JP2000089248A

JP2000089248A - 液晶表示素子

Info

Publication number: JP2000089248A
Application number: JP10253676A
Authority: JP
Inventors: Takashi Miyashita; 崇宮下; Takeshi Toyoshima; 剛豊島; Tetsushi Yoshida; 哲志吉田
Original assignee: Casio Computer Co Ltd
Current assignee: Casio Computer Co Ltd
Priority date: 1998-09-08
Filing date: 1998-09-08
Publication date: 2000-03-31

Abstract

(57)【要約】【課題】画面の明るさが充分なカラー画像を表示するこ
とができる液晶表示素子を提供する。【解決手段】画素電極１２を所定面積の画素領域Ａ全体
に対応する形状に形成し、カラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂをそれぞれ画素電極１２よりも小さい面積を
有する形状に形成することにより、画素領域Ａ内のカラ
ーフィルタに対応する領域ａから着色光を出射し、画素
領域Ａ内のカラーフィルタに対応しない領域ｂから高強
度の非着色光を出射して、これらの光により明るい着色
画素を表示するとともに、ＴＦＴ６のゲート絶縁膜８
に、画素電極１２の補償容量配線４との対向部を除く領
域に対応する開口部８ａを設けることにより、画素領域
Ａのうちのゲート絶縁膜８の開口部８ａに対応する領域
からの出射光の強度をゲート絶縁膜８による吸収が無い
分だけ高くして、表示画素をさらに明るくした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、カラー画像を表
示する液晶表示素子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】画像を表示する液晶表示素子としては、
一般に、薄膜トランジスタをアクティブ素子とするアク
ティブマトリックス方式のものが利用されている。

【０００３】前記アクティブマトリックス方式の液晶表
示素子は、液晶層をはさんで対向する一対の透明基板の
うちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形
成した複数のゲート配線と、複数の補償容量配線と、こ
れらの配線を覆って前記基板のほぼ全域に形成された透
明なゲート絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲート絶縁
膜と前記ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に対向させ
て形成された半導体膜および前記半導体膜の両側部の上
に形成されたソース電極およびドレイン電極とからなる
複数の薄膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形
成され前記複数の薄膜トランジスタのドレイン電極に接
続された複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に
所定領域を前記補償容量配線に対向させて形成され前記
補償容量配線との間に補償容量を形成するとともに前記
複数の薄膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接続さ
れた複数の画素電極とが設けられ前記複数の薄膜トラン
ジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数の画素電
極とを設け、他方の基板の内面に、前記複数の画素電極
に対向する対向電極を設けた構成となっている。

【０００４】なお、前記アクティブマトリックス方式の
液晶表示素子には、上記のようにゲート配線とは別に補
償容量配線を設け、前記画素電極の所定領域（一般に
は、画素電極の一端縁側の縁部付近の領域）を前記補償
容量配線に対向させて、前記画素電極と補償容量配線と
その間のゲート絶縁膜とにより、蓄積容量型と呼ばれる
補償容量を形成しているもののほかに、前記補償容量配
線を設けず、前記画素電極の所定領域を前記ゲート配線
に対向させて、前記画素電極とゲート配線とその間のゲ
ート絶縁膜とにより、付加容量型と呼ばれる補償容量を
形成しているものもある。

【０００５】前記液晶表示素子には、白黒画像を表示す
るものと、フルカラー画像等の多色カラー画像を表示す
るものとがあり、カラー画像を表示する液晶表示素子
は、前記一対の基板のいずれかの内面に、前記複数の画
素電極にそれぞれ対応させて複数の色の着色膜を設けて
構成されている。

【０００６】そして、従来の液晶表示素子では、前記画
素電極を、所定面積の画素領域全体に対応する形状に形
成し、前記着色膜を、前記画素領域の全体に対応する形
状に形成することにより、前記画素領域全体から前記着
色膜の色に着色した着色光を出射するようにしている。

【０００７】この液晶表示素子は、前記画素領域から出
射する着色光により着色画素を表示するとともに、前記
着色光の強度を、前記画素電極と対向電極との間に印加
される駆動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化によ
り制御して、各画素領域からの出射光により表示される
複数の色の着色画素の混色によりカラー画像を表示す
る。

【０００８】前記複数の色の着色膜は、例えば、赤、
緑、青の３色のカラーフィルタであり、この赤、緑、青
のカラーフィルタを備えた液晶表示素子は、各画素領域
からの出射光により表示される赤、緑、青の着色画素の
混色によりフルカラー画像を表示する。

【０００９】前記液晶表示素子には、その背後に配置さ
れるバックライトからの照明光を利用して表示する透過
型のものと、背面に反射板を備え、前方から入射する外
光（自然光や室内光等）を利用して表示する反射型のも
のと、透過型と反射型の両方の表示を行なういわゆる２
ウエイ型のものとがある。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の液晶表
示素子は、その各画素領域を透過する光のほとんどが前
記着色膜（例えば赤、緑、青のカラーフィルタ）に入射
し、可視光帯域のうちの前記着色膜の吸収波長帯域の波
長成分の光を前記着色膜により吸収され、前記着色膜の
透過波長帯域の波長成分の光が前記着色膜を透過して着
色光になるため、入射光の強度に比べて、出射する着色
光の強度が極めて弱く、そのため、明るい画面が得られ
ない。

【００１１】これは、特に、外光を利用する反射型表示
において問題となっており、反射型表示では、液晶表示
素子からの出射光の強度が、表示を観察する環境の照度
（外光の照度）と液晶表示素子の反射率とに対応するた
め、環境照度に対する液晶表示素子からの出射光の強度
の比があまり高くなく、しかも、液晶表示素子にその前
方から入射し、前記着色膜によりその吸収波長帯域の波
長成分の光を吸収されてその着色膜の色に着色した着色
光が、反射板により反射されて液晶表示素子の前方に出
射する過程においても前記着色膜によるある程度の吸収
を受けるため、液晶表示素子の前方に出射する着色光の
強度が極端に弱くなり、画面がかなり暗くなってしま
う。

【００１２】なお、バックライトからの照明光を利用す
る透過型表示の場合は、液晶表示素子にその背面から入
射させる照明光の輝度を高くすることにより、前記着色
膜での吸収による出射光の強度低下を補なって明るい画
面を得ることができるが、照明光の輝度を高くすること
は消費電力の増加となる。

【００１３】この発明は、画面の明るさが充分なカラー
画像を表示することができる液晶表示素子を提供するこ
とを目的としたものである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】この発明の液晶表示素子
は、液晶層をはさんで対向する一対の基板のうちの一方
の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成した複数
のゲート配線と、複数の補償容量配線と、これらの配線
を覆って前記基板のほぼ全域に形成されたゲート絶縁膜
と、前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記ゲート絶
縁膜の上に前記ゲート電極に対向させて形成された半導
体膜および前記半導体膜の両側部の上に形成されたソー
ス電極およびドレイン電極とからなる複数の薄膜トラン
ジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前記複数の
薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された複数のデ
ータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域を前記補
償容量配線に対向させて形成され前記補償容量配線との
間に補償容量を形成するとともに前記複数の薄膜トラン
ジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数の画素電
極とが設けられ、他方の基板の内面に、前記複数の画素
電極に対向する対向電極が設けられ、前記一対の基板の
いずれかの内面に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応
する複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素
電極が所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成さ
れ、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素電極より
も小さい面積を有する形状に形成され、前記ゲート絶縁
膜に、前記複数の画素電極の少なくとも前記補償容量配
線との対向部を除く領域にそれぞれ対応する開口部が設
けられていることを特徴とする。

【００１５】この液晶表示素子によれば、前記画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前
記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さ
い面積を有する形状に形成しているため、前記画素領域
内の前記着色膜に対応する領域から出射する光は、可視
光帯域のうちの前記着色膜の吸収波長帯域の波長成分の
光を前記着色膜により吸収された強度の弱い着色光であ
るが、前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域か
ら出射する光が、前記着色膜による吸収を受けない高強
度の非着色光である。

【００１６】そのため、各画素領域からの出射光により
表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記着色膜の色
を呈し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底
上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【００１７】しかも、この液晶表示素子では、前記ゲー
ト絶縁膜に、前記複数の画素電極の少なくとも前記補償
容量配線との対向部を除く領域にそれぞれ対応する開口
部を設けているため、その開口部を透過する光は前記ゲ
ート絶縁膜による吸収を受けない。

【００１８】そのため、前記画素領域のうちの前記ゲー
ト絶縁膜の開口部に対応する領域からの出射光の強度
が、前記ゲート絶縁膜による吸収が無い分だけ高くな
り、前記表示画素がさらに明るくなる。

【００１９】そして、この液晶表示素子は、前記各画素
領域から出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、
前記画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に
応じた液晶分子の配向状態の変化により制御し、各画素
領域からの出射光で表示される複数の色の着色画素の混
色によりカラー画像を表示する。

【００２０】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、複
数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さい面
積を有する形状に形成することにより、前記画素領域内
の前記着色膜に対応する領域から前記着色膜の色に着色
した着色光を出射し、前記画素領域内の前記着色膜に対
応しない領域から高強度の非着色光を出射して、これら
の光により明るい着色画素を表示するとともに、ゲート
絶縁膜に、前記画素電極の少なくとも補償容量配線との
対向部を除く領域にそれぞれ対応する開口部を設けるこ
とにより、前記画素領域のうちの前記ゲート絶縁膜の開
口部に対応する領域からの出射光の強度を前記ゲート絶
縁膜による吸収が無い分だけ高くして、前記表示画素を
さらに明るくしたものであり、したがって、画面の明る
さが充分なカラー画像を表示することができる。

【００２１】また、この発明の液晶表示素子は、液晶層
をはさんで対向する一対の基板のうちの一方の基板の内
面に、所定箇所にゲート電極を形成した複数のゲート配
線と、複数の補償容量配線と、これらの配線を覆って前
記基板のほぼ全域に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲ
ート電極およびゲート絶縁膜と前記ゲート絶縁膜の上に
前記ゲート電極に対向させて形成された半導体膜および
前記半導体膜の両側部の上に形成されたソース電極およ
びドレイン電極とからなる複数の薄膜トランジスタと、
前記ゲート絶縁膜の上に形成され前記複数の薄膜トラン
ジスタのドレイン電極に接続された複数のデータ配線
と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域を前記補償容量配
線に対向させて形成され前記補償容量配線との間に補償
容量を形成するとともに前記複数の薄膜トランジスタの
ソース電極にそれぞれ接続された複数の画素電極とが設
けられ、他方の基板の内面に、前記複数の画素電極に対
向する対向電極が設けられ、前記一対の基板のいずれか
の内面に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応する複数
の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が所
定面積の画素領域よりも小さい面積を有する形状に形成
され、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素電極よ
りも小さい面積を有する形状に形成されていることを特
徴とする。

