JP3073488B2 - Image forming apparatus and manufacturing method thereof - Google Patents

Image forming apparatus and manufacturing method thereof

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JP3073488B2 JP11122613A JP12261399A JP3073488B2 JP 3073488 B2 JP3073488 B2 JP 3073488B2 JP 11122613 A JP11122613 A JP 11122613A JP 12261399 A JP12261399 A JP 12261399A JP 3073488 B2 JP3073488 B2 JP 3073488B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、容器内に、画像形
成手段と該容器内部の間隔を保持するためのスペーサと
が配置された画像形成装置及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image forming apparatus in which an image forming means and a spacer for keeping a space inside the container are arranged in a container, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、冷陰極電子源を用いた平面型の画
像形成装置として、図10に断面を示すような装置が知
られている(特開平2−299136号公報)。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a flat type image forming apparatus using a cold cathode electron source, an apparatus having a cross section shown in FIG. 10 is known (Japanese Patent Laid-Open No. 2-299136).

【0003】この画像形成装置は、電子放出素子に表面
伝導型電子放出素子と呼ばれる冷陰極電子源を用いたも
ので、基板201上に電極202,203と該電極20
2,203間に形成された電子放出部204からなる電
子放出素子205が作製される。また、該基板201と
対向して配置されるフェースプレート206は、ガラス
板207の内面に蛍光面208とメタルバック211と
が形成されている。蛍光面208は、カラー画像形成装
置では、通常図12に示すようなブラックストライプな
どと呼ばれる黒色導電材209と、R,G,Bの蛍光体
210がガラス板207上にパターニングされた後、ブ
ラックストライプ209と蛍光体210の両者を覆うよ
うにメタルバック211が形成されて構成される。ブラ
ックストライプ209が設けられる目的は、カラー蛍光
面で必要となる三原色蛍光体の、各蛍光体210間の塗
り分け部を黒くすることで混色等を目立たなくすること
と、蛍光面208で外光を反射することにより生じるコ
ントラストの低下を防ぐことなどである。
In this image forming apparatus, a cold cathode electron source called a surface conduction electron-emitting device is used as an electron-emitting device.
An electron-emitting device 205 including an electron-emitting portion 204 formed between 2 and 203 is manufactured. The face plate 206 disposed to face the substrate 201 has a fluorescent screen 208 and a metal back 211 formed on the inner surface of a glass plate 207. In the color image forming apparatus, the phosphor screen 208 is formed by a black conductive material 209 usually called a black stripe or the like as shown in FIG. A metal back 211 is formed so as to cover both the stripe 209 and the phosphor 210. The purpose of providing the black stripe 209 is to make the three primary color phosphors required for the color phosphor screens black by separating the coating portions between the respective phosphors 210 so that color mixing and the like are not noticeable. To prevent a decrease in contrast caused by reflecting light.

【0004】またメタルバック211の目的は、比抵抗
が一般に1010〜1012Ω・cmと高い蛍光体210に
電荷(電子)が溜まり、電位が低下することを防ぎ、電
子ビーム加速用の電圧を印加するための電極として作用
すること、蛍光体208の発光のうち装置の内面側への
光を鏡面反射することにより、輝度を向上させること、
負イオンの衝突によるダメージからの蛍光体210の保
護等があり、上記目的に適した材料として通常Alが用
いられる。メタルバック211は、ブラックストライプ
209と蛍光体210のパターン形成後、フィルミング
と呼ばれる処理(有機膜をブラックストライプ209と
蛍光体210上に塗布する)の後、Alの真空装着によ
り形成され、その後有機フィルムの焼成除去によって完
成するが、メタルバック処理後の蛍光面208、特にメ
タルバック211の強度は指でこするとはがれる程度に
弱い。
The purpose of the metal back 211 is to prevent charges (electrons) from accumulating in the phosphor 210 having a high specific resistance, generally 10 10 to 10 12 Ω · cm, to prevent the potential from lowering, and to reduce the voltage for electron beam acceleration. Acting as an electrode for applying the light, and improving the luminance by mirror-reflecting the light emitted from the phosphor 208 toward the inner surface of the device,
There is protection of the phosphor 210 from damage caused by the collision of negative ions, and Al is usually used as a material suitable for the above purpose. After forming the pattern of the black stripe 209 and the phosphor 210, the metal back 211 is formed by vacuum mounting of Al after a process called filming (coating an organic film on the black stripe 209 and the phosphor 210). The organic film is completed by baking and removing, but the strength of the phosphor screen 208 after metal back treatment, particularly the strength of the metal back 211, is weak enough to be peeled off with a finger.

【0005】また、電子放出素子205が形成された基
板201と、フェースプレート206を大気から受ける
圧力に対してほぼ一定の間隔に保つために、耐大気圧支
持部材であるスペーサ212が複数個配置されている。
スペーサ212は基板201上にスペーサ素材に絶縁性
膜を形成したり、導電性膜を形成したりして作成されて
いる。
In order to maintain the substrate 201 on which the electron-emitting devices 205 are formed and the face plate 206 at a substantially constant interval with respect to the pressure received from the atmosphere, a plurality of spacers 212 as anti-atmospheric pressure support members are arranged. Have been.
The spacer 212 is formed by forming an insulating film or a conductive film on a spacer material on the substrate 201.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のように、スペー
サがその容器内部に設けられる画像形成装置の中には、
フリット硝子等の接着部材により、多数の耐大気圧スペ
ーサをフェースプレートとリアプレートの間に配置する
ものがある。その際、リアプレートの配線上に高精度に
設置して後にフェースプレートと接着して配置すること
が多く、リアプレートの配線上にフリットガラスの接着
部材を塗布して耐大気圧スペーサを高精度に設置して、
基板全体を均一に加熱しつつ、位置合わせを行うという
工程を経由していたが、この工程は複雑、あるいは長時
間を要するというものであった。
As described above, some image forming apparatuses in which a spacer is provided inside the container include:
There is a type in which a large number of atmospheric pressure-resistant spacers are arranged between a face plate and a rear plate by an adhesive member such as frit glass. In that case, it is often installed with high precision on the wiring of the rear plate and then glued to the face plate, and applied an adhesive member of frit glass on the wiring of the rear plate to apply the atmospheric pressure resistant spacer with high precision Installed in
Although a process of performing alignment while uniformly heating the entire substrate was performed, this process was complicated or required a long time.

【0007】そこで、本発明は、画像形成装置の製造過
程における加熱工程を低減させることを目的とする。ま
た、本発明は、画像形成装置の製造過程における高温で
の加熱工程を低減させることを目的とする。また、本発
明は、画像形成装置の製造過程における加熱工程による
画像形成手段へのダメージを低減させることを目的とす
る。
Accordingly, an object of the present invention is to reduce a heating step in a process of manufacturing an image forming apparatus. Another object of the present invention is to reduce a heating step at a high temperature in a process of manufacturing an image forming apparatus. Another object of the present invention is to reduce damage to an image forming unit due to a heating process in a process of manufacturing an image forming apparatus.

【0008】また、本発明は、簡易な、画像形成装置の
製造方法を提供することを目的とする。また、本発明
は、高品位な画像を形成する画像形成装置の製造方法を
提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a simple method for manufacturing an image forming apparatus. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an image forming apparatus for forming a high-quality image.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めに、本発明は、互いに間隔をおいて配置された一対の
第1及び第2の基板を含む部材にて構成された容器と、
該容器の内部に配置された、画像形成手段及び前記間隔
を保持するスペーサとを備える画像形成装置の製造方法
であって、前記第1の基板に前記スペーサを化学反応型
の接着材を用いて接着する工程と、前記第1の基板と前
記第2の基板とを外枠部材を介して接着する工程とを有
し、前記第1の基板は前記画像形成手段の画像形成部材
が配置され、前記第2の基板は電子放出素子が配置さ
れ、前記接着材は、アルカリ金属シリケート系接着材、
酸性金属ホスフェート系接着材、コロイダルシリカの何
れか1つを用い、前記第2の基板と前記スペーサの間に
は前記接着材が存在しないことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides a container comprising a pair of first and second substrates which are spaced from each other;
What is claimed is: 1. A method for manufacturing an image forming apparatus comprising: an image forming unit disposed inside a container; and a spacer for maintaining the distance, wherein the spacer is formed on the first substrate by using a chemically reactive adhesive. A step of bonding and a step of bonding the first substrate and the second substrate via an outer frame member.
The first substrate is an image forming member of the image forming unit.
And the second substrate has an electron-emitting device disposed thereon.
The adhesive is an alkali metal silicate-based adhesive,
What is acidic metal phosphate adhesive, colloidal silica
Using any one of them, between the second substrate and the spacer
Is characterized in that the adhesive does not exist .

