JP2000251654A - Airtight container and image forming device - Google Patents

Airtight container and image forming device

Info

Publication number
JP2000251654A
JP2000251654A JP11049253A JP4925399A JP2000251654A JP 2000251654 A JP2000251654 A JP 2000251654A JP 11049253 A JP11049253 A JP 11049253A JP 4925399 A JP4925399 A JP 4925399A JP 2000251654 A JP2000251654 A JP 2000251654A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
electron
image forming
melting point
forming apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11049253A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3599588B2 (en
Inventor
Shinya Koyama
信也 小山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP4925399A priority Critical patent/JP3599588B2/en
Publication of JP2000251654A publication Critical patent/JP2000251654A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3599588B2 publication Critical patent/JP3599588B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily manufacture an airtight container with an inexpensive facility and to prevent the breakage of the container due to heating and the deterioration of internal components due to heat. SOLUTION: This container is composed of a pair of panels 101, 102 facing each other, support members 103 for supporting the distance between the panels 101, 102, and airtight sealing parts 104 for maintaining the airtight condition between the panels 101, 102. In this case, the airtight sealing parts 104 are sealed with a low-melting point metal 105.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、気密容器及びこれ
を用いた画像形成装置に関し、特に冷陰極電子放出素子
を用いた平板型の画像形成装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an airtight container and an image forming apparatus using the same, and more particularly, to a flat type image forming apparatus using a cold cathode electron-emitting device.

【0002】[0002]

【従来の技術】平板型画像形成装置として、近年、アク
テブマトリクス型液晶が、CRTにかわって用いられる
様になってきた。また、アクテブマトリクス型液晶は、
自発光型でないため、バックライトを用いて表示をおこ
なうものであるが、光の利用効率が低いために、さらに
明るい画像形成装置が望まれていた。このため、プラズ
マデスプレーや電界電子放出素子や表面伝導型電子放出
素子(例えば、特開平7−235255)等の冷陰極電
子放出素子から放出した電子を加速し衝突させ、蛍光体
を発光させ表示をおこなう自発光型画像形成装置の開発
が実用化されてきている。これら平板型画像形成装置は
数十インチの大面積化もおこなわれ、高精度で容易な組
立方法が望まれている。
2. Description of the Related Art In recent years, an active matrix type liquid crystal has been used as a flat panel type image forming apparatus instead of a CRT. Active matrix type liquid crystal is
Since it is not a self-luminous type, display is performed using a backlight. However, since the light use efficiency is low, a brighter image forming apparatus has been desired. For this reason, electrons emitted from a cold cathode electron-emitting device such as a plasma display, a field electron-emitting device, and a surface conduction electron-emitting device (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-235255) are accelerated and collided to cause a phosphor to emit light and display. Development of a self-luminous image forming apparatus has been put to practical use. These flat-panel image forming apparatuses have a large area of several tens of inches, and a highly accurate and easy assembling method is desired.

【0003】従来これらプラズマディスプレイ、フィー
ルドエミッションディスプレイ等の平板型画像形成装置
の封着には低融点ガラス(フリットガラス)を前面板と
背面板との接合部に塗布し400〜500℃で加圧焼成
することで封着が行われてきた。その為、封着時の高温
下における厳しいアライメント精度の要求による装置の
複雑化や、加熱温度分布の不均一によるガラス基板等の
破損、或いは画像形成装置内の電子放出素子やゲッター
材などの内部部品の熱による劣化など種々の問題が発生
し高品位な表示を得ることが極めて困難であった。
Conventionally, low-melting glass (frit glass) has been applied to the joint between the front plate and the back plate and sealed at 400 to 500 ° C. for sealing such flat panel image forming apparatuses such as plasma displays and field emission displays. Sealing has been performed by firing. Therefore, the equipment becomes complicated due to the demand for strict alignment accuracy under high temperature at the time of sealing, the glass substrate etc. is damaged due to uneven heating temperature distribution, or the inside of the electron emission element or getter material etc. in the image forming apparatus Various problems such as deterioration of parts due to heat have occurred, and it has been extremely difficult to obtain high-quality display.

【0004】この問題に対し、特公平3−28773号
公報には低温で封着する方法の1例であるレーザ溶接を
用いた平面型画像形成装置が開示されている。その内容
について以下図6を参照して説明する。
To cope with this problem, Japanese Patent Publication No. 3-28773 discloses a flat-type image forming apparatus using laser welding, which is an example of a method for sealing at a low temperature. The contents will be described below with reference to FIG.

【0005】まず、表容器1に金属板2を低融点ガラス
7を介して加熱接合し、次に、裏板5に金属板4,枠体
3及びリード線6をそれぞれ低融点ガラス7を介して加
熱接合して裏容器8を作製し、画像形成装置の気密容器
を構成する表容器と裏容器が準備される。次いで内部に
収容する電極構体(図示せず)を前記裏容器8に配置し
各電極端子をリード線と接続した後、表容器1を配置
し、最後に金属板2、4の周辺にレーザービームをあ
て、縁に沿って連続的に溶接が行なわれる。このように
することで、精度よく確実に封着が行なわれると同時に
溶接による溶融時の高い温度分布が極めて限定された狭
い範囲であるため、組み立て精度のずれや容器部品の反
り,割れを極力小さくすることができ高品位な表示装置
を得ることができるとされている。
[0005] First, the metal plate 2 is heat-bonded to the front container 1 via the low melting point glass 7, and then the metal plate 4, the frame 3 and the lead wire 6 are connected to the back plate 5 via the low melting point glass 7. To form a back container 8, and a front container and a back container constituting airtight containers of the image forming apparatus are prepared. Next, an electrode assembly (not shown) to be housed therein is disposed in the back container 8 and each electrode terminal is connected to a lead wire. Then, the front container 1 is disposed. And welding is performed continuously along the edge. By doing so, sealing can be performed accurately and reliably, and at the same time, the high temperature distribution during melting by welding is extremely limited in a narrow range, so that deviations in assembly accuracy and warping and cracking of container parts are minimized. It is described that a high-quality display device can be obtained which can be reduced in size.

【0006】また上記公報にははんだ付けによる方法、
電気溶接による方法が記載されているが、いずれも信頼
性、後工程における耐熱性等において否定されている。
Further, the above publication discloses a method by soldering,
Although a method by electric welding is described, all methods are denied in terms of reliability, heat resistance in a later step, and the like.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例は気密容器全体を加熱することなく、局所的な加熱で
精度よく確実に溶接が行なえるもののレーザービームを
用いることで設備コストが高価になり安価なパネルを提
供することが困難であった。
However, in the above conventional example, welding can be performed accurately and reliably by local heating without heating the entire hermetic container. However, the use of a laser beam increases the equipment cost and reduces the cost. It was difficult to provide a simple panel.

【0008】本発明は上記した従来の欠点を除去するも
のであり、封着方法を工夫、改良して、安価でかつ高品
位の気密容器及び画像形成装置を提供することを目的と
する。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned conventional drawbacks and to provide a low-cost and high-quality airtight container and an image forming apparatus by devising and improving a sealing method.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本請求項1に係る発明は、互いに対向する一対のパ
ネルと、該パネル間の間隔を支持する支持部材と、前記
パネル間を気密に保つための気密封着部と、を有する気
密容器において、前記気密封着部を低融点金属によって
封着したことを特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a pair of panels facing each other, a supporting member for supporting a gap between the panels, and a panel between the panels are provided. An airtight container having an airtight attachment portion for keeping airtight, wherein the airtight attachment portion is sealed with a low melting point metal.

【0010】低融点金属によって封着することにより、
安価な設備において容易に気密容器が作製できるように
なる。また容器全体を加熱することなく局所的な加熱方
法において封着がなされるため、加熱による容器の破損
や内部部品の熱による劣化が防止される。
[0010] By sealing with a low melting point metal,
An airtight container can be easily manufactured with inexpensive equipment. In addition, since sealing is performed by a local heating method without heating the entire container, breakage of the container due to heating and deterioration of internal components due to heat are prevented.

【0011】また、低融点金属の組成を適宜選択するこ
とにより後工程であるベーク処理においても十分耐えう
る封着が得られ、気密容器としての充分な寿命を確保で
きる。
Further, by appropriately selecting the composition of the low-melting-point metal, it is possible to obtain a seal that can withstand the baking treatment in the subsequent step, and to secure a sufficient life as an airtight container.

【0012】請求項2に係る発明は、気密封着部は各パ
ネルに接着された対となる金属部材を有し、該金属部材
同士が低融点金属によって封着されることを特徴として
おり、金属部材同士を低融点金属にて封着するので接合
が確実にできる。
The invention according to claim 2 is characterized in that the hermetically sealing portion has a pair of metal members bonded to each panel, and the metal members are sealed with a low melting point metal. Since the metal members are sealed with a low melting point metal, the joining can be reliably performed.

【0013】請求項3に係る発明は、気密封着部の低融
点金属接合面には予め金属膜が形成されていることを特
徴とし、金属膜によって低融点金属と金属部材等の接合
面とのぬれ性等の親和性が改善され、より信頼性の高い
真空容器が得られる。
The invention according to claim 3 is characterized in that a metal film is formed in advance on the low melting point metal joining surface of the hermetic sealing portion, and the low melting point metal and the joining surface of the metal member and the like are formed by the metal film. The affinity, such as wettability, is improved, and a more reliable vacuum container can be obtained.

