の画像形成装置の製造方法
は、以下の工程を有する製造方法である。
The method for manufacturing an image forming apparatus of the present invention is a manufacturing method having the following steps.

【0023】第1の基体及び第2の基体又は支持枠上に
第1の接着材と第2の接着材を配設する第1の工程、第
1の基体と第2の基体を位置決めし、支持枠に接触させ
第1の基体と第2の基体を第1の接着材を用いて仮止め
する第2の工程、第1の基体或いは/及び第2の基体を
加圧する第3の工程、第1の基体及び第2の基体又は支
持枠上に配設された第2の接着材を熱工程により軟化さ
せる第4の工程、第2の接着材を固化させ、第1の基
体、第2の基体、支持枠を接合する第5の工程とにより
成る。
A first step of disposing a first adhesive and a second adhesive on the first substrate and the second substrate or the support frame; positioning the first substrate and the second substrate; A second step of temporarily fixing the first base and the second base by using the first adhesive by bringing the first base and the second base into contact with the support frame, a third step of pressing the first base and / or the second base, A fourth step of softening the first adhesive provided on the first substrate and the second substrate or the second adhesive provided on the support frame by a heating step, and solidifying the second adhesive; And a fifth step of joining the support frame and the support frame.

【0024】また、本発明の画像形成装置の製造方法
は、前記第1の接着材を前記支持枠より突出した可撓部
に配設することを特徴とする画像形成装置の製造方法で
ある。
Further, a method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention is a method of manufacturing an image forming apparatus, wherein the first adhesive is disposed on a flexible portion protruding from the support frame.

【0025】また、本発明の画像形成装置の製造方法
は、前記第1の接着材が無機系接着材で有ること、前記
第2の接着材がフリットガラスで有ることを特徴とする
画像形成装置の製造方法である。
Further, the method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention is characterized in that the first adhesive is an inorganic adhesive and the second adhesive is frit glass. It is a manufacturing method of.

【0026】上記本発明の画像形成装置の製造方法によ
れば、室温もしくはその近傍で、第1の基体あるいは第
2の基体の位置合わせ、仮固定を行うことができ、接合
材の軟化、固化を行う為の高温加熱、冷却工程で、位置
合わせを行わなくて済むため、高精度かつ容易な位置合
わせが行える。更には、高温に対応したアライメント装
置も必要なく、装置の簡略化が行われる。
According to the method of manufacturing an image forming apparatus of the present invention, the first substrate or the second substrate can be aligned and temporarily fixed at or near room temperature, and the bonding material can be softened and solidified. In the high-temperature heating / cooling process for performing the positioning, it is not necessary to perform the positioning, and thus the positioning can be performed with high precision and easy. Furthermore, an alignment device corresponding to a high temperature is not required, and the device can be simplified.

【0027】以上の様に、本発明の画像形成装置および
その製造方法によれば、複雑なアライメント装置もな
く、高精度な組み立てを容易に行うことができるため、
安価で、高品位な画像形成装置が実現できる。
As described above, according to the image forming apparatus and the method of manufacturing the same of the present invention, high-precision assembly can be easily performed without a complicated alignment apparatus.
An inexpensive and high-quality image forming apparatus can be realized.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】本発明による実施形態について、
図面を参照しつつ詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to the drawings.

【0029】[第1の実施形態]本実施形態は、プラズ
マ、とりわけ冷陰極電子放出素子の電界電子放出素子、
表面伝導型電子放出素子等の電子放出素子を複数配置
し、蛍光体等の画像形成部材を発光し、表示する平板型
画像形成装置の新規な構成および製造方法を提供するも
のである。
[First Embodiment] This embodiment is directed to a field emission device of a plasma, especially a cold cathode electron emission device,
An object of the present invention is to provide a novel configuration and a manufacturing method of a flat-panel image forming apparatus in which a plurality of electron-emitting devices such as surface conduction electron-emitting devices are arranged, and an image forming member such as a phosphor emits light to display.

【0030】まず、本発明の画像形成装置の主要な構成
の一例を図1乃至図6を用いて説明する。
First, an example of a main configuration of the image forming apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0031】図1は本発明の画像形成装置の各ブロック
構成を示したものであり、1は第1の基体、2は第2の
基体、3は支持枠、4は大気圧支持部材であるスペーサ
である。支持枠3の四隅には、研磨等で作製された可撓
部(板ばね部ともいう)が配置されている。
FIG. 1 shows each block configuration of the image forming apparatus of the present invention, wherein 1 is a first base, 2 is a second base, 3 is a support frame, and 4 is an atmospheric pressure support member. It is a spacer. At four corners of the support frame 3, flexible portions (also referred to as leaf spring portions) made by polishing or the like are arranged.

【0032】図2は本発明の画像形成装置の作製方法を
示した図であり、5は仮止め用の接着材、6は本固定用
の接着材であり、符号1乃至3は図1と同一符号と同様
であり、重複する説明を省略する。図3は組立後の画像
形成装置の可撓部の部分拡大図であり、符号1乃至3及
び符号5,6は図2と同様であり、重複する説明を省略
する。
FIG. 2 is a view showing a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention, wherein 5 is an adhesive for temporary fixing, 6 is an adhesive for permanent fixing, and reference numerals 1 to 3 are the same as those in FIG. It is the same as the same reference numeral, and the duplicate description will be omitted. FIG. 3 is a partially enlarged view of the flexible portion of the image forming apparatus after assembly. Reference numerals 1 to 3 and reference numerals 5 and 6 are the same as those in FIG.

【0033】また、図4〜6は本発明の別な構成例を示
したものであり、図4における符号31は支持枠3とは
異なる構造の支持枠であり、符号41はスペーサ4とは
異なる形状のスペーサであり、図5は図2に対応する当
該画像形成装置の形成方法の手順を断面図により説明す
るものであり、図6は支持枠31と第1の基体1と第2
の基体2とを形成した局部的な断面図である。
4 to 6 show another structural example of the present invention. In FIG. 4, reference numeral 31 denotes a support frame having a structure different from that of the support frame 3, and reference numeral 41 denotes a spacer 4 FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a procedure of a forming method of the image forming apparatus corresponding to FIG. 2, and FIG. 6 is a supporting frame 31, a first base 1, and a second base.
FIG. 3 is a local cross-sectional view in which a base 2 is formed.

【0034】図1乃至図3において、第1の基体1は、
ガラス等で構成されたリアプレートであり、電極、配線
等のパターンが形成されている。更に、電子放出素子を
用いた画像形成装置では、電子放出素子が配置される。
また、プラズマディスプレイパネルでは、プラズマ領域
を限定するための隔壁、さらに、反射型では、蛍光体等
が設置される。
In FIGS. 1 to 3, the first base 1 is
This is a rear plate made of glass or the like, on which patterns such as electrodes and wiring are formed. Further, in an image forming apparatus using an electron-emitting device, an electron-emitting device is provided.
In a plasma display panel, a partition for limiting a plasma region is provided, and in a reflection type, a phosphor or the like is provided.

【0035】また、第2の基体2は、ガラス等で構成さ
れたフェースプレートであり、電極、配線等のパターン
が形成されている。更に、電子放出素子を用いた画像形
成装置では、電子と衝突し発光する蛍光体が配置され
る。また、プラズマディスプレイパネルでは、配線や必
要であれば蛍光体等が設置される。
The second base 2 is a face plate made of glass or the like, on which patterns such as electrodes and wirings are formed. Furthermore, in an image forming apparatus using an electron-emitting device, a phosphor that emits light by colliding with electrons is arranged. Further, in the plasma display panel, wirings and, if necessary, phosphors are provided.