【００２２】この液晶表示素子によれば、前記画素電極
を所定面積の画素領域よりも小さい面積を有する形状に
形成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極
よりも小さい面積を有する形状に形成しているため、前
記画素領域内の前記画素電極に対応する領域のうち、前
記着色膜に対応する領域から出射する光は、可視光帯域
のうちの前記着色膜の吸収波長帯域の波長成分の光を前
記着色膜により吸収された強度の弱い着色光であるが、
前記画素領域内の前記画素電極に対応する領域のうち、
前記着色膜に対応しない領域から出射する光が、前記着
色膜による吸収を受けない高強度の非着色光であり、ま
た、前記画素領域内の前記画素電極に対応しない領域か
ら出射する光が、前記着色膜による吸収を受けず、しか
も前記画素電極による吸収が無い分だけさらに強度が高
い高強度の非着色光である。

【００２３】そのため、各画素領域からの出射光により
表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記着色膜の色
を呈し、しかも、前記画素電極に対応する領域のうちの
前記着色膜に対応しない領域から出射する高強度の非着
色光と、前記画素領域内の前記画素電極に対応しない領
域から出射するさらに高強度の非着色光とにより明るさ
を底上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【００２４】また、前記画素領域から出射する光のうち
の前記画素電極に対応する領域から出射する前記着色光
と前記非着色光の強度は、前記画素電極と対向電極との
間に印加される駆動電圧に応じた液晶分子の配向状態の
変化により制御されるが、前記画素領域内の画素電極に
対応しない領域、つまり前記駆動電圧が印加されない領
域の液晶分子の配向状態はほとんど変化しないため、前
記画素領域内の画素電極に対応しない領域から出射する
前記非着色光は、常に入射光の輝度に応じた強度の光で
あり、そのため、前記画素電極と対向電極との間に印加
される駆動電圧にかかわらず、前記画素領域内の前記画
素電極に対応しない領域から出射する前記非着色光によ
り、常に前記着色画素の明るさが底上げされる。

【００２５】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域から出射する光のうちの前記画素電極に対応する領域
から出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、前記
画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に応じ
た液晶分子の配向状態の変化により制御し、各画素領域
からの出射光で表示される複数の色の着色画素の混色に
よりカラー画像を表示する。

【００２６】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
を所定面積の画素領域よりも小さい面積を有する形状に
形成し、複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極より
も小さい面積を有する形状に形成することにより、前記
画素領域内の前記画素電極に対応しない領域から、前記
画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧にかか
わらず常に入射光の輝度に応じた強度で、しかも前記着
色膜による吸収を受けず、また前記画素電極による吸収
も無い高強度の非着色光を出射し、前記画素領域内の前
記画素電極に対応する領域のうち、前記着色膜に対応す
る領域から着色光を、前記着色膜に対応しない領域から
高強度の非着色光をそれぞれ出射して、これらの光によ
り明るい着色画素を表示するものであり、したがって、
画面の明るさが充分なカラー画像を表示することができ
る。

【００２７】さらに、この発明の液晶表示素子は、液晶
層をはさんで対向する一対の基板のうちの一方の基板の
内面に、所定箇所にゲート電極を形成した複数のゲート
配線と、複数の補償容量配線と、これらの配線を覆って
前記基板のほぼ全域に形成されたゲート絶縁膜と、前記
ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記ゲート絶縁膜の上
に前記ゲート電極に対向させて形成された半導体膜およ
び前記半導体膜の両側部の上に形成されたソース電極お
よびドレイン電極とからなる複数の薄膜トランジスタ
と、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前記複数の薄膜ト
ランジスタのドレイン電極に接続された複数のデータ配
線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域を前記補償容量
配線に対向させて形成され前記補償容量配線との間に補
償容量を形成するとともに前記複数の薄膜トランジスタ
のソース電極にそれぞれ接続された複数の画素電極とが
設けられ、他方の基板の内面に、前記複数の画素電極に
対向する対向電極が設けられ、前記一対の基板のいずれ
かの内面に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応する複
数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極
が、所定面積の画素領域全体に対応する外形を有し、且
つ細長いスリット部を設けた形状に形成され、前記複数
の色の着色膜がそれぞれ前記画素電極よりも小さい面積
を有する形状に形成されていることを特徴とする。

【００２８】この液晶表示素子によれば、前記画素電極
を、所定面積の画素領域全体に対応する外形を有する形
状に形成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素
電極よりも小さい面積を有する形状に形成しているた
め、前記画素領域内の前記着色膜に対応する領域から出
射する光は、可視光帯域のうちの前記着色膜の吸収波長
帯域の波長成分の光を前記着色膜により吸収された強度
の弱い着色光であるが、前記画素領域内の前記着色膜に
対応しない領域から出射する光が、前記着色膜による吸
収を受けない高強度の非着色光である。

【００２９】そのため、各画素領域からの出射光により
表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記着色膜の色
を呈し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底
上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【００３０】しかも、この液晶表示素子では、前記画素
電極に細長いスリット部を設けているため、このスリッ
ト部に対応する領域から、前記画素電極による吸収が無
い分だけ強度の高い光が出射し、前記画素領域からの出
射光の強度がより高くなる。

【００３１】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域から出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、前
記画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に応
じた液晶分子の配向状態の変化により制御し、各画素領
域からの出射光で表示される複数の色の着色画素の混色
によりカラー画像を表示する。

【００３２】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する外形を有する形状
に形成し、複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よ
りも小さい面積を有する形状に形成することにより、前
記画素領域内の前記着色膜に対応する領域から着色光を
出射し、前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域
から高強度の非着色光を出射して、これらの光により明
るい着色画素を表示するとともに、前記画素電極に細長
いスリット部を設けることにより、前記スリット部に対
応する領域から前記画素電極による吸収が無い分だけ強
度の高い光を出射するようにして、前記画素領域からの
出射光の強度をより高くしたものであり、したがって、
画面の明るさが充分なカラー画像を表示することができ
る。

【００３３】さらにまた、この発明の液晶表示素子は、
液晶層をはさんで対向する一対の基板のうちの一方の基
板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成した複数のゲ
ート配線と、複数の補償容量配線と、これらの配線を覆
って前記基板のほぼ全域に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記ゲート絶縁膜
の上に前記ゲート電極に対向させて形成された半導体膜
および前記半導体膜の両側部の上に形成されたソース電
極およびドレイン電極とからなる複数の薄膜トランジス
タと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前記複数の薄膜
トランジスタのドレイン電極に接続された複数のデータ
配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域を前記補償容
量配線に対向させて形成され前記補償容量配線との間に
補償容量を形成するとともに前記複数の薄膜トランジス
タのソース電極にそれぞれ接続された複数の画素電極と
が設けられ、他方の基板の内面に、前記複数の画素電極
に対向する対向電極が設けられ、前記一対の基板のいず
れかの内面に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応する
複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極
が所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成され、
前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素電極よりも小
さい面積を有する形状に形成され、前記データ配線が透
明導電膜で形成されていることを特徴とする。

【００３４】この液晶表示素子によれば、前記画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前
記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さ
い面積を有する形状に形成しているため、前記画素領域
内の前記着色膜に対応する領域から出射する光は、可視
光帯域のうちの前記着色膜の吸収波長帯域の波長成分の
光を前記着色膜により吸収された強度の弱い着色光であ
るが、前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域か
ら出射する光が、前記着色膜による吸収を受けない高強
度の非着色光である。

【００３５】そのため、各画素領域からの出射光により
表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記着色膜の色
を呈し、しかも、前記高強度の非着色光により明るさを
底上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【００３６】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域から出射する光のうちの前記画素電極に対応する領域
から出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、前記
画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に応じ
た液晶分子の配向状態の変化により制御し、各画素領域
からの出射光で表示される複数の色の着色画素の混色に
よりカラー画像を表示する。

【００３７】また、この液晶表示素子では、前記データ
配線を透明導電膜で形成しているため、各画素領域の間
の前記データ配線に対応する領域から、より高強度の光
を出射し、このデータ配線に対応する領域からの出射光
により画面の明るさを底上げすることができる。

【００３８】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前
記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さ
い面積を有する形状に形成することにより、前記画素領
域内の前記着色膜に対応する領域から着色光を出射し、
前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域から高強
度の非着色光を出射して、これらの光により明るい着色
画素を表示するとともに、前記データ配線を透明導電膜
で形成することにより、前記データ配線に対応する領域
からより高強度の光を出射して、その出射光により画面
の明るさを底上げしたものであり、したがって、画面の
明るさが充分なカラー画像を表示することができる。

【００３９】またさらに、この発明の液晶表示素子は、
液晶層をはさんで対向する一対の基板のうちの一方の基
板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成した複数のゲ
ート配線と、これらの配線を覆って前記基板のほぼ全域
に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲ
ート絶縁膜と前記ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に
対向させて形成された半導体膜および前記半導体膜の両
側部の上に形成されたソース電極およびドレイン電極と
からなる複数の薄膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜
の上に形成され前記複数の薄膜トランジスタのドレイン
電極に接続された複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁
膜の上に所定領域を前記ゲート配線に対向させて形成さ
れ前記ゲート配線との間に補償容量を形成するとともに
前記複数の薄膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接
続された複数の画素電極とが設けられ、他方の基板の内
面に、前記複数の画素電極に対向する対向電極が設けら
れ、前記一対の基板のいずれかの内面に、前記複数の画
素電極にそれぞれ対応する複数の色の着色膜が設けられ
るとともに、前記画素電極が所定面積の画素領域全体に
対応する形状に形成され、前記複数の色の着色膜がそれ
ぞれ前記画素電極よりも小さい面積を有する形状に形成
されていることを特徴とする。

【００４０】この液晶表示素子によれば、前記画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前
記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さ
い面積を有する形状に形成しているため、前記画素領域
内の前記着色膜に対応する領域から出射する光は、可視
光帯域のうちの前記着色膜の吸収波長帯域の波長成分の
光を前記着色膜により吸収された強度の弱い着色光であ
るが、前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域か
ら出射する光が、前記着色膜による吸収を受けない高強
度の非着色光である。

【００４１】そのため、各画素領域からの出射光により
表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記着色膜の色
を呈し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底
上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【００４２】しかも、この液晶表示素子では、前記ゲー
ト絶縁膜の上に形成する前記画素電極を、その所定領域
を前記ゲート配線に対向させて形成し、この画素電極と
前記ゲート配線との間に補償容量を形成しているため、
前記ゲート配線とは別に補償容量配線を設ける場合に比
べて画素領域の開口率が向上し、前記表示画素がさらに
明るくなる。

【００４３】そして、この液晶表示素子は、前記各画素
領域から出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、
前記画素電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に
応じた液晶分子の配向状態の変化により制御し、各画素
領域からの出射光で表示される複数の色の着色画素の混
色によりカラー画像を表示する。

【００４４】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前
記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さ
い面積を有する形状に形成することにより、前記画素領
域内の前記着色膜に対応する領域から着色光を出射し、
前記画素領域内の前記着色膜に対応しない領域から高輝
度の非着色光を出射して、これらの光により明るい着色
画素を表示するとともに、前記画素電極をその所定領域
を前記ゲート配線に対向させて形成し、この画素電極と
前記ゲート配線との間に補償容量を形成することによ
り、前記ゲート配線とは別に補償容量配線を設ける場合
に比べて画素領域の開口率を向上させて前記表示画素を
さらに明るくしたものであり、したがって、画面の明る
さが充分なカラー画像を表示することができる。