【0014】請求項4に係る発明は、金属膜が貴金属材
料で形成されていることを特徴とする。
The invention according to claim 4 is characterized in that the metal film is formed of a noble metal material.

【0015】Ag,Au,Pd等の貴金属材料は一般に
はんだ付け性がよく、化学的に安定であるので金属膜材
料として好適である。
Noble metal materials such as Ag, Au, and Pd generally have good solderability and are chemically stable, and thus are suitable as metal film materials.

【0016】請求項5に係る発明は、低融点金属の融点
が450℃以下であることを特徴とし、このようにすれ
ば封着処理が容易である。
The invention according to claim 5 is characterized in that the melting point of the low melting point metal is 450 ° C. or less, and thus the sealing treatment is easy.

【0017】請求項6に係る発明は、パネルはソーダラ
イムガラスでかつ金属部材が426合金で形成されてい
ることを特徴とする。
The invention according to claim 6 is characterized in that the panel is made of soda-lime glass and the metal member is made of 426 alloy.

【0018】このようにすれば、両者の熱膨張差が小さ
い。
In this case, the difference in thermal expansion between the two is small.

【0019】請求項7に係る発明は、上記した気密容器
を用い、一方のパネルに電子放出素子を搭載すると共に
他方のパネルに前記電子放出素子から放出される電子線
の照射により画像が形成される画像形成部を搭載したこ
とを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, an image is formed by irradiating an electron beam emitted from the electron-emitting device on the other panel while mounting the electron-emitting device on one of the panels using the airtight container described above. And an image forming unit.

【0020】上記の気密容器を用いて画像形成装置を構
成することにより、容易かつ安価に高品位な画像形成装
置が得られ、かつ後工程における熱処理にも十分耐えう
る耐熱性と気密性を確保することができる。
By forming an image forming apparatus using the above-mentioned airtight container, a high-quality image forming apparatus can be obtained easily and inexpensively, and heat resistance and airtightness enough to withstand heat treatment in a later step are ensured. can do.

【0021】この電子放出素子が冷陰極電子放出素子と
すれば、構造を単純化できる。
If this electron-emitting device is a cold cathode electron-emitting device, the structure can be simplified.

【0022】[0022]

【発明の実施形態】以下に本発明を図示の実施の形態に
基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on an embodiment shown in the drawings.

【0023】本発明は電界電子放出素子、表面伝導型電
子放出素子等の電子放出素子を複数配置し、蛍光体等の
画像形成部材を発光し表示する平板型画像形成装置の新
規な構成を提供するものである。
The present invention provides a novel configuration of a flat plate type image forming apparatus in which a plurality of electron emitting elements such as a field electron emitting element and a surface conduction type electron emitting element are arranged, and an image forming member such as a phosphor is illuminated and displayed. Is what you do.

【0024】まず、本発明の気密容器を用いた画像形成
装置の主要な構成の一例を図1を用いて説明する。
First, an example of a main configuration of an image forming apparatus using the airtight container of the present invention will be described with reference to FIG.

【0025】図1(a)は本発明の画像形成装置の平面
図であり、図1(b)は図1(a)のA−A´線断面
図、図1(c)は図1(b)を更に拡大した部分断面図
である。
FIG. 1A is a plan view of the image forming apparatus of the present invention, FIG. 1B is a sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1A, and FIG. It is the fragmentary sectional view which expanded b) further.

【0026】すなわち、互いに対向する一対のパネルと
しての前面板101及び背面板102と、前面板101
と背面板102間の間隔を支持する支持部材としての支
持枠103と、前面板101と背面板102間を気密に
保つための気密封着部を構成する第1,第2金属部材1
04ー1,104−2と、を備えており、この第1,第
2金属部材104−1,104−2を低融点金属105
によって封着されている。第1,第2金属部材104−
1,104−2の接合面には、低融点金属105の下地
処理として予め金属膜106が形成されている。また、
107は前面板101,背面板102,支持枠103及
び第1,第2金属部材104ー1,104−2をそれぞ
れ接合する接着剤である。
That is, a front plate 101 and a rear plate 102 as a pair of panels facing each other, and a front plate 101
Frame 103 as a support member for supporting the gap between the front plate 101 and the back plate 102, and first and second metal members 1 forming a hermetically sealed portion for keeping the space between the front plate 101 and the back plate 102 airtight.
04-1 and 104-2, and the first and second metal members 104-1 and 104-2 are connected to the low melting point metal 105.
Sealed by. First and second metal members 104-
A metal film 106 is formed in advance on the bonding surface of 1104-2 as a base treatment of the low melting point metal 105. Also,
Reference numeral 107 denotes an adhesive for bonding the front plate 101, the rear plate 102, the support frame 103, and the first and second metal members 104-1 and 104-2, respectively.

【0027】上記前面板101はガラス等で構成された
フェースプレートであり、電極、配線等のパターンと共
に電子が衝突し発光する蛍光体が形成される。
The front plate 101 is a face plate made of glass or the like, and forms a phosphor which emits light by collision of electrons with patterns of electrodes, wirings and the like.

【0028】背面板102はガラス等で構成されたリア
プレートであり、電極、配線等のパターンと共に電子放
出素子が形成される。
The back plate 102 is a rear plate made of glass or the like, on which electron-emitting devices are formed together with patterns of electrodes, wirings and the like.

【0029】支持枠103は通常前面板101及び背面
板102と同様な材料で形成され、前面板101、背面
板102及び支持枠103で、基本的な容器が構成され
る。尚、支持枠103は印刷で形成された隔壁を用いて
も良く、また前面板101及び背面板102どちらに接
合されていてもよく更には前面板101及び背面板10
2と一体化された構造でもよく必ずしも前面板101、
背面板102と別部材である必要はない。
The support frame 103 is usually made of the same material as the front plate 101 and the back plate 102. The front plate 101, the back plate 102 and the support frame 103 constitute a basic container. Note that the support frame 103 may use a partition formed by printing, or may be joined to either the front plate 101 or the back plate 102, and furthermore, the front plate 101 and the back plate 10
2 may be integrated with the front plate 101,
It is not necessary to be a separate member from the back plate 102.

【0030】第1,第2金属部材104−1、104−
2は薄板くり貫き枠形状のものが一般的であるが、その
形状はパネル周縁で両部材端部を接合することで気密容
器が形成される構造に有ればよく、特に厚み、形状とも
限定されるものではない。また第1,第2金属部材10
4−1、104−2は同一寸法形状である必要もない。
材質は金属系が一般であり、部材との接着性を考慮し、
前面板、背面板及び支持体との熱膨張係数が同程度であ
ること、後工程での熱、応力等に耐えうるものであるこ
と、低融点金属105で接合可能な表面性を有すること
また持たせることができること、即ち接合面下地を研磨
処理または金属膜処理が可能で低融点金属105に対す
るぬれ性を持たせることが可能である等の条件から特に
426合金(Fe−Ni−Cr)が用いられるが限定さ
れるものではない。
The first and second metal members 104-1, 104-
2 is generally a thin-walled hollow frame shape, but the shape only needs to be a structure in which an airtight container is formed by joining both ends of the panel at the periphery of the panel, and the thickness and shape are particularly limited. It is not something to be done. Also, the first and second metal members 10
It is not necessary that 4-1 and 104-2 have the same size and shape.
The material is generally a metal type, considering the adhesiveness with the member,
The front plate, the back plate, and the support have substantially the same coefficient of thermal expansion, must be able to withstand heat, stress, and the like in a later step, and have a surface property that can be joined with the low melting point metal 105. 426 alloy (Fe-Ni-Cr) is particularly preferred from the viewpoint that it can be provided, that is, it can be polished or treated with a metal film on the bonding surface base and can have wettability to the low melting point metal 105. Used but not limited.

【0031】低融点金属105は一般には表1に示され
る様な融点250℃〜450℃までのPb−Sn系、S
n−Ag系、Au系のものが用いられ、第1,第2金属
部材104−1、104−2処理表面との相性(ぬれ性
など)、後工程において必要とされる耐熱性等により適
宜選択されるが特に限定されるものではない。また一般
には画像形成装置内部のライフ向上のため真空雰囲気の
汚染源となりうるフラックス等の添加剤の使用は避け
る。
The low-melting point metal 105 is generally a Pb-Sn-based material having a melting point of 250 ° C. to 450 ° C. as shown in Table 1;
An n-Ag-based or Au-based material is used, and is appropriately determined depending on the compatibility (such as wettability) with the first and second metal members 104-1 and 104-2 and the heat resistance required in a later step. It is selected but not particularly limited. In general, the use of additives such as flux, which can be a source of contamination in a vacuum atmosphere, is avoided in order to improve the life inside the image forming apparatus.