【0036】また、支持枠3は、基体1、2と同様の材
料で構成され、基本1、2および支持枠3によって、容
器が構成される。電子放出素子を用いた画像形成装置で
は、内部は真空とされる。また、プラズマを用いた画像
形成装置では、ガスが封入される。
The support frame 3 is made of the same material as the bases 1 and 2, and the basics 1 and 2 and the support frame 3 constitute a container. In an image forming apparatus using an electron-emitting device, the inside is evacuated. In an image forming apparatus using plasma, gas is sealed.

【0037】支持枠3の四隅には研磨等の切削手段によ
り、上下に可動できる可撓部が設けて有り、基体1、2
を介して加えられる加圧手段により曲げ変形する構成に
なっている。なお、支持枠3は、基体1、2と同様の材
料で構成されており、同一材料の可撓部(板バネ)であ
っても、寸法的には僅かでも、本実施形態においては、
充分な弾性係数を有しており、気密性にもすぐれるもの
である。また、可撓部が支持枠の四隅に設けられている
ので、確実に画面水平方向の位置ずれを防止する機能を
有している。
At the four corners of the support frame 3, there are provided flexible portions which can be moved up and down by cutting means such as polishing.
And bendable by pressing means applied via the Note that the support frame 3 is made of the same material as the bases 1 and 2, and in the present embodiment, even if it is a flexible portion (leaf spring) made of the same material, even if it is slightly dimensional,
It has a sufficient modulus of elasticity and excellent airtightness. Further, since the flexible portions are provided at the four corners of the support frame, the flexible portions have a function of reliably preventing the screen from being displaced in the horizontal direction.

【0038】図1の様に支持枠3の四角枠の角の対称位
置で基体1、2に接する様に可撓部を設けても良く、図
4の様に支持枠3の四角枠の各角の同一位置で基体1、
2の両方に接するように可撓部を設けても良い。
As shown in FIG. 1, a flexible portion may be provided so as to be in contact with the bases 1 and 2 at the symmetrical positions of the corners of the rectangular frame of the support frame 3, and as shown in FIG. At the same position of the corner, the base 1,
A flexible portion may be provided so as to contact both of them.

【0039】可撓部を設ける位置は各基体1,2に対し
2個以上設ければ良い。
The positions where the flexible portions are provided may be two or more for each of the substrates 1 and 2.

【0040】支持枠3と基体1、基体2の接着として
は、仮止め用の第1の接着材5と本固定用の第2の接着
材6を用い、仮止め用の第1の接着材5を可撓部に、本
固定用の第2の接着材6を支持枠3の可撓部以外に配設
されるように塗布する。
As the bonding between the support frame 3 and the base 1 and the base 2, a first adhesive 5 for temporary fixing and a second adhesive 6 for permanent fixing are used, and the first adhesive for temporary fixing is used. 5 is applied to the flexible portion, and the second adhesive 6 for permanent fixing is applied so as to be disposed on the support frame 3 other than the flexible portion.

【0041】第一の接着材5としては、常温で接着し、
高温時でも軟化しない無機接着材等が用いられ、第2の
接着材6としては、400℃前後で軟化接着するフリッ
トガラス等が用いられる。また、第2の接着材6は第1
の基体1と支持枠3間及び第2の基体ふと支持枠3間に
満遍なく塗布され、真空容器またはガス封入容器として
の漏れを防止している。
The first adhesive 5 is bonded at room temperature,
An inorganic adhesive or the like that does not soften even at high temperatures is used. As the second adhesive 6, frit glass or the like that softens and adheres at about 400 ° C. is used. In addition, the second adhesive 6
Is applied evenly between the base 1 and the support frame 3 and between the second base and the support frame 3 to prevent leakage as a vacuum vessel or a gas-filled vessel.

【0042】スペーサ4は、画像形成装置の容器を真空
あるいは、プラズマディスプレイパネルの様に低圧のガ
スを封入した場合に、大気圧を支持する支持体であり、
大気圧に耐える様に設計される。スペーサ4の形態、配
置は、円柱状、平板状、いげた状等種々の形態が適用さ
れる。また、スペーサ4を構成する材料は、ガラス、有
機ポリマー、セラミックスやその表面に2次電子放出係
数が1に近く導電性材料であるSi,CrO2 ,CuO
等の半導体、金属酸化物等や絶縁層等が、1層或いは複
数層積層される。
The spacer 4 is a support for supporting the atmospheric pressure when the container of the image forming apparatus is filled with a low pressure gas such as a vacuum or a plasma display panel.
Designed to withstand atmospheric pressure. Various forms such as a columnar shape, a flat plate shape, and an irregular shape are applied to the form and arrangement of the spacer 4. The material constituting the spacer 4 is glass, organic polymer, ceramics, or a conductive material having a secondary electron emission coefficient close to 1 such as Si, CrO 2 , CuO on the surface thereof.
, A metal oxide or the like, an insulating layer, or the like is laminated in one layer or a plurality of layers.

【0043】尚、真空容器として、使用する場合は、不
図示の排気管より、容器内が排気され、真空が形成され
た後、排気管が封止される。また、ガスを導入する場合
は、真空排気後、ガスを導入封止される。
When used as a vacuum container, the inside of the container is evacuated from an exhaust pipe (not shown), and after the vacuum is formed, the exhaust pipe is sealed. When introducing a gas, the gas is introduced and sealed after evacuation.

【0044】上述した構成により、画像形成装置の組み
立て精度を高精度にし、正確な位置合わせを達成でき、
画像品位の高い生産性の高い画像形成装置を提供でき
る。
According to the above-described structure, the assembling accuracy of the image forming apparatus can be increased, and accurate alignment can be achieved.
An image forming apparatus with high image quality and high productivity can be provided.

【0045】[第2の実施形態]次に、第2の実施形態
として、本発明の画像形成装置の作製方法の一部を、図
2、3を用いて説明する。以下に順次作製方法の手順に
ついて説明する。
[Second Embodiment] Next, as a second embodiment, a part of a method of manufacturing an image forming apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. Hereinafter, the procedure of the manufacturing method will be described sequentially.

【0046】(1)第1の基体1に予め、電極、配線、
素子等を形成する。電子放出素子を形成する場合には、
複数の電子放出素子を形成し、電圧を印加する電極を各
電子放出素子の両端電極にそれぞれマトリクス的な配線
により形成する。その形成方法には、それぞれの電子放
出素子によって異なるが、その一例について後述する。
また、プラズマディスプレイパネルの場合には、AC駆
動及びDC駆動の場合で異なるが各画素毎にプラズマに
電界を印加する電極とプラズマからの紫外線により蛍光
を発する蛍光体を塗布して第1の基体1を形成する。
(1) An electrode, a wiring,
An element or the like is formed. When forming an electron-emitting device,
A plurality of electron-emitting devices are formed, and electrodes to which a voltage is applied are formed on both end electrodes of each of the electron-emitting devices by wiring in a matrix. The formation method differs depending on each electron-emitting device, and an example thereof will be described later.
Also, in the case of a plasma display panel, the first substrate is formed by applying an electrode for applying an electric field to the plasma and a fluorescent material that emits fluorescence by ultraviolet rays from the plasma for each pixel, although different for the AC drive and the DC drive. Form one.