【００４５】

【発明の実施の形態】この発明の液晶表示素子は、上記
のように、画素電極を所定面積の画素領域全体に対応す
る形状に形成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記
画素電極よりも小さい面積を有する形状に形成するとと
もに、薄膜トランジスタのゲート絶縁膜に、複数の画素
電極の少なくとも前記補償容量配線との対向部を除く領
域にそれぞれ対応する開口部を設けることにより、前記
表示画素をさらに明るくし、画面の明るさが充分なカラ
ー画像を表示するようにしたものである。

【００４６】この液晶表示素子において、前記複数の着
色膜は、前記ゲート絶縁膜の開口部よりも小さい面積を
有する形状に形成するのが望ましく、このようにするこ
とにより、前記画素領域の前記着色膜に対応する領域か
ら出射する着色光の全てを、前記ゲート絶縁膜による吸
収が無い分だけ強度を高めた光として出射することがで
きる。

【００４７】また、この発明の液晶表示素子は、上記の
ように、画素電極を所定面積の画素領域よりも小さい面
積を有する形状に形成し、前記複数の色の着色膜をそれ
ぞれ前記画素領域内の前記画素電極に対応する領域より
も小さい面積を有する形状に形成することにより、画面
の明るさが充分なカラー画像を表示するようにしたもの
である。

【００４８】この液晶表示素子において、画素領域が、
例えば互いに隣り合うゲート配線と互いに隣り合うデー
タ配線とにより囲まれた領域のうちの前記ゲート配線お
よびデータ配線からそれぞれ２〜３μｍの間隔をとった
領域である場合、前記画素電極は、前記画素領域内の前
記ゲート配線およびデータ配線からそれぞれ５μｍ以上
の間隔をとった領域に対応する面積に形成するのが好ま
しく、このような面積に前記画素電極を形成することに
より、前記画素領域内の前記画素電極に対応しない領域
から充分な光量の非着色光（画素電極と対向電極との間
に印加される駆動電圧にかかわらず常に入射光の輝度に
応じた強度の非着色光）を出射し、前記画素領域からの
出射光で表示される着色画素を充分に明るくすることが
できる。

【００４９】さらに、この発明の液晶表示素子は、上記
のように、画素電極を所定面積の画素領域全体に対応す
る外形を有し、且つ細長いスリット部を設けた形状に形
成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よ
りも小さい面積を有する形状に形成することにより、画
面の明るさが充分なカラー画像を表示するようにしたも
のである。

【００５０】この液晶表示素子において、前記画素電極
に設ける前記スリット部は、４μｍ以下の幅に形成する
のが望ましく、前記スリット部の幅がこの程度であれ
ば、前記スリット部に対応する領域の液晶分子も、画素
電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に応じて配
向状態を変えるため、前記スリット部に対応する領域を
含む画素領域全域からの出射光の強度を前記駆動電圧に
より制御することができる。

【００５１】また、前記スリット部は、前記画素電極の
補償容量配線との対向部を除く領域に、そのほぼ全域に
分布させて設けるのが望ましく、このように前記スリッ
トを設けることにより、前記画素電極と前記補償容量配
線との間に、充分な容量値の補償容量を形成す保するこ
とができるとともに、前記画素電極による吸収が無い分
だけ強度の高い光を画素領域のほぼ全域に分布させて出
射し、前記画素領域のほぼ全域にわたって出射光の強度
をより高くすることができる。

【００５２】この液晶表示素子においては、ゲート絶縁
膜に、前記画素電極の前記スリット部に対応するスリッ
ト部を設けるのがより好ましく、このようにすることに
より、前記スリット部に対応する領域から、前記画素電
極と前記ゲート絶縁膜のいずれによる吸収も受けない、
より強度の高い光を出射することができる。

【００５３】さらにまた、この発明の液晶表示素子は、
上記のように、画素電極を所定面積の画素領域全体に対
応する形状に形成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ
前記画素電極よりも小さい面積を有する形状に形成する
とともに、前記データ配線を透明導電膜で形成すること
により、画面の明るさが充分なカラー画像を表示するよ
うにしたものである。

【００５４】またさらに、この発明の液晶表示素子は、
上記のように、画素電極を所定面積の画素領域全体に対
応する形状に形成し、複数の色の着色膜をそれぞれ前記
画素電極よりも小さい面積を有する形状に形成するとと
もに、前記画素電極をその所定領域を前記ゲート配線に
対向させて形成し、この画素電極と前記ゲート配線との
間に補償容量を形成することにより、画面の明るさが充
分なカラー画像を表示するようにしたものである。

【００５５】

【実施例】図１〜図３はこの発明の第１の実施例を示し
ており、図１は液晶表示素子の一部分の正面図、図２は
図１のII−II線に沿う断面図、図３は図１の III−III
線に沿う断面図である。

【００５６】この液晶表示素子は、薄膜トランジスタ
（以下、ＴＦＴと記す）をアクティブ素子とするアクテ
ィブマトリックス型のものであり、図１〜図３に示すよ
うに、液晶層１９をはさんで対向する前後一対の透明基
板１，２のうちの一方の基板、例えば後側基板２の内面
には、互いに平行に形成された複数のゲート配線３と、
前記ゲート配線３と平行に形成された複数の補償容量配
線４と、前記ゲート配線３とほぼ直交させて形成された
複数のデータ配線５と、前記ゲート配線３とデータ配線
５との交差部にそれぞれ対応させて形成された複数のＴ
ＦＴ６と、これらのＴＦＴ６にそれぞれ対応させて形成
されたＩＴＯ等の透明導電膜からなる複数の画素電極１
２が設けられている。

【００５７】前記ゲート配線３と補償容量配線４は、Ａ
ｌ系合金等の低抵抗金属膜からなっており、前記複数の
ゲート配線３はそれぞれ、その所定箇所、つまりそのゲ
ート配線３に沿う前記複数のＴＦＴ６の形成箇所に、前
記ＴＦＴ６のゲート電極７を一体に形成した形状に形成
され、前記複数の補償容量配線４はそれぞれ、各行の画
素電極１２の並び方向に沿わせて直線状に形成されてい
る。

【００５８】なお、前記ゲート配線３と補償容量配線４
は、これらの配線３，４を覆うゲート絶縁膜８の上に形
成される前記データ配線５や画素電極１２等との絶縁耐
圧を高くするために、図示しない端子部を除く配線全長
にわたって、その表面を陽極酸化処理されている。図２
および図３において、３ａ，４ａは、前記ゲート配線３
と補償容量配線４の表面に生成した陽極酸化膜であり、
前記ゲート配線３の陽極酸化膜３ａは、このゲート配線
３に一体に形成された前記ゲート電極７の表面にも生成
している。

【００５９】また、前記複数のＴＦＴ６はそれぞれ、前
記ゲート配線３に一体に形成されたゲート電極７と、前
記ゲート配線３および補償容量配線４を覆って前記基板
２のほぼ全域に形成されたＳｉＮ等からなる透明なゲー
ト絶縁膜８と、前記ゲート絶縁膜８の上に前記ゲート電
極７に対向させて形成されたｉ型半導体膜９と、前記ｉ
型半導体膜９の両側部の上にｎ型半導体膜（図示せず）
を介して形成されたソース電極１０およびドレイン電極
１１とからなっている。

【００６０】そして、この実施例では、前記ゲート絶縁
膜８を、その上に形成する複数の画素電極１２の少なく
とも前記補償容量配線４との対向部を除く領域にそれぞ
れ対応する開口部８ａを設けた形状に形成している。

【００６１】また、前記複数のデータ配線５は、Ａｌ系
合金等の低抵抗金属で形成されており、このデータ配線
５は、前記ゲート絶縁膜８の上に設けられ、そのデータ
配線５に沿ったＴＦＴ６のドレイン電極１１に接続され
ている。なお、この実施例では、前記データ配線５と前
記ＴＦＴ６のドレイン電極１１とを一体に形成している
が、データ配線５は、前記ＴＦＴ６をＳｉＮ等からなる
保護絶縁膜で覆ってその上に配線し、前記保護絶縁膜に
設けたコンタクト孔においてＴＦＴ６のドレイン電極１
１に接続してもよい。

【００６２】さらに、前記複数の画素電極１２は、前記
ゲート絶縁膜８上およびその開口部８ａ内に露出する前
記基板２上に、所定領域を前記補償容量配線４に対向さ
せて、所定面積の画素領域Ａの全体に対応する形状に形
成されており、前記補償容量配線４との間に補償容量Ｃ
ｓを形成するとともに、一方の端部の一側縁において前
記複数のＴＦＴ６のソース電極１０にそれぞれ接続され
ている。

【００６３】なお、この実施例では、前記補償容量配線
４を、前記画素電極１２のＴＦＴ接続側とは反対側の端
縁から若干画素電極１２内側に片寄った領域に対向させ
て設け、この補償容量配線４と前記画素電極１２および
その間のゲート絶縁膜８とにより、蓄積容量型の補償容
量Ｃｓを形成している。

【００６４】また、この実施例では、前記ゲート絶縁膜
８に設ける前記開口部８ａを、前記画素電極１２の補償
容量形成部（補償容量配線４との対向部）よりもＴＦＴ
接続側の領域に対応させて、その領域の周縁部を除くほ
ぼ全域に対向する面積に形成している。

【００６５】前記ゲート絶縁膜８の開口部８ａは、前記
画素電極１２とゲート配線３および補償容量配線４との
間を確実に絶縁できる範囲で、できるだけ広い面積に形
成するのが好ましい。

【００６６】この実施例では、前記ゲート配線３および
補償容量配線４の表面を陽極酸化処理し、これらの配線
３，４の表面に生成した陽極酸化膜３ａ，４ａと前記ゲ
ート絶縁膜８との両方により画素電極１２とゲート配線
３および補償容量配線４との間を絶縁しているため、画
素電極１２と補償容量配線４およびゲート配線３との間
を確実に絶縁するのに必要なゲート絶縁膜８の張り出し
幅、つまり、補償容量配線４の側方へのゲート絶縁膜８
の張り出し幅ｄ１と、ゲート配線３の側方へのゲート絶
縁膜８の張り出し幅ｄ２は、それぞれ３μｍ以上あれば
充分である。

【００６７】なお、この実施例では、図１〜図３に示し
たように、前記ゲート絶縁膜８の開口部８ａを、前記画
素電極１２の補償容量形成部よりもＴＦＴ接続側の領域
の面積に対し、その領域の周縁からそれぞれ画素電極１
２内側に３〜５μｍの距離をとった面積に形成してい
る。

【００６８】また、前記後側基板２の内面には、前記複
数の画素電極１２にそれぞれ対応する複数の開口部１３
ａを形成したＳｉＮ等からなる透明なオーバーコート絶
縁膜１３が設けられており、その上に配向膜１４が形成
されている。

【００６９】なお、オーバーコート絶縁膜１３の開口部
１３ａは、前記ゲート絶縁膜８の開口部８ａよりも大き
く、且つ前記画素電極１２の外形よりも極く僅かに小さ
い面積に形成されており、このオーバーコート絶縁膜１
３により、前記データ配線５およびＴＦＴ６と各画素電
極１２の周縁部が覆われている。