【0032】[0032]

【表1】 金属膜106は低融点金属105と第1,第2金属部材
104−1,104−2とのぬれ性等の親和性を改善す
るため数μmの厚さで形成するものであり、一般にはは
んだ付け性が良く化学的に安定なAu、Ag、Pd等の
貴金属材料が用いられる。尚Ag、Auなどは低融点金
属に溶解しやすいため下地として予めNi等の溶解しに
くい金属膜106を形成しておくことが特に好ましい。
金属膜106はメッキ法、蒸着法等により形成されるが
特に製法は限定されない。
[Table 1] The metal film 106 is formed with a thickness of several μm in order to improve the affinity such as wettability between the low melting point metal 105 and the first and second metal members 104-1 and 104-2. A noble metal material such as Au, Ag, or Pd which has good attachment properties and is chemically stable is used. Since Ag, Au, and the like are easily dissolved in the low melting point metal, it is particularly preferable to previously form a metal film 106, such as Ni, which is difficult to dissolve as a base.
The metal film 106 is formed by a plating method, an evaporation method, or the like, but the manufacturing method is not particularly limited.

【0033】接着剤107は、無機系、有機系接着剤等
限定されるものではないが、真空気密性を保持しうるこ
と、放出ガスが少ないこと、後熱処理工程における耐熱
性をもちうること、接合後の機械的強度が十分であるこ
と、等の条件を満たすことが必要である。また特に低融
点ガラスが多く用いられるがそれ以外にも2種類の接着
剤を用い機能を分担させることで上記条件を満たすよう
な構成をとることも可能である。
The adhesive 107 is not limited, such as an inorganic or organic adhesive, but can maintain vacuum tightness, emit less gas, and have heat resistance in a post-heat treatment step. It is necessary to satisfy conditions such as sufficient mechanical strength after joining. In particular, low melting point glass is often used, but it is also possible to adopt a configuration that satisfies the above conditions by sharing functions using two types of adhesives.

【0034】尚、画像形成装置は、排気管(不図示)よ
り容器内を排気し真空が形成された後、排気管を封止す
る方法もしくは真空チャンバー中で容器を封着する排気
管レスの方法で完成される。
In the image forming apparatus, after the inside of the container is evacuated from an exhaust pipe (not shown) and a vacuum is formed, a method of sealing the exhaust pipe or an exhaust pipe-less method of sealing the container in a vacuum chamber is used. Completed by the method.

【0035】次に、上記した本発明の画像形成装置の製
造方法の1例を、図2を用いてその概略を説明する。
Next, an example of a method for manufacturing the above-described image forming apparatus of the present invention will be schematically described with reference to FIG.

【0036】第1,第2金属部材104−1、104−
2の相接合させる接合部表面に金属膜106を形成す
る。
The first and second metal members 104-1, 104-
The metal film 106 is formed on the surface of the joint portion where the two phases are joined.

【0037】第1金属部材104−1を前面板101
に、第2金属部材104−2を支持枠103を介して背
面板102にそれぞれ接着する。
The first metal member 104-1 is attached to the front plate 101.
Then, the second metal members 104-2 are bonded to the back plate 102 via the support frames 103, respectively.

【0038】前面板101と背面板102を位置合わせ
しながら重ね合わせ、固定する。
The front plate 101 and the rear plate 102 are overlapped and fixed while being positioned.

【0039】第1,第2金属部材104−1、104−
2の周縁を一周、低融点金属105で接合する。こうし
て画像形成装置の容器が製造される。
The first and second metal members 104-1, 104-
The periphery of No. 2 is joined with the low melting point metal 105 one round. Thus, the container of the image forming apparatus is manufactured.

【0040】[0040]

【実施例】次に本発明をより具体化した実施例について
説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described.

【0041】[実施例1]本発明の実施例1は、図1に
示した上記実施の形態と同一なので、図1を参照して説
明する。
[Embodiment 1] Embodiment 1 of the present invention is the same as the above embodiment shown in FIG. 1 and will be described with reference to FIG.

【0042】本実施例1では、冷陰極電子放出素子であ
る表面伝導型電子放出素子を電子放出素子として複数個
背面板102に形成し、前面板1には蛍光体を配設し、
有効表示エリアを対角3インチとする縦、横比3:4の
カラー画像形成装置を作製した。
In the first embodiment, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, are formed on the back plate 102 as electron-emitting devices, and a phosphor is disposed on the front plate 1.
A color image forming apparatus having an effective display area of 3 inches diagonally and an aspect ratio of 3: 4 was manufactured.

【0043】すなわち、互いに対向する一対のパネルと
しての前面板101及び背面板102と、前面板101
と背面板102間の間隔を支持する支持部材としての支
持枠103と、前面板101と背面板102間を気密に
保つための気密封着部を構成する第1,第2金属部材1
04ー1,104−2と、を備えており、この第1,第
2金属部材104−1,104−2を低融点金属105
によって封着されている。第1,第2金属部材104−
1,104−2の接合面には、低融点金属105の下地
処理として予め金属膜106が形成されている。また、
107は前面板101,背面板102,支持枠103及
び第1,第2金属部材104ー1,104−2をそれぞ
れ接合する接着剤である。
That is, a front plate 101 and a back plate 102 as a pair of panels facing each other, and a front plate 101
Frame 103 as a support member for supporting the gap between the front plate 101 and the back plate 102, and first and second metal members 1 forming a hermetically sealed portion for keeping the space between the front plate 101 and the back plate 102 airtight.
04-1 and 104-2, and the first and second metal members 104-1 and 104-2 are connected to the low melting point metal 105.
Sealed by. First and second metal members 104-
A metal film 106 is formed in advance on the bonding surface of 1104-2 as a base treatment of the low melting point metal 105. Also,
Reference numeral 107 denotes an adhesive for bonding the front plate 101, the rear plate 102, the support frame 103, and the first and second metal members 104-1 and 104-2, respectively.

【0044】上記前面板101はガラス等で構成された
フェースプレートであり、電極、配線等のパターンと共
に電子が衝突し発光する画像形成部109が形成され
る。
The front plate 101 is a face plate made of glass or the like, and has an image forming section 109 which emits light by colliding with electrons along with patterns of electrodes, wirings and the like.

【0045】背面板102はガラス等で構成されたリア
プレートであり、電極、配線等のパターンと共に電子放
出素子108が形成される。
The back plate 102 is a rear plate made of glass or the like, on which an electron-emitting device 108 is formed together with patterns of electrodes, wirings and the like.

【0046】リアプレート101上には、表面伝導型電
子放出素子108がN×M個形成されている。(N、M
は2以上の正の整数であり、目的とする表示画素数に応
じて適宜選択される。例えば高品位テレビジョンの表示
を目的とした表示装置においてはN=3000、M=1
000以上の数を設定する事が望ましい。本実施例にお
いてはN=100、M=100とした)前記N×M個の
表面伝導型電子放出素子は、M本の行方向配線(上配線
と述べる場合もある)とN本の列方向配線(下配線と述
べる場合もある)により単純マトリックス配線されてい
る。
On the rear plate 101, N × M surface conduction electron-emitting devices 108 are formed. (N, M
Is a positive integer of 2 or more, and is appropriately selected according to the target number of display pixels. For example, in a display device for displaying high-definition television, N = 3000 and M = 1
It is desirable to set the number to 000 or more. (In this embodiment, N = 100 and M = 100.) The N × M surface conduction electron-emitting devices are composed of M row-directional wirings (sometimes referred to as upper wirings) and N column-directional wirings. Simple matrix wiring is performed by wiring (sometimes referred to as lower wiring).

【0047】図3は本発明を適用可能な表面伝導型電子
放出素子の構成を示す模式図であり図3(a)は平面
図、図3(b)は断面図である。
FIG. 3 is a schematic view showing the structure of a surface conduction electron-emitting device to which the present invention can be applied. FIG. 3 (a) is a plan view and FIG. 3 (b) is a cross-sectional view.

【0048】図3において、301は基板、302と3
03は基板301上に形成される素子電極、304は基
板301上に形成されると共に素子電極302,303
間を接続する導電性薄膜、305は導電性薄膜304の
中央に形成される電子放出部である。素子電極302、
303を通じて、導電性薄膜304にフォーミング処理
を施すことで、導電性薄膜304を局所的に破壊、変形
もしくは変質せしめ、電気的に高抵抗な状態にした電子
放出部305 を形成し、さらに、放出電流を著しく改
善する活性化工程を該表面伝導型電子放出素子の上述導
電性薄膜304に電圧を印加し、素子に電流を流すこと
により、上述の電子放出部305 より電子を放出せし
めるものである。この点は、従来技術で述べた特開平7
−235255号公報に記載のものと同様である。
In FIG. 3, reference numeral 301 denotes a substrate;
03 is a device electrode formed on the substrate 301, 304 is formed on the substrate 301 and has device electrodes 302 and 303.
A conductive thin film 305 that connects between them is an electron emission portion formed at the center of the conductive thin film 304. Device electrode 302,
By subjecting the conductive thin film 304 to a forming process through the step 303, the conductive thin film 304 is locally broken, deformed or deteriorated, thereby forming an electron emitting portion 305 having a high electrical resistance state. An activation step for significantly improving the current is to apply a voltage to the conductive thin film 304 of the surface-conduction type electron-emitting device and to cause a current to flow through the device, thereby causing the above-described electron-emitting portion 305 to emit electrons. . This point is described in Japanese Unexamined Patent Publication No.
It is the same as that described in JP-A-235255.