【0047】(2)第2の基体2に予め、電極、配線、
蛍光体等を形成する。冷陰極電子放出素子に対応する第
2の基体2の場合には、ガラス基板に各色の蛍光体を塗
布し、高電圧を印加されるメタルバック電極を形成す
る。また、プラズマディスプレイパネルの場合には、蛍
光体を塗布したり、第1の基体1のX電極に対するY電
極を形成したり、誘電体層や保護層を形成する。
(2) The electrodes, wirings,
A phosphor or the like is formed. In the case of the second substrate 2 corresponding to the cold cathode electron-emitting device, a phosphor of each color is applied to a glass substrate to form a metal back electrode to which a high voltage is applied. In the case of a plasma display panel, a phosphor is applied, a Y electrode for the X electrode of the first base 1 is formed, and a dielectric layer and a protective layer are formed.

【0048】(3)基体1、2を不図示の位置決め装置
に設置する。
(3) The substrates 1 and 2 are set on a positioning device (not shown).

【0049】(4)基体1に支持枠3、スペーサ4を配
設する。尚、支持枠3には予め仮止め用接着材5と本固
定用接着材6が塗布されている。スペーサ4を基体2に
配設する場合は、スペーサ4に基体2と当接する個所に
フリットガラス等で予め接着されている。
(4) The support frame 3 and the spacer 4 are provided on the base 1. Note that the temporary fixing adhesive 5 and the permanent fixing adhesive 6 are applied to the support frame 3 in advance. When the spacer 4 is provided on the base 2, the spacer 4 is bonded in advance to a position where the spacer 4 comes into contact with the base 2 with frit glass or the like.

【0050】(5)位置決め装置により基体1、2の位
置決めを行う。
(5) The positioning of the substrates 1 and 2 is performed by the positioning device.

【0051】(6)仮止め用接着材5により、基体1、
2、支持枠3の仮止めを行う。
(6) The base 1 and the temporary fixing adhesive 5
2. Temporarily fix the support frame 3.

【0052】(7)仮止めを行った基体1、2、支持枠
3を焼成炉に入れ、加圧手段により基体1、基体2を加
圧する。
(7) The temporarily fixed bases 1 and 2 and the support frame 3 are placed in a firing furnace, and the bases 1 and 2 are pressurized by a pressing means.

【0053】(8)基体1、2等を焼成炉で加熱し、本
固定用接着材6を流動させ、所望の時間加熱、加圧保持
する。
(8) The bases 1, 2 and the like are heated in a firing furnace to cause the permanent fixing adhesive 6 to flow, and are heated and pressed for a desired time.

【0054】(9)その後冷却する。(9) Thereafter, cooling is performed.

【0055】(10)加圧手段を解除し、位置決め装置
から取り出す。
(10) Release the pressurizing means and take it out of the positioning device.

【0056】こうして画像形成装置の容器が製造され
る。尚、上記製造ステップには、適宜、電子放出素子を
形成するためのステップやプラズマディスプレイパネル
の場合の所定の電極や誘電体層を形成するステップが挿
入される。
Thus, the container of the image forming apparatus is manufactured. Incidentally, steps for forming an electron-emitting device and steps for forming a predetermined electrode and a dielectric layer in the case of a plasma display panel are appropriately inserted into the above-mentioned manufacturing steps.

【0057】[0057]

【実施例】[実施例1]本発明の第1の実施例は、図1
に示される構成の容器を用いた画像形成装置である。
[Embodiment 1] A first embodiment of the present invention is shown in FIG.
Is an image forming apparatus using the container having the configuration shown in FIG.

【0058】図1は本発明の画像形成装置の構成を示し
たものであり、1は第1の基体、2は第2の基体、3は
支持枠、4は大気圧支持部材であるスペーサである。支
持枠3の四隅には、研磨等で作製された可撓部が配置さ
れている。
FIG. 1 shows the structure of an image forming apparatus according to the present invention, wherein 1 is a first base, 2 is a second base, 3 is a support frame, and 4 is a spacer which is an atmospheric pressure support member. is there. At the four corners of the support frame 3, flexible portions made by polishing or the like are arranged.

【0059】図2は本発明の画像形成装置の作製方法を
示した図であり、5は仮止め用の接着材、6は本固定用
の接着材である。図3は組立後の画像形成装置の可撓部
の部分拡大図である。
FIG. 2 is a view showing a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention, wherein 5 is an adhesive for temporary fixing, and 6 is an adhesive for permanent fixing. FIG. 3 is a partially enlarged view of a flexible portion of the image forming apparatus after assembly.

【0060】本実施例では、冷陰極電子放出素子である
表面伝導型電子放出素子を電子放出素子として、複数個
第1の基体に形成し、第2の基体には、蛍光体を設置
し、有効表示エリアを対角15インチとする縦、横比
3:4のカラー画像形成装置を作成した。まず、本発明
の画像形成装置を図8を用いて説明し、次にその製造方
法を説明する。
In this embodiment, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, are formed on a first substrate as electron-emitting devices, and a phosphor is provided on a second substrate. A color image forming apparatus having an effective display area of 15 inches diagonally and an aspect ratio of 3: 4 was prepared. First, an image forming apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. 8, and then a manufacturing method thereof will be described.

【0061】図8は、本実施例に用いた画像形成装置の
斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの一部を切
り欠いて示している。
FIG. 8 is a perspective view of the image forming apparatus used in this embodiment, in which a part of the panel is cut away to show the internal structure.

【0062】図中、85はリアプレート、86は支持
枠、87はフェースプレート、85〜87により表示パ
ネルの内部を真空に維持するための気密容器を形成して
いる。気密容器を組み立てるにあたっては、各部材の接
合部に十分な強度と気密性を保持させるため封着する必
要がある。80は、平板状のスペーサであり、導電性が
付与されたスペーサである。
In the figure, 85 is a rear plate, 86 is a support frame, 87 is a face plate, and 85 to 87 form an airtight container for maintaining the inside of the display panel at a vacuum. When assembling the airtight container, it is necessary to seal the joint of each member to maintain sufficient strength and airtightness. Reference numeral 80 denotes a flat spacer, which is a spacer provided with conductivity.

【0063】リアプレート85上には、表面伝導型放出
素子82がN×M個形成されている。なお、N,Mは2
以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応じて
適宜設定される。たとえば、高品質テレビジョンの表示
を目的とした表示装置においては、N=3000,M=
1000以上の数を設定することが望ましい。本実施例
においては、N=333,M=250とした。前記N×
M個の表面伝導型放出素子82は、M本の行方向配線8
3(上配線と述べる場合もある)とN本の列方向配線8
4(下配線と述べる場合もある)により単純マトリクス
配線されている。本実施例では、基板81上に表面伝導
型放出素子82及び行方向配線83、列方向配線84を
形成している例を示すが、基板81の強度が強ければ、
リアプレート85と兼用してもよい。
On the rear plate 85, N × M surface conduction emission devices 82 are formed. N and M are 2
The above positive integer is set as appropriate according to the target number of display pixels. For example, in a display device for displaying high quality television, N = 3000, M =
It is desirable to set the number to 1000 or more. In this embodiment, N = 333 and M = 250. N ×
The M surface-conduction-type emission elements 82 include M row-direction wirings 8.
3 (sometimes referred to as upper wiring) and N column-directional wirings 8
4 (may be referred to as a lower wiring). In the present embodiment, an example in which the surface conduction electron-emitting device 82, the row wiring 83, and the column wiring 84 are formed on the substrate 81 is shown.
The rear plate 85 may also be used.

【0064】つぎに、図9を用いて、本発明に適用可能
な表面伝導型電子放出素子の構成を説明する。図9
(a)は平面図、図9(b)は断面図である。
Next, the structure of a surface conduction electron-emitting device applicable to the present invention will be described with reference to FIG. FIG.
9A is a plan view, and FIG. 9B is a cross-sectional view.