【００７０】また、他方の基板である前側基板１の内面
には、前記後側基板２の複数の画素電極１２にそれぞれ
対応する複数の色の着色膜、例えば赤、緑、青の３色の
カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂと、前記後側基
板２の複数のＴＦＴ６にそれぞれ対応する遮光膜１６と
が設けられるとともに、これらの上に前記複数の画素電
極１２の全てに対向する一枚膜状の透明な対向電極（Ｉ
ＴＯ等の透明導電膜からなる電極）１７が設けられてお
り、その上に配向膜１８が形成されている。

【００７１】なお、図１では、前記カラーフィルタ１５
Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂと遮光膜１６とをそれぞれ区別しや
すくするために、カラーフィルタ部分には点模様を施
し、遮光膜部分には平行斜線を施している。

【００７２】前記赤、緑、青のカラーフィルタ１５Ｒ，
１５Ｇ，１５Ｂはそれぞれ、所定面積の画素領域Ａの全
体に対応する形状に形成された前記複数の画素電極１２
よりも小さい面積を有する形状に形成されている。

【００７３】この実施例では、前記カラーフィルタ１５
Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ、前記ゲート絶縁膜８の
開口部８ａよりも小さい面積を有する形状に形成し、こ
れらのカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを、前記
画素電極１２の前記ゲート絶縁膜８の開口部８ａに対応
する領域内に対向させている。

【００７４】なお、この実施例では、前記カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの上に直接対向電極１７を形
成しているが、前記対向電極１７は、前記カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを透明な保護膜（絶縁膜）で
覆って、この保護膜の上に形成してもよい。

【００７５】そして、液晶表示素子は、上記前側基板１
と後側基板２とを、それぞれの内面（電極形成面）を互
いに対向させて図示しない枠状のシール材を介して接合
し、これらの基板１，２間の前記シール材で囲まれた領
域に液晶層１９を設けて構成されている。

【００７６】なお、この液晶表示素子は、画面の左右方
向に赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂに対応する画素領域Ａを直線的に交互に配列
し、画面の上下方向に同じ色のカラーフィルタに対応す
る画素領域Ａを各行ごとに１．５ピッチずつ左右に交互
にずらしてジグザグに配列した、いわゆるデルタ配列
（モザイク配列ともいう）タイプのものでも、画面の左
右方向に赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１
５Ｇ，１５Ｂに対応する画素領域Ａを直線的に交互に配
列し、画面の上下方向に同じ色のカラーフィルタに対応
する画素領域Ａを直線的に配列した、いわゆるストライ
プ配列タイプのものでもよい。

【００７７】この液晶表示素子は、ＴＮ（ツイステッド
・ネマティック）型のものであり、前記液晶層１９の液
晶分子は、後側基板２の配向膜１４と前側基板１の配向
膜１８とによりそれぞれの基板１，２の近傍における配
向方向を規制され、両基板１，２間において所定のツイ
スト角でツイスト配向している。また、前記一対の基板
１，２の外面には、それぞれ偏光板２０，２１が、それ
ぞれの光学軸（透過軸または吸収軸）を所定の方向に向
けた状態で配置されている。

【００７８】また、この液晶表示素子は、液晶層１９に
電界が印加されていない状態、つまり、液晶分子が基板
１，２面に対して最も倒伏した初期のツイスト配向状態
に配向している状態における光の透過率が最も高く、液
晶層１９への電界の印加により液晶分子が基板１，２面
に対して立上がり配向するのにともなって透過率が低く
なる、いわゆるノーマリーホワイトモードの表示を行な
うものであり、例えば液晶分子のツイスト角がほぼ９０
°である場合、前記偏光板２０，２１は、それぞれの透
過軸を互いにほぼ直交させて設けられている。

【００７９】さらに、この液晶表示素子の背後、つまり
後側偏光板２１の背面側には、液晶表示素子にその前面
から入射した光を反射する高反射率の散乱反射板２２が
配置されている。

【００８０】この液晶表示素子は、外光（自然光や室内
光等）を利用して反射型表示を行なうものであり、外光
は、液晶表示素子にその前面から入射し、その光が、前
側偏光板２０によりその吸収軸に沿った偏光成分の光を
吸収され、その透過軸に沿った偏光成分の直線偏光とな
って液晶層１９に入射し、この液晶層１９を透過を透過
する過程でその複屈折性により旋光される。

【００８１】前記液晶層１９を透過した光は、後側偏光
板２１に入射し、その光のうち、前記後側偏光板２１の
透過軸に沿った偏光成分の光が、この偏光板２１を透過
して反射板２２により反射され、前記後側偏光板２１と
液晶層１９と前側偏光板２０とを順次透過して、液晶表
示素子の前方に出射する。

【００８２】なお、液晶表示素子にその前面から入射し
て液晶層１９を透過した光のうち、後側基板２の内面に
設けられているゲート配線３と補償容量配線４およびデ
ータ配線５に入射した光は、これらの配線３，４，５に
より反射され、液晶層１９を再び透過して前側偏光板２
０に入射し、その光のうち、前側偏光板２０の透過軸に
沿った偏光成分の光が、この偏光板２０を透過して液晶
表示素子の前方に出射する。

【００８３】この液晶表示素子は、対向電極１７と複数
の補償容量配線４とを基準電位に接続し、複数のゲート
配線３にそれぞれ選択期間（ＴＦＴ６をオンさせる電位
になく期間）を順次ずらした波形のゲート信号を供給す
るとともに、複数のデータ配線５にそれぞれ画像データ
に応じた波形のデータ信号を供給することにより表示駆
動されるものであり、各ゲート配線３の選択期間ごと
に、その行の画素電極１２に前記データ配線５からＴＦ
Ｔ６を介してデータ信号を供給され、その画素電極１２
と対向電極１７との間に、前記データ信号に応じた駆動
電圧が印加されて、その駆動電圧に応じた液晶分子の配
向状態の変化により前記各画素領域Ａから出射する光の
強度が制御される。

【００８４】この液晶表示素子は、上述したようにノー
マリーホワイトモードの表示を行なうものであり、前記
各画素領域Ａから出射する光の強度は、液晶分子が基板
１，２面に対して最も倒伏した初期のツイスト配向状態
（以下、初期配向状態という）にあるときに最も強く、
液晶分子が基板１，２面に対して立上がり配向するのに
ともなって弱くなる。

【００８５】なお、前記各画素領域Ａの間の領域（以
下、画素間領域という）には前記画素電極１２と対向電
極１７との間に印加される駆動電圧は印加されないた
め、この画素間領域の液晶分子は基本的には常に初期配
向状態にあり、したがって、前記画素間領域からの出射
光は、常に入射光の輝度に応じた強度の光である。

【００８６】ただし、前記ゲート配線３とデータ配線５
は前記画素間領域内を通っており、前記ゲート配線３と
対向電極１７との間には前記ゲート信号に応じた電圧が
生じ、前記データ配線５と対向電極１７との間には前記
データ信号に応じた電圧が生じるため、前記画素間領域
のうちのゲート配線３およびデータ配線５に対応する領
域からは、これらの配線３，５と対向電極１７との間の
電圧による液晶分子の配向状態に応じた強度の光が出射
する。

【００８７】また、この液晶表示素子は、各画素電極に
それぞれ対応させて赤、緑、青のカラーフィルタ１５
Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを設けているため、前記各画素領域
Ａから、その画素領域Ａに対応する赤、緑、青のカラー
フィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色に着色した赤、
緑、青の着色光が出射する。

【００８８】この液晶表示素子においては、前記画素電
極１２を所定面積の画素領域Ａの全体に対応する形状に
形成し、前記赤、緑、青のカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面
積を有する形状に形成しているため、前記画素領域Ａ内
の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応す
る領域ａから出射する光は、可視光帯域のうちの前記カ
ラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの吸収波長帯域の
波長成分の光を前記着色膜により吸収された強度の弱い
着色光であるが、前記画素領域Ａ内のカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂから出射する
光が、前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによ
る吸収を受けない高強度の非着色光である。

【００８９】そのため、各画素領域Ａからの出射光によ
り表示される赤、緑、青の各色の着色画素はそれぞれ、
前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色を呈
し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底上げ
された、充分な明るさの着色画素である。

【００９０】この着色画素は、前記画素領域Ａ内のカラ
ーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａか
ら出射する着色光と、前記画素領域Ａ内のカラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂから出射
する無着色光とで表示されるが、人間の眼には画素全体
が着色しているように見える。

【００９１】なお、前記画素領域Ａのカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａと、カラーフィ
ルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂとの面
積比、つまり着色光が出射する領域と無着色光が出射す
る領域との面積比は、７〜９：３〜１の範囲が好まし
く、各画素領域Ａからこのような面積比で着色光と無着
色光とを出射するようにすれば、充分な色純度の着色画
素が得られる。

【００９２】しかも、この液晶表示素子では、前記ゲー
ト絶縁膜８に、前記複数の画素電極１２の少なくとも補
償容量配線４との対向部を除く領域にそれぞれ対応する
開口部８ａを設けているため、その開口部８ａを透過す
る光は前記ゲート絶縁膜８による吸収を受けない。

【００９３】そのため、前記画素領域Ａのうちの前記ゲ
ート絶縁膜８の開口部８ａに対応する領域からの出射光
の強度が、前記ゲート絶縁膜８による吸収が無い分だけ
高くなり、前記表示画素がさらに明るくなる。

【００９４】すなわち、図４は、膜厚が０．２５μｍの
ＳｉＮ膜の波長−透過率特性を示しており、このＳｉＮ
膜の可視光帯域の各波長成分の光の平均透過率は、約９
５％である。

【００９５】ということは、前記ゲート絶縁膜８が膜厚
０．２５μｍのＳｉＮ膜である場合、液晶表示素子を透
過する光が、ゲート絶縁膜８を透過する際に約５％の光
を吸収されるということであり、反射型表示を行なう液
晶表示素子の場合は、光が前記ゲート絶縁膜８を２回透
過するため、ゲート絶縁膜８によって約１０％の光を吸
収される。

【００９６】したがって、前記ゲート絶縁膜８の開口部
８ａに対応する領域からの出射光の強度は、前記ゲート
絶縁膜８の開口部８ａ以外の領域を透過して出射する光
の強度に比べて、前記ゲート絶縁膜８による約１０％の
吸収が無い分だけ強度が高い光である。

【００９７】なお、この実施例では、前記カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを、前記ゲート絶縁膜８の開
口部８ａよりも小さい面積を有する形状に形成している
ため、前記画素領域Ａのカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａから出射する着色光の全て
を、前記ゲート絶縁膜８による吸収が無い分だけ強度を
高めた光として出射することができるとともに、カラー
フィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂの
うちの前記ゲート絶縁膜８の開口部８ａに対応する領域
からも、前記ゲート絶縁膜８による吸収が無い分だけ強
度を高めた光として出射することができる。

【００９８】そして、この液晶表示素子は、前記各画素
領域Ａから出射する前記着色光と前記非着色光の強度
を、画素電極１２と対向電極１７との間に印加される駆
動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化により制御
し、各画素領域Ａからの出射光で表示される赤、緑、青
の着色画素の混色によりフルカラー画像を表示する。