【0049】また、フェ−スプレ−トを構成する前面板
101の下面には、蛍光膜とメタルバックからなる画像
形成部109が形成されている。本実施例はカラ−表示
装置であるため、蛍光膜の部分にはCRTの分野で用い
られる赤、緑、青、の3原色の蛍光体R,G,Bが塗り
分けられている。各色の蛍光体R,G,Bは、たとえば
図4(a)に示すようにストライプ状に塗り分けられ、
蛍光体R,G,Bのストライプの間には黒色導電体BL
が設けてある。黒色導電体BLを設ける目的は、電子ビ
−ムの照射位置に多少のずれがあっても表示色にずれが
生じないようにする事や、外光の反射を防止して表示コ
ントラストの低下を防ぐ事、電子ビ−ムによる蛍光膜の
チャ−ジアップを防止する事などである。黒色導電体B
Lには黒鉛を主成分として用いたが、上記の目的に適す
るものであればこれ以外の材料を用いても良い。
An image forming section 109 made of a fluorescent film and a metal back is formed on the lower surface of the front plate 101 constituting the face plate. Since this embodiment is a color display device, phosphors R, G, and B of three primary colors of red, green, and blue used in the field of CRT are separately applied to a portion of the phosphor film. The phosphors R, G, and B of each color are separately applied in a stripe shape as shown in FIG.
Black conductor BL between stripes of phosphors R, G, B
Is provided. The purpose of providing the black conductor BL is to prevent the display color from being shifted even if the irradiation position of the electron beam is slightly shifted, and to prevent the reflection of external light to reduce the display contrast. To prevent the fluorescent film from being charged up by the electron beam. Black conductor B
Although graphite is used as a main component for L, any other material may be used as long as it is suitable for the above purpose.

【0050】また、3原色の蛍光体R,G,Bの塗り分
け方は、前記図4(a)に示したストライプ状の配列に
限られるものではなく、たとえば図4(b)に示すよう
なデルタ状配列や、それ以外の配列であってもよい。
The method of applying the three primary color phosphors R, G, and B is not limited to the stripe arrangement shown in FIG. 4A, but may be, for example, as shown in FIG. 4B. It may be a delta-like arrangement or another arrangement.

【0051】なお、モノクロ−ムの表示パネルを作成す
る場合には、単色の蛍光体材料を蛍光膜に用いればよ
く、また黒色導電材料は必ずしも用いなくともよい。
When a monochrome display panel is manufactured, a monochromatic phosphor material may be used for the phosphor film, and a black conductive material is not necessarily used.

【0052】また、蛍光膜の前面板101側の面には、
CRTの分野では公知のメタルバックを設けてある。メ
タルバックを設けた目的は、蛍光膜が発する光の一部を
鏡面反射して光利用率を向上させる事や、負イオンの衝
突から蛍光膜を保護する事や、電子ビ−ム加速電圧を印
加するための電極として作用させる事や、蛍光膜を励起
した電子の導電路として作用させる事などである。な
お、蛍光膜に低電圧用の蛍光体材料を用いた場合には、
メタルバックは用いない。
The surface of the fluorescent film on the front plate 101 side includes:
A known metal back is provided in the field of CRT. The purpose of the metal back is to improve the light utilization rate by mirror-reflecting a part of the light emitted from the fluorescent film, to protect the fluorescent film from the collision of negative ions, and to reduce the electron beam acceleration voltage. It may be used as an electrode for application or as a conductive path for the excited electrons of the fluorescent film. When a low-voltage fluorescent material is used for the fluorescent film,
No metal back is used.

【0053】また、本実施例では用いなかったが、加速
電圧の印加用や蛍光膜の導電性向上を目的として、前面
板101と蛍光膜との間に、たとえばITOを材料とす
る透明電極を設けてもよい。
Although not used in this embodiment, a transparent electrode made of, for example, ITO is provided between the front plate 101 and the fluorescent film for the purpose of applying an acceleration voltage and improving the conductivity of the fluorescent film. It may be provided.

【0054】以上、本発明を適用した画像形成装置の基
本構成を説明した。
The basic configuration of the image forming apparatus according to the present invention has been described.

【0055】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて順に説明する。
Next, a method of manufacturing the image forming apparatus of the present invention will be described in order.

【0056】工程−1(背面板102の作製) 青板ガラス上に、シリコン酸化膜をスパッタ法で形成し
た後、その上に素子電極302,303を形成した。次
にスクリーン印刷で下配線を形成した。次に、下配線と
上配線間に層間絶縁層を形成し、さらに、上配線を形成
した。下配線と上配線は素子電極に接続するように形成
した。次に、導電性薄膜をスパッタ法で形成した後、パ
ターニングし、所望の形態とし、電子放出素子群108
を形成した。
Step-1 (Preparation of Back Plate 102) After a silicon oxide film was formed on a blue plate glass by a sputtering method, device electrodes 302 and 303 were formed thereon. Next, the lower wiring was formed by screen printing. Next, an interlayer insulating layer was formed between the lower wiring and the upper wiring, and further, an upper wiring was formed. The lower wiring and the upper wiring were formed so as to be connected to the device electrodes. Next, after a conductive thin film is formed by a sputtering method, patterning is performed to obtain a desired shape, and the electron-emitting device group 108 is formed.
Was formed.

【0057】工程−2(前面板101の作製) 青板ガラス基板に蛍光体、黒色導電体を印刷法により形
成した。更に蛍光膜の内面側表面の平滑化処理を行い、
その後Alを真空蒸着等を用いて堆積させメタルバック
形成した。
Step-2 (Preparation of Front Plate 101) A phosphor and a black conductor were formed on a blue plate glass substrate by a printing method. Further, a smoothing process is performed on the inner surface of the fluorescent film,
Thereafter, Al was deposited using vacuum evaporation or the like to form a metal back.

【0058】更に第1,第2金属部材104ー1,10
4−2を固定するためのフリットガラス層よりなる接着
剤107を前面板101フェースプレート周縁の接合部
にディスペンサによって塗布し380℃で10分前処理
(仮焼成)することで形成した。尚、フリットガラスは
日本電気硝子社製LS−3081をペーストとし用い
た。
Further, the first and second metal members 104-1 and 104-1
An adhesive 107 made of a frit glass layer for fixing 4-2 was applied to a joint at the periphery of the face plate 101 using a dispenser, and pre-treated (pre-baked) at 380 ° C. for 10 minutes. The frit glass used was LS-3081 manufactured by NEC Corporation as a paste.

【0059】工程−3(支持枠の作製) 青板ガラスで作製した厚み3mmの支持枠103に背面
板102及び第2金属部材104−2と接合するための
フリットガラス層を用いた接着剤を支持枠両面にディス
ペンサによって塗布し、380℃で10分前処理(仮焼
成)を行い形成した。フリットガラスは前面板101同
様、日本電気硝子社製LS−3081をペーストとして
用いた。
Step-3 (Production of Support Frame) An adhesive using a frit glass layer for bonding to the back plate 102 and the second metal member 104-2 is supported on a support frame 103 made of blue sheet glass and having a thickness of 3 mm. It was applied to both sides of the frame by a dispenser and formed by performing a pretreatment (temporary firing) at 380 ° C. for 10 minutes. As the frit glass, LS-3081 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. was used as a paste similarly to the front plate 101.

【0060】工程−4(金属部材,金属膜形成) 外寸が前面板101外寸より全周0.7cm大きく内寸
が支持枠103内寸より全周0.5cm小さい厚さ0.
2mmの426合金板よりなる第2金属部材104−2
と、外寸が前面板フェースプレート外寸より全周1cm
大きく内寸が支持枠内寸より全周0.5cm小さい厚さ
0.2mmの426合金よりなる第1金属部材104−
12種を用意し、各々の低融点金属封着部分に予め電解
メッキ法によって金属膜106としてPd膜を形成し
た。膜厚は1〜3μm程度とした。
Step-4 (Formation of Metal Member, Metal Film) The outer diameter is 0.7 cm larger than the outer diameter of front plate 101 and 0.5 cm smaller than the inner diameter of support frame 103.
Second metal member 104-2 made of 2 mm 426 alloy plate
And the outer dimension is 1cm around the circumference of the face plate face plate
A first metal member 104- made of a 426 alloy having a thickness of 0.2 mm, which is much smaller in inner diameter than the inner diameter of the support frame by 0.5 cm on the entire circumference.
Twelve types were prepared, and a Pd film was formed as a metal film 106 on each low-melting-point metal-sealed portion in advance by electrolytic plating. The film thickness was about 1-3 μm.

【0061】工程−5(前面板101と第1金属部材1
04ー1の接合) 上記前面板101と上記外寸の小さい方の第1金属部材
104−1を規定の位置に配設し加圧加熱する事で接着
剤107であるフリットガラスを介して接合した。接着
は410℃で行ない金属部材が極力撓まないように均一
加圧した。
Step-5 (front plate 101 and first metal member 1)
04-1) The front plate 101 and the first metal member 104-1 having the smaller outer dimension are arranged at predetermined positions and are heated and pressurized to join via the frit glass as the adhesive 107. did. Bonding was performed at 410 ° C., and uniform pressing was performed so that the metal member was not bent as much as possible.