【0065】図9において、91は基板、92と93は
素子電極、94は導電性薄膜、95は電子放出部であ
る。本表面伝導型電子放出素子はガラス基板等の基板9
1上に導電性のAl,Cu,合金、それらの酸化物等の
素子電極92,94を真空蒸着や印刷技術等で形成し、
代表的なPdO等の導電性薄膜94を印刷技術やホトリ
ソグラフィ技術等で形成する。その後所定の雰囲気によ
り、行方向配線83及び列方向配線84に接続された素
子電極92,93に所定のパルス電圧を印加して通電フ
ォーミング処理により電子放出部95を形成する。続け
て、通電活性化処理、さらには安定化処理を施して安定
した表面伝導型電子放出素子を形成する。尚、通電フォ
ーミング処理は、気密容器を形成した後に施したほうが
第1の基板を空気中にさらすことがなく、形成工程に好
都合である。
In FIG. 9, 91 is a substrate, 92 and 93 are device electrodes, 94 is a conductive thin film, and 95 is an electron emitting portion. The surface conduction electron-emitting device is a substrate 9 such as a glass substrate.
1. Device electrodes 92 and 94 made of conductive Al, Cu, alloys, oxides thereof, etc. are formed on the substrate 1 by vacuum deposition or printing technology,
A typical conductive thin film 94 such as PdO is formed by a printing technique, a photolithography technique, or the like. Thereafter, a predetermined pulse voltage is applied to the device electrodes 92 and 93 connected to the row direction wiring 83 and the column direction wiring 84 in a predetermined atmosphere, and the electron emitting portion 95 is formed by an energization forming process. Subsequently, a current activation process and a stabilization process are performed to form a stable surface conduction electron-emitting device. It should be noted that the energization forming process is more convenient if performed after forming the airtight container, since the first substrate is not exposed to the air, and thus the forming process is more convenient.

【0066】また、素子電極92,93を通じて、導電
性薄膜94に通電フォーミング処理を施すことで、導電
性薄膜94を局所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、
電気的に高抵抗な状態にした電子放出部95を形成し、
さらに、放出電流を著しく改善する活性化工程を該表面
伝導型電子放出素子の上述導電性薄膜94に電圧を印加
し、素子に電流を流すことにより、上述の電子放出部9
5より電子を放出せしめるものである。尚、従来技術で
のべた特開平7−235255号公報と同様のものであ
る。
Further, the conductive thin film 94 is subjected to an energization forming process through the device electrodes 92 and 93 to locally destroy, deform or deteriorate the conductive thin film 94.
Forming an electron emitting portion 95 in an electrically high resistance state,
Further, an activation step for remarkably improving the emission current is performed by applying a voltage to the conductive thin film 94 of the surface conduction electron-emitting device and causing a current to flow through the device.
5 to emit electrons. It is the same as that described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-235255.

【0067】また一方第2の基板2について、フェース
プレート87の下面には、蛍光膜88が形成されてい
る。本実施例はカラー表示装置であるため、蛍光膜88
の部分にはCRTの分野で用いられる赤、緑、青の3原
色の蛍光体が塗り分けられている。各色の蛍光体は、た
とえば図10の(a)に示すようにストライプ状に塗り
分けられ、蛍光体のストライプの間には黒色の導電体1
01が設けてある。黒色の導電体101を設ける目的
は、電子ビームの照射位置に多少のずれがあっても表示
色にずれが生じないようにする事や、外光の反射を防止
して表示コントラストの低下を防ぐ事、電子ビームによ
る蛍光膜のチャージアップを防止する事などである。黒
色の導電体101には、黒鉛を主成分として用いたが、
上記の目的に適するものであればこれ以外の材料を用い
ても良い。
On the other hand, on the second substrate 2, a fluorescent film 88 is formed on the lower surface of the face plate 87. Since this embodiment is a color display device, the fluorescent film 88
The phosphors of the three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to the portions. The phosphors of each color are separately applied in a stripe shape as shown in FIG. 10A, for example, and a black conductor 1 is interposed between the phosphor stripes.
01 is provided. The purpose of providing the black conductor 101 is to prevent the display color from being shifted even if the electron beam irradiation position is slightly shifted, and to prevent the reflection of external light to prevent the display contrast from being lowered. And preventing charge-up of the fluorescent film by the electron beam. Although graphite was used as a main component for the black conductor 101,
Other materials may be used as long as they are suitable for the above purpose.

【0068】また、3原色の蛍光体の塗り分け方は前記
図10(a)に示したストライプ状の配列に限られるも
のではなく、たとえば図10(b)に示すようなデルタ
状配列や、それ以外の配列であってもよい。
The method of applying the three primary color phosphors is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 10A, but may be, for example, a delta arrangement as shown in FIG. Other arrangements may be used.

【0069】なお、モノクロームの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜88に用いれば
よく、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよい。
When a monochrome display panel is formed, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film 88, and a black conductive material may not be necessarily used.

【0070】また、蛍光膜88のリアプレート側の面に
は、CRTの分野では公知のメタルバック89を設けて
ある。メタルバック89を設けた目的は、蛍光膜88が
発する光の一部を鏡面反射して光利用率を向上させる事
や、負イオンの衝突から蛍光膜88を保護する事や、電
子ビーム加速電圧を印加するための電極として作用させ
る事や、蛍光膜88を励起した電子導電路として作用さ
せる事などである。
A metal back 89 known in the field of CRT is provided on the surface of the fluorescent film 88 on the rear plate side. The purpose of providing the metal back 89 is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film 88, to protect the fluorescent film 88 from the collision of negative ions, and to increase the electron beam acceleration voltage. To act as an electrode for applying the electric field, or to act as an electron conduction path for exciting the fluorescent film 88.

【0071】メタルバック89は、蛍光膜88をフェー
スプレート基板87上に形成した後、蛍光膜表面を平滑
化処理し、その上にAlを真空蒸着する方法により形成
した。なお、蛍光膜88に低電圧用の蛍光体材料を用い
た場合には、メタルバック89は用いない。
The metal back 89 is formed by forming a fluorescent film 88 on the face plate substrate 87, smoothing the surface of the fluorescent film, and vacuum-depositing Al thereon. When a fluorescent material for low voltage is used for the fluorescent film 88, the metal back 89 is not used.

【0072】また、本実施例では用いなかったが、加速
電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、フェ
ースプレート基板87と蛍光膜88との間に、たとえば
ITOを材料とする透明電極を設けてもよい。
Although not used in this embodiment, for the purpose of applying an acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film, a transparent material made of, for example, ITO is provided between the face plate substrate 87 and the fluorescent film 88. Electrodes may be provided.

【0073】更に、Dx1〜DxmおよびDy1〜Dy
nおよびHvは、当該表示パネルと不図示の電気回路と
を電気的に接続するために設けた気密構造の電気接続用
端子である。Dx1〜Dxmはマルチ電子ビーム源の行
方向配線83と、Dy1〜Dynはマルチ電子ビーム源
の列方向配線84と、Hvはフェースプレートのメタル
バック89と電気的に接続している。
Further, Dx1 to Dxm and Dy1 to Dy
n and Hv are electric connection terminals having an airtight structure provided for electrically connecting the display panel and an electric circuit (not shown). Dx1 to Dxm are electrically connected to the row wiring 83 of the multi-electron beam source, Dy1 to Dyn are connected to the column wiring 84 of the multi-electron beam source, and Hv is electrically connected to the metal back 89 of the face plate.

【0074】以上、本発明を適用した画像形成装置の基
本構成を、特に表面伝導型電子放出素子の構成について
説明した。
The basic configuration of the image forming apparatus to which the present invention is applied, particularly the configuration of the surface conduction electron-emitting device has been described.

【0075】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて説明する。
Next, a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention will be described.