【００９９】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
１２を所定面積の画素領域Ａの全体に対応する形状に形
成し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面
積を有する形状に形成することにより、前記画素領域Ａ
内のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する
領域ａから前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ
の色に着色した着色光を出射し、前記画素領域Ａ内のカ
ラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域
ｂから高強度の非着色光を出射して、これらの光により
明るい着色画素を表示するとともに、前記ゲート絶縁膜
８に、前記画素電極１２の少なくとも補償容量配線４と
の対向部を除く領域にそれぞれ対応する開口部８ａを設
けることにより、前記画素領域Ａのうちの前記ゲート絶
縁膜８の開口部８ａに対応する領域からの出射光の強度
を前記ゲート絶縁膜８による吸収が無い分だけ高くし
て、前記表示画素をさらに明るくしたものであり、した
がって、画面の明るさが充分なカラー画像を表示するこ
とができる。

【０１００】また、この液晶表示素子によれば、各画素
領域Ａの間の画素間領域からも、カラーフィルタ１５
Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高輝度の非着
色光が出射するため、この画素間領域からの出射光によ
り画面の明るさを底上げし、さらに画面の明るさが充分
なカラー画像を表示することができる。

【０１０１】なお、前記画素間領域のうちのゲート配線
３およびデータ配線５に対応する領域から出射する非着
色光の強度は、前記ゲート配線３およびデータ配線５と
対向電極１７との間に生じる電圧（ゲート信号およびデ
ータ信号に応じた電圧）の影響により変化するが、その
電圧が影響しない領域（画素間領域のうちのゲート配線
３およびデータ配線５と画素電極１２との間に対応する
領域）からは、常に入射光の輝度に応じた強度の非着色
光が出射する。

【０１０２】図５〜図７はこの発明の第２の実施例を示
しており、図５は液晶表示素子の一部分の正面図、図６
は図５のVI−VI線に沿う断面図、図７は図５の VII−VI
I 線に沿う断面図である。

【０１０３】この液晶表示素子は、画素電極１２を、図
５に仮想線（二点鎖線）で示した所定面積の画素領域
Ａ′よりも小さい面積を有する形状に形成し、赤、緑、
青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそ
れぞれ前記画素電極１２よりも小さい面積を有する形状
に形成したものであり、この実施例では、ゲート絶縁膜
８には画素電極１２に対応する開口部は設けていない。

【０１０４】前記所定面積の画素領域Ａ′は、通常のア
クティブマトリックス液晶表示素子の画素領域とほぼ同
じ領域であり、この画素領域Ａ′は、互いに隣り合うゲ
ート配線３と互いに隣り合うデータ配線５とにより囲ま
れた領域のうちの前記ゲート配線３およびデータ配線５
からそれぞれ２〜３μｍの間隔ｗ１，ｗ２をとった領域
である。

【０１０５】そして、通常のアクティブマトリックス液
晶表示素子では、画素電極を画素領域全体に対応する形
状に形成しているが、この液晶表示素子では、画素電極
１２を、前記画素領域Ａ′よりも小さい面積を有する形
状に形成している。

【０１０６】この実施例では、前記画素電極１２は、互
いに隣り合うゲート配線３と互いに隣り合うデータ配線
５とにより囲まれた領域のうちの前記ゲート配線３およ
びデータ配線５からそれぞれ５μｍ以上の間隔ｗ１′，
ｗ２′をとった領域に対応する面積に形成している。

【０１０７】なお、この第２の実施例の液晶表示素子
は、ゲート絶縁膜８に画素電極１２に対応する開口部を
設けていない点、および、画素電極１２を所定面積の画
素領域Ａ′よりも小さい面積を有する形状に形成し、各
色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ
前記画素電極１２よりも小さい面積を有する形状に形成
した点において上述した第１の実施例と相違するが、他
の構成は第１の実施例のものと同じであるため、重複す
る説明は図に同符号を付して省略する。

【０１０８】この実施例の液晶表示素子によれば、画素
電極１２を所定面積の画素領域Ａ′よりも小さい面積を
有する形状に形成し、前記赤、緑、青の各色のカラーフ
ィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極
１２よりも小さい面積を有する形状に形成しているた
め、前記画素領域Ａ′内の画素電極１２に対応する領域
のうち、前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに
対応する領域ａ′から出射する光は、可視光帯域のうち
のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの吸収波長帯
域の波長成分の光を前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂにより吸収された強度の弱い着色光である
が、前記画素領域Ａ′内の画素電極１２に対応する領域
のうち、カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応
しない領域ｂ′から出射する光が、前記カラーフィルタ
１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高強度の
非着色光であり、また、前記画素領域Ａ′内の画素電極
１２に対応しない外周領域ｃから出射する光が、前記カ
ラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受け
ず、しかも前記画素電極１２による吸収が無い分だけさ
らに強度が高い高強度の非着色光である。

【０１０９】すなわち、図８は、膜厚が０．０５μｍの
ＩＴＯ膜の波長−透過率特性を示しており、このＩＴＯ
膜の可視光帯域の各波長成分の光の平均透過率は、約９
０％である。

【０１１０】ということは、前記画素電極１２が膜厚
０．０５μｍのＩＴＯ膜である場合、液晶表示素子を透
過する光が、画素電極１２を透過する際に約１０％の光
を吸収されるということであり、反射型表示を行なう液
晶表示素子の場合は、光が前記画素電極１２を２回透過
するため、画素電極１２によって約２０％の光を吸収さ
れる。

【０１１１】したがって、前記画素領域Ａ′内の画素電
極１２に対応しない外周領域ｃからからの出射光の強度
は、前記画素電極１２に対応する領域のうちのカラーフ
ィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂ′か
らの出射光の強度に比べて、前記画素電極１２による約
２０％の吸収が無い分だけ強度が高い光である。

【０１１２】そのため、各画素領域Ａ′からの出射光に
より表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記赤、
緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ
の色を呈し、しかも、画素電極１２に対応する領域のう
ちの前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応
しない領域ｂ′から出射する高強度の非着色光と、前記
画素領域Ａ′内の画素電極１２に対応しない外周領域ｃ
から出射するさらに高強度の非着色光とにより明るさを
底上げされた、充分な明るさの着色画素である。

【０１１３】また、前記画素領域Ａ′から出射する光の
うちの画素電極１２に対応する領域ａ′，ｂ′から出射
する前記着色光と前記非着色光の強度は、前記画素電極
１２と対向電極１７との間に印加される駆動電圧に応じ
た液晶分子の配向状態の変化により制御されるが、前記
画素領域Ａ′内の画素電極１２に対応しない外周領域
ｃ、つまり前記駆動電圧が印加されない領域の液晶分子
の配向状態はほとんど変化しないため、前記画素領域
Ａ′内の画素電極１２に対応しない外周領域ｃから出射
する前記非着色光は、常に入射光の輝度に応じた強度の
光である。

【０１１４】そのため、前記画素電極１２と対向電極１
７との間に印加される駆動電圧にかかわらず、前記画素
領域Ａ′内の画素電極１２に対応しない外周領域ｃから
出射する、入射光の輝度に応じた強度の非着色光により
常に前記着色画素の明るさが底上げされる。

【０１１５】この実施例においては、上記のように、画
素領域Ａ′を通常のアクティブマトリックス液晶表示素
子の画素領域とほぼ同じ領域、つまり、互いに隣り合う
ゲート配線３と互いに隣り合うデータ配線５とにより囲
まれた領域のうちの前記ゲート配線３およびデータ配線
５からそれぞれ２〜３μｍの間隔ｗ１，ｗ２をとった領
域とし、前記画素電極１２を、前記画素領域Ａ′内の前
記ゲート配線３およびデータ配線５からそれぞれ５μｍ
以上の間隔ｗ１′，ｗ２′をとった領域に対応する面積
に形成しているため、前記画素領域Ａ′内の前記画素電
極１２に対応しない領域から充分な光量の非着色光（画
素電極１２と対向電極１７との間に印加される駆動電圧
にかかわらず常に入射光の輝度に応じた輝度の非着色
光）を出射し、前記画素領域Ａ′からの出射光で表示さ
れる着色画素を充分に明るくすることができる。

【０１１６】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域Ａ′から出射する光のうちの画素電極１２に対応する
領域ａ′，ｂ′から出射する前記着色光と前記非着色光
の強度を、前記画素電極１２と対向電極１７との間に印
加される駆動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化に
より制御し、各画素領域Ａ′からの出射光で表示される
赤、緑、青の着色画素の混色によりフルカラー画像を表
示する。

【０１１７】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
１２を所定面積の画素領域Ａ′よりも小さい面積を有す
る形状に形成し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２より
も小さい面積を有する形状に形成することにより、前記
画素領域Ａ′内の前記画素電極１２に対応しない外周領
域ｃから、前記画素電極１２と対向電極１７との間に印
加される駆動電圧にかかわらず常に入射光の輝度に応じ
た強度で、しかも前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，
１５Ｂによる吸収を受けず、また前記画素電極１２によ
る吸収も無い高強度の非着色光を出射し、前記画素領域
Ａ′内の画素電極１２に対応する領域のうち、カラーフ
ィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａ′から
前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色に着色
した着色光を、前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１
５Ｂに対応しない領域ｂ′から高強度の非着色光をそれ
ぞれ出射して、これらの光により明るい着色画素を表示
するものであり、したがって、画面の明るさが充分なカ
ラー画像を表示することができる。

【０１１８】また、この実施例の液晶表示素子において
も、各画素領域Ａ′の間の画素間領域から、カラーフィ
ルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高輝
度の非着色光が出射するため、この画素間領域からの出
射光により画面の明るさを底上げし、さらに画面の明る
さが充分なカラー画像を表示することができる。

【０１１９】なお、前記画素間領域のうちのゲート配線
３およびデータ配線５に対応する領域から出射する非着
色光の強度は、前記ゲート配線３およびデータ配線５と
対向電極１７との間に生じる電圧（ゲート信号およびデ
ータ信号に応じた電圧）の影響により変化するが、その
電圧が影響しない領域、つまり、画素間領域のうちのゲ
ート配線３およびデータ配線５と画素電極１２との間に
対応する領域からは、常に入射光の輝度に応じた強度の
非着色光が出射する。

【０１２０】そのため、前記画素領域Ａ′内の前記画素
電極１２に対応しない外周領域ｃから出射する光と、前
記画素間領域のうちのゲート配線３およびデータ配線５
と画素電極１２との間に対応する領域から出射する光
は、同じ強度（入射光の輝度に応じた同じ強度）の非着
色光であり、したがって、この液晶表示素子の見掛け上
の画素領域は、隣り合うゲート配線３と隣り合うデータ
配線５とにより囲まれた領域である。

【０１２１】図９〜図１２はこの発明の第３の実施例を
示しており、図９は液晶表示素子の一部分の正面図、図
１０は図９の X−X 線に沿う断面図、図１１は図９のXI
−XI線に沿う断面図、図１２は図１１の一部分の拡大図
である。