【0062】工程−6(背面板102と支持枠103、
第2金属部材104−2の接合) 上記背面板102と支持枠103および上記外寸の大き
い方の第2金属部材104−2を規定の位置に配設し、
工程−5同様、加圧加熱することで接着剤107として
のフリットガラスを介して各々接合した。接着は410
℃で行なった。
Step-6 (back plate 102 and support frame 103,
Bonding of the second metal member 104-2) The back plate 102, the support frame 103, and the second metal member 104-2 having the larger outer dimension are disposed at prescribed positions.
Similarly to the process-5, by heating under pressure, each was joined via the frit glass as the adhesive 107. Adhesion is 410
C. was performed.

【0063】工程−7(低融点金属105による封着) 工程−5において作製された第1金属部材104−1付
きの前面板101と工程−6において作製された支持枠
103及び第2金属部材104−2付きの背面板102
を位置合わせしながら重ね合わせた後、3軸のハンダ付
けロボットを用いて第1,第2金属部材104−1,1
04−2の貼り合わせ部を順次低融点金属にて接合し容
器の封着を行なった。低融点金属はPb−3wt%Sn
−0.2wt%Niハンダを用い、ハンダ付けをする際
はこて先端のハンダ溶融部付近に加熱窒素ブローを行な
い金属部材の予備加熱とハンダの酸化防止を行なった。
Step-7 (sealing with low melting point metal 105) Front plate 101 with first metal member 104-1 produced in step-5, support frame 103 and second metal member produced in step-6 Back plate 102 with 104-2
And the first and second metal members 104-1 and 104-1 using a three-axis soldering robot.
The bonded portions of No. 04-2 were sequentially joined with a low melting point metal, and the container was sealed. Low melting point metal is Pb-3wt% Sn
When soldering was performed using -0.2 wt% Ni solder, preheating of the metal member and prevention of oxidation of the solder were performed by heating nitrogen blowing near the solder melting portion at the tip of the iron.

【0064】工程−8 以上のようにして完成した容器内の雰囲気を排気管(図
示せず)を通じ真空ポンプにて排気し、十分な真空度に
達した後、容器外端子(不図示)を通じ電子放出素子に
電圧を印加し、電子放出部を、導電性薄膜のフォーミン
グ工程、活性化工程することにより作製した。さらに、
一連の工程終了後、250度で、10時間ベーキングを
行った。
Step-8 The atmosphere in the container completed as described above is evacuated by a vacuum pump through an exhaust pipe (not shown), and after a sufficient degree of vacuum is reached, the container is passed through a terminal outside the container (not shown). A voltage was applied to the electron-emitting device, and an electron-emitting portion was formed by performing a forming step and an activating step of a conductive thin film. further,
After a series of steps, baking was performed at 250 degrees for 10 hours.

【0065】工程−9 次に、室温で、10−7Paの程度の真空度まで、排気
し、不図示の排気管をガスバーナーで熱することで溶着
し外囲器の封止を行った。最後に封止後の真空度を維持
するために、高周波加熱法でゲッター処理を行った。
Step-9 Next, the chamber was evacuated to a degree of vacuum of about 10-7 Pa at room temperature, and the envelope was sealed by heating an exhaust pipe (not shown) by heating with a gas burner. Finally, in order to maintain the degree of vacuum after sealing, getter processing was performed by a high-frequency heating method.

【0066】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子(不図
示)を通じ、走査信号及び変調信号を不図示の信号発生
手段よりそれぞれ、印加することにより、電子放出さ
せ、高圧端子(不図示)を通じ、メタルバック、あるい
は透明電極(不図示)に数kV以上の高圧を印加し、電
子ビームを加速し、蛍光膜に衝突させ、励起・発光させ
ることで画像を表示した。
In the image display device of the present invention completed as described above, a scanning signal and a modulation signal are applied to each electron-emitting device from signal generating means (not shown) through an external terminal (not shown). As a result, electrons are emitted, a high voltage of several kV or more is applied to a metal back or a transparent electrode (not shown) through a high-voltage terminal (not shown), and the electron beam is accelerated to collide with a fluorescent film, thereby exciting and emitting light. The image was displayed.

【0067】この結果、低コストで内部部品の熱による
劣化が少なく、十分なライフを確保した信頼性の高い高
品位な表示が得られた。
As a result, a high-quality display with high reliability and a sufficient life was obtained at a low cost with little deterioration of the internal parts due to heat.

【0068】[実施例2]次に、本発明の実施例2につ
いて説明する。
[Embodiment 2] Next, Embodiment 2 of the present invention will be described.

【0069】本発明の実施例2においては、軽量化を図
るために耐大気圧部材としてスペーサを設置し、また封
着以降の工程を真空中で行なうことで排気管レスとした
画像形成装置についてのものである。
The second embodiment of the present invention relates to an image forming apparatus in which a spacer is installed as an anti-atmospheric member in order to reduce the weight, and the process after sealing is performed in a vacuum to eliminate an exhaust pipe. belongs to.

【0070】実施例1同様、電子放出素子として冷陰極
電子放出素子である表面伝導型電子放出素子を複数個背
面板に形成し、フェースプレートには蛍光体を配設し、
有効表示エリアを対角10インチとする縦、横比3:4
のカラー画像形成装置を作製した。
As in Example 1, a plurality of surface conduction electron-emitting devices, which are cold cathode electron-emitting devices, were formed on the back plate as electron-emitting devices, and a fluorescent material was provided on the face plate.
An aspect ratio of 3: 4 for an effective display area of 10 inches diagonally
Was produced.

【0071】まず本実施例1の画像形成装置を図5を用
いて説明し、次にその製造方法を説明する。
First, an image forming apparatus according to the first embodiment will be described with reference to FIG. 5, and then a manufacturing method thereof will be described.

【0072】図5(a)は実施例2に用いた画像形成装
置の斜視図であり、内部構造を示すためにパネルの1部
を切り抜いて示してある。また図5(b)はパネルの部
分断面図である。
FIG. 5A is a perspective view of the image forming apparatus used in the second embodiment, in which a part of the panel is cut out to show the internal structure. FIG. 5B is a partial cross-sectional view of the panel.

【0073】図中502はリアプレート、510は耐大
気圧部材であるスペーサ、503は支持体、501はフ
ェースプレート、504−1、504−2は金属部材で
あり、501、502、503、510、504−1、
504−2により表示パネルの内部を真空に維持するた
めの気密容器を形成している。
In the figure, reference numeral 502 denotes a rear plate, 510 denotes a spacer which is an atmospheric pressure resistant member, 503 denotes a support, 501 denotes a face plate, 504-1 and 504-2 denote metal members, and 501, 502, 503 and 510. , 504-1,
An airtight container for maintaining the inside of the display panel at a vacuum is formed by 504-2.

【0074】すなわち、互いに対向する一対のパネルと
しての前面板501及び背面板502と、前面板501
と背面板502間の間隔を支持する支持部材として支持
枠503と、耐大気圧部材であるスペーサ510と、前
面板501と背面板502間を気密に保つための気密封
着部を構成する第1,第2金属部材504ー1,504
−2と、を備えており、この第1,第2金属部材504
−1,504−2を低融点金属505によって封着され
ている。第1,第2金属部材504−1,504−2の
接合面には、低融点金属505の下地処理として予め金
属膜506が形成されている。また、507は前面板5
01,背面板502,スぺーサ110第2金属部材50
4−1,504−2をそれぞれ接合する接着剤である。
That is, the front plate 501 and the back plate 502 as a pair of panels facing each other, and the front plate 501
Frame 503 as a support member for supporting the gap between the front plate 501 and the rear plate 502, a spacer 510 as an anti-atmospheric member, and a hermetic sealing portion for keeping the space between the front plate 501 and the rear plate 502 airtight. 1, the second metal member 504-1, 504
-2, and the first and second metal members 504.
-1, 504-2 are sealed with a low melting point metal 505. A metal film 506 is previously formed on the joint surface between the first and second metal members 504-1 and 504-2 as a base treatment for the low-melting metal 505. 507 is the front panel 5
01, back plate 502, spacer 110 second metal member 50
4-1 and 504-2.

【0075】上記前面板501はガラス等で構成された
フェースプレートであり、電極、配線等のパターンと共
に電子が衝突し発光する蛍光体等の画像形成部509が
形成される。背面板502はガラス等で構成されたリア
プレートであり、電極、配線等のパターンと共に電子放
出素子508が配置される。
The front plate 501 is a face plate made of glass or the like, and forms an image forming portion 509 such as a phosphor which emits light upon collision with electrons together with patterns of electrodes, wirings and the like. The back plate 502 is a rear plate made of glass or the like, on which the electron-emitting devices 508 are arranged together with patterns such as electrodes and wiring.