【0076】本実施例では、図1に示したように基体
1、基体2にそれぞれ2箇所接するように可撓部を配設
し、その位置も支持枠の対角位置になるようにした。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the flexible portions are provided so as to be in contact with the base 1 and the base 2 at two places, respectively, and the positions thereof are also at diagonal positions of the support frame.

【0077】可撓部は支持枠3の四隅を砥石で研磨する
ことにより作製し、可撓部の板厚を1mmにした。
The flexible portion was manufactured by polishing the four corners of the support frame 3 with a grindstone, and the thickness of the flexible portion was set to 1 mm.

【0078】{基体1の作成} (工程−1)第1の基体である青板ガラス基板上にシリ
コン酸化膜をスパッタ法で形成し、その上に下配線をス
クリーン印刷で形成した。次に、下配線と上配線間に層
間絶縁層を形成し、さらに上配線を形成した。次に、下
配線と上配線とに接続された素子電極92,93を形成
した。次に、導電性薄膜94をスパッタ法で形成した
後、パターニングし、所望の形態とした。
<< Preparation of Base 1 >> (Step-1) A silicon oxide film was formed on a blue glass substrate as a first base by a sputtering method, and a lower wiring was formed thereon by screen printing. Next, an interlayer insulating layer was formed between the lower wiring and the upper wiring, and an upper wiring was further formed. Next, device electrodes 92 and 93 connected to the lower wiring and the upper wiring were formed. Next, a conductive thin film 94 is formed by a sputtering method and then patterned to obtain a desired form.

【0079】以上の工程により、基体1に単純マトリク
ス配線した表面伝導型放出素子を形成した。
Through the above steps, a surface conduction electron-emitting device having a simple matrix wiring on the substrate 1 was formed.

【0080】{基体2の作成} (工程−2)第2の基体である青板ガラス基板に蛍光
体、黒色導電体を印刷法により形成した。蛍光膜の内面
側表面の平滑化処理を行い、その後、Alを真空蒸着等
を用いて堆積させメタルバックを形成した。
<< Preparation of Substrate 2 >> (Step-2) A phosphor and a black conductor were formed on a blue plate glass substrate as a second substrate by a printing method. A smoothing treatment was performed on the inner surface of the fluorescent film, and thereafter, Al was deposited using vacuum evaporation or the like to form a metal back.

【0081】更に、厚み200μm、高さ4.0mmの
平板状スペーサをフリットガラスで接着した。尚、スペ
ーサは、ガラス製であり、その表面に、CrO2 を積層
して導電性を付与した。
Further, a flat spacer having a thickness of 200 μm and a height of 4.0 mm was bonded with frit glass. The spacer was made of glass, and was provided with conductivity by laminating CrO 2 on its surface.

【0082】以上の工程により、基体2に3原色の蛍光
体をストライプ状の配列蛍光体を形成し、スペーサを固
定した。
Through the above steps, the phosphors of the three primary colors were arranged in stripes on the substrate 2, and the spacers were fixed.

【0083】(工程−3)支持枠3を基体1,2に本固
定する為のフリットガラス層6をディスペンサー装置に
より所望の位置に塗布し、仮焼成(380℃)を行い形
成した。フリットガラスは日本電気硝子社製LS−30
81をペーストとして用いた。
(Step-3) A frit glass layer 6 for permanently fixing the support frame 3 to the bases 1 and 2 was applied to a desired position by a dispenser device and formed by calcination (380 ° C.). Frit glass is LS-30 manufactured by NEC Corporation
81 was used as a paste.

【0084】フリットガラス6の仮焼成後、支持枠を仮
止めする為の接着材5を、可撓部に塗布した。
After the preliminary firing of the frit glass 6, an adhesive 5 for temporarily fixing the support frame was applied to the flexible portion.

【0085】仮止め用の接着材5として、無機接着材
(AREMCO製セラマボンド569)を用いた。
As the adhesive 5 for temporary fixing, an inorganic adhesive (CERAMABOND 569 manufactured by AREMCO) was used.

【0086】仮止め用の接着材5としては、何らこれに
こだわるものではなく、本固定用のフリットガラスが軟
化する温度で接着強度が低下しないものであれば構わな
い。
The adhesive material 5 for temporary fixing is not limited to this, and any material may be used as long as the adhesive strength does not decrease at a temperature at which the frit glass for final fixing softens.

【0087】(工程−4)次に、上記基体1,2、支持
枠3をエリアセンサのCCD(Charge Coupled Devic
e)とXYステージからなる位置決め装置(不図示)に
設置し、位置合わせを行った。位置合わせは、各々の基
体1,2に設けてあるアライメントマークをCCDで観
察し、支持枠3が所望の位置に来るようにXYステージ
で調整しながら行った(図2(a))。
(Step-4) Next, the bases 1 and 2 and the support frame 3 are connected to a CCD (Charge Coupled Device) of an area sensor.
e) and an XY stage were installed on a positioning device (not shown) to perform positioning. The alignment was performed by observing the alignment marks provided on each of the bases 1 and 2 with a CCD and adjusting the XY stage so that the support frame 3 was at a desired position (FIG. 2A).

【0088】(工程−5)位置決め終了後、基体1,2
と支持枠3を接触させ、仮止め用接着材5により固定し
た。その際、硬化時間を早める為に全体を70℃程度に
上げ作業を行った(図2(b))。
(Step-5) After completion of the positioning, the substrates 1, 2
And the support frame 3 were brought into contact with each other, and fixed with the temporary fixing adhesive 5. At that time, in order to shorten the curing time, the whole was raised to about 70 ° C. to perform an operation (FIG. 2B).

【0089】(工程−6)上記仮止めされた画像形成装
置を加熱炉に導入し、本固定用のフリットガラスを軟化
させるために、420℃、10分保持した。この時、本
固定用のフリットガラスの接着強度を増す為、基体2の
上から加圧手段により約10kgの荷重をかけて行った
(図2(c))。
(Step-6) The temporarily fixed image forming apparatus was introduced into a heating furnace, and kept at 420 ° C. for 10 minutes in order to soften the frit glass for permanent fixing. At this time, in order to increase the adhesive strength of the frit glass for permanent fixing, a load of about 10 kg was applied from above the base 2 by a pressing means (FIG. 2 (c)).

【0090】フリットガラスが軟化する為、基体2の沈
み込みが発生するが、可撓部により高さ方向(図3の上
下方向)に可動できる為、沈み込みが発生しても、XY
方向の位置決めは保持される。
Although the frit glass is softened, the base 2 sinks. However, since the flexible portion can move in the height direction (up and down direction in FIG. 3), even if the sink occurs, XY
Directional positioning is maintained.

【0091】(工程−7)所望の時間後、加熱炉を徐冷
し、フリットを硬化させる。最後に加圧手段を取り除
き、基体1,2、支持枠3が接着した画像形成装置用の
容器を取出した。
(Step-7) After a desired time, the heating furnace is gradually cooled to harden the frit. Finally, the pressurizing means was removed, and the container for the image forming apparatus to which the substrates 1 and 2 and the support frame 3 were adhered was taken out.

【0092】(工程−8)以上のようにして完成した容
器内の雰囲気を、排気管(不図示)を通じ、真空ポンプ
にて排気し、十分な真空度に達した後、容器外端子Dx
1ないしDxmとDy1ないしDynを通じ電子放出素
子に電圧を印加し、電子放出部125を、導電性薄膜1
24をフォーミング工程、活性化工程することにより作
製した。さらに、一連の工程終了後、250度で、10
時間ベーキングを行った。
(Step-8) The atmosphere in the container completed as described above is exhausted by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after reaching a sufficient degree of vacuum, the external terminal Dx
1 to Dxm and Dy1 to Dyn, a voltage is applied to the electron-emitting device to cause the electron-emitting portion 125 to
24 was produced by performing a forming step and an activation step. Further, after a series of processes, at 250 degrees, 10
Time baking was performed.