【０１２２】この液晶表示素子は、画素電極１２を、所
定面積の画素領域Ａ全体に対応する外形を有し、且つ細
長いスリット部１２ａを設けた形状に形成し、赤、緑、
青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそ
れぞれ前記画素電極１２よりも小さい面積を有する形状
に形成したものである。

【０１２３】そして、この実施例においては、前記画素
電極１２に設けるスリット部１２ａを、４μｍ以下の幅
に形成しており、また、前記スリット部１２ａを、前記
画素電極１２の補償容量配線４との対向部を除く領域
に、そのほぼ全域に分布させて蛇行形状に設けている。

【０１２４】また、この実施例では、前記カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ、前記画素電極１
２のスリット部１２ａを設けた領域よりも小さい面積を
有する形状に形成している。

【０１２５】なお、この第３の実施例の液晶表示素子
は、ゲート絶縁膜８に画素電極１２に対応する開口部を
設けていない点、および、画素電極１２に前記スリット
部１２ａを設けた点において上述した第１の実施例と相
違するが、他の構成は第１の実施例のものと同じである
ため、重複する説明は図に同符号を付して省略する。

【０１２６】この実施例の液晶表示素子によれば、画素
電極１２を、所定面積の画素領域Ａ全体に対応する外形
を有する形状に形成し、赤、緑、青のカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２より
も小さい面積を有する形状に形成しているため、前記画
素領域Ａ内の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５
Ｂに対応する領域ａから出射する光は、可視光帯域のう
ちのカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの吸収波長
帯域の波長成分の光を前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂにより吸収された強度の弱い着色光である
が、前記画素領域Ａ内の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１
５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂから出射する光が、カ
ラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受け
ない高強度の非着色光である。

【０１２７】そのため、各画素領域Ａからの出射光によ
り表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記赤、緑、
青のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色を呈
し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底上げ
された、充分な明るさの着色画素である。

【０１２８】しかも、この液晶表示素子では、前記画素
電極１２に細長いスリット部１２ａを設けているため、
このスリット部１２ａに対応する領域から、前記画素電
極１２による吸収（画素電極１２が膜厚０．０５μｍの
ＩＴＯ膜である場合は、画素電極１２の２回の透過で約
２０％の吸収）が無い分だけ強度の高い光が出射し、前
記画素領域Ａからの出射光の強度がより高くなる。

【０１２９】さらに、この液晶表示素子では、その前面
から入射し、背後の反射板２２により反射された光のう
ち、液晶表示素子の前面の法線に対して斜めに傾いた方
向から前記スリット部１２ａに入射した光が、図１２に
矢線で示したように、前記スリット部１２ａの側面で反
射されて前記法線に近い方向に集光されるため、スリッ
ト部１２ａに対応する領域から正面方向への出射強度が
高い輝度分布の光を出射し、各画素領域Ａからの出射光
の正面輝度を高くすることができる。

【０１３０】また、この実施例では、前記カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ、前記画素電極１
２のスリット部１２ａを設けた領域よりも小さい面積を
有する形状に形成しているため、前記画素領域Ａのカラ
ーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａか
ら出射する着色光のうちの前記スリット部１２ａに対応
する領域から出射する着色光の出射強度および正面輝度
を高くするい輝度分布の光を出射し、各画素領域Ａから
の出射光の正面輝度を高くするとともに、カラーフィル
タ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領域ｂのうちの
前記スリット部１２ａに対応する領域から出射する非着
色光の出射強度および正面輝度を高くすることができ
る。

【０１３１】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域Ａから出射する前記着色光と前記非着色光の強度を、
前記画素電極１２と対向電極１７との間に印加される駆
動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化により制御
し、各画素領域Ａからの出射光で表示される赤、緑、青
の着色画素の混色によりフルカラー画像を表示する。

【０１３２】なお、この実施例の液晶表示素子において
は、前記画素電極１２に設けるスリット部１２ａを４μ
ｍ以下の幅に形成しており、前記スリット部１２ａの幅
がこの程度であれば、前記スリット部１２ａに対応する
領域の液晶分子も、画素電極１２と対向電極１７との間
に印加される駆動電圧に応じて配向状態を変えるため、
前記スリット部１２ａに対応する領域を含む画素領域Ａ
全域からの出射光の強度を前記駆動電圧により制御する
ことができる。

【０１３３】また、この実施例においては、前記スリッ
ト部１２ａを、前記画素電極１２の補償容量配線４との
対向部を除く領域に、そのほぼ全域に分布させて蛇行形
状に設けているため、前記画素電極１２をその横幅全体
において前記補償容量配線４と対向させて、この画素電
極１２と前記補償容量配線４との間に、充分な容量値の
補償容量を形成す保することができるとともに、前記画
素電極１２による吸収が無い分だけ強度の高い光を画素
領域Ａのほぼ全域に分布させて出射し、前記画素領域Ａ
のほぼ全域にわたって出射光の強度をより高くすること
ができる。

【０１３４】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
１２を所定面積の画素領域Ａ全体に対応する外形を有す
る形状に形成し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２より
も小さい面積を有する形状に形成することにより、前記
画素領域Ａ内の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１
５Ｂに対応する領域ａから前記カラーフィルタ１５Ｒ，
１５Ｇ，１５Ｂの色に着色した着色光を出射し、前記画
素領域Ａ内の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５
Ｂに対応しない領域ｂから高強度の非着色光を出射し
て、これらの光により明るい着色画素を表示するととも
に、前記画素電極１２に細長いスリット部１２ａを設け
ることにより、前記スリット部１２ａに対応する領域か
ら前記画素電極１２による吸収が無い分だけ強度の高い
光を出射するようにして、前記画素領域Ａからの出射光
の強度をより高くしたものであり、したがって、画面の
明るさが充分なカラー画像を表示することができる。

【０１３５】なお、上記第３の実施例では、画素電極１
２の前記スリット部１２ａを蛇行形状に形成している
が、このスリット部１２ａは、例えば複数本互いに平行
に形成するなど、任意の形状に形成すればよい。

【０１３６】図１３はこの発明の第４の実施例を示す液
晶表示素子の後面側の一部分の断面図である。

【０１３７】この実施例は、上記第３の実施例と同様に
画素電極１２に細長いスリット部１２ａを設けるととも
に、ゲート絶縁膜８に、前記画素電極１２の前記スリッ
ト部１２ａに対応するスリット部８ｂを、前記スリット
部１２ａの全長にわたって設けたものであり、他の構成
は第３の実施例と同じである。

【０１３８】この実施例のように、画素電極１２に細長
いスリット部１２ａを設けるとともに、ゲート絶縁膜８
に、前記画素電極１２の前記スリット部１２ａに対応す
るスリット部８ｂを設ければ、前記スリット部１２ａに
対応する領域から、前記画素電極１２による吸収（画素
電極１２が膜厚０．０５μｍのＩＴＯ膜である場合は、
画素電極１２の２回の透過で約２０％の吸収）と、前記
ゲート絶縁膜８による吸収（ゲート絶縁膜８が膜厚０．
２５μｍのＳｉＮ膜である場合は、ゲート絶縁膜８の２
回の透過で約１０％の吸収）との両方が無い分だけ強度
の高い光を出射し、前記画素領域Ａからの出射光の強度
をより高くすることができる。

【０１３９】図１４〜図１６はこの発明の第５の実施例
を示しており、図１４は液晶表示素子の一部分の正面
図、図１５は図１４のXV−XV線に沿う断面図、図１６は
図１４の XVI−XVI 線に沿う断面図である。

【０１４０】この液晶表示素子は、画素電極１２を所定
面積の画素領域Ａ全体に対応する形状に形成し、赤、
緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ
をそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面積を有する
形状に形成するとともに、データ配線５′をＩＴＯ膜等
の透明導電膜で形成したものである。

【０１４１】なお、この実施例の液晶表示素子は、ゲー
ト絶縁膜８に画素電極１２に対応する開口部を設けてい
ない点、および、データ配線５′を透明導電膜で形成し
た点において上述した第１の実施例と相違するが、他の
構成は第１の実施例のものと同じであるため、重複する
説明は図に同符号を付して省略する。

【０１４２】ただし、ＩＴＯ膜等の透明導電膜は、Ａｌ
系合金等の金属膜に比べて抵抗率が高いため、この実施
例では、前記データ配線５′を第１の実施例よりも広い
幅に形成して、前記透明導電膜からなるデータ配線５′
の抵抗値を低くしている。

【０１４３】この第５の実施例の液晶表示素子によれ
ば、画素電極１２を所定面積の画素領域Ａ全体に対応す
る形状に形成し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２より
も小さい面積を有する形状に形成しているため、前記画
素領域Ａ内のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに
対応する領域ａから出射する光は、可視光帯域のうちの
カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの吸収波長帯域
の波長成分の光を前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，
１５Ｂにより吸収された強度の弱い着色光であるが、前
記画素領域Ａ内の前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，
１５Ｂに対応しない領域ｂから出射する光が、カラーフ
ィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高
強度の非着色光である。

【０１４４】そのため、各画素領域Ａからの出射光によ
り表示される赤、緑、青の各色の着色画素はそれぞれ、
前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色を呈
し、しかも、前記高強度の非着色光により明るさを底上
げされた、充分な明るさの着色画素である。

【０１４５】そして、この液晶表示素子は、前記画素領
域Ａから出射する光のうちの前記画素電極１２に対応す
る領域から出射する前記着色光と前記非着色光の強度
を、前記画素電極１２と対向電極１７との間に印加され
る駆動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化により制
御し、各画素領域からの出射光で表示される赤、緑、青
の着色画素の混色によりフルカラー画像を表示する。

【０１４６】また、この液晶表示素子によれば、各画素
領域Ａの間の画素間領域からも、カラーフィルタ１５
Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高輝度の非着
色光が出射するため、この画素間領域からの出射光によ
り画面の明るさを底上げし、さらに画面の明るさが充分
なカラー画像を表示することができる。

【０１４７】なお、前記画素間領域のうちのゲート配線
３およびデータ配線５′に対応する領域から出射する非
着色光の強度は、前記ゲート配線３およびデータ配線
５′と対向電極１７との間に生じる電圧（ゲート信号お
よびデータ信号に応じた電圧）の影響により変化する
が、その電圧が影響しない領域（画素間領域のうちのゲ
ート配線３およびデータ配線５′と画素電極１２との間
に対応する領域）からは、常に入射光の輝度に応じた強
度の非着色光が出射する。

【０１４８】しかも、この液晶表示素子では、前記デー
タ配線５′を透明導電膜で形成しているため、各画素領
域Ａの間の前記データ配線５′に対応する領域領域か
ら、より高強度の光を出射し、このデータ配線５′に対
応する領域からの出射光により画面の明るさをさらに底
上げすることができる。

【０１４９】すなわち、上述した第１〜第４の実施例の
ように、データ配線５をＡｌ系合金等の金属膜で形成し
た場合でも、前記データ配線５が液晶表示素子にその前
面から入射した光を反射するが、このデータ配線５の反
射率は、液晶表示素子の背後に配置する反射板２２の反
射率に比べてかなり低い。