【0076】背面板502上には、表面伝導型電子放出
素子508が720×240個形成されてこれらは24
0本の行方向配線511と240本の列方向配線512
により単純マトリックス配線されている。
On the back plate 502, 720 × 240 surface conduction electron-emitting devices 508 are formed.
0 row direction wirings 511 and 240 column direction wirings 512
Are arranged in a simple matrix.

【0077】また、前面板501の下面の画像形成部5
09は、赤、緑、青、の3原色で塗り分けられた蛍光膜
509aと、蛍光膜509aの背面板502側の面に被
覆されたメタルバック509bとを備えている。また、
Dx1〜DxmおよびDy1〜DynおよびHvは、当
該表示パネルと不図示の電気回路とを電気的に接続する
ために容器外部に引き出した引き出し配線である。Dx
1〜Dxmはマルチ電子ビ−ム源の行方向配線511
と、Dy1〜Dynはマルチ電子ビ−ム源の列方向配線
512と、Hvはフェ−スプレ−トのメタルバック50
9bと電気的に接続している。
The image forming section 5 on the lower surface of the front plate 501
Reference numeral 09 includes a fluorescent film 509a that is painted in three primary colors of red, green, and blue, and a metal back 509b that covers the surface of the fluorescent film 509a on the back plate 502 side. Also,
Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn and Hv are lead-out wirings drawn out of the container in order to electrically connect the display panel to an electric circuit (not shown). Dx
1 to Dxm are row wirings 511 of the multi-electron beam source.
Dy1 to Dyn are column direction wirings 512 of a multi-electron beam source, and Hv is a metal back 50 of a face plate.
9b.

【0078】以上、本発明を適用した画像形成装置の基
本構成を説明した。
The basic configuration of the image forming apparatus according to the present invention has been described.

【0079】次に、本発明の画像形成装置の製造方法に
ついて順に説明する。
Next, a method for manufacturing the image forming apparatus of the present invention will be described in order.

【0080】工程−1(背面板の作製) 青板ガラス上に、シリコン酸化膜をスパッタ法で形成し
た後、その上に素子電極、下配線、上配線、層間絶縁
層、上配線を順次印刷法で形成した。尚、下配線と上配
線は素子電極に接続するように形成してある。導電性薄
膜は有機金属化合物の水溶液の液滴をインクジェット法
で付与した後、基板を350℃で焼成し、有機金属化合
物を熱分解し金属酸化物の導電性薄膜を作製した。尚こ
の場合はインクジェット法で付与した導電性薄膜のパタ
ーニング工程は必要ない。
Step-1 (Preparation of Back Plate) After forming a silicon oxide film on a blue plate glass by a sputtering method, a device electrode, a lower wiring, an upper wiring, an interlayer insulating layer, and an upper wiring are sequentially printed thereon. Formed. The lower wiring and the upper wiring are formed so as to be connected to the device electrodes. The conductive thin film was prepared by applying droplets of an aqueous solution of an organometallic compound by an inkjet method, and then firing the substrate at 350 ° C. to thermally decompose the organometallic compound to produce a conductive thin film of a metal oxide. In this case, a patterning step of the conductive thin film applied by the ink jet method is not required.

【0081】さらに、スペーサ510を固定するための
フリットガラス層を上配線上の規定された箇所にディス
ペンサによって塗布し380℃で10分前処理(仮焼
成)することで形成した。尚フリットガラスは導電性の
フリットガラスを用いた。
Further, a frit glass layer for fixing the spacer 510 was formed by applying a pre-process (pre-baking) at 380 ° C. for 10 minutes at a specified place on the upper wiring by a dispenser. The frit glass used was a conductive frit glass.

【0082】工程−2(前面板501の作製) 青板ガラス基板に蛍光体、黒色導電体を印刷法により形
成した。蛍光膜509aの内面側表面の平滑化処理を行
い、その後Alを真空蒸着等を用いて堆積させメタルバ
ック509b形成した。
Step-2 (Preparation of Front Plate 501) A phosphor and a black conductor were formed on a blue glass substrate by a printing method. A smoothing process was performed on the inner surface of the fluorescent film 509a, and then Al was deposited by vacuum evaporation or the like to form a metal back 509b.

【0083】さらに、第1金属部材504−1を固定す
るためのフリットガラス層を前面板501周縁の接合部
にディスペンサによって塗布し380℃で10分前処理
(仮焼成)することで形成した。尚、フリットガラスは
日本電気硝子社製LS−3081をペーストとし用い
た。
Further, a frit glass layer for fixing the first metal member 504-1 was formed by applying a dispenser to the joint at the peripheral edge of the front plate 501 and performing a pretreatment (pre-baking) at 380 ° C. for 10 minutes. The frit glass used was LS-3081 manufactured by NEC Corporation as a paste.

【0084】工程−3(支持枠503の作製) 青板ガラスで作製した厚み1mmの支持枠503に背面
板502及び第2金属部材504−2と接合するための
フリットガラス層を支持枠503両面にディスペンサに
よって塗布し、380℃で10分前処理(仮焼成)を行
い形成した。フリットガラスは前面板501同様、日本
電気硝子社製LS−3081をペーストとして用いた。
Step-3 (Preparation of Support Frame 503) A frit glass layer for bonding to the back plate 502 and the second metal member 504-2 is provided on both sides of the support frame 503 on a support frame 503 made of blue sheet glass and having a thickness of 1 mm. It was applied by a dispenser and formed by performing a pretreatment (temporary firing) at 380 ° C. for 10 minutes. As the frit glass, LS-3081 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. was used as a paste similarly to the front plate 501.

【0085】工程−4(金属部材,金属膜形成) 外寸が前面板501外寸より全周1.2cm大きく内寸
が支持枠503内寸より全周0.5cm小さい厚さ0.
2mmの426合金板よりなる第1金属部材504−1
と、外寸が前面枠501外寸より全周1.5cm大きく
内寸が支持枠503内寸より全周0.5cm小さい厚さ
0.2mmの426合金よりなる第2金属枠504−2
を2種を用意し、各々の低融点金属封着部分に予め電解
メッキ法によって金属膜506としてNii膜を下地と
するAu膜を形成した。膜厚は下地のNi膜を2〜4μ
m、Au膜を1〜3μm程度とした。
Step-4 (Formation of Metal Member and Metal Film) The outer dimensions are 1.2 cm larger than the outer dimensions of the front plate 501 and 0.5 cm smaller than the inner dimensions of the support frame 503.
First metal member 504-1 made of 2 mm 426 alloy plate
And a second metal frame 504-2 made of a 0.2 mm thick 426 alloy having an outer dimension 1.5 cm larger than the outer dimension of the front frame 501 and a smaller inner dimension 0.5 cm than the inner dimension of the support frame 503.
Were prepared, and an Au film having a Nii film as a base was previously formed as a metal film 506 on each low-melting-point metal sealing portion by electrolytic plating. The thickness of the underlying Ni film is 2-4 μm.
m, Au film is about 1 to 3 μm.

【0086】工程−5(スペーサ510の取り付け) 上記背面板502の上配線511上のスペーサ接合部に
スペーサ510を位置合わせし加圧加熱する事でスペー
サ510を接合した。接合温度は450℃で行なった。
尚、スペーサ510はガラス製で厚み200μm、高さ
1.8mmの平板状スペーサでありその表面には2次電
子放出効率が小さく高抵抗な膜(本実施例ではCrOx
を用いた)を形成したものを用いた。
Step-5 (Attaching of Spacer 510) The spacer 510 was aligned with the spacer bonding portion on the upper wiring 511 of the rear plate 502, and the spacer 510 was bonded by heating under pressure. The bonding temperature was 450 ° C.
The spacer 510 is made of glass and is a plate-shaped spacer having a thickness of 200 μm and a height of 1.8 mm. On the surface thereof, a film having a low secondary electron emission efficiency and a high resistance (CrOx in this embodiment)
Was used.

【0087】工程−6(前面板501と第1金属部材5
04−1の接合) 上記フェースプレート501と上記外寸の小さい方の第
1金属部材504−1を規定の位置に配設し加圧加熱す
る事でフリットガラスを介して接合した。接着は410
℃で行ない実施例1同様、金属部材が極力撓まないよう
に均一加圧した。
Step-6 (Front plate 501 and first metal member 5
04-1) The face plate 501 and the first metal member 504-1 having the smaller outer dimension were arranged at predetermined positions, and were heated and pressurized to be bonded via frit glass. Adhesion is 410
As in Example 1, uniform pressure was applied so that the metal member was not bent as much as possible.

【0088】工程−7(背面板502と支持枠503及
び第2金属部材504−2の接合) 上記スペーサ510を接合した背面板502と上記支持
枠503と上記外寸の大きい方の第2金属部材504−
2を規定の位置に配設し、工程−6同様、加圧加熱する
ことで接着剤507としてのフリットガラスを介して各
々接合した。接着は410℃で行なった。
Step-7 (Joining the Back Plate 502 with the Support Frame 503 and the Second Metal Member 504-2) The back plate 502 with the spacer 510 joined, the support frame 503, and the second metal having the larger outer dimension Member 504-
2 was disposed at a prescribed position, and similarly as in the process-6, each was bonded via a frit glass as an adhesive 507 by heating under pressure. Bonding was performed at 410 ° C.