【0093】(工程−9)次に、室温で、10のマイナ
ス8乗torr程度の真空度まで排気し、不図示の排気
管をガスバーナーで熱することで溶着し外囲器の封止を
行った。なお、好ましくは、その後、又は封止前に、上
述の表面伝導型電子放出素子の電子放出部を形成する通
電フォーミング処理及び電子放出効率を向上する通電活
性化処理、通電安定化処理を施す。
(Step-9) Next, at room temperature, the air was evacuated to a degree of vacuum of about 10 −8 torr, and an exhaust pipe (not shown) was welded by heating with a gas burner to seal the envelope. went. Preferably, thereafter or before encapsulation, an energization forming process for forming an electron emission portion of the above-described surface conduction electron-emitting device, an energization activation process for improving electron emission efficiency, and an energization stabilization process are performed.

【0094】最後に封止後の真空度を維持するために、
高周波加熱法でゲッター処理を行った。
Finally, in order to maintain the degree of vacuum after sealing,
Getter treatment was performed by a high-frequency heating method.

【0095】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子Dx1な
いしDxm,Dy1ないしDynを通じ、走査信号及び
変調信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ、印加す
ることにより、電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、メ
タルバック89、あるいは透明電極(不図示)に数kV
以上の高圧を印加し、電子ビームを加速し、蛍光膜88
に衝突させ、励起・発光させることで画像を表示した。
In the image display device of the present invention completed as described above, the scanning signals and the modulation signals are respectively supplied to the respective electron-emitting devices by signal generating means (not shown) through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn. , By applying electrons, a few kV is applied to the metal back 89 or a transparent electrode (not shown) through the high voltage terminal Hv.
The above high pressure is applied to accelerate the electron beam, and the fluorescent film 88
Then, the image was displayed by exciting and emitting light.

【0096】その結果、電子放出素子、蛍光体の位置ず
れがなく、位置ずれに起因した輝度ばらつきや、混色も
なかった。
As a result, there was no displacement of the electron-emitting device and the phosphor, and there was no variation in luminance and no color mixing caused by the displacement.

【0097】本実施例では、図1に示したように基体
1、基体2にそれぞれ異なった2箇所に接するように可
撓部を配設しているので、可撓部の可動範囲が広く取
れ、加圧手段により基体2の沈み込み量が大きくてもそ
の動きを吸収できる。
In this embodiment, as shown in FIG. 1, the flexible portions are provided so as to be in contact with two different places on the base 1 and the base 2, respectively, so that the movable range of the flexible portion can be widened. Even if the amount of sinking of the base 2 is large due to the pressing means, the movement can be absorbed.

【0098】[実施例2]本発明の第2の実施例は、支
持枠に作製した可撓部の構成が実施例1とは異なり、基
体1,2の同一箇所に可撓部が作製されている。その
為、仮止め時には、各々の基体に4箇所固定することが
できる。
[Embodiment 2] The second embodiment of the present invention is different from the first embodiment in the structure of the flexible portion formed on the support frame. ing. Therefore, at the time of temporary fixing, it can be fixed to four places on each base.

【0099】また、スペーサの設置方法が異なってお
り、短いスペーサが交互に並んでいるちどり配置になっ
ている。
Further, the method of disposing the spacers is different, and the spacers are arranged in a staggered manner in which short spacers are alternately arranged.

【0100】図5は本発明の画像形成装置の作製方法を
示した図であり、5は仮止め用の接着材、6は本固定用
の接着材である。図6は組立後の画像形成装置の可撓部
の部分拡大図である。
FIG. 5 is a view showing a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention, wherein 5 is an adhesive for temporary fixing, and 6 is an adhesive for permanent fixing. FIG. 6 is a partially enlarged view of the flexible portion of the image forming apparatus after assembly.

【0101】画像形成装置の有効表示エリアの大きさ
は、縦、横比3:4で、対角10インチである。
The size of the effective display area of the image forming apparatus is an aspect ratio of 3: 4 and a diagonal of 10 inches.

【0102】本実施例では、図4に示したように基体
1、基体2にそれぞれ4箇所接するように可撓部を配設
し、その位置も支持枠の四隅になるようにした。
In this embodiment, as shown in FIG. 4, the flexible portions are arranged so as to be in contact with the base 1 and the base 2 at four places, respectively, and the positions are also at the four corners of the support frame.

【0103】可撓部は支持枠3の四隅を砥石で研磨する
ことにより作製し、可撓部の板厚を1mmにした。
The flexible portion was manufactured by polishing four corners of the support frame 3 with a grindstone, and the thickness of the flexible portion was set to 1 mm.

【0104】本発明は適用した画像形成装置の基本構成
は実施例1で説明したものと同一である。
The basic structure of an image forming apparatus to which the present invention is applied is the same as that described in the first embodiment.

【0105】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて説明する。
Next, a method for manufacturing the image forming apparatus of the present invention will be described.

【0106】{基体1の作成} (工程−1)図4の10インチサイズの基板に実施例1
の(工程1)同様にして、素子電極、下配線、層間絶縁
層、上配線の順に印刷法で作製した。導電性薄膜は、有
機金属化合物の水溶液の液滴をインクジェット法で付与
した後、基板を350℃で焼成し、有機金属化合物を熱
分解し金属酸化物の導電性膜を作製した。尚、この場合
は、インクジェット法で付与した導電性薄膜のパターニ
ング工程は必要ない。
<< Preparation of Base 1 >> (Step-1) Example 1 was applied to a 10-inch substrate shown in FIG.
In the same manner as in (Step 1), a device electrode, a lower wiring, an interlayer insulating layer, and an upper wiring were formed in this order by a printing method. The conductive thin film was prepared by applying a droplet of an aqueous solution of an organometallic compound by an inkjet method, and then baking the substrate at 350 ° C. to thermally decompose the organometallic compound to form a conductive film of a metal oxide. In this case, the step of patterning the conductive thin film applied by the ink jet method is not required.

【0107】以上の工程により、基体1に単純マトリク
ス配線した表面伝導型放出素子を形成した。
Through the above steps, a surface conduction electron-emitting device in which simple matrix wiring was performed on the substrate 1 was formed.

【0108】{基体2の作成} (工程−2)青板ガラス基板に蛍光体、黒色導電体を印
刷法により形成した。蛍光膜の内面側表面の平滑化処理
を行い、その後Alを真空蒸着等を用いて堆積させメタ
ルバックを形成した。
<< Preparation of Substrate 2 >> (Step-2) A phosphor and a black conductor were formed on a blue glass substrate by a printing method. A smoothing treatment was performed on the inner surface of the fluorescent film, and then Al was deposited using vacuum evaporation or the like to form a metal back.

【0109】更に、厚み200μm、高さ4.0mmの
平板状スペーサをフリットガラスで接着した。尚、スペ
ーサは、ガラス製であり、その表面に、CrO2 を積層
して導電性を付与した。
Further, a flat spacer having a thickness of 200 μm and a height of 4.0 mm was bonded with frit glass. The spacer was made of glass, and was provided with conductivity by laminating CrO 2 on its surface.

【0110】以上の工程により、基体2に3原色の蛍光
体をストライプ状の配列蛍光体を形成し、スペーサを固
定した。
Through the above steps, the phosphors of the three primary colors were arranged in stripes on the substrate 2 and the spacers were fixed.