【0010】[0010]

【0011】また、本発明は、互いに間隔をおいて配置
された一対の第1及び第2の基板を含む部材にて構成さ
れた容器と、該容器の内部に配置された、画像形成手段
及び前記間隔を保持するスペーサとを備える画像形成装
置において、前記第1の基板に前記スペーサが化学反応
型の接着材を介して接着されており、前記第1の基板と
前記第2の基板とが外枠部材を介して接着されており、
前記第1の基板は前記画像形成手段の画像形成部材が配
置され、前記第2の基板は電子放出素子が配置され、前
記接着材は、アルカリ金属シリケート系接着材、酸性金
属ホスフェート系接着材、コロイダルシリカの何れか1
つを用い、前記第2の基板と前記スペーサの間には前記
接着材が存在しないことを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a container comprising a member including a pair of first and second substrates arranged at a distance from each other, an image forming means disposed inside the container, In an image forming apparatus including a spacer for maintaining the distance, the spacer is bonded to the first substrate via a chemical reaction type adhesive, and the first substrate and the second substrate are separated from each other. Glued through the outer frame member,
The first substrate is provided with an image forming member of the image forming unit.
The second substrate is provided with an electron-emitting device,
The adhesive is made of an alkali metal silicate adhesive, acidic gold
Any one of the group phosphate adhesive and colloidal silica
One between the second substrate and the spacer.
It is characterized in that no adhesive is present .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明による実施形態について、
図面を参照しつつ詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments according to the present invention will be described.
This will be described in detail with reference to the drawings.

【0013】[構成の説明]まず、本発明に係る画像形
成装置は、例えば、液晶ディスプレイパネル、プラズマ
ディスプレイパネル、電子線ディスプレイパネルなどの
画像表示装置を含む。これらの画像形成装置は、その容
器内に、画像形成手段と、該容器内の間隔を保持するた
めのスペーサが配置された構成を有している。
[Explanation of Configuration] First, an image forming apparatus according to the present invention includes an image display device such as a liquid crystal display panel, a plasma display panel, and an electron beam display panel. These image forming apparatuses have a configuration in which an image forming unit and a spacer for maintaining an interval in the container are arranged in the container.

【0014】例えば、電子線ディスプレイパネルにおけ
る上記画像形成手段は、電子放出素子及び該電子放出素
子からの電子の照射により画像を形成する画像形成部材
を含むものであり、該画像形成部材は、例えば、該電子
を加速する電極及び該電子の照射により発光する発光体
である。
For example, the image forming means in the electron beam display panel includes an electron-emitting device and an image-forming member for forming an image by irradiating electrons from the electron-emitting device. , An electrode for accelerating the electrons, and a luminous body that emits light when irradiated with the electrons.

【0015】また、電子線ディスプレイパネルにおける
上記容器は、例えば、互いに間隔をおいて配置された、
電子放出素子を備える第1の基板と前記画像形成部材を
備える第2の基板とを含む部材にて構成されている。
The containers in the electron beam display panel are, for example, arranged at an interval from each other.
It is constituted by a member including a first substrate having an electron-emitting device and a second substrate having the image forming member.

【0016】また、本発明の画像形成装置にかかる前記
スペーサは、絶縁性スペーサ、導電性スペーサのいずれ
をも包含するものである。
Further, the spacer according to the image forming apparatus of the present invention includes both an insulating spacer and a conductive spacer.

【0017】また、本発明において用いられる接着用部
材は、好ましくは無機接着材であり、これは、該接着材
の加熱に際し発生するガスが、スペーサが接着される基
板上に配置された上記画像形成手段に対して与える影響
を、有機接着材よりも低減することができる。また、本
発明において特に好ましく用いられる接着材は、化学反
応型の接着材であり、フリットガラスなどの加熱溶融型
の接着材に対して、比較的低温での接着が可能であり耐
熱性に優れる。
Further, the bonding member used in the present invention is preferably an inorganic bonding material. This is because the gas generated when heating the bonding material is supplied to the above-mentioned image formed on the substrate to which the spacer is bonded. The influence on the forming means can be reduced as compared with the organic adhesive. Further, the adhesive particularly preferably used in the present invention is a chemical reaction type adhesive, and can be bonded to a heat melting type adhesive such as frit glass at a relatively low temperature and has excellent heat resistance. .

【0018】この化学反応型の接着材としては、例え
ば、アルカリ金属シリケート系接着材、酸性金属ホスフ
ェート系接着材、コロイダルシリカなどが挙げられる。
Examples of the chemically reactive adhesive include an alkali metal silicate adhesive, an acidic metal phosphate adhesive, and colloidal silica.

【0019】本発明においては、上記いずれの化学反応
型の無機接着材も使用できるが、300℃程度の低温し
て加熱接着でき、しかも1000℃以上の高温に耐えう
る耐熱性をも兼ね備える、アルカリ金属シリケート系接
着材、酸性金属ホスフェート系接着材が好ましく、特に
好ましくは、アルカリ金属シリケート系接着材が用いら
れる。
In the present invention, any of the above-mentioned inorganic adhesives of the chemical reaction type can be used, but an alkali adhesive which can be heated and bonded at a low temperature of about 300 ° C. and has heat resistance to withstand a high temperature of 1000 ° C. or more. Metal silicate-based adhesives and acidic metal phosphate-based adhesives are preferred, and alkali metal silicate-based adhesives are particularly preferred.

【0020】上記のアルカリ金属シリケート系接着材、
酸性金属ホスフェート系接着材はいずれも結合材と骨材
とを有し、アルカリ金属シリケート系接着材は、結合材
として、M2O・mSiO2・nH2O(但し、MはN
a,K、あるいはLiであり、m,nは1以上の整数で
ある)の一般式にて表わされるアルカリ金属シリケート
と、骨材として、アルミナ、シリカ、あるいはジルコニ
アのいずれか1種とを含有している。また、酸性金属ホ
スフェート系接着材は、結合材として、MO・mP25
・nH2O(但し、MはAlあるいはMgであり、m,
nは1以上の整数である)の一般式にて表わされるリン
酸金属塩と、骨材として、アルミナ、シリカ、あるいは
ジルコニアのいずれか1種とを含有している。
The above alkali metal silicate-based adhesive,
Each of the acidic metal phosphate adhesives has a binder and an aggregate, and the alkali metal silicate adhesive has M 2 O · mSiO 2 .nH 2 O (where M is N
a, K or Li, and m and n are integers of 1 or more), and one of alumina, silica and zirconia as an aggregate. doing. Further, the acidic metal phosphate-based adhesive is used as a binder for MO · mP 2 O 5.
NH 2 O (where M is Al or Mg, m,
(n is an integer of 1 or more) and a metal phosphate represented by the general formula: and any one of alumina, silica, and zirconia as an aggregate.

【0021】また、本発明において、接着用部材として
導電性部材を用いる場合には、上記の化学反応型の無機
接着材に金属粒子を混ぜて用いられる。この場合の金属
粒子としては、例えば銀などが用いられ、接着用部材全
体の10〜50重量%の比率にて混合される。
In the present invention, when a conductive member is used as the bonding member, metal particles are mixed with the above-mentioned chemical reaction type inorganic bonding material. In this case, for example, silver or the like is used as the metal particles, and is mixed at a ratio of 10 to 50% by weight of the entire bonding member.

【0022】以下で、本発明の画像形成装置の製造方法
について、好ましい実施態様をもとに具体的に説明す
る。
Hereinafter, a method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention will be specifically described based on preferred embodiments.

【0023】[実施形態1]本発明の好ましい実施形態
として、図1に示す表面伝導型電子放出素子を用いた画
像形成装置について説明する。
[Embodiment 1] As a preferred embodiment of the present invention, an image forming apparatus using the surface conduction electron-emitting device shown in FIG. 1 will be described.

【0024】図1は表面伝導型電子放出素子を用いた画
像形成装置の概略的な断面図である。図1において、1
01はソーダライムガラス等からなるリアプレート、1
03は配線電極、102は表面伝導型電子放出素子であ
る。電子放出素子102は行配線及び列配線と電気的に
接続され、該両配線にてマトリクス配線されている。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an image forming apparatus using a surface conduction electron-emitting device. In FIG. 1, 1
01 is a rear plate made of soda lime glass, etc., 1
03 is a wiring electrode, and 102 is a surface conduction electron-emitting device. The electron-emitting devices 102 are electrically connected to row wirings and column wirings, and are matrix-wired with both wirings.