【０１５０】そこで、この実施例では、前記データ配線
５′を透明導電膜で形成し、前記データ配線５′に対応
する領域に入射した光も、液晶表示素子の背後に配置し
た高反射率の反射板２２により反射して出射するように
したのであり、このようにすることにより、前記画素間
領域のうちの前記データ配線５′に対応する領域から、
より高強度の光を出射することができる。

【０１５１】なお、前記データ配線５′に対応する領域
からの光の出射強度は、画像データに応じたデータ信号
が供給される前記データ配線５′と対向電極１７との間
に生じる電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化より変
動するが、前記データ配線５′と対向電極１７との間に
生じる電圧は比較的低く、したがって、データ配線５′
に対応する領域の液晶分子は初期配向状態から僅かに立
上がり配向する程度であるから、前記データ配線５′に
対応する領域からの出射光は、非着色の薄明るい光（灰
色の光）であり、画面の明るさの底上げに寄与する。

【０１５２】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
１２を所定面積の画素領域Ａ全体に対応する形状に形成
し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面
積を有する形状に形成することにより、前記画素領域Ａ
内のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する
領域ａから前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ
の色に着色した着色光を出射し、前記画素領域Ａ内の前
記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない
領域ｂから高強度の非着色光を出射して、これらの光に
より明るい着色画素を表示するとともに、データ配線
５′を透明導電膜で形成することにより、前記データ配
線５′に対応する領域から、より高強度の光を出射し
て、その出射光により画面の明るさを底上げしたもので
あり、したがって、画面の明るさが充分なカラー画像を
表示することができる。

【０１５３】なお、上記実施例では、データ配線５′だ
けを透明導電膜で形成したが、補償容量配線４も透明導
電膜で形成してもよい。ただし、前記補償容量配線４を
ＩＴＯ膜等の透明導電膜で形成する場合は、その表面を
陽極酸化処理することができなくなるため、補償容量配
線４と画素電極１２との間の絶縁耐圧を、例えばゲート
絶縁膜８の膜厚を厚くするなど、何等かの手段により確
保する必要がある。

【０１５４】このように補償容量配線４を透明導電膜で
形成すれば、画素領域Ａ内の前記補償容量配線４に対応
する領域からも、液晶表示素子の背後に配置した高反射
率の反射板２２ｂにより反射された、より高強度の光を
出射することができる。

【０１５５】なお、前記補償容量配線４は、画素間領域
内を通っているが、前記補償容量配線４と対向電極１７
はそれぞれ基準電位に接続されるため、この補償容量配
線４と対向電極１７との間に電圧が生じることはなく、
したがって、前記画素間領域内の前記補償容量配線４に
対応する領域の液晶分子は常に初期配向状態にあるか
ら、その領域からの出射光は、常に入射光の輝度に応じ
た強度の非着色光であり、そのため、前記画素間領域内
の前記補償容量配線４に対応する領域からの出射光は、
画面の明るさの底上げに大きくき寄与する。

【０１５６】一方、ゲート配線３と対向電極１７との間
には、そのゲート配線３の選択期間以外のほとんどの期
間においてＤＣ電圧が生じるため、前記ゲート配線３に
対応する領域の液晶分子は基板１，２面に対してほぼ垂
直に立ち上がり配向する。

【０１５７】そして、この液晶表示素子は、ノーマリー
ホワイトモードの表示を行なうものであるため、前記ゲ
ート配線３を透明導電膜で形成し、このゲート配線３に
対応する領域に入射した光を液晶表示素子の背後に配置
した反射板２２により反射して出射するようにすると、
ゲート配線３に対応する領域が、前記液晶分子の立ち上
がり配向により、光がほとんど出射しない黒表示状態と
なり、画面の明るさの底上げに対して逆効果になる。

【０１５８】したがって、前記ゲート配線３は、Ａｌ系
合金等の金属膜で形成し、液晶表示素子のデータ配線５
に対応する領域に入射した光を、前記ゲート配線３によ
り反射するのが望ましく、このようにすれば、前記ゲー
ト配線３に対応する領域が、前記液晶分子が立ち上がり
配向により、液晶表示素子にその前面から入射し、前記
ゲート配線３により反射された光のほとんどが前側偏光
板２０を透過して液晶表示素子の前方に出射するため、
前記ゲート配線３に対応する領域からも非着色光を出射
して画面の明るさを底上げすることができる。

【０１５９】図１７〜図１９はこの発明の第６の実施例
を示しており、図１７は液晶表示素子の一部分の正面
図、図１８は図１７の XVIII−XVIII 線に沿う断面図、
図１９は図１７の IXX−IXX 線に沿う断面図である。

【０１６０】この液晶表示素子は、上述した第１〜第５
の実施例において後側基板２の内面に設けている補償容
量配線４を省略し、ゲート配線４と画素電極１２との間
に付加容量型の補償容量Ｃｓ′を形成したものである。

【０１６１】すなわち、この実施例では、前記ゲート配
線４を所定面積の補償容量Ｃｓ′を形成できる幅（前記
補償容量配線４とほぼ同じ幅）に形成し、ゲート絶縁膜
８の上に形成する画素電極１２を、その所定領域（この
実施例では、ＴＦＴ接続側とは反対側の端縁から若干画
素電極１２内側に片寄った領域）を前記ゲート配線３に
対向させて形成して、この画素電極１２と前記ゲート配
線３およびその間のゲート絶縁膜８とにより、付加容量
型の補償容量Ｃｓ′を形成している。

【０１６２】また、この実施例では、前記画素電極１２
を所定面積の画素領域Ａ全体に対応する形状に形成し、
赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１
５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面積を有
する形状に形成している。

【０１６３】なお、この第６の実施例の液晶表示素子
は、ゲート絶縁膜８に画素電極１２に対応する開口部を
設けていない点、および、補償容量配線４を省略し、ゲ
ート配線４と画素電極１２との間に付加容量型の補償容
量Ｃｓ′を形成した点において上述した第１の実施例と
相違するが、他の構成は第１の実施例のものと同じであ
るため、重複する説明は図に同符号を付して省略する。

【０１６４】この液晶表示素子によれば、画素電極１２
を所定面積の画素領域Ａ全体に対応する形状に形成し、
赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１
５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面積を有
する形状に形成しているため、前記画素領域Ａ内のカラ
ーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する領域ａか
ら出射する光は、可視光帯域のうちのカラーフィルタ１
５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの吸収波長帯域の波長成分の光を
前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂにより吸収
された強度の弱い着色光であるが、前記画素領域Ａ内の
カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領
域ｂから出射する光が、前記カラーフィルタ１５Ｒ，１
５Ｇ，１５Ｂによる吸収を受けない高強度の非着色光で
ある。

【０１６５】そのため、各画素領域Ａからの出射光によ
り表示される各色の着色画素はそれぞれ、前記赤、緑、
青のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの色を呈
し、しかも前記高強度の非着色光により明るさを底上げ
された、充分な明るさの着色画素である。

【０１６６】しかも、この液晶表示素子では、前記ゲー
ト絶縁膜８の上に形成する画素電極１２を、その所定領
域をゲート配線３に対向させて形成し、この画素電極１
２と前記ゲート配線３との間に付加容量型の補償容量Ｃ
ｓ′を形成しているため、前記ゲート配線３とは別に補
償容量配線を設ける場合に比べて画素領域Ａの開口率が
向上し、前記表示画素がさらに明るくなる。

【０１６７】そして、この液晶表示素子は、前記各画素
領域Ａから出射する前記着色光と前記非着色光の強度
を、前記画素電極１２と対向電極１７との間に印加され
る駆動電圧に応じた液晶分子の配向状態の変化により制
御し、各画素領域からの出射光で表示される赤、緑、青
の着色画素の混色によりフルカラー画像を表示する。

【０１６８】すなわち、この液晶表示素子は、画素電極
１２を所定面積の画素領域Ａ全体に対応する形状に形成
し、赤、緑、青の各色のカラーフィルタ１５Ｒ，１５
Ｇ，１５Ｂをそれぞれ前記画素電極１２よりも小さい面
積を有する形状に形成することにより、前記画素領域Ａ
内のカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応する
領域ａから前記カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ
の色に着色した着色光を出射し、前記画素領域内の前記
カラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対応しない領
域から高輝度の非着色光を出射して、これらの光により
明るい着色画素を表示するとともに、前記画素電極１２
をその所定領域を前記ゲート配線３に対向させて形成
し、この画素電極１２と前記ゲート配線３との間に付加
容量型の補償容量Ｃｓ′を形成することにより、前記ゲ
ート配線３とは別に補償容量配線を設ける場合に比べて
画素領域Ａの開口率を向上させて前記表示画素をさらに
明るくしたものであり、したがって、画面の明るさが充
分なカラー画像を表示することができる。

【０１６９】なお、上述した第１〜第６の実施例では、
着色膜としてカラーフィルタ１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを
用いているが、前記着色膜はカラーフィルタに限らな
い。また、上記各実施例の液晶表示素子は、赤、緑、青
の着色画素の混色によりフルカラー画像を表示するもの
であるが、この発明は、マゼンタ、イエロー、シアンの
３色の着色膜（例えばカラーフィルタ）を備え、これら
マゼンタ、イエロー、シアンの着色画素の混色により多
色カラー画像を表示する液晶表示素子にも適用すること
ができる。

【０１７０】また、上記各実施例の液晶表示素子は、外
光を利用して反射型表示を行なうものであるが、この発
明は、バックライトからの光を利用して透過型表示を行
なう液晶表示素子にも、また、外光を利用する反射型表
示と、バックライトからの光を利用する透過型表示との
両方を行なういわゆる２ウエイ表示型の液晶表示素子に
も適用することができる。

【０１７１】

【発明の効果】この発明の液晶表示素子は、画素電極を
所定面積の画素領域全体に対応する形状に形成し、前記
複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さい
面積を有する形状に形成するとともに、薄膜トランジス
タのゲート絶縁膜に、複数の画素電極の少なくとも前記
補償容量配線との対向部を除く領域にそれぞれ対応する
開口部を設けたものであるから、前記表示画素をさらに
明るくし、画面の明るさが充分なカラー画像を表示する
ことができる。

【０１７２】この液晶表示素子において、前記複数の着
色膜は、前記ゲート絶縁膜の開口部よりも小さい面積を
有する形状に形成するのが望ましく、このようにするこ
とにより、前記画素領域の前記着色膜に対応する領域か
ら出射する着色光の全てを、前記ゲート絶縁膜による吸
収が無い分だけ強度を高めた光として出射することがで
きる。

【０１７３】また、この発明の液晶表示素子は、画素電
極を所定面積の画素領域よりも小さい面積を有する形状
に形成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素領
域内の前記画素電極に対応する領域よりも小さい面積を
有する形状に形成したものであるから、画面の明るさが
充分なカラー画像を表示することができる。

【０１７４】この液晶表示素子において、画素領域が、
例えば互いに隣り合うゲート配線と互いに隣り合うデー
タ配線とにより囲まれた領域のうちの前記ゲート配線お
よびデータ配線からそれぞれ２〜３μｍの間隔をとった
領域である場合、前記画素電極は、前記画素領域内の前
記ゲート配線およびデータ配線からそれぞれ５μｍ以上
の間隔をとった領域に対応する面積に形成するのが好ま
しく、このような面積に前記画素電極を形成することに
より、前記画素領域内の前記画素電極に対応しない領域
から充分な光量の非着色光（画素電極と対向電極との間
に印加される駆動電圧にかかわらず常に入射光の輝度に
応じた強度の非着色光）を出射し、前記画素領域からの
出射光で表示される着色画素を充分に明るくすることが
できる。

【０１７５】さらに、この発明の液晶表示素子は、画素
電極を所定面積の画素領域全体に対応する外形を有し、
且つ細長いスリット部を設けた形状に形成し、前記複数
の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも小さい面積
を有する形状に形成したものであるから、画面の明るさ
が充分なカラー画像を表示することができる。

【０１７６】この液晶表示素子において、前記画素電極
に設ける前記スリット部は、４μｍ以下の幅に形成する
のが望ましく、前記スリット部の幅がこの程度であれ
ば、前記スリット部に対応する領域の液晶分子も、画素
電極と対向電極との間に印加される駆動電圧に応じて配
向状態を変えるため、前記スリット部に対応する領域を
含む画素領域全域からの出射光の強度を前記駆動電圧に
より制御することができる。

【０１７７】また、前記スリット部は、前記画素電極の
補償容量配線との対向部を除く領域に、そのほぼ全域に
分布させて設けるのが望ましく、このように前記スリッ
トを設けることにより、前記画素電極と前記補償容量配
線との間に、充分な容量値の補償容量を形成す保するこ
とができるとともに、前記画素電極による吸収が無い分
だけ強度の高い光を画素領域のほぼ全域に分布させて出
射し、前記画素領域のほぼ全域にわたって出射光の強度
をより高くすることができる。

【０１７８】この液晶表示素子においては、ゲート絶縁
膜に、前記画素電極の前記スリット部に対応するスリッ
ト部を設けるのがより好ましく、このようにすることに
より、前記スリット部に対応する領域から、前記画素電
極と前記ゲート絶縁膜のいずれによる吸収も受けない、
より強度の高い光を出射することができる。

【０１７９】さらにまた、この発明の液晶表示素子は、
画素電極を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形
成し、前記複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よ
りも小さい面積を有する形状に形成するとともに、前記
データ配線を透明導電膜で形成したものであるから、画
面の明るさが充分なカラー画像を表示することができ
る。

【０１８０】またさらに、この発明の液晶表示素子は、
画素電極を所定面積の画素領域全体に対応する形状に形
成し、複数の色の着色膜をそれぞれ前記画素電極よりも
小さい面積を有する形状に形成するとともに、前記画素
電極をその所定領域を前記ゲート配線に対向させて形成
し、この画素電極と前記ゲート配線との間に補償容量を
形成したものであるから、画面の明るさが充分なカラー
画像を表示することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１の実施例を示す液晶表示素子の
一部分の正面図。

【図２】図１のII−II線に沿う断面図。

【図３】図１の III−III 線に沿う断面図。

【図４】ＳｉＮ膜（ゲート絶縁膜）の波長−透過率特性
図。

【図５】この発明の第２の実施例を示す液晶表示素子の
一部分の正面図。

【図６】図５のVI−VI線に沿う断面図。

【図７】図５の VII−VII 線に沿う断面図。

【図８】ＩＴＯ膜（画素電極）の波長−透過率特性図。

【図９】この発明の第３の実施例を示す液晶表示素子の
一部分の正面図。

【図１０】図９の X−X 線に沿う断面図。

【図１１】図９のXI−XI線に沿う断面図。

【図１２】図１１の一部分の拡大図。

【図１３】この発明の第４の実施例を示す液晶表示素子
の後面側の一部分の断面図。

【図１４】この発明の第５の実施例を示す液晶表示素子
の一部分の正面図。

【図１５】図１４のXV−XV線に沿う断面図。

【図１６】図１４の XVI−XVI 線に沿う断面図。

【図１７】この発明の第６実施例を示す液晶表示素子の
一部分の正面図。

【図１８】図１７の XVIII−XVIII 線に沿う断面図。

【図１９】図１７の IXX−IXX 線に沿う断面図。

【符号の説明】

１，２…基板３…ゲート配線４…補償容量配線Ｃｓ，Ｃｓ′…補償容量５，５′…データ配線６…ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）７…ゲート電極８…ゲート絶縁膜８ａ…開口部８ｂ…スリット部９…ｉ型半導体膜１０…ソース電極１１…ドレイン電極１２…画素電極１２ａ…スリット部１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂ…カラーフィルタ１７…対向電極Ａ，Ａ′…画素領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶層をはさんで対向する一対の基板のう
ちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成
した複数のゲート配線と、複数の補償容量配線と、これ
らの配線を覆って前記基板のほぼ全域に形成されたゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記
ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に対向させて形成さ
れた半導体膜および前記半導体膜の両側部の上に形成さ
れたソース電極およびドレイン電極とからなる複数の薄
膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前
記複数の薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された
複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域
を前記補償容量配線に対向させて形成され前記補償容量
配線との間に補償容量を形成するとともに前記複数の薄
膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数
の画素電極とが設けられ、他方の基板の内面に、前記複
数の画素電極に対向する対向電極が設けられ、前記一対
の基板のいずれかの内面に、前記複数の画素電極にそれ
ぞれ対応する複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が所定面積の画素領域全体に対応する形状
に形成され、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素
電極よりも小さい面積を有する形状に形成され、前記ゲ
ート絶縁膜に、前記複数の画素電極の少なくとも前記補
償容量配線との対向部を除く領域にそれぞれ対応する開
口部が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】前記複数の着色膜は、前記ゲート絶縁膜の
開口部よりも小さい面積を有する形状に形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子。
【請求項３】液晶層をはさんで対向する一対の基板のう
ちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成
した複数のゲート配線と、複数の補償容量配線と、これ
らの配線を覆って前記基板のほぼ全域に形成されたゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記
ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に対向させて形成さ
れた半導体膜および前記半導体膜の両側部の上に形成さ
れたソース電極およびドレイン電極とからなる複数の薄
膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前
記複数の薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された
複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域
を前記補償容量配線に対向させて形成され前記補償容量
配線との間に補償容量を形成するとともに前記複数の薄
膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数
の画素電極とが設けられ、他方の基板の内面に、前記複
数の画素電極に対向する対向電極が設けられ、前記一対
の基板のいずれかの内面に、前記複数の画素電極にそれ
ぞれ対応する複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が所定面積の画素領域よりも小さい面積を
有する形状に形成され、前記複数の色の着色膜がそれぞ
れ前記画素電極よりも小さい面積を有する形状に形成さ
れていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項４】前記画素領域は、互いに隣り合うゲート配
線と互いに隣り合うデータ配線とにより囲まれた領域の
うちの前記ゲート配線およびデータ配線からそれぞれ２
〜３μｍの間隔をとった領域であり、前記画素電極は、
前記画素領域内の前記ゲート配線およびデータ配線から
それぞれ５μｍ以上の間隔をとった領域に対応する面積
に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の液
晶表示素子。
【請求項５】液晶層をはさんで対向する一対の基板のう
ちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成
した複数のゲート配線と、複数の補償容量配線と、これ
らの配線を覆って前記基板のほぼ全域に形成されたゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記
ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に対向させて形成さ
れた半導体膜および前記半導体膜の両側部の上に形成さ
れたソース電極およびドレイン電極とからなる複数の薄
膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前
記複数の薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された
複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域
を前記補償容量配線に対向させて形成され前記補償容量
配線との間に補償容量を形成するとともに前記複数の薄
膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数
の画素電極とが設けられ、他方の基板の内面に、前記複
数の画素電極に対向する対向電極が設けられ、前記一対
の基板のいずれかの内面に、前記複数の画素電極にそれ
ぞれ対応する複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が、所定面積の画素領域全体に対応する外
形を有し、且つ細長いスリット部を設けた形状に形成さ
れ、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素電極より
も小さい面積を有する形状に形成されていることを特徴
とする液晶表示素子。
【請求項６】前記スリット部の幅は４μｍ以下であるこ
とを特徴とする請求項５に記載の液晶表示素子。
【請求項７】前記スリット部は、前記画素電極の前記補
償容量配線との対向部を除く領域に、そのほぼ全域に分
布させて設けられていることを特徴とする請求項５また
は６に記載の液晶表示素子。
【請求項８】前記ゲート絶縁膜に、前記画素電極の前記
スリット部に対応するスリット部が設けられていること
を特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の液晶表示
素子。
【請求項９】液晶層をはさんで対向する一対の基板のう
ちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形成
した複数のゲート配線と、複数の補償容量配線と、これ
らの配線を覆って前記基板のほぼ全域に形成されたゲー
ト絶縁膜と、前記ゲート電極およびゲート絶縁膜と前記
ゲート絶縁膜の上に前記ゲート電極に対向させて形成さ
れた半導体膜および前記半導体膜の両側部の上に形成さ
れたソース電極およびドレイン電極とからなる複数の薄
膜トランジスタと、前記ゲート絶縁膜の上に形成され前
記複数の薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された
複数のデータ配線と、前記ゲート絶縁膜の上に所定領域
を前記補償容量配線に対向させて形成され前記補償容量
配線との間に補償容量を形成するとともに前記複数の薄
膜トランジスタのソース電極にそれぞれ接続された複数
の画素電極とが設けられ、他方の基板の内面に、前記複
数の画素電極に対向する対向電極が設けられ、前記一対
の基板のいずれかの内面に、前記複数の画素電極にそれ
ぞれ対応する複数の色の着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が所定面積の画素領域全体に対応する形状
に形成され、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素
電極よりも小さい面積を有する形状に形成され、前記デ
ータ配線が透明導電膜で形成されていることを特徴とす
る液晶表示素子。
【請求項１０】液晶層をはさんで対向する一対の基板の
うちの一方の基板の内面に、所定箇所にゲート電極を形
成した複数のゲート配線と、これらの配線を覆って前記
基板のほぼ全域に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲー
ト電極およびゲート絶縁膜と前記ゲート絶縁膜の上に前
記ゲート電極に対向させて形成された半導体膜および前
記半導体膜の両側部の上に形成されたソース電極および
ドレイン電極とからなる複数の薄膜トランジスタと、前
記ゲート絶縁膜の上に形成され前記複数の薄膜トランジ
スタのドレイン電極に接続された複数のデータ配線と、
前記ゲート絶縁膜の上に所定領域を前記ゲート配線に対
向させて形成され前記ゲート配線との間に補償容量を形
成するとともに前記複数の薄膜トランジスタのソース電
極にそれぞれ接続された複数の画素電極とが設けられ、
他方の基板の内面に、前記複数の画素電極に対向する対
向電極が設けられ、前記一対の基板のいずれかの内面
に、前記複数の画素電極にそれぞれ対応する複数の色の
着色膜が設けられるとともに、前記画素電極が所定面積の画素領域全体に対応する形状
に形成され、前記複数の色の着色膜がそれぞれ前記画素
電極よりも小さい面積を有する形状に形成されているこ
とを特徴とする液晶表示素子。