【0111】(工程−3)支持枠3を基体1,2に本固
定する為のフリットガラス層6をディスペンサー装置に
より所望の位置に塗布し、仮焼成(380℃)を行い形
成した。フリットガラスは日本電気硝子社製LS−30
81をペーストとして用いた。
(Step-3) A frit glass layer 6 for permanently fixing the support frame 3 to the bases 1 and 2 was applied to a desired position by a dispenser device and formed by calcination (380 ° C.). Frit glass is LS-30 manufactured by NEC Corporation
81 was used as a paste.

【0112】フリットガラス6の仮焼成後、支持枠を仮
止めする為の接着材5を、可撓部に塗布した。
After the preliminary firing of the frit glass 6, an adhesive 5 for temporarily fixing the support frame was applied to the flexible portion.

【0113】仮止め用の接着材5として、無機接着材
(AREMCO製セラマボンド569)を用いた。
As the temporary fixing adhesive 5, an inorganic adhesive (CERAMA BOND 569 manufactured by AREMCO) was used.

【0114】仮止め用の接着材5としては、何らこれに
こだわるものではなく、本固定用のリットガラス6が軟
化する温度で接着強度が低下しないものであれば構わな
い。
The adhesive material 5 for temporary fixing is not limited to this, and any material may be used as long as the adhesive strength does not decrease at a temperature at which the lit glass 6 for permanent fixing is softened.

【0115】(工程−4)次に、上記基体1,2、支持
枠3を撮像装置のCCDとXYステージからなる位置決
め装置(不図示)に設置し、位置合わせを行った。位置
合わせは、各々の基体に設けてあるアライメントマーク
をCCDで観察し、所望の位置に来るようにXYステー
ジで調整しながら行った(図5(a))。
(Step-4) Next, the substrates 1 and 2 and the support frame 3 were set on a positioning device (not shown) composed of a CCD and an XY stage of an imaging device, and alignment was performed. The alignment was performed while observing the alignment marks provided on the respective substrates with a CCD and adjusting them with an XY stage so as to come to a desired position (FIG. 5A).

【0116】(工程−5)位置決め終了後、基体1,2
と支持枠3を接触させ、仮止め用接着材により固定し
た。その際硬化時間を早める為に全体を70℃程度に上
げ作業を行った(図5(b))。
(Step-5) After the positioning is completed, the substrates 1, 2
And the support frame 3 were brought into contact with each other, and fixed with a temporary fixing adhesive. At that time, the whole was raised to about 70 ° C. in order to shorten the curing time (FIG. 5B).

【0117】(工程−6)上記仮止めされた画像形成装
置を加熱炉に導入し、本固定用のフリットガラスを軟化
させるために420℃、10分保持した。この時、本固
定用のフリットガラスの接着強度を増す為、基体2の上
から加圧手段により約10kgの荷重をかけ行った(図
5(c))。
(Step-6) The temporarily fixed image forming apparatus was introduced into a heating furnace, and kept at 420 ° C. for 10 minutes to soften the frit glass for permanent fixing. At this time, a load of about 10 kg was applied from above the substrate 2 by pressing means to increase the adhesive strength of the frit glass for permanent fixing (FIG. 5 (c)).

【0118】フリットガラスが軟化する為、基体2の沈
み込みが発生するが、可撓部により高さ方向(図6の上
下方向)に可動できる為、沈み込みが発生しても、XY
方向の位置決めは保持される。
Although the frit glass is softened, the base 2 sinks. However, since the flexible portion can move in the height direction (up and down direction in FIG. 6), even if the sink occurs, XY
Directional positioning is maintained.

【0119】(工程−7)所望の時間後、加熱炉を徐冷
し、フリットを硬化させる。最後に加圧手段を取り除
き、基体1,2、支持枠3が接着した画像形成装置用の
容器を取出した。
(Step-7) After a desired time, the heating furnace is gradually cooled to harden the frit. Finally, the pressurizing means was removed, and the container for the image forming apparatus to which the substrates 1 and 2 and the support frame 3 were adhered was taken out.

【0120】(工程−8)以上のようにして完成した容
器内の雰囲気を排気管(不図示)を通じ真空ポンプにて
排気し、十分な真空度に達した後、容器外端子Dx1な
いしDxmとDy1ないしDynを通じ電子放出素子に
電圧を印加し、電子放出部125を、導電性薄膜124
をフォーミング工程、活性化工程することにより作製し
た。さらに、一連の工程終了後、250度で、10時間
ベーキングを行った。
(Step-8) The atmosphere in the container completed as described above is exhausted by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after reaching a sufficient degree of vacuum, the external terminals Dx1 to Dxm are connected. A voltage is applied to the electron-emitting device through Dy1 to Dyn to cause the electron-emitting portion 125 to
Was produced by performing a forming step and an activation step. Furthermore, after a series of processes, baking was performed at 250 degrees for 10 hours.

【0121】(工程−9)次に、室温で、10のマイナ
ス8乗torr程度の真空度まで排気し、不図示の排気
管をガスバーナーで熱することで溶着し外囲器の封止を
行った。
(Step-9) Next, at room temperature, the air was evacuated to a degree of vacuum of about 10 −8 torr, and the exhaust pipe (not shown) was welded by heating with a gas burner to seal the envelope. went.

【0122】最後に封止後の真空度を維持するために、
高周波加熱法でゲッタ処理を行った。
Finally, to maintain the degree of vacuum after sealing,
Getter treatment was performed by a high frequency heating method.

【0123】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子Dx1な
いしDxm,Dy1ないしDynを通じ、走査信号及び
変調信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ、印加す
ることにより、電子放出させ、高圧端子Hvを通じ、メ
タルバック89、あるいは透明電極(不図示)に数kV
以上の高圧を印加し、電子ビームを加速し、蛍光膜88
に衝突させ、励起・発光させることで画像を表示した。
In the image display device of the present invention completed as described above, the scanning signal and the modulation signal are supplied to the respective electron-emitting devices by signal generating means (not shown) through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn. , By applying electrons, a few kV is applied to the metal back 89 or a transparent electrode (not shown) through the high voltage terminal Hv.
The above high pressure is applied to accelerate the electron beam, and the fluorescent film 88
Then, the image was displayed by exciting and emitting light.

【0124】その結果、電子放出素子、蛍光体の位置ず
れがなく、位置ずれに起因した輝度ばらつきや、混色も
なかった。
As a result, there was no displacement between the electron-emitting device and the phosphor, and there was no variation in luminance or color mixing caused by the displacement.

【0125】本実施例では、図4に示したように基体
1、基体2にそれぞれ同一の箇所に接するように可撓部
を配設しているので、仮止めを基体毎に対して4箇所行
うことができた。その為可撓部に仮止めを強固に行うこ
とができ、位置ずれが生じにくくなった。
In the present embodiment, as shown in FIG. 4, since the flexible portions are provided so as to be in contact with the same portions on the base 1 and the base 2, respectively, the temporary fixing is performed at four places for each base. Could be done. For this reason, the temporary fixing can be firmly performed on the flexible portion, and the displacement is less likely to occur.

【0126】[0126]

【発明の効果】本発明によれば、第1の基体と第2の基
体と該第1の基体と第2の基体間を支持するスペーサと
可撓部を設けた支持枠とで構成された画像形成装置にお
いて、室温もしくはその近傍で、第1の基体あるいは第
2の基体の位置合わせ、仮固定を行うことができ、接合
材の軟化、固化を行う為の高温加熱、冷却工程で、位置
合わせを行わなくて済むため、高精度かつ容易な位置合
わせが行える。更には、高温に対応したアライメント装
置も必要なく、装置の簡略化が行われる。
According to the present invention, there are provided a first base, a second base, a spacer for supporting between the first base and the second base, and a support frame provided with a flexible portion. In the image forming apparatus, the first substrate or the second substrate can be positioned and temporarily fixed at or near room temperature, and can be positioned at a high temperature heating and cooling step for softening and solidifying the bonding material. Since alignment is not required, highly accurate and easy alignment can be performed. Furthermore, an alignment device corresponding to a high temperature is not required, and the device can be simplified.

【0127】また、第1の基体と第2の基体の仮止めす
る箇所が支持枠上に設けられた可撓部であることによ
り、第1の基体、第2の基体及び支持枠を接着(本固
定)する際、画面水平方向を拘束しながら、画面垂直方
向に移動でき、画面水平方向の位置ずれを防止すること
ができる。
Further, since the portion where the first base and the second base are temporarily fixed is the flexible portion provided on the support frame, the first base, the second base and the support frame are bonded ( At the time of the actual fixing, the screen can be moved in the vertical direction while being restrained in the horizontal direction of the screen, and the positional displacement in the horizontal direction of the screen can be prevented.

【0128】以上の様に、本発明の画像形成装置及びそ
の製造方法によれば、容易に精度の良い画像形成装置を
歩留まり良く製造することができるので、安価で高品位
な画像形成装置が実現できる。
As described above, according to the image forming apparatus and the method of manufacturing the same of the present invention, an accurate and high-quality image forming apparatus can be easily manufactured with a high yield, so that an inexpensive and high-quality image forming apparatus can be realized. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の画像形成装置の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an image forming apparatus of the present invention.

【図2】本発明の画像形成装置の製造方法を示した図で
ある。
FIG. 2 is a view illustrating a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention.

【図3】本発明の画像形成装置の一部拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of the image forming apparatus of the present invention.

【図4】本発明の画像形成装置の実施例2の構成図であ
る。
FIG. 4 is a configuration diagram of a second embodiment of the image forming apparatus of the present invention.

【図5】本発明の画像形成装置の実施例2の製造方法を
示した図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a method of manufacturing an image forming apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の画像形成装置の実施例2の一部拡大図
である。
FIG. 6 is a partially enlarged view of Embodiment 2 of the image forming apparatus of the present invention.

【図7】本発明の画像形成装置の組立フローチャートで
ある。
FIG. 7 is an assembly flowchart of the image forming apparatus of the present invention.

【図8】実施例1の画像形成装置の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of the image forming apparatus according to the first embodiment.

【図9】実施例1で用いた冷陰極の表面伝導型電子放出
素子である。
FIG. 9 shows a cold cathode surface conduction electron-emitting device used in Example 1.

【図10】実施例1で用いた蛍光膜の例である。FIG. 10 is an example of a fluorescent film used in Example 1.

【図11】従来の組立フローチャートである。FIG. 11 is a conventional assembly flowchart.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1の基体 2 第2の基体 3,31 支持枠 4,41 スペーサ 5 仮止め用接着材 6 本固定用接着材 80 スペーサ 81 電子源基板 82 表面伝導型放出素子 83 行方向配線(上配線) 84 列方向配線(下配線) 85 リアプレート 86 支持枠 87 フェースプレート 88 蛍光膜 89 メタルバック 91 基板 92,93 素子電極 94 導電性薄膜 95 電子放出部 101 黒色の導電体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st base | substrate 2 2nd base | substrate 3,31 Support frame 4,41 Spacer 5 Temporary adhesive 6 Adhesive for fixing 80 Spacer 81 Electron source board 82 Surface conduction type emission element 83 Row direction wiring (upper wiring) ) 84 column direction wiring (lower wiring) 85 rear plate 86 support frame 87 face plate 88 fluorescent film 89 metal back 91 substrate 92, 93 device electrode 94 conductive thin film 95 electron emitting portion 101 black conductor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 信也 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 5C012 AA05 BC03 BC05 5C032 AA01 BB16 5C036 EF01 EF06 EG02 EG50  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Shinya Koyama 3-30-2 Shimomaruko, Ota-ku, Tokyo F-term in Canon Inc. (reference) 5C012 AA05 BC03 BC05 5C032 AA01 BB16 5C036 EF01 EF06 EG02 EG50

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の基体と、第2の基体と、該第1の
基体と該第2の基体間を支持するスペーサと支持枠が配
設された画像形成装置において、前記支持枠より突出し
た可撓部を有することを特徴とする画像形成装置。
1. An image forming apparatus comprising: a first base, a second base, a spacer for supporting between the first base and the second base, and a support frame, wherein the support frame is An image forming apparatus having a protruding flexible portion.
【請求項2】 前記可撓部が前記支持枠の四隅に設けら
れていることを特徴とする請求項1に記載の画像形成装
置。
2. The image forming apparatus according to claim 1, wherein the flexible portions are provided at four corners of the support frame.
【請求項3】 前記第1の基体には、電子放出素子が配
設され、前記第2の基体には、画像形成部材が配設され
たことを特徴とする請求項1又は、2記載の画像形成装
置。
3. The image forming apparatus according to claim 1, wherein an electron-emitting device is provided on the first base, and an image forming member is provided on the second base. Image forming device.
【請求項4】 前記画像形成部材が、蛍光体であること
を特徴とする請求項3に記載の画像形成装置。
4. The image forming apparatus according to claim 3, wherein the image forming member is a phosphor.
【請求項5】 前記電子放出素子が、冷陰極電子放出素
子であることを特徴とする請求項3に記載の画像形成装
置。
5. The image forming apparatus according to claim 3, wherein the electron-emitting device is a cold cathode electron-emitting device.
【請求項6】 前記冷陰極電子放出素子が表面伝導型電
子放出素子であることを特徴とする請求項5に記載の画
像形成装置。
6. The image forming apparatus according to claim 5, wherein said cold cathode electron-emitting device is a surface conduction electron-emitting device.
【請求項7】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
画像形成装置の製造方法において、前記第1の基体及び
前記第2の基体又は支持枠上に第1の接着材と第2の接
着材を配設する第1の工程と、 前記第1の基体と前記第2の基体を位置決めし、前記支
持枠に接触させ該第1の基体と該第2の基体を第1の接
着材を用いて仮止めする第2の工程と、 該第1の基体或いは/及び該第2の基体を加圧する第3
の工程と、 該第1の基体及び該第2の基体又は支持枠上に配設され
た前記第2の接着材を熱工程により軟化させる第4の工
程と、 該第2の接着材を固化させ、該第1の基体、該第2の基
体、支持枠を接合する第5の工程と、を少なくとも含ん
でいることを特徴とする画像形成装置の製造方法。
7. The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein a first adhesive and a second adhesive are provided on the first base and the second base or the support frame. A first step of disposing an adhesive material, and positioning the first base and the second base, and bringing the first base and the second base into contact with the support frame to form a first bond A second step of temporarily fixing using a material, and a third step of pressing the first base and / or the second base.
A step of softening the first adhesive provided on the first base and the second base or the support frame by a heating step, and solidifying the second adhesive And a fifth step of joining the first base, the second base, and the support frame to each other.
【請求項8】 前記第1の接着材を前記支持枠より突出
した可撓部に配設することを特徴とする請求項7に記載
の画像形成装置の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the first adhesive is provided on a flexible portion protruding from the support frame.
【請求項9】 前記第1の接着材が無機系接着材で有る
ことを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置の製造
方法。
9. The method according to claim 7, wherein the first adhesive is an inorganic adhesive.
【請求項10】 前記第2の接着材がフリットガラスで
有ることを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置の
製造方法。
10. The method according to claim 7, wherein the second adhesive is frit glass.
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