【0089】工程−8(チャンバー内への配置と電子源
作製及び前処理) チャンバー内に工程−6において作製された第1金属部
材504−1付きの前面板501と工程−7において作
製された第2金属部材504−2,支持枠503及びス
ペーサ510を付けた背面板502を設置し、10−7
Pa程度に排気した後、以下の順番で電子源及び各部材
の処理を行なった。
Step-8 (Placement in Chamber, Preparation of Electron Source, and Pretreatment) A front plate 501 with the first metal member 504-1 prepared in Step-6 in the chamber and a front plate 501 were prepared in Step-7. A second metal member 504-2, a back plate 502 with a support frame 503 and a spacer 510 are installed, and 10-7
After exhausting to about Pa, the electron source and each member were processed in the following order.

【0090】前面板501及び背面板502を250度
で、10時間ベーキングする。
The front plate 501 and the back plate 502 are baked at 250 degrees for 10 hours.

【0091】容器外端子Dx1ないしDxmとDy1な
いしDynを通じ電子放出素子に電圧を印加し、導電性
薄膜502をフォーミング処理する。電子源の活性化処
理を行なう。この時活性化ガスとしてアセトンを導入し
活性化処理後排気する。
A voltage is applied to the electron-emitting device through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn to form the conductive thin film 502. Activate the electron source. At this time, acetone is introduced as an activating gas, and the gas is exhausted after the activating process.

【0092】一連の工程終了後、更に250度で、10
時間ベーキングを行ない各部材の吸着ガスを脱ガスす
る。
After the end of a series of steps, at 250 ° C., 10
Time baking is performed to degas the adsorbed gas of each member.

【0093】工程−9(低融点金属505による封着) 前面板501及び背面板502を位置合わせし、重ね合
わせた後、チャンバー内に設置された3軸のハンダ付け
ロボットを用いて第1,第2金属部材504−1,50
4−2の貼り合わせ部を順次低融点金属505にて接合
し容器の封着を行なった。低融点金属505はPb−2
wt%Sn−3wt%Agハンダを用いた。この時表示
パネルはチャンバー内に設置されたホットプレートヒー
ターにより100℃程度加熱して行なった。
Step-9 (Sealing with Low Melting Point Metal 505) The front plate 501 and the back plate 502 are positioned and superimposed, and then the first and the second plates are placed using a three-axis soldering robot installed in the chamber. Second metal member 504-1, 50
The bonded portions of 4-2 were sequentially bonded with the low melting point metal 505 to seal the container. Low melting point metal 505 is Pb-2
A wt% Sn-3 wt% Ag solder was used. At this time, the display panel was heated at about 100 ° C. by a hot plate heater installed in the chamber.

【0094】工程−10(冷却−取出し) 冷却後チャンバー内からパネルを取出し、最後に封止後
の真空度を維持するために、高周波加熱法でゲッター処
理を行った。
Step-10 (Cooling-Removal) After cooling, the panel was removed from the chamber, and finally, a getter process was performed by a high-frequency heating method to maintain the degree of vacuum after sealing.

【0095】以上のように完成した本発明の画像表示装
置において、各電子放出素子には、容器外端子Dx1な
いしDxm,Dy1ないしDynを通じ、走査信号及び
変調信号を不図示の信号発生手段よりそれぞれ、印加す
ることにより、電子放出させ、高圧端子 Hvを通じ、
メタルバック509b、あるいは透明電極(不図示)に
数kV以上の高圧を印加し、電子ビームを加速し、蛍光
膜68に衝突させ、励起・発光させることで画像を表示
した。
In the image display device of the present invention completed as described above, the scanning signals and the modulation signals are respectively supplied to the respective electron-emitting devices by signal generating means (not shown) through the external terminals Dx1 to Dxm and Dy1 to Dyn. , The electron is emitted by applying, through the high voltage terminal Hv,
An image was displayed by applying a high voltage of several kV or more to the metal back 509b or the transparent electrode (not shown), accelerating the electron beam, colliding with the fluorescent film 68, exciting and emitting light.

【0096】この結果、低コストで内部部品の熱による
劣化が少なく、十分なライフを確保した信頼性の高い高
品位な表示が得られた。尚本実施例では背面板502に
先にスペーサ510を固定したが支持枠503、第2金
属部材504−2を取りつけた後でも良く、また前面板
501側にスペーサ510を取り付けても良い。
As a result, a high-quality display with high reliability and a sufficient life was obtained at a low cost with little deterioration of the internal parts due to heat. In this embodiment, the spacer 510 is fixed to the rear plate 502 first. However, the spacer 510 may be attached after the support frame 503 and the second metal member 504-2 are attached, or the spacer 510 may be attached to the front plate 501 side.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば次の
ような効果が得られる。
As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

【0098】請求項1に係る発明は、気密封着部を低融
点金属によって封着することによって、安価な設備にお
いて容易に気密容器が作製できるようになる。また容器
全体を加熱することなく局所的な加熱方法において封着
がなされるため、加熱による容器の破損や内部部品の熱
による劣化を防止することができる。
According to the first aspect of the present invention, the hermetically sealed portion is sealed with a low melting point metal, so that an airtight container can be easily manufactured with inexpensive equipment. Further, since sealing is performed by a local heating method without heating the entire container, damage to the container due to heating and deterioration of internal components due to heat can be prevented.

【0099】また、低融点金属の組成を適宜選択するこ
とにより後工程であるベーク処理においても十分耐えう
る封着が得られ、気密容器としての充分な寿命を確保で
きる。
Further, by appropriately selecting the composition of the low-melting-point metal, it is possible to obtain a seal that can withstand the baking treatment in the subsequent step and to secure a sufficient life as an airtight container.

【0100】請求項2に係る発明は、気密封着部を金属
部材同士を低融点金属にて封着したので、接合が確実に
できる。
According to the second aspect of the present invention, since the metal members are sealed with the low melting point metal in the hermetically sealed portion, the joining can be reliably performed.

【0101】請求項3に係る発明によれば、接合面に金
属膜を設けたので、低融点金属とのぬれ性等の親和性が
改善され、より信頼性の高い真空容器が得られる。請求
項4に係る発明によれば、金属膜を貴金属によって構成
したので、一般にはんだ付け性がよく、化学的に安定で
ある。
According to the third aspect of the present invention, since the metal film is provided on the bonding surface, the affinity such as wettability with the low melting point metal is improved, and a more reliable vacuum container can be obtained. According to the fourth aspect of the present invention, since the metal film is made of a noble metal, it generally has good solderability and is chemically stable.

【0102】請求項5に係る発明によれば、低融点金属
の融点が450℃以下としたので、封着処理が容易とな
る。
According to the fifth aspect of the present invention, since the melting point of the low melting point metal is set to 450 ° C. or less, the sealing process becomes easy.

【0103】請求項6に係る発明によれば、パネルはソ
ーダライムガラスでかつ金属部材が426合金で形成さ
れていることにより、熱膨張差を小さくできる。
According to the invention of claim 6, since the panel is made of soda-lime glass and the metal member is made of 426 alloy, the difference in thermal expansion can be reduced.

【0104】請求項7に係る発明によれば、上記気密容
器を用いて画像形成装置を構成したので、容易かつ安価
に高品位な画像形成装置が得られ、かつ後工程における
熱処理にも十分耐えうる耐熱性と気密性を確保すること
ができる。
According to the seventh aspect of the present invention, since the image forming apparatus is constituted by using the airtight container, a high-quality image forming apparatus can be obtained easily and inexpensively, and it can sufficiently withstand heat treatment in a later step. Heat resistance and airtightness can be ensured.

【0105】請求項8に係る発明によれば、電子放出素
子を冷陰極電子放出素子とすることにより、構造が単純
化できる。
According to the eighth aspect of the invention, the structure can be simplified by using the cold cathode electron emitting device as the electron emitting device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は本発明の一実施の形態に係る画像形成装
置の主要な構成を示すもので、同図(a)は平面図、同
図(b)は断面図、同図(c)は部分拡大図である。
FIGS. 1A and 1B show a main configuration of an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a sectional view, and FIG. () Is a partially enlarged view.

【図2】図2は本発明の画像形成装置の製造方法の〜
の各工程の説明図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a method of manufacturing an image forming apparatus according to the present invention;
It is explanatory drawing of each process of.

【図3】図3は(a)(b)は冷陰極の表面伝導型電子
放出素子の平面図及び断面図である。
FIGS. 3A and 3B are a plan view and a sectional view of a cold cathode surface conduction electron-emitting device.

【図4】図4(a),(b)は本発明の実施例1、2で
用いた蛍光膜の一例を示す図である。
FIGS. 4A and 4B are diagrams showing an example of a fluorescent film used in Examples 1 and 2 of the present invention.

【図5】図5(a)は本発明の実施例2の画像形成装置
の斜視図、同図(b)は部分拡大断面図である。
FIG. 5A is a perspective view of an image forming apparatus according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a partially enlarged cross-sectional view.

【図6】図6(a),(b)は従来の画像形成装置の組
み立て例を示す図である。
FIGS. 6A and 6B are views showing an example of assembling a conventional image forming apparatus.