【0025】また、104は絶縁性基板表面を導電膜1
05で被覆した導電性の耐大気圧支持部材(スペー
サ)、106bはスペーサ104とリアプレート101
とを接着しているスペーサとリアプレート間の接続部
材、107bはスペーサ104とフェースプレート10
8とを接着しているスペーサとフェースプレート間の接
続部材である。
Reference numeral 104 denotes a conductive film 1 on the surface of the insulating substrate.
A conductive anti-atmospheric pressure supporting member (spacer) coated with 05, a spacer 104 and a rear plate 101
107b is a connecting member between the spacer and the rear plate that adheres the
8 is a connecting member between the spacer and the face plate bonding the spacer 8 to the spacer.

【0026】また、フェースプレート108は、メタル
バックとなる加速電極109、ブラックストライプ11
0、及び蛍光体111を有する。
The face plate 108 includes an acceleration electrode 109 serving as a metal back and a black stripe 11.
0, and the phosphor 111.

【0027】また、フェースプレート108とリアプレ
ート101間には外枠部材105が配置されており、1
12はフェースプレート108及びリアプレート101
と外枠部材112とを接着している接続部材である。こ
のフェースプレート108及びリアプレート101と、
接続部材112とで内部を密着固定して容器を形成して
いる。
An outer frame member 105 is disposed between the face plate 108 and the rear plate 101.
12 is a face plate 108 and a rear plate 101
And a connection member that bonds the outer frame member 112 to the outer frame member 112. The face plate 108 and the rear plate 101;
The container is formed by tightly fixing the inside with the connecting member 112.

【0028】ここで、耐大気圧支持部材(スペーサ)1
04の接続について述べる。耐大気圧支持部材(スペー
サ)104は、フェースプレート108及びリアプレー
ト101と接続部材107b及び106bにより接続さ
れている。このように配置されたスペーサ104によ
り、フェースプレート108、リアプレート101及び
外枠部材105とで構成される容器のフェースプレート
108とリアプレート101との間隔を機械的に保持し
ている。
Here, an anti-atmospheric pressure support member (spacer) 1
No. 04 will be described. The anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104 is connected to the face plate 108 and the rear plate 101 by connection members 107b and 106b. The space between the face plate 108 and the rear plate 101 of the container including the face plate 108, the rear plate 101, and the outer frame member 105 is mechanically held by the spacers 104 arranged as described above.

【0029】以上述べた画像形成装置の容器の作成方法
について、図2を用いて以下に述べる。まず、リアプレ
ート101上の行配線103上に、スペーサ104とリ
アプレート101間の接続部材106bを形成するペー
スト状の接着材106aをディスペンサーにより塗布
し、ペーストが乾燥する前に、耐大気圧支持部材(スペ
ーサ)104をロボットハンド113により位置決め
し、塗布部分に押しつけ、ペーストが乾燥するまで保持
した(図2の(a))。尚、本実施形態では接着材10
6aとして、アルカリ金属シリケート系接着材(アロン
セラミックW;東亜合成(株)製)に銀粒子を混合した
ものを用いた。
A method for producing the above-described container of the image forming apparatus will be described below with reference to FIG. First, a paste-like adhesive material 106a for forming a connecting member 106b between the spacer 104 and the rear plate 101 is applied on the row wiring 103 on the rear plate 101 by a dispenser, and before the paste is dried, the paste-resistant material is supported. The member (spacer) 104 was positioned by the robot hand 113, pressed against the applied portion, and held until the paste was dried (FIG. 2A). In this embodiment, the adhesive 10
As 6a, a mixture of an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and silver particles was used.

【0030】図2(b)に示すように、全スペーサ10
4を乾燥により固定する。その後、図2(c)に示すよ
うに、フェースプレート108上のリアプレート101
の前記配線上に対応する位置に、スペーサ104とフェ
ースプレート108間の接続部材107bを形成する接
着材107aとして導電性のフリットガラスをディスペ
ンサーにより塗布し(図2の(c))、その後、仮焼成
を行った。
As shown in FIG. 2B, all the spacers 10
4 is fixed by drying. Thereafter, as shown in FIG. 2C, the rear plate 101 on the face plate 108
A conductive frit glass is applied by a dispenser as an adhesive 107a for forming a connecting member 107b between the spacer 104 and the face plate 108 at a position corresponding to the above wiring (FIG. 2 (c)). The firing was performed.

【0031】前述の外枠部材105のフェースプレート
108側及びリアプレート101側の両当接面にフリッ
トガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠部
材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレー
ト101とを位置合わせして、420℃に加熱すること
で上記容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the rear The container was assembled by positioning the plate 101 and heating to 420 ° C.

【0032】[実施形態2]以上の実施形態1にて述べ
られた図1に示される画像形成装置において、スペーサ
104として絶縁性スペーサを用いた形態について、以
下にその製造方法を図2を用いて説明する。
[Second Embodiment] In the image forming apparatus shown in FIG. 1 described in the first embodiment, an embodiment using an insulating spacer as the spacer 104 will be described with reference to FIG. Will be explained.

【0033】まず、リアプレート101上の行配線10
3上に、絶縁性基板からなるスペーサ104とリアプレ
ート101間の接続部材106bを形成する接着材10
6aをディスペンサーにより塗布し、接着材が乾燥する
前に、耐大気圧支持部材(スペーサ)104をロボット
ハンドにより位置決めし、塗布部分に押しつけ、接着材
が乾燥するまで保持した(図2の(a))。ここで、上
記接着材106aとして、アルカリ金属シリケート系接
着材(アロンセラミックW、東亜合成(株)製)を用い
た。
First, the row wiring 10 on the rear plate 101
3. An adhesive 10 forming a connecting member 106b between the spacer 104 made of an insulating substrate and the rear plate 101
6a was applied by a dispenser, and before the adhesive was dried, the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104 was positioned by a robot hand, pressed against the applied portion, and held until the adhesive was dried ((a in FIG. 2). )). Here, an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used as the adhesive 106a.

【0034】図2(b)に示すように、全スペーサ10
4を乾燥により固定後、フェースプレート108上の、
リアプレート101の前記配線上に対応する位置に、ス
ペーサ104とフェースプレート108間の接続部材1
07aを形成する接着材107bとして、フリットガラ
スをディスペンサーにより塗布し(図2の(c))、そ
の後、仮焼成を行った。
As shown in FIG. 2B, all the spacers 10
After fixing 4 by drying, on the face plate 108,
A connection member 1 between the spacer 104 and the face plate 108 is provided at a position on the rear plate 101 corresponding to the wiring.
Frit glass was applied by a dispenser as an adhesive 107b for forming 07a (FIG. 2 (c)), and then calcined.

【0035】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして420℃に加熱すること
で、上記図1に示された、フェースプレート108、リ
アプレート101、及び、外枠部材105とで構成され
る容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the The container including the face plate 108, the rear plate 101, and the outer frame member 105 shown in FIG. 1 was assembled by positioning the rear plate 101 and heating to 420 ° C.

【0036】[実施形態3]以上の実施形態2にて述べ
られた図1に示される画像形成装置の、別の製造方法に
ついて、図2及び図3を用いて以下に説明する。
Third Embodiment Another manufacturing method of the image forming apparatus shown in FIG. 1 described in the second embodiment will be described below with reference to FIGS.

【0037】まず、絶縁性基板からなるスペーサ104
の一端に、アルカリ金属シリケート系接着材(アロンセ
ラミックW、東亜合成(株)製)106aを付与し、リ
アプレート101上の行配線103上に、スペーサ10
4をロボットハンド113により位置決めし、押しつ
け、接着材が乾燥するまで保持した(図3)。
First, the spacer 104 made of an insulating substrate
An alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 106 a is applied to one end of the
4 was positioned and pressed by the robot hand 113 and held until the adhesive was dried (FIG. 3).

【0038】以下、実施形態2と同様に、全スペーサ1
04を乾燥により固定した(図2(b))。フェースプ
レート108上の、リアプレート101の前記配線上に
対応する位置に、スペーサ104とフェースプレート1
08間の接続部材107bを形成する接着材107aと
して、フリットガラスをディスペンサーにより塗布後、
仮焼成を行った(図2の(c))。
Hereinafter, as in the second embodiment, all the spacers 1
04 was fixed by drying (FIG. 2 (b)). The spacer 104 and the face plate 1 are placed on the face plate 108 at positions corresponding to the wiring on the rear plate 101.
After frit glass is applied with a dispenser as an adhesive 107a for forming the connection member 107b between the layers 08 and 08,
Preliminary firing was performed (FIG. 2C).

【0039】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして420℃に加熱すること
で、上記図1に示された、フェースプレート108、リ
アプレート101、及び、外枠部材105とで構成され
る容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the The container including the face plate 108, the rear plate 101, and the outer frame member 105 shown in FIG. 1 was assembled by positioning the rear plate 101 and heating to 420 ° C.

【0040】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ104及び
接着材106a,107aを用いて、本実施例と同様の
方法により、スペーサ104として導電性スペーサが配
置された図1に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, the insulating spacer is used as the atmospheric pressure resistant support member (spacer) 104. However, the same conductive spacer 104 and adhesives 106a and 107a as in the first embodiment are used. The image forming apparatus shown in FIG. 1 in which the conductive spacers are arranged as the spacers 104 can be manufactured by the same method as in the present embodiment.

【0041】以上の実施形態1〜3においては、スペー
サ104の一端と、リアプレート101及びフェースプ
レート108の基板との接着を、高温加熱することな
く、基板に、接着材を介してスペーサを押しつけこれを
乾燥することにより行っており、製造過程における加熱
工程を低減することができる。
In the above first to third embodiments, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate of the rear plate 101 and the face plate 108 is performed by pressing the spacer on the substrate via an adhesive without heating at a high temperature. This is performed by drying, and the number of heating steps in the manufacturing process can be reduced.

【0042】また、以上の実施形態1〜3においては、
スペーサ104の一端と電子放出素子が配置された基板
との接着を、高温加熱することなく、基板に、接着材を
介してスペーサ104を押しつけこれを乾燥することに
より行っており、複数回の高温加熱工程による電子放出
素子の特性低下を抑制することができる。
In the first to third embodiments,
Adhesion between one end of the spacer 104 and the substrate on which the electron-emitting devices are arranged is performed by pressing the spacer 104 onto the substrate via an adhesive and drying the substrate without heating at a high temperature. The deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the heating step can be suppressed.

【0043】また、以上の実施形態1〜3においては、
スペーサの一端と基板との接着を、高温加熱することな
く、基板に、接着材を介してスペーサを押しつけこれを
乾燥することにより行ったが、用いた化学反応型の接着
材は、乾燥のみでもスペーサを固定することが可能で、
その後の容器組立時の加熱により耐大気圧スペーサとし
て十分な保持機能を有した。
In the first to third embodiments,
The bonding between one end of the spacer and the substrate was performed by pressing the spacer on the substrate via an adhesive without drying at high temperature, and drying it.However, the chemically reactive adhesive used could be dried only. It is possible to fix the spacer,
Due to the heating at the time of assembling the container thereafter, it had a sufficient holding function as an atmospheric pressure resistant spacer.

【0044】また、以上の実施形態1〜3においては、
スペーサの一端と電子放出素子が配置された基板との接
着を、無機接着材によって行っており、その後の容器組
立時の加熱によっても、有機接着材を用いた場合のよう
な放出ガスによる電子放出素子の特性低下を抑制するこ
とができる。
In the first to third embodiments,
An inorganic adhesive is used to bond one end of the spacer to the substrate on which the electron-emitting device is arranged, and even when heated during assembly of the container, electron emission due to a gas released as in the case of using an organic adhesive. It is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the element.

【0045】[実施形態4]以上の実施形態2にて述べ
られた図1に示される画像形成装置の、更に別の製造方
法について図4を用いて以下に説明する。
[Fourth Embodiment] Still another manufacturing method of the image forming apparatus shown in FIG. 1 described in the second embodiment will be described below with reference to FIG.

【0046】まず、フェースプレート108上のブラッ
クストライプ110上に、絶縁性基板からなるスペーサ
104とフェースプレート108間の接続部材107b
を形成する接着材107aをディスペンサーにより塗布
し、接着材が乾燥する前に、耐大気圧支持部材(スペー
サ)104をロボットハンド113により位置決めし、
塗布部分に押しつけ、接着材が乾燥するまで保持した
(図4(a))。ここで、上記接着材107aとして、
アルカリ金属シリケート系接着材(アロンセラミック
W、東亜合成(株)製)を用いた。
First, a connecting member 107b between the spacer 104 made of an insulating substrate and the face plate 108 is placed on the black stripe 110 on the face plate 108.
Is applied by a dispenser, and before the adhesive is dried, the anti-atmospheric pressure supporting member (spacer) 104 is positioned by the robot hand 113,
It was pressed against the applied portion and held until the adhesive was dried (FIG. 4A). Here, as the adhesive 107a,
An alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) was used.

【0047】図4(b)に示すように、全スペーサ10
4を乾燥により固定後、リアプレート101上の上配線
103の、フェースプレート108の前記ブラックスト
ライプ110に対応する位置に、スペーサ104とリア
プレート101間の接続部材106bを形成する接着材
106aとして、フリットガラスをディスペンサーによ
り塗布後、仮焼成を行った(図4の(c))。
As shown in FIG. 4B, all the spacers 10
After fixing 4 by drying, the upper wiring 103 on the rear plate 101 is provided at a position corresponding to the black stripe 110 on the face plate 108 as an adhesive material 106a for forming a connecting member 106b between the spacer 104 and the rear plate 101. After the frit glass was applied by a dispenser, temporary baking was performed (FIG. 4C).

【0048】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして420℃に加熱すること
で、上記図1に示された、フェースプレート108、リ
アプレート101、及び、外枠部材105とで構成され
る容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the The container including the face plate 108, the rear plate 101, and the outer frame member 105 shown in FIG. 1 was assembled by positioning the rear plate 101 and heating to 420 ° C.

【0049】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)として、絶縁性スペーサを用いたが、
実施形態1と同様の導電性のスペーサ104、及び、接
着材107a,106aとしてそれぞれ、実施形態1と
同様の接着材106a,107aを用いて、本実施例と
同様の方法により、スペーサ104として導電性スペー
サが配置された図1に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, the insulating spacer is used as the atmospheric pressure resistant support member (spacer).
The same conductive spacer 104 as that of the first embodiment and the adhesives 107a and 107a that are the same as those of the first embodiment are used as the adhesives 107a and 106a, respectively. Thus, the image forming apparatus shown in FIG.

【0050】[実施形態5]以上の実施形態2にて述べ
られた図1に示される画像形成装置の、更に別の製造方
法について、図4及び図5を用いて以下に説明する。
[Fifth Embodiment] Still another method of manufacturing the image forming apparatus shown in FIG. 1 described in the second embodiment will be described below with reference to FIGS.

【0051】まず、絶縁性基板からなるスペーサ104
の一端に、アルカリ金属シリケート系接着材(アロンセ
ラミックW、東亜合成(株)製)107aを付与し、フ
ェースプレート108上のブラックストライプ110上
に、スペーサ104をロボットハンドにより位置決め
し、押しつけ、接着材が乾燥するまで保持した(図
5)。
First, the spacer 104 made of an insulating substrate
An alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 107a is applied to one end of the base plate, and the spacer 104 is positioned on the black stripe 110 on the face plate 108 by a robot hand, pressed, and bonded. The material was held until dry (FIG. 5).

【0052】以下、実施形態4と同様に、全スペーサ1
04を乾燥により固定した(図4の(b))。リアプレ
ート101上の上配線103の、フェースプレート10
8の前記ブラックストライプ110に対応する位置に、
スペーサ104とリアプレート101間の接続部材10
6bを形成する接着材106aとして、フリットガラス
をディスペンサーにより塗布後、仮焼成を行った(図4
の(c))。
Hereinafter, as in the fourth embodiment, all the spacers 1
04 was fixed by drying (FIG. 4 (b)). The face plate 10 of the upper wiring 103 on the rear plate 101
8 at a position corresponding to the black stripe 110,
Connection member 10 between spacer 104 and rear plate 101
As an adhesive 106a for forming 6b, frit glass was applied by a dispenser, and then pre-baked (FIG. 4).
(C)).

【0053】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして420℃に加熱すること
で、上記図1に示された、フェースプレート108、リ
アプレート101、及び、外枠部材105とで構成され
る容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the The container including the face plate 108, the rear plate 101, and the outer frame member 105 shown in FIG. 1 was assembled by positioning the rear plate 101 and heating to 420 ° C.

【0054】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ、及び、接
着材107a,106aとしてそれぞれ、実施形態1と
同様の接着材106a,107aを用いて、本実施例と
同様の方法により、スペーサ104として導電性スペー
サが配置された図1に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, an insulating spacer is used as the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104. However, the same conductive spacer as that of the first embodiment and the adhesives 107a and 106a are used. The image forming apparatus shown in FIG. 1 in which the conductive spacers are arranged as the spacers 104 can be produced by the same method as that of the present embodiment using the same adhesives 106a and 107a as those of the first embodiment.

【0055】以上の実施形態4、5においても、スペー
サの一端と基板との接着を、高温加熱することなく、基
板に、接着材を介してスペーサを押しつけこれを乾燥す
ることにより行っており、製造過程における加熱工程を
低減することができる。
In the fourth and fifth embodiments as well, the bonding between one end of the spacer and the substrate is performed by pressing the spacer against the substrate via an adhesive without drying the substrate at a high temperature, and drying the spacer. The number of heating steps in the manufacturing process can be reduced.

【0056】また、以上の実施形態4、5においても、
スペーサ104の一端と基板との接着を、高温加熱する
ことなく、基板に、接着材を介してスペーサ104を押
しつけこれを乾燥することにより行ったが、用いた化学
反応型の接着材は、乾燥のみでもスペーサ104を固定
することが可能で、その後の容器組立時の加熱により耐
大気圧スペーサ104として十分な保持機能を有した。
Further, in the above fourth and fifth embodiments,
The bonding between one end of the spacer 104 and the substrate was performed by pressing the spacer 104 onto the substrate via an adhesive without drying the substrate at a high temperature and drying the spacer. However, the chemically reactive adhesive used was dried. The spacer 104 can be fixed only by itself, and has a sufficient holding function as the atmospheric pressure resistant spacer 104 by heating at the time of assembling the container thereafter.

【0057】[実施形態6]本実施形態では、図6に示
される画像形成装置の製造方法について以下に説明す
る。
[Embodiment 6] In this embodiment, a method for manufacturing the image forming apparatus shown in FIG. 6 will be described below.

【0058】図6に示される画像形成装置は、以上の実
施形態にて説明された図1の画像形成装置とは、フェー
スプレート108とスペーサ104との間に接続部材が
存在しない点で異なっている。
The image forming apparatus shown in FIG. 6 differs from the image forming apparatus of FIG. 1 described in the above embodiment in that there is no connecting member between the face plate 108 and the spacer 104. I have.

【0059】図6に示された画像形成装置の、リアプレ
ート101、フェースプレート108、及び外枠部材1
05にて構成される容器の作成方法について以下に説明
する。
The rear plate 101, the face plate 108, and the outer frame member 1 of the image forming apparatus shown in FIG.
The method of making the container 05 is described below.

【0060】まず、リアプレート101上の行配線10
3上に、絶縁性基板からなるスペーサ104とリアプレ
ート101間の接続部材106bを形成する接着材10
6aをディスペンサーにより塗布し、接着材106aが
乾燥する前に、耐大気圧支持部材(スペーサ)104を
ロボットハンド113により位置決めし、塗布部分に押
しつけ、接着材106aが乾燥するまで保持した(図2
の(a))。ここで、上記接着材106aとして、アル
カリ金属シリケート系接着材(アロンセラミックW、東
亜合成(株)製)を用いた。
First, the row wiring 10 on the rear plate 101
3. An adhesive 10 forming a connecting member 106b between the spacer 104 made of an insulating substrate and the rear plate 101
6a is applied by a dispenser, and before the adhesive 106a is dried, the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104 is positioned by the robot hand 113, pressed against the applied portion, and held until the adhesive 106a is dried (FIG. 2).
(A)). Here, an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used as the adhesive 106a.

【0061】次に、図2(b)に示すように、全スペー
サ104を乾燥により固定した。
Next, as shown in FIG. 2B, all the spacers 104 were fixed by drying.

【0062】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材105と、上記フェースプレート108及び上記リ
アプレート101とを位置合わせして、420℃に加熱
することで、上記図6に示された、フェースプレート1
08、リアプレート101、及び、外枠部材105とで
構成される容器を組み立てた。
After the frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, preliminary firing is performed, and the outer frame member 105, the face plate 108, By aligning the rear plate 101 and heating to 420 ° C., the face plate 1 shown in FIG.
08, a rear plate 101, and an outer frame member 105 were assembled.

【0063】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ104及び
接着材106aを用いて、本実施例と同様の方法によ
り、スペーサ104として導電性スペーサが配置された
図6に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, the insulating spacer is used as the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104. However, the conductive spacer 104 and the adhesive 106a similar to those in the first embodiment are used. By the same method as in the embodiment, the image forming apparatus shown in FIG.

【0064】以上の実施形態6においても、スペーサ1
04の一端と基板との接着を、高温加熱することなく、
基板に、接着材106aを介してスペーサ104を押し
つけこれを乾燥することにより行っており、更に実施形
態6においては、スペーサ104の他端も、接着材10
6aを用いた加熱接着を行っていないので、製造過程に
おける加熱工程を一層低減することができる。
In the sixth embodiment, the spacer 1
The bonding between one end of 04 and the substrate, without heating at high temperature,
This is performed by pressing the spacer 104 onto the substrate via the adhesive 106a and drying the spacer. In the sixth embodiment, the other end of the spacer 104 is also attached to the adhesive 10a.
Since the heat bonding using 6a is not performed, the number of heating steps in the manufacturing process can be further reduced.

【0065】また、以上の実施形態6においても、スペ
ーサ104の一端と電子放出素子が配置された基板との
接着を、高温加熱することなく、リアプレート101と
フェースプレート108の基板に、接着材106aを介
してスペーサ104を押しつけ、これを乾燥することに
より行っており、更に実施形態6においては、スペーサ
104の他端も、接着材を用いた加熱接着を行っていな
いので、複数回の高温加熱工程による電子放出素子の特
性低下を一層抑制することができる。
Also, in the sixth embodiment described above, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate on which the electron-emitting devices are arranged is performed without heating the substrate of the rear plate 101 and the face plate 108 with an adhesive material. This is performed by pressing the spacer 104 through the intermediary of the spacer 106a and drying the spacer 104. Further, in the sixth embodiment, the other end of the spacer 104 is not subjected to heat bonding using an adhesive, so that a plurality of high-temperature The deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the heating step can be further suppressed.

【0066】また、以上の実施形態6においても、スペ
ーサ104の一端と基板との接着を、高温加熱すること
なく、基板に、接着材106aを介してスペーサを押し
つけこれを乾燥することにより行ったが、用いた化学反
応型の接着材は、乾燥のみでもスペーサを固定すること
が可能で、その後の容器組立時の加熱により耐大気圧ス
ペーサとして十分な保持機能を有した。
In the sixth embodiment as well, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate is performed by pressing the spacer on the substrate via the adhesive 106a and drying the substrate without heating at a high temperature. However, the chemical reaction type adhesive used was capable of fixing the spacer only by drying, and had a sufficient holding function as an atmospheric pressure resistant spacer by heating at the time of assembling the container thereafter.

【0067】また、以上の実施形態6においても、スペ
ーサ104の一端と電子放出素子が配置された基板との
接着を、無機接着材にて行っており、その後の容器組立
時の加熱によっても、有機接着材を用いた場合のような
放出ガスによる電子放出素子の特性低下を抑制すること
ができる。
Also in the sixth embodiment, one end of the spacer 104 and the substrate on which the electron-emitting devices are arranged are bonded with an inorganic bonding material. It is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the released gas as in the case where an organic adhesive is used.

【0068】[実施形態7]本実施形態では、図7に示
される画像形成装置の製造方法について以下に説明す
る。
[Embodiment 7] In this embodiment, a method for manufacturing the image forming apparatus shown in FIG. 7 will be described below.

【0069】図7に示される画像形成装置は、以上の実
施形態1〜5にて説明された図1の画像形成装置とは、
リアプレート101とスペーサ104との間に接続部材
が存在しない点で異なっている。
The image forming apparatus shown in FIG. 7 is different from the image forming apparatus shown in FIG.
The difference is that there is no connecting member between the rear plate 101 and the spacer 104.

【0070】まず、フェースプレート108上のブラッ
クストライプ110上に、絶縁性基板からなるスペーサ
104とフェースプレート108間の接続部材107b
を形成する接着材107aをディスペンサーにより塗布
し、接着材107aが乾燥する前に、耐大気圧支持部材
(スペーサ)104をロボットハンドにより位置決め
し、塗布部分に押しつけ、接着材が乾燥するまで保持し
た(図4の(a))。ここで、上記接着材107aとし
て、アルカリ金属シリケート系接着材(アロンセラミッ
クW、東亜合成(株)製)を用いた。
First, a connecting member 107b between the spacer 104 made of an insulating substrate and the face plate 108 is placed on the black stripe 110 on the face plate 108.
Is applied by a dispenser, and before the adhesive 107a is dried, the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104 is positioned by a robot hand, pressed against the applied portion, and held until the adhesive is dried. ((A) of FIG. 4). Here, an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) was used as the adhesive 107a.

【0071】次に、図4(b)に示すように、全スペー
サ104を乾燥により固定した。
Next, as shown in FIG. 4B, all the spacers 104 were fixed by drying.

【0072】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材105と、上記フェースプレート108及び上記リ
アプレート101とを位置合わせして、420℃に加熱
することで、上記図1に示された、フェースプレート1
08、リアプレート101、及び、外枠部材105とで
構成される容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member 105, the face plate 108 and the By aligning the rear plate 101 and heating to 420 ° C., the face plate 1 shown in FIG.
08, a rear plate 101, and an outer frame member 105 were assembled.

【0073】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ、及び、接
着材107aとして実施形態1と同様の接着材106a
を用いて、本実施例と同様の方法により、スペーサ10
4として導電性スペーサが配置された図7に示す画像形
成装置を作成できた。
In this embodiment, an insulating spacer is used as the atmospheric pressure resistant support member (spacer) 104. However, the same conductive spacer as in the first embodiment and the adhesive 107a are used in the first embodiment. Adhesive 106a similar to
And the spacer 10 in the same manner as in this embodiment.
As No. 4, the image forming apparatus shown in FIG.

【0074】以上の実施形態7においても、スペーサ1
04の一端と基板との接着を、高温加熱することなく、
基板に、接着材107aを介してスペーサ104を押し
つけこれを乾燥することにより行っており、更には、ス
ペーサ104の他端も、接着材107aを用いた加熱接
着を行っていないので、製造過程における加熱工程を一
層低減することができる。
In the seventh embodiment, the spacer 1
The bonding between one end of 04 and the substrate, without heating at high temperature,
This is performed by pressing the spacer 104 against the substrate via the adhesive 107a and drying the spacer 104. Further, the other end of the spacer 104 is not subjected to heat bonding using the adhesive 107a. The number of heating steps can be further reduced.

【0075】また、以上の実施形態7においては、電子
放出素子が配置された基板へは接着材を用いずにスペー
サを当接しているので、複数回の高温加熱工程による電
子放出素子の特性低下を一層抑制することができる。
In the seventh embodiment, since the spacer is in contact with the substrate on which the electron-emitting devices are disposed without using an adhesive, the characteristics of the electron-emitting devices are deteriorated by a plurality of high-temperature heating steps. Can be further suppressed.

【0076】また、以上の実施形態7においても、スペ
ーサ104の一端と基板との接着を、高温加熱すること
なく、基板に、接着材107aを介してスペーサ104
を押しつけこれを乾燥することにより行ったが、用いた
化学反応型の接着材は、乾燥のみでもスペーサ104を
固定することが可能で、その後の容器組立時の加熱によ
り耐大気圧スペーサとして十分な保持機能を有した。
Also, in the above-described embodiment 7, the bonding between the one end of the spacer 104 and the substrate is performed without heating the substrate to the spacer 104 via the adhesive 107a.
Was pressed and dried. However, the chemical reaction type adhesive used can fix the spacer 104 only by drying. It had a holding function.

【0077】また、以上の実施形態7においては、電子
放出素子が配置された基板へは接着を用いずにスペーサ
を当接しているので、接着材からの放出ガスによる電子
放出素子の特性低下を抑制することができる。
In the seventh embodiment, since the spacer is in contact with the substrate on which the electron-emitting devices are arranged without using an adhesive, the deterioration of the characteristics of the electron-emitting devices due to the gas released from the adhesive is prevented. Can be suppressed.

【0078】[実施形態8]以上の実施形態2にて述べ
られた図1に示される画像形成装置の、更に別の製造方
法について、図8を用いて以下に説明する。
[Embodiment 8] Still another manufacturing method of the image forming apparatus shown in FIG. 1 described in the above Embodiment 2 will be described below with reference to FIG.

【0079】まず、基板301上に塗布され形成され
た、アルカリ金属シリケート系接着材(アロンセラミッ
クW、東亜合成(株)製)の薄膜302に、基底305
に固定された治具303に保持された絶縁性基板からな
る耐大気圧支持部材(スペーサ)104の一端を押しつ
け(図8(a))、基底305を上方に取り外すことに
より、スペーサ104の一端に上記接着材の溜り304
を形成した(図8(b))。
First, a base 305 is applied to a thin film 302 of an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) applied and formed on a substrate 301.
By pressing one end of an atmospheric pressure-resistant support member (spacer) 104 made of an insulating substrate held by a jig 303 fixed to the base (FIG. 8A) and removing the base 305 upward, one end of the spacer 104 is removed. The above adhesive pool 304
Was formed (FIG. 8B).

【0080】リアプレート101上の行配線103上
に、上記スペーサ104を位置決め配置し、200℃に
加熱して、スペーサ104とリアプレート101間の接
続部材106bを形成した(図8の(c))。
The spacers 104 were positioned and arranged on the row wirings 103 on the rear plate 101, and heated to 200 ° C. to form connection members 106b between the spacers 104 and the rear plate 101 (FIG. 8C). ).

【0081】フェースプレート108上の、リアプレー
ト101の前記配線103上に対応する位置に、スペー
サ104とフェースプレート108間の接続部材107
bを形成する接着材107aとして、フリットガラスを
ディスペンサーにより塗布し(図8の(d))、その
後、仮焼成を行った。
A connecting member 107 between the spacer 104 and the face plate 108 is provided on the face plate 108 at a position corresponding to the wiring 103 on the rear plate 101.
Frit glass was applied by a dispenser as an adhesive 107a for forming b (FIG. 8 (d)), and then calcination was performed.

【0082】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして、420℃に加熱するこ
とで、フリットガラス112の融解により接着材として
の機能を発揮し、上記図1に示された、フェースプレー
ト108、リアプレート101、及び、外枠部材105
とで構成される容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the By aligning with the rear plate 101 and heating to 420 ° C., the frit glass 112 is melted to exhibit a function as an adhesive, and the face plate 108, the rear plate 101, and the , Outer frame member 105
Was assembled.

【0083】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)として、絶縁性スペーサを用いたが、
実施形態1と同様の導電性のスペーサ及び接着材106
a,107aを用いて、本実施例と同様の方法により、
スペーサ104として導電性スペーサが配置された図1
に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, the insulating spacer is used as the atmospheric pressure resistant support member (spacer).
The same conductive spacer and adhesive 106 as in the first embodiment.
a, 107a, and in the same manner as in this embodiment,
FIG. 1 in which conductive spacers are arranged as spacers 104
The image forming apparatus shown in FIG.

【0084】以上の実施形態8においては、スペーサの
一端と基板との接着が、化学反応型の接着材を用いるこ
とで、200℃程度の低温加熱により行うことができ、
複数回の高温加熱工程による電子放出素子の特性低下を
抑制することができる。
In the eighth embodiment, the bonding between the one end of the spacer and the substrate can be performed by heating at a low temperature of about 200 ° C. by using a chemical reaction type adhesive.
It is possible to suppress a decrease in characteristics of the electron-emitting device due to a plurality of high-temperature heating steps.

【0085】また、以上の実施形態8においても、スペ
ーサ104の一端と電子放出素子が配置された基板との
接着を、無機接着材にて行っており、接着材の加熱によ
っても、有機接着材を用いた場合のような放出ガスによ
る電子放出素子の特性低下を抑制することができる。
Also in Embodiment 8 described above, the one end of the spacer 104 and the substrate on which the electron-emitting devices are arranged are bonded with an inorganic bonding material. It is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the released gas as in the case of using.

【0086】[実施形態9]本実施形態では、図6に示
される画像形成装置の更に別の製造方法について以下に
説明する。
[Embodiment 9] In this embodiment, another method of manufacturing the image forming apparatus shown in FIG. 6 will be described below.

【0087】図6に示される画像形成装置は、以上の実
施形態1〜5、8にて説明された図1の画像形成装置と
は、フェースプレート108とスペーサ104との間に
接続部材が存在しない点で異なっている。
The image forming apparatus shown in FIG. 6 is different from the image forming apparatus of FIG. 1 described in the first to fifth and eighth embodiments in that a connecting member exists between the face plate 108 and the spacer 104. They differ in that they do not.

【0088】図6に示された画像形成装置の、リアプレ
ート101、フェースプレート108、及び外枠部材1
05にて構成される容器の作成方法について以下に説明
する。
The rear plate 101, the face plate 108, and the outer frame member 1 of the image forming apparatus shown in FIG.
The method of making the container 05 is described below.

【0089】まず、図8に示すように、基板301上に
塗布され形成された、アルカリ金属シリケート系接着材
(アロンセラミックW、東亜合成(株)製)の薄膜30
2に、基底305に固定された治具303に保持された
絶縁性基板からなる耐大気圧支持部材(スペーサ)10
4の一端を押しつけ(図8(a))、基底305側を取
り上げて、スペーサ104の一端に上記接着材の溜り3
04を形成した(図8(b))。
First, as shown in FIG. 8, a thin film 30 of an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) applied and formed on a substrate 301 is formed.
2, an atmospheric pressure-resistant support member (spacer) 10 made of an insulating substrate held by a jig 303 fixed to a base 305;
4 is pressed (FIG. 8A), the base 305 is picked up, and the adhesive material 3
04 was formed (FIG. 8B).

【0090】リアプレート101上の行配線103上
に、上記スペーサ104を位置決め配置し、200℃に
加熱して、スペーサとリアプレート間の接続部材106
bを形成した(図8の(c))。
The spacers 104 are positioned and arranged on the row wirings 103 on the rear plate 101 and heated to 200 ° C. to connect the spacers 104 between the spacers and the rear plate.
b was formed (FIG. 8C).

【0091】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材と、上記フェースプレート108及び上記リアプレ
ート101とを位置合わせして、420℃に加熱するこ
とで、上記図6に示された、フェースプレート108、
リアプレート101、及び、外枠部材105とで構成さ
れる容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member, the face plate 108 and the By aligning with the rear plate 101 and heating to 420 ° C., the face plate 108 shown in FIG.
A container including the rear plate 101 and the outer frame member 105 was assembled.

【0092】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ104及び
接着材106aを用いて、本実施例と同様の方法によ
り、スペーサ104として導電性スペーサが配置された
図7に示す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, the insulating spacer is used as the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104. However, the conductive spacer 104 and the adhesive 106a similar to those of the first embodiment are used. By the same method as in the example, the image forming apparatus shown in FIG.

【0093】以上の実施形態9においては、スペーサの
一端と基板との接着が、化学反応型の接着材を用いるこ
とで、200℃程度の低温加熱により行うことができ、
複数回の高温加熱工程による電子放出素子の特性低下を
抑制することができる。
In the ninth embodiment described above, the bonding between one end of the spacer and the substrate can be performed by heating at a low temperature of about 200 ° C. by using a chemical reaction type adhesive.
It is possible to suppress a decrease in characteristics of the electron-emitting device due to a plurality of high-temperature heating steps.

【0094】また、以上の実施形態9においても、スペ
ーサ104の一端と電子放出素子が配置されたリアプレ
ート101の基板との接着を、無機接着材にて行ってお
り、接着材の加熱によっても、有機接着材を用いた場合
のような放出ガスによる電子放出素子の特性低下を抑制
することができる。
Also in Embodiment 9 described above, the one end of the spacer 104 and the substrate of the rear plate 101 on which the electron-emitting devices are arranged are bonded with an inorganic bonding material. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the released gas as in the case where the organic adhesive is used.

【0095】また、以上の実施形態9においては、スペ
ーサ104の一端と基板との接着が、化学反応型の接着
材を用いることで、200℃程度の低温加熱により行う
ことができ、更に、スペーサ104の他端も、接着材1
07aを用いた加熱接着を行っていないので、製造過程
における加熱工程を一層低減することができる。
In the ninth embodiment described above, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate can be performed by heating at a low temperature of about 200 ° C. by using a chemical reaction type adhesive. The other end of 104 also has adhesive 1
Since the heat bonding using the 07a is not performed, the number of heating steps in the manufacturing process can be further reduced.

【0096】また、以上の実施形態9においては、スペ
ーサ104の一端と基板との接着が、化学反応型の接着
材106aを用いることで、200℃程度の低温加熱に
より行うことができ、更には、スペーサ104の他端
も、接着材107aを用いた加熱接着を行っていないの
で、複数回の高温加熱工程による電子放出素子の特性低
下を一層抑制することができる。
In the ninth embodiment, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate can be performed by heating at a low temperature of about 200 ° C. by using the chemical reaction type adhesive 106a. Since the other end of the spacer 104 is not heated and bonded using the adhesive 107a, the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the multiple high-temperature heating steps can be further suppressed.

【0097】また、以上の実施形態9においても、スペ
ーサ104の一端と電子放出素子が配置されたリアプレ
ート101の基板との接着を、無機接着材にて行ってお
り、接着材106aの加熱によっても、有機接着材を用
いた場合のような放出ガスによる電子放出素子の特性低
下を抑制することができる。
Also, in the ninth embodiment, the one end of the spacer 104 and the substrate of the rear plate 101 on which the electron-emitting devices are arranged are bonded with an inorganic adhesive, and by heating the adhesive 106a. In addition, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to the released gas as in the case of using the organic adhesive.

【0098】[実施形態10]本実施形態では、図7に
示される画像形成装置の、別の製造方法について以下に
説明する。
[Embodiment 10] In this embodiment, another method of manufacturing the image forming apparatus shown in FIG. 7 will be described below.

【0099】図7に示される画像形成装置は、以上の実
施形態1〜5、8にて説明された図1の画像形成装置と
は、リアプレート101とスペーサ104との間に接続
部材が存在しない点で異なっている。
The image forming apparatus shown in FIG. 7 is different from the image forming apparatus of FIG. 1 described in the first to fifth and eighth embodiments in that a connecting member exists between the rear plate 101 and the spacer 104. They differ in that they do not.

【0100】まず、図8に示すように、基板301上に
塗布され形成された、アルカリ金属シリケート系接着材
(アロンセラミックW、東亜合成(株)製)の薄膜30
2に、基底305に固着された治具303に保持された
絶縁性基板からなる耐大気圧支持部材(スペーサ)10
4の一端を押しつけ(図8(a))、その後基底305
を取り上げて、スペーサ104の一端に上記接着材の溜
り304を形成した(図8の(b))。
First, as shown in FIG. 8, a thin film 30 of an alkali metal silicate-based adhesive (Aron Ceramic W, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) applied and formed on a substrate 301 is formed.
2, an atmospheric pressure-resistant supporting member (spacer) 10 made of an insulating substrate held by a jig 303 fixed to a base 305;
4 (FIG. 8 (a)), and then the base 305
Then, the above-mentioned adhesive pool 304 was formed at one end of the spacer 104 (FIG. 8B).

【0101】フェースプレート108上のブラックスト
ライプ110上に、上記スペーサ104を位置決め配置
し、200℃に加熱して、スペーサ104とフェースプ
レート108間の接続部材107bを形成した(図
9)。
The spacer 104 was positioned and arranged on the black stripe 110 on the face plate 108, and heated to 200 ° C. to form a connecting member 107b between the spacer 104 and the face plate 108 (FIG. 9).

【0102】前述の外枠部材105の、フェースプレー
ト108側及びリアプレート101側の両当接面にフリ
ットガラス112を塗布後、仮焼成を行い、かかる外枠
部材105と、上記フェースプレート108及び上記リ
アプレート101とを位置合わせして420℃に加熱す
ることで、上記図7に示された、フェースプレート10
8、リアプレート101、及び、外枠部材105とで構
成される容器を組み立てた。
The frit glass 112 is applied to both the contact surfaces of the outer frame member 105 on the face plate 108 side and the rear plate 101 side, and then pre-baked, and the outer frame member 105, the face plate 108, By aligning the rear plate 101 and heating to 420 ° C., the face plate 10 shown in FIG.
8. A container including the rear plate 101 and the outer frame member 105 was assembled.

【0103】尚、本実施形態においては、耐大気圧支持
部材(スペーサ)104として、絶縁性スペーサを用い
たが、実施形態1と同様の導電性のスペーサ及び接着材
106aを用いて、本実施例と同様の方法により、スペ
ーサ104として導電性スペーサが配置された図7に示
す画像形成装置を作成できた。
In this embodiment, an insulating spacer is used as the anti-atmospheric pressure support member (spacer) 104. However, this embodiment uses the same conductive spacer and adhesive 106a as in the first embodiment. By the same method as in the example, an image forming apparatus shown in FIG.

【0104】以上の実施形態10においても、スペーサ
の一端と基板との接着が、化学反応型の接着材を用いる
ことで、200℃程度の低温加熱により行うことがで
き、更に、スペーサの他端も、接着材を用いた加熱接着
を行っていないので、製造過程における加熱工程を一層
低減することができる。
In the tenth embodiment as well, the bonding between one end of the spacer and the substrate can be performed by using a chemically reactive adhesive at a low temperature of about 200 ° C. Also, since the heat bonding using the adhesive is not performed, the number of heating steps in the manufacturing process can be further reduced.

【0105】また、以上の実施形態10においても、ス
ペーサ104の一端と基板との接着が、化学反応型の接
着材を用いることで、200℃程度の低温加熱により行
うことができ、更には、スペーサ104の他端も、接着
材を用いた加熱接着を行っていないので、複数回の高温
加熱工程による電子放出素子の特性低下を一層抑制する
ことができる。
Also in Embodiment 10 described above, the bonding between one end of the spacer 104 and the substrate can be performed by heating at a low temperature of about 200 ° C. by using a chemical reaction type adhesive. Since the other end of the spacer 104 is not heated and bonded using an adhesive, it is possible to further suppress the deterioration of the characteristics of the electron-emitting device due to a plurality of high-temperature heating steps.

【0106】また、以上の実施形態10においても、電
子放出素子が配置されたリアプレート101の基板へ
は、接着材を用いずにスペーサ104を当接しているの
で、複数回の高温加熱工程による電子放出素子の特性低
下を、一層抑制することができる。
Also in Embodiment 10 described above, since the spacer 104 is in contact with the substrate of the rear plate 101 on which the electron-emitting devices are arranged without using an adhesive, a plurality of high-temperature heating steps are performed. The deterioration of the characteristics of the electron-emitting device can be further suppressed.

【0107】また、以上の実施形態10においても、電
子放出素子が配置された基板へは接着材を用いずにスペ
ーサを当接しているので、接着材からの放出ガスによる
電子放出素子の特性低下を抑制することができる。
Also, in the tenth embodiment, since the spacer is in contact with the substrate on which the electron-emitting devices are arranged without using an adhesive, the characteristics of the electron-emitting devices are degraded by the gas released from the adhesive. Can be suppressed.

【0108】[0108]

【発明の効果】上述したように、本発明によれば、画像
形成装置の製造過程における加熱工程を低減させること
ができる。また、本発明によれば、画像形成装置の製造
過程における高温での加熱工程を低減させることができ
る。
As described above, according to the present invention, the number of heating steps in the process of manufacturing an image forming apparatus can be reduced. Further, according to the present invention, it is possible to reduce a heating step at a high temperature in a process of manufacturing an image forming apparatus.

【0109】また、本発明によれば、画像形成装置の製
造過程における加熱工程による画像形成手段へのダメー
ジを低減させることができる。また、簡易な、画像形成
装置の製造方法を提供することができる。また、本発明
によれば、高品位な画像を形成する画像形成装置の製造
方法を提供することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to reduce damage to the image forming means due to the heating step in the process of manufacturing the image forming apparatus. Further, it is possible to provide a simple method of manufacturing an image forming apparatus. Further, according to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing an image forming apparatus for forming a high-quality image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る画像形成装置の構成の例を説明す
るための断面図である。
FIG. 1 is a sectional view illustrating an example of a configuration of an image forming apparatus according to the present invention.

【図2】図1の画像形成装置の製造方法の一例を説明す
るための図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a method of manufacturing the image forming apparatus of FIG.

【図3】図1の画像形成装置の製造方法の別の例を説明
するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining another example of the method for manufacturing the image forming apparatus of FIG. 1;

【図4】図1の画像形成装置の製造方法の更に別の例を
説明するための図である。
FIG. 4 is a view for explaining still another example of the method for manufacturing the image forming apparatus of FIG. 1;

【図5】図1の画像形成装置の製造方法の更に別の例を
説明するための図である。
FIG. 5 is a view for explaining still another example of the method for manufacturing the image forming apparatus of FIG. 1;

【図6】本発明に係る画像形成装置の構成の別の例を説
明するための断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining another example of the configuration of the image forming apparatus according to the present invention.

【図7】本発明に係る画像形成装置の構成の更に別の例
を説明するための断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating still another example of the configuration of the image forming apparatus according to the present invention.

【図8】図1の画像形成装置の製造方法の更に別の例を
説明するための図である。
FIG. 8 is a view for explaining still another example of the method for manufacturing the image forming apparatus of FIG. 1;

【図9】図7の画像形成装置の製造方法の例を説明する
ための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a method of manufacturing the image forming apparatus of FIG.

【図10】従来の画像形成装置の一例を示す断面図であ
る。
FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating an example of a conventional image forming apparatus.

【図11】従来の画像形成装置の蛍光体の一例を示す図
である。
FIG. 11 is a diagram illustrating an example of a phosphor of a conventional image forming apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101 リアプレート 102 電子放出素子 103 行配線 104 スペーサ 105 外枠部材 106 接続部材 107 接続部材 108 フェースプレート 109 メタルバック(加速電極) 110 ブラックストライプ 111 蛍光体 112 フリットガラス 113 ロボットハンド 201 リアプレート 202,203 電極 204 電子放出部 205 電子放出素子 206 フェースプレート 207 透明ガラス 208 蛍光体 211 メタルバック 301 基板 302 アルカリ金属シリケート系接着材(薄膜) 303 治具 304 溜り 305 基底 Reference Signs List 101 rear plate 102 electron-emitting device 103 row wiring 104 spacer 105 outer frame member 106 connecting member 107 connecting member 108 face plate 109 metal back (acceleration electrode) 110 black stripe 111 fluorescent substance 112 frit glass 113 robot hand 201 rear plate 202, 203 Electrode 204 Electron emission section 205 Electron emission element 206 Face plate 207 Transparent glass 208 Phosphor 211 Metal back 301 Substrate 302 Alkali metal silicate adhesive (thin film) 303 Jig 304 Pool 305 Base

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−92155(JP,A) 特開 平1−302642(JP,A) 特開 平2−299136(JP,A) 特開 平6−310054(JP,A) 特開 平7−5821(JP,A) 特開 昭54−83939(JP,A) 特開 昭62−99904(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/24 H01J 29/86 - 29/87 H01J 31/12 Continuation of the front page (56) References JP-A-9-92155 (JP, A) JP-A-1-302462 (JP, A) JP-A-2-299136 (JP, A) JP-A-6-310054 (JP) , A) JP-A-7-5821 (JP, A) JP-A-54-83939 (JP, A) JP-A-62-99904 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB Name) H01J 9/24 H01J 29/86-29/87 H01J 31/12

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 互いに間隔をおいて配置された一対の第
1及び第2の基板を含む部材にて構成された容器と、該
容器の内部に配置された、画像形成手段及び前記間隔を
保持するスペーサとを備える画像形成装置の製造方法で
あって、 前記第1の基板に前記スペーサを化学反応型の接着材を
用いて接着する工程と、前記第1の基板と前記第2の基
板とを外枠部材を介して接着する工程とを有し、 前記
第1の基板は前記画像形成手段の画像形成部材が配置さ
れ、前記第2の基板は電子放出素子が配置され、前記接
着材は、アルカリ金属シリケート系接着材、酸性金属ホ
スフェート系接着材、コロイダルシリカの何れか1つを
用い、前記第2の基板と前記スペーサの間には前記接着
材が存在しないことを特徴とする画像形成装置の製造方
法。
1. A container constituted by a member including a pair of first and second substrates arranged at a distance from each other, an image forming means arranged inside the container, and holding the space. A method of manufacturing an image forming apparatus, comprising: a step of bonding the spacer to the first substrate using a chemical reaction type adhesive; and a step of bonding the first substrate and the second substrate to each other. possess a step of bonding via the outer frame member, the
The first substrate is provided with an image forming member of the image forming means.
The second substrate is provided with an electron-emitting device;
The dressing materials are alkali metal silicate adhesives and acidic metal foils.
Use any one of sphate adhesive and colloidal silica
Used, wherein the adhesive is provided between the second substrate and the spacer.
A method for manufacturing an image forming apparatus, wherein no material is present .
【請求項2】 前記画像形成手段は、前記電子放出素子
からの電子の照射により画像を形成する画像形成部材と
を有する請求項1に記載の画像形成装置の製造方法。
Wherein said image forming means, a manufacturing method of an image forming apparatus according to claim 1 and an image forming member for forming an electron image by irradiation of from the electron-emitting devices.
【請求項3】 前記接着材は、導電性部材として用いる
場合には、化学反応型の無機接着材に金属粒子を混ぜた
ことを特徴とする請求項1に記載の画像形成装置の製造
方法。
3. The method for manufacturing an image forming apparatus according to claim 1, wherein when the adhesive is used as a conductive member, metal particles are mixed with a chemical reaction type inorganic adhesive.
【請求項4】 互いに間隔をおいて配置された一対の第
1及び第2の基板を含む部材にて構成された容器と、該
容器の内部に配置された、画像形成手段及び前記間隔を
保持するスペーサとを備える画像形成装置において、 前記第1の基板に前記スペーサが化学反応型の接着材を
介して接着されており、前記第1の基板と前記第2の基
板とが外枠部材を介して接着されており、前記第1の基
板は前記画像形成手段の画像形成部材が配置され、前記
第2の基板は電子放出素子が配置され、前記接着材は、
アルカリ金属シリケート系接着材、酸性金属ホスフェー
ト系接着材、コロイダルシリカの何れか1つを用い、前
記第2の基板と前記スペーサの間には前記接着材が存在
しないことを特徴とする画像形成装置。
4. A container constituted by a member including a pair of first and second substrates arranged at an interval from each other, and an image forming means arranged inside the container and maintaining the interval An image forming apparatus comprising: a spacer that adheres to the first substrate via a chemical reaction type adhesive; and the first substrate and the second substrate form an outer frame member. And the first base
The plate is provided with an image forming member of the image forming means,
The second substrate is provided with an electron-emitting device, and the adhesive is:
Alkali metal silicate adhesive, acid metal phosphate
Using either adhesive or colloidal silica
The adhesive is present between the second substrate and the spacer.
An image forming apparatus characterized by not performing.
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