【符号の簡単な説明】[Brief description of reference numerals]

101、201、501:前面板及びフェースプレーと 102、202、502:背面板及びリアプレート 103、503:支持枠 107、507:接着剤(フリットガラス) 104−1、104−2、204−1、204−2、5
04−1、504−2:金属部材 206、506:金属膜 109:画像表示部 108:電子放出素子群 105、205、505:低融点金属 508:表面伝導型放出素子 401:基板 402、403:素子電極 404:導電性薄膜 405:電子放出部 81:黒色の導電体 509a:蛍光体 509b:メタルバック 510:スペーサ 511:下配線 512:上配線
101, 201, 501: Front plate and face play and 102, 202, 502: Back plate and rear plate 103, 503: Support frame 107, 507: Adhesive (frit glass) 104-1, 104-2, 204-1 , 204-2, 5
04-1, 504-2: Metal members 206, 506: Metal film 109: Image display unit 108: Electron emission element group 105, 205, 505: Low melting point metal 508: Surface conduction type emission element 401: Substrate 402, 403: Device electrode 404: Conductive thin film 405: Electron emitting portion 81: Black conductor 509a: Phosphor 509b: Metal back 510: Spacer 511: Lower wiring 512: Upper wiring

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5C032 AA01 BB18 5C036 EE14 EE17 EF01 EF06 EF09 EG05 EG06 EH11 5C094 AA31 AA36 AA43 AA44 BA12 BA32 BA34 CA19 CA24 DA12 EB02 EC02 FA01 FA02 FB02 FB12 GB01 JA20  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page F term (reference) 5C032 AA01 BB18 5C036 EE14 EE17 EF01 EF06 EF09 EG05 EG06 EH11 5C094 AA31 AA36 AA43 AA44 BA12 BA32 BA34 CA19 CA24 DA12 EB02 EC02 FA01 FA02 FB02 FB12 GB01

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに対向する一対のパネルと、該パネ
ル間の間隔を支持する支持部材と、前記パネル間を気密
に保つための気密封着部と、を有する気密容器におい
て、 前記気密封着部を低融点金属によって封着したことを特
徴とする気密容器。
1. An airtight container comprising: a pair of panels facing each other; a support member for supporting a space between the panels; and a hermetically sealing portion for keeping the panels airtight. An airtight container characterized in that a part is sealed with a low melting point metal.
【請求項2】 気密封着部は各パネルに接着された対と
なる金属部材を有し、該金属部材同士が低融点金属によ
って封着されることを特徴とする請求項1に記載の気密
容器。
2. The hermetic seal according to claim 1, wherein the hermetic sealing portion has a pair of metal members bonded to each panel, and the metal members are sealed with a low melting point metal. container.
【請求項3】 気密封着部の低融点金属接合面には予め
金属膜が形成されていることを特徴とする請求項1また
は2に記載の気密容器。
3. The hermetic container according to claim 1, wherein a metal film is formed in advance on a low-melting-point metal bonding surface of the hermetic sealing portion.
【請求項4】 金属膜が貴金属材料で形成されているこ
とを特徴とする請求1,2または3に記載の気密容器。
4. The airtight container according to claim 1, wherein the metal film is formed of a noble metal material.
【請求項5】 低融点金属の融点が450℃以下である
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかの項に記載
の気密容器。
5. The airtight container according to claim 1, wherein the low melting point metal has a melting point of 450 ° C. or lower.
【請求項6】 パネルはソーダライムガラスでかつ金属
部材が426合金で形成されていることを特徴とする請
求項1乃至5のいずれかの項に記載の気密容器。
6. The airtight container according to claim 1, wherein the panel is made of soda lime glass and the metal member is formed of a 426 alloy.
【請求項7】 請求項1乃至6のいずれかの項に記載の
気密容器を用い、一方のパネルに電子放出素子を搭載す
ると共に他方のパネルに前記電子放出素子から放出され
る電子線の照射により画像が形成される画像形成部を搭
載したことを特徴とする画像形成装置。
7. An electron-emitting device according to claim 1, wherein an electron-emitting device is mounted on one of the panels, and the other panel is irradiated with an electron beam emitted from the electron-emitting device. An image forming apparatus comprising an image forming unit on which an image is formed by using the image forming apparatus.
【請求項8】 電子放出素子が冷陰極電子放出素子であ
ることを特徴とする請求項7に記載の画像形成装置。
8. The image forming apparatus according to claim 7, wherein the electron-emitting device is a cold cathode electron-emitting device.
JP4925399A 1999-02-26 1999-02-26 Image forming device Expired - Fee Related JP3599588B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4925399A JP3599588B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Image forming device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4925399A JP3599588B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Image forming device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000251654A true JP2000251654A (en) 2000-09-14
JP3599588B2 JP3599588B2 (en) 2004-12-08

Family

ID=12825685

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4925399A Expired - Fee Related JP3599588B2 (en) 1999-02-26 1999-02-26 Image forming device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3599588B2 (en)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001054161A1 (en) * 2000-01-24 2001-07-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Image display device, method of manufacture thereof, and apparatus for charging sealing material
EP1413561A2 (en) * 2002-10-21 2004-04-28 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of image display device, and bonding method
US7081029B2 (en) 2001-06-15 2006-07-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for fabricating vacuum container and method for fabricating image-forming apparatus using the vacuum container
JP2007260543A (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Kyocera Corp Reaction vessel and vacuum heat insulating apparatus using the same
KR100786828B1 (en) * 2001-06-05 2007-12-20 삼성에스디아이 주식회사 Flat panel display device and manufacturing method of the same
CN100405520C (en) * 2002-10-21 2008-07-23 佳能株式会社 Manufacturing method of gas-tight container, manufacturing method of image display device and binding method
CN100418176C (en) * 2002-12-06 2008-09-10 佳能株式会社 Method of mfg. sealed vessel and method of mfg. image displaying device

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001054161A1 (en) * 2000-01-24 2001-07-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Image display device, method of manufacture thereof, and apparatus for charging sealing material
US7294034B2 (en) 2000-01-24 2007-11-13 Kabushiki Kaisha Toshiba Image display apparatus, method of manufacturing the same, and sealing-material applying device
KR100786828B1 (en) * 2001-06-05 2007-12-20 삼성에스디아이 주식회사 Flat panel display device and manufacturing method of the same
US7081029B2 (en) 2001-06-15 2006-07-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for fabricating vacuum container and method for fabricating image-forming apparatus using the vacuum container
US7662010B2 (en) 2001-06-15 2010-02-16 Canon Kabushiki Kaisha Method for fabricating vacuum container and method for fabricating image-forming apparatus using the vacuum container
EP1413561A2 (en) * 2002-10-21 2004-04-28 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of image display device, and bonding method
EP1413561A3 (en) * 2002-10-21 2007-07-04 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of image display device, and bonding method
CN100405520C (en) * 2002-10-21 2008-07-23 佳能株式会社 Manufacturing method of gas-tight container, manufacturing method of image display device and binding method
US7888854B2 (en) 2002-10-21 2011-02-15 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of image display device, and bonding method
US8018132B2 (en) 2002-10-21 2011-09-13 Canon Kabushiki Kaisha Manufacturing method of airtight container, manufacturing method of image display device, and bonding method
CN100418176C (en) * 2002-12-06 2008-09-10 佳能株式会社 Method of mfg. sealed vessel and method of mfg. image displaying device
JP2007260543A (en) * 2006-03-28 2007-10-11 Kyocera Corp Reaction vessel and vacuum heat insulating apparatus using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP3599588B2 (en) 2004-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000311633A (en) Electron beam device
KR100404557B1 (en) Image forming apparatus
JP4886184B2 (en) Image display device
KR100573474B1 (en) Method of manufacturing an electron beam apparatus
JP3599588B2 (en) Image forming device
KR100600241B1 (en) Method of manufacturing airtight vessel, and method of manufacturing image displaying apparatus
US6884138B1 (en) Method for manufacturing spacer for electron source apparatus, spacer, and electron source apparatus using spacer
JP3535793B2 (en) Image forming device
JP2005302637A (en) Manufacturing method of envelope and image forming apparatus
JP2002008569A (en) Image forming device
JPH10254374A (en) Picture forming device and its manufacturing method
JP2000251767A (en) Image display device, and its manufacture
JPH11233002A (en) Image forming apparatus and manufacture thereof
JP2000251807A (en) Image forming device and its manufacture
JP3667139B2 (en) Image forming apparatus
JPH08138554A (en) Manufacture of flat panel image display device
JP2003109521A (en) Display panel and its sealing method and image display device having the same
JP2000090829A (en) Manufacture for image display device
JP2000090830A (en) Manufacture for image display device
JPH1167094A (en) Container, image forming device constructed the container and manufacture of container
JP2003109502A (en) Sealing method of display panel, display panel, and image display device having the same
JP2000251793A (en) Airtight container and image display device
JPH10302676A (en) Image forming device
JP2000251792A (en) Display panel and image display device
JP2004079357A (en) Manufacturing equipment of image forming device and image forming device made by the same

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040803

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040805

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040907

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040914

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070924

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080924

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090924

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100924

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110924

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees