JP2000086637A - ピラゾール化合物及びその製造法 - Google Patents
ピラゾール化合物及びその製造法Info
- Publication number
- JP2000086637A JP2000086637A JP10257106A JP25710698A JP2000086637A JP 2000086637 A JP2000086637 A JP 2000086637A JP 10257106 A JP10257106 A JP 10257106A JP 25710698 A JP25710698 A JP 25710698A JP 2000086637 A JP2000086637 A JP 2000086637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound represented
- pyrazole compound
- alkyl group
- pyrazole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
ピラゾール化合物及びその製造法
【課題】 医薬および農薬の製造中間体及びその製
造法を提供する。 【解決手段】 式： 【化１】 〔式中、Xはハロゲン原子を表し、Ｙはハロゲン原子、
ＯＣＯＣＦ3またはＯＲを表し、Ｒ及びＲ１はC1〜C4ア
ルキル基を表し、Ｒ２は水素原子またはC1〜C4アルキル
基を表す。〕で表わされるピラゾール化合物の製造法。
造法を提供する。 【解決手段】 式： 【化１】 〔式中、Xはハロゲン原子を表し、Ｙはハロゲン原子、
ＯＣＯＣＦ3またはＯＲを表し、Ｒ及びＲ１はC1〜C4ア
ルキル基を表し、Ｒ２は水素原子またはC1〜C4アルキル
基を表す。〕で表わされるピラゾール化合物の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬、農薬等の生
理活性物質の製造中間体として有用なピラゾール化合物
の新規製造法及び新規なピラゾール化合物に関する。
理活性物質の製造中間体として有用なピラゾール化合物
の新規製造法及び新規なピラゾール化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び課題】
【０００３】
【化１６】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表わす〕で表わされるピラゾール化
合物は、ＷＯ９７／４０００９に、殺虫殺ダニ活性化合
物の製造中間体として有用であることが記載されてい
る。
Xはハロゲン原子を表わす〕で表わされるピラゾール化
合物は、ＷＯ９７／４０００９に、殺虫殺ダニ活性化合
物の製造中間体として有用であることが記載されてい
る。
【０００４】５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオ
ロメチル−４−ピラゾールカルボン酸の製造法として
は、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２
７，２４３（１９９０）に５−ピラゾロン化合物をビル
スマイヤー反応に付した後、過マンガン酸カリで酸化す
る方法が記載されている。しかし、工業的な製造を考慮
した場合、ビルスマイヤー反応は、リン酸を含んだ排水
の処理等問題が多い。
ロメチル−４−ピラゾールカルボン酸の製造法として
は、Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．，２
７，２４３（１９９０）に５−ピラゾロン化合物をビル
スマイヤー反応に付した後、過マンガン酸カリで酸化す
る方法が記載されている。しかし、工業的な製造を考慮
した場合、ビルスマイヤー反応は、リン酸を含んだ排水
の処理等問題が多い。
【０００５】１−アルキル−５−ハロ−３−トリフルオ
ロメチル−４−メチルピラゾール類は従来知られておら
ず、従って、その合成法も知られていない。
ロメチル−４−メチルピラゾール類は従来知られておら
ず、従って、その合成法も知られていない。
【０００６】５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４
−メチルピラゾールは従来知られておらず、従って、そ
の合成法も知られていない。
−メチルピラゾールは従来知られておらず、従って、そ
の合成法も知られていない。
【０００７】１−アルキル−５−アミノ−３−トリフル
オロメチル−４−メチルピラゾール類の合成法として
は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．１９８（１
９９５）に３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−２
−メチルブタンニトリルと、メチルヒドラジンを反応さ
せる方法が記載されている。しかし、この方法は高価な
メチルヒドラジンを使用している。
オロメチル−４−メチルピラゾール類の合成法として
は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．１９８（１
９９５）に３−オキソ−４、４、４−トリフルオロ−２
−メチルブタンニトリルと、メチルヒドラジンを反応さ
せる方法が記載されている。しかし、この方法は高価な
メチルヒドラジンを使用している。
【０００８】トリフルオロ酢酸誘導体とプロピオニトリ
ルから３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メ
チルブタンニトリルを得る方法としては、例えば、
（１）Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．４７６
（１９９５）には、トリフルオロ酢酸エチルとプロピオ
ニトリルを水素化ナトリウム存在下に反応させる方法
が、また、（２）特開昭６２−９６４７９及び特開昭６
３−２６４４４８にはトリフルオロ酢酸メチルとプロピ
オニトリルをリチウムジイソプロピルアミド存在下に反
応させる方法が記載されている。しかし、工業的な製造
を考慮した場合、水素化ナトリウムやリチウムジイソプ
ロピルアミドの使用は経済面及び安全性の面から問題が
多く、他の工業的製造法が求められている。
ルから３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メ
チルブタンニトリルを得る方法としては、例えば、
（１）Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，Ｓｙｎｏｐ．４７６
（１９９５）には、トリフルオロ酢酸エチルとプロピオ
ニトリルを水素化ナトリウム存在下に反応させる方法
が、また、（２）特開昭６２−９６４７９及び特開昭６
３−２６４４４８にはトリフルオロ酢酸メチルとプロピ
オニトリルをリチウムジイソプロピルアミド存在下に反
応させる方法が記載されている。しかし、工業的な製造
を考慮した場合、水素化ナトリウムやリチウムジイソプ
ロピルアミドの使用は経済面及び安全性の面から問題が
多く、他の工業的製造法が求められている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至
った。
を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成するに至
った。
【００１０】すなわち、本発明は以下の〔１〕乃至
〔５〕記載の製造法並びに〔６〕及び〔７〕記載の新規
化合物に関するものである。 〔１〕 塩基としてt−ブトキシカリウムを用いて、式
（１）： ＣＦ3ＣＯＹ 〔式中、Ｙはハロゲン原子、ＯＣＯＣＦ3またはＯＲ
（ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を表わす。）を表す。〕で
表わされるトリフルオロ酢酸誘導体と、式（２）： ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ で表わされるプロピオニトリルを反応させることを特徴
とする、式（３）：
〔５〕記載の製造法並びに〔６〕及び〔７〕記載の新規
化合物に関するものである。 〔１〕 塩基としてt−ブトキシカリウムを用いて、式
（１）： ＣＦ3ＣＯＹ 〔式中、Ｙはハロゲン原子、ＯＣＯＣＦ3またはＯＲ
（ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を表わす。）を表す。〕で
表わされるトリフルオロ酢酸誘導体と、式（２）： ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ で表わされるプロピオニトリルを反応させることを特徴
とする、式（３）：
【００１１】
【化１７】 で表わされる化合物の製造法（以下、Ａ工程と称す
る。）。 〔２〕 式（３）：
る。）。 〔２〕 式（３）：
【００１２】
【化１８】 で表される化合物と、ヒドラジンを反応させることを特
徴とする、式（４）：
徴とする、式（４）：
【００１３】
【化１９】 で表されるピラゾール化合物の製造法（以下、Ｂ工程と
称する。）。 〔３〕 式（４）：
称する。）。 〔３〕 式（４）：
【００１４】
【化２０】 で表されるピラゾール化合物を、塩基の存在下でアルキ
ル化剤と反応させ、アルキル化することを特徴とする、
式（５）：
ル化剤と反応させ、アルキル化することを特徴とする、
式（５）：
【００１５】
【化２１】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表わされる
ピラゾール化合物の製造法（以下、Ｃ工程と称す
る。）。 〔４〕 式（４）：
ピラゾール化合物の製造法（以下、Ｃ工程と称す
る。）。 〔４〕 式（４）：
【００１６】
【化２２】 または式（５）：
【００１７】
【化２３】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表されるピ
ラゾール化合物を、鉱酸または有機酸の存在下亜硝酸供
給源を用いてジアゾニウム塩とし、次いで触媒作用のあ
るハロゲン供給源の存在下、または触媒及びハロゲン供
給源の存在下でジアゾ分解することを特徴とする式
（７）：
ラゾール化合物を、鉱酸または有機酸の存在下亜硝酸供
給源を用いてジアゾニウム塩とし、次いで触媒作用のあ
るハロゲン供給源の存在下、または触媒及びハロゲン供
給源の存在下でジアゾ分解することを特徴とする式
（７）：
【００１８】
【化２４】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物の製造法（以下、Ｄ工程と称する。また、R2がC1〜C4
アルキル基の場合はＤ１工程と称し、R2が水素原子の場
合はＤ２工程と称する。）。 〔５〕 式（７）：
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物の製造法（以下、Ｄ工程と称する。また、R2がC1〜C4
アルキル基の場合はＤ１工程と称し、R2が水素原子の場
合はＤ２工程と称する。）。 〔５〕 式（７）：
【００１９】
【化２５】 〔式中、R2水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、X
はハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物
を酸化することを特徴とする、式（８）：
はハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物
を酸化することを特徴とする、式（８）：
【００２０】
【化２６】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表わされるピラゾール化
合物の製造法（以下、Ｅ工程と称する。）。 〔６〕 式（４）：
Xはハロゲン原子を表す。〕で表わされるピラゾール化
合物の製造法（以下、Ｅ工程と称する。）。 〔６〕 式（４）：
【００２１】
【化２７】 で表わされるピラゾール化合物。 〔７〕 式（７）：
【００２２】
【化２８】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物。
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物。
【００２３】なお、式（３）：
【００２４】
【化２９】 で表される化合物と式（６）： Ｒ１−ＮＨＮＨ2 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表わされる
アルキルヒドラジンを反応させることにより式（５）：
アルキルヒドラジンを反応させることにより式（５）：
【００２５】
【化３０】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕のピラゾール
化合物を製造する方法を、以下、Ｆ工程と称する。
化合物を製造する方法を、以下、Ｆ工程と称する。
【００２６】各工程の関係は、式
【００２７】
【化３１】 として表すことができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】本発明では、上記Ａ工程〜Ｆ工程
を複数連続して実施してもよく、例えば、Ａ工程→Ｂ工
程（Ａ工程を実施後、次いでＢ工程を実施することを意
味する。以下、同様に記載する。）、Ｂ工程→Ｃ工程、
Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ工程、Ａ工程→Ｆ工程、Ｃ工程→Ｄ
１工程、Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｂ工程→
Ｃ工程→Ｄ１工程、Ｆ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｆ工程
→Ｄ１工程、Ｂ工程→Ｄ２工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｄ２
工程、Ｄ工程→Ｅ工程、Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ
工程→Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ
工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、
Ａ工程→Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ工程→Ｄ２工程
→Ｅ工程及びＡ工程→Ｂ工程→Ｄ２工程→Ｅ工程が挙げ
られる。
を複数連続して実施してもよく、例えば、Ａ工程→Ｂ工
程（Ａ工程を実施後、次いでＢ工程を実施することを意
味する。以下、同様に記載する。）、Ｂ工程→Ｃ工程、
Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ工程、Ａ工程→Ｆ工程、Ｃ工程→Ｄ
１工程、Ｂ工程→Ｃ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｂ工程→
Ｃ工程→Ｄ１工程、Ｆ工程→Ｄ１工程、Ａ工程→Ｆ工程
→Ｄ１工程、Ｂ工程→Ｄ２工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｄ２
工程、Ｄ工程→Ｅ工程、Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ
工程→Ｃ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ａ工程→Ｂ工程→Ｃ
工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、
Ａ工程→Ｆ工程→Ｄ１工程→Ｅ工程、Ｂ工程→Ｄ２工程
→Ｅ工程及びＡ工程→Ｂ工程→Ｄ２工程→Ｅ工程が挙げ
られる。
【００２９】式（１）、（５）、（６）、（７）及び
（８）におけるＲ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹの例を説明す
る。Ｒ、Ｒ１及びＲ２の定義におけるＣ1〜Ｃ4のアルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、ｉ
ｓｏ−プロピル基、n−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基があげられ
る。Ｘ及びＹの定義におけるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があげら
れる。
（８）におけるＲ、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ及びＹの例を説明す
る。Ｒ、Ｒ１及びＲ２の定義におけるＣ1〜Ｃ4のアルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、n−プロピル基、ｉ
ｓｏ−プロピル基、n−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基があげられ
る。Ｘ及びＹの定義におけるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があげら
れる。
【００３０】（Ａ工程）Ａ工程における式（３）の化合
物は、は式
物は、は式
【００３１】
【化３２】 で表わされる互変異性形で存在しうる。また、式（３）
の化合物は式
の化合物は式
【００３２】
【化３３】 で表わされる水和物としても存在する。
【００３３】Ａ工程における式（２）のプロピオニトリ
ルの使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モ
ルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは０．９
〜５モルを用いる。反応に用いるt−ブトキシカリウム
の使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モル
に対して、通常０．５〜５モル、好ましくは１〜３モル
を用いる。
ルの使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モ
ルに対して、通常０．５〜１０モル、好ましくは０．９
〜５モルを用いる。反応に用いるt−ブトキシカリウム
の使用量は、式（１）のトリフルオロ酢酸誘導体１モル
に対して、通常０．５〜５モル、好ましくは１〜３モル
を用いる。
【００３４】Ａ工程は、反応に不活性な溶媒中で行うこ
とができ、溶媒としてはベンゼン及びトルエン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及
び１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、N，N−ジ
メチルホルムアミド及びN，N−ジメチルアセトアミド等
のアミド類、 t−ブタノール、ジメチルスルホキシド、
スルホラン並びにこれらの混合溶媒等が挙げられる。反
応温度は、通常−３０℃〜１５０℃、好ましくは０℃か
ら１００℃の範囲で行う。反応終了後は、反応液を塩酸
等で酸性にした後、適当な有機溶媒で抽出することで、
目的物を得ることができる。また必要に応じて反応溶媒
を減圧留去等で除去後に同様の操作を行い、目的物を得
ることもできる。また、この物は、蒸留、カラムクロマ
トグラフィー等の精製法によって精製することができ
る。
とができ、溶媒としてはベンゼン及びトルエン等の芳香
族炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及
び１，２−ジエトキシエタン等のエーテル類、N，N−ジ
メチルホルムアミド及びN，N−ジメチルアセトアミド等
のアミド類、 t−ブタノール、ジメチルスルホキシド、
スルホラン並びにこれらの混合溶媒等が挙げられる。反
応温度は、通常−３０℃〜１５０℃、好ましくは０℃か
ら１００℃の範囲で行う。反応終了後は、反応液を塩酸
等で酸性にした後、適当な有機溶媒で抽出することで、
目的物を得ることができる。また必要に応じて反応溶媒
を減圧留去等で除去後に同様の操作を行い、目的物を得
ることもできる。また、この物は、蒸留、カラムクロマ
トグラフィー等の精製法によって精製することができ
る。
【００３５】（Ｂ工程）Ｂ工程における無置換ヒドラジ
ンは、水和物、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような無機
塩の形でも使用できる。無置換ヒドラジンの使用量は、
基質１モルに対して通常０．５〜１０モル、好ましくは
０．８〜５モルの範囲で使用できる。反応温度は通常−
１０〜２００℃、好ましくは１０〜１５０℃の範囲で行
われる。
ンは、水和物、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような無機
塩の形でも使用できる。無置換ヒドラジンの使用量は、
基質１モルに対して通常０．５〜１０モル、好ましくは
０．８〜５モルの範囲で使用できる。反応温度は通常−
１０〜２００℃、好ましくは１０〜１５０℃の範囲で行
われる。
【００３６】（Ｃ工程）Ｃ工程におけるアルキル化剤と
しては、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化
エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭
化プロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化
イソプロピル、ヨウ化イソプロピル、塩化ブチル、臭化
ブチル、ヨウ化ブチル、塩化イソブチル、臭化イソブチ
ル、ヨウ化イソブチル、塩化ｓｅｃ−ブチル、臭化ｓｅ
ｃ−ブチル及びヨウ化ｓｅｃ−ブチル等のハロゲン化ア
ルキル類、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、炭酸ジメチル
及びギ酸メチル等のエステル類が挙げられる。アルキル
化剤の使用量は基質１モルに対して、通常、０．５〜２
０の範囲、好ましくは０．５〜５モルの範囲が良い。
しては、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、塩化
エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、塩化プロピル、臭
化プロピル、ヨウ化プロピル、塩化イソプロピル、臭化
イソプロピル、ヨウ化イソプロピル、塩化ブチル、臭化
ブチル、ヨウ化ブチル、塩化イソブチル、臭化イソブチ
ル、ヨウ化イソブチル、塩化ｓｅｃ−ブチル、臭化ｓｅ
ｃ−ブチル及びヨウ化ｓｅｃ−ブチル等のハロゲン化ア
ルキル類、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸、炭酸ジメチル
及びギ酸メチル等のエステル類が挙げられる。アルキル
化剤の使用量は基質１モルに対して、通常、０．５〜２
０の範囲、好ましくは０．５〜５モルの範囲が良い。
【００３７】Ｃ工程における塩基としては水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水素化リチウム、金属ナトリウ
ム、金属カリウム、金属リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水
酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム及び酸化カルシ
ウム等の無機塩基並びにナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキ
シド、t−ブトキシカリウム、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ブチルリチウム及びリチウム
ジイソプロピルアミド等の有機塩基が挙げられる。塩基
の使用量は基質１モルに対して、通常０．５〜２０モル
の範囲が良い。Ｃ工程における反応温度は、通常−１０
〜２００℃の範囲が採用される。
ウム、水素化カリウム、水素化リチウム、金属ナトリウ
ム、金属カリウム、金属リチウム、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水
酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム及び酸化カルシ
ウム等の無機塩基並びにナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキ
シド、t−ブトキシカリウム、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン、ピリジン、ブチルリチウム及びリチウム
ジイソプロピルアミド等の有機塩基が挙げられる。塩基
の使用量は基質１モルに対して、通常０．５〜２０モル
の範囲が良い。Ｃ工程における反応温度は、通常−１０
〜２００℃の範囲が採用される。
【００３８】（Ｆ工程）Ｆ工程における式（６）のアル
キルヒドラジンは、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような
無機塩の形でも使用できる。式（６）のアルキルヒドラ
ジンの使用量は、基質１モルに対して通常０．５〜１０
モル、好ましくは０．８〜５モルの範囲で使用できる。
反応温度は通常−１０〜２００℃、好ましくは１０〜１
５０℃の範囲で行われる。
キルヒドラジンは、水溶液及び塩酸塩や硫酸塩のような
無機塩の形でも使用できる。式（６）のアルキルヒドラ
ジンの使用量は、基質１モルに対して通常０．５〜１０
モル、好ましくは０．８〜５モルの範囲で使用できる。
反応温度は通常−１０〜２００℃、好ましくは１０〜１
５０℃の範囲で行われる。
【００３９】（Ｂ、Ｃ及びＦ工程）Ｂ工程、Ｃ工程及び
Ｆ工程における反応は、無溶媒でも可能であるが、溶媒
も使用できる。溶媒としては、ヘキサン及びヘプタン等
の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン及び１，１，１−ト
リクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、
トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン及び３，４−ジクロロトルエ
ン等のハロゲン置換芳香族炭化水素類、アニソール及び
１，２−ジメトキシベンゼン等のアルコキシ置換芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、
メチルターシャリーブチルエーテル、エチレングリコー
ルジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、ブタノール及びアミル
アルコール等のアルコール類並びにN，N−ジメチルホル
ムアミド及びアセトニトリル等の非プロトン極性溶媒が
挙げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散して
も使用できる。また、場合によっては水との２層系で反
応を行うこともできる。
Ｆ工程における反応は、無溶媒でも可能であるが、溶媒
も使用できる。溶媒としては、ヘキサン及びヘプタン等
の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン及び１，１，１−ト
リクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、
トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン及び３，４−ジクロロトルエ
ン等のハロゲン置換芳香族炭化水素類、アニソール及び
１，２−ジメトキシベンゼン等のアルコキシ置換芳香族
炭化水素類、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、
メチルターシャリーブチルエーテル、エチレングリコー
ルジブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテ
ル類、メタノール、エタノール、ブタノール及びアミル
アルコール等のアルコール類並びにN，N−ジメチルホル
ムアミド及びアセトニトリル等の非プロトン極性溶媒が
挙げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散して
も使用できる。また、場合によっては水との２層系で反
応を行うこともできる。
【００４０】反応終了後は必要に応じて溶媒を減圧留去
後、反応混合物中に水を加え、有機溶媒で抽出すること
で目的物を得ることができる。また、この物は、再結晶
及びカラムクロマトグラフィー等の精製法によって精製
することができる。
後、反応混合物中に水を加え、有機溶媒で抽出すること
で目的物を得ることができる。また、この物は、再結晶
及びカラムクロマトグラフィー等の精製法によって精製
することができる。
【００４１】（Ｄ工程）Ｄ工程は式（４）または式
（５）のアミノピラゾール化合物をジアゾニウム塩に誘
導するジアゾ化工程、及び生成したジアゾニウム塩を分
解して式（７）のピラゾール化合物を得る分解工程から
なっている。
（５）のアミノピラゾール化合物をジアゾニウム塩に誘
導するジアゾ化工程、及び生成したジアゾニウム塩を分
解して式（７）のピラゾール化合物を得る分解工程から
なっている。
【００４２】
【化３４】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕 ジアゾ化工程で用いられる酸としては、例えば、塩酸、
臭化水素酸、硫酸及びリン酸等の鉱酸並びに酢酸等の有
機酸を用いることができるが、鉱酸を用いるのが好まし
い。またこれらの混合物を用いてもよい。
Xはハロゲン原子を表す。〕 ジアゾ化工程で用いられる酸としては、例えば、塩酸、
臭化水素酸、硫酸及びリン酸等の鉱酸並びに酢酸等の有
機酸を用いることができるが、鉱酸を用いるのが好まし
い。またこれらの混合物を用いてもよい。
【００４３】ジアゾ化工程の温度は通常−３０〜５０
℃、好ましくは−１０℃〜室温の範囲で行われる。
℃、好ましくは−１０℃〜室温の範囲で行われる。
【００４４】亜硝酸供給源としては、亜硝酸ナトリウ
ム、亜硝酸カリウム及び亜硝酸カルシウム等の亜硝酸
塩、塩化ニトロシル、三二酸化窒素及び一酸化窒素等の
無機化合物、亜硝酸アミル、亜硝酸ｔ−ブチル及び亜硝
酸メチル等の亜硝酸エステルを用いることができるが、
亜硝酸塩を用いるのが好ましい。
ム、亜硝酸カリウム及び亜硝酸カルシウム等の亜硝酸
塩、塩化ニトロシル、三二酸化窒素及び一酸化窒素等の
無機化合物、亜硝酸アミル、亜硝酸ｔ−ブチル及び亜硝
酸メチル等の亜硝酸エステルを用いることができるが、
亜硝酸塩を用いるのが好ましい。
【００４５】亜硝酸供給源の使用量は、基質１モルに対
して０．５〜１０モル、好ましくは０．８〜３モルの範
囲が良い。
して０．５〜１０モル、好ましくは０．８〜３モルの範
囲が良い。
【００４６】分解工程では塩化銅、酢酸銅、銅粉及び硫
酸銅と食塩との混合物等の銅系触媒並びに二酸化イオウ
をジアゾ分解触媒として用いて分解を行う。ジアゾ分解
触媒として塩化銅のようなハロゲン供給源を用いない場
合は、塩酸、臭化水素酸及びヨウ化カリウム等のハロゲ
ン供給源を添加するか、ジアゾニウム塩の合成時に塩酸
及び臭化水素酸、ＨＢＦ4等の存在下で行う。
酸銅と食塩との混合物等の銅系触媒並びに二酸化イオウ
をジアゾ分解触媒として用いて分解を行う。ジアゾ分解
触媒として塩化銅のようなハロゲン供給源を用いない場
合は、塩酸、臭化水素酸及びヨウ化カリウム等のハロゲ
ン供給源を添加するか、ジアゾニウム塩の合成時に塩酸
及び臭化水素酸、ＨＢＦ4等の存在下で行う。
【００４７】分解工程の温度は通常−３０〜８０℃、ジ
アゾニウムテトラフルオロボラートの熱分解（Ｓｃｈｉ
ｅｍａｎｎ反応）の場合は室温〜２００℃の範囲で行わ
れる。
アゾニウムテトラフルオロボラートの熱分解（Ｓｃｈｉ
ｅｍａｎｎ反応）の場合は室温〜２００℃の範囲で行わ
れる。
【００４８】（Ｅ工程）Ｅ工程における酸化方法として
は、１）過マンガン酸カリウム、２）活性二酸化マンガ
ン、３）二クロム酸塩、４）酸化クロム（VI）、５）酸
化鉛（IV）、６）硝酸酸化及び７）触媒存在下での酸素
酸化等が挙げられる。以下にそれぞれについて、詳しく
述べる。
は、１）過マンガン酸カリウム、２）活性二酸化マンガ
ン、３）二クロム酸塩、４）酸化クロム（VI）、５）酸
化鉛（IV）、６）硝酸酸化及び７）触媒存在下での酸素
酸化等が挙げられる。以下にそれぞれについて、詳しく
述べる。
【００４９】１）過マンガン酸カリウムの使用量は、式
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．５〜１０
モル、好ましくは１．０〜５モルの範囲が良い。反応温
度は室温〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１２０℃の範
囲が良い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用い
ることもできる。溶媒としては、水が一般的であるが反
応に対して安定なものであれば用いることができる。例
としてアセトン、酢酸及びピリジンなどが挙げられる。
また、それらと水との混合溶媒を用いることもできる。
反応は中性条件以外に、塩酸及び硫酸等の鉱酸並びに酢
酸を添加した酸性条件や、水酸化ナトリウム及び水酸化
カリウム等の無機塩基並びにピリジン等の有機塩基を添
加した塩基性条件下でも行うことができる。
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．５〜１０
モル、好ましくは１．０〜５モルの範囲が良い。反応温
度は室温〜１５０℃、好ましくは５０℃〜１２０℃の範
囲が良い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用い
ることもできる。溶媒としては、水が一般的であるが反
応に対して安定なものであれば用いることができる。例
としてアセトン、酢酸及びピリジンなどが挙げられる。
また、それらと水との混合溶媒を用いることもできる。
反応は中性条件以外に、塩酸及び硫酸等の鉱酸並びに酢
酸を添加した酸性条件や、水酸化ナトリウム及び水酸化
カリウム等の無機塩基並びにピリジン等の有機塩基を添
加した塩基性条件下でも行うことができる。
【００５０】２）活性二酸化マンガンの使用量は、式
（７）のピラゾール１モルに対して、通常１〜３０モ
ル、好ましくは２〜２０モルの範囲が良い。反応温度は
０℃〜１５０℃、好ましくは室温〜１２０℃の範囲が良
い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いること
もできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであ
れば用いることができる。一般的にはヘキサン、ヘプタ
ン等の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素及び１，１，１−トリクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン及びキシレ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン及び３，４−ジクロロトルエン等のハロゲン置換
芳香族炭化水素類、アニソール及び１，２−ジメトキシ
ベンゼン等のアルコキシ置換芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルターシャリー
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン及びジオキサン等のエーテル類及び酢酸エチ
ル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン及び
メチルイソブチルケトン等のケトン類、N，N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド並びに硫酸等が挙
げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても
使用できる。
（７）のピラゾール１モルに対して、通常１〜３０モ
ル、好ましくは２〜２０モルの範囲が良い。反応温度は
０℃〜１５０℃、好ましくは室温〜１２０℃の範囲が良
い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いること
もできる。溶媒としては、反応に対して安定なものであ
れば用いることができる。一般的にはヘキサン、ヘプタ
ン等の脂肪族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素及び１，１，１−トリクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン及びキシレ
ン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼン及び３，４−ジクロロトルエン等のハロゲン置換
芳香族炭化水素類、アニソール及び１，２−ジメトキシ
ベンゼン等のアルコキシ置換芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル、メチルターシャリー
ブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン及びジオキサン等のエーテル類及び酢酸エチ
ル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン及び
メチルイソブチルケトン等のケトン類、N，N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド並びに硫酸等が挙
げられる。上記溶媒の２種以上を混合または分散しても
使用できる。
【００５１】３）二クロム酸塩としては、二クロム酸カ
リウム（Ｋ2Ｃｒ2Ｏ7）と二クロム酸ナトリウム（Ｎａ2
Ｃｒ2Ｏ7）が挙げられる。二クロム酸塩の使用量は、式
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０
モル、好ましくは１〜５モルの範囲が良い。反応温度は
０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は無溶媒でも可能で
あるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反
応に対して安定なものであれば用いることができる。一
般的には、水、硫酸及び酢酸等が用いられる。上記溶媒
の２種以上を混合または分散しても使用できる。濃硫酸
を使用する場合、用いる量は、二クロム酸塩に対して通
常１〜１０モル倍、好ましくは１〜６モル倍の範囲が良
い。
リウム（Ｋ2Ｃｒ2Ｏ7）と二クロム酸ナトリウム（Ｎａ2
Ｃｒ2Ｏ7）が挙げられる。二クロム酸塩の使用量は、式
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０
モル、好ましくは１〜５モルの範囲が良い。反応温度は
０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は無溶媒でも可能で
あるが、溶媒を用いることもできる。溶媒としては、反
応に対して安定なものであれば用いることができる。一
般的には、水、硫酸及び酢酸等が用いられる。上記溶媒
の２種以上を混合または分散しても使用できる。濃硫酸
を使用する場合、用いる量は、二クロム酸塩に対して通
常１〜１０モル倍、好ましくは１〜６モル倍の範囲が良
い。
【００５２】４）酸化クロム（VI）の使用量は、式
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０
モルの範囲が良い。反応温度は０℃〜１５０℃の範囲が
良い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いるこ
ともできる。溶媒としては、反応に対して安定なもので
あれば用いることができる。一般的には、水、硫酸、酢
酸及び無水酢酸等が用いられる。上記溶媒の２種以上を
混合または分散しても使用できる。
（７）のピラゾール１モルに対して、通常０．８〜１０
モルの範囲が良い。反応温度は０℃〜１５０℃の範囲が
良い。反応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いるこ
ともできる。溶媒としては、反応に対して安定なもので
あれば用いることができる。一般的には、水、硫酸、酢
酸及び無水酢酸等が用いられる。上記溶媒の２種以上を
混合または分散しても使用できる。
【００５３】５）酸化鉛（IV）の使用量は、式（７）の
ピラゾール１モルに対して、通常０．８〜２０モルの範
囲が良い。反応温度は０℃〜３００℃の範囲が良い。反
応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもでき
る。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用
いることができる。一般的には、水及び酢酸等の低級脂
肪酸が用いられる。上記溶媒の２種以上を混合または分
散しても使用できる。また、水を溶媒として用いる場
合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム等を添加
して反応をおこなうこともできる。
ピラゾール１モルに対して、通常０．８〜２０モルの範
囲が良い。反応温度は０℃〜３００℃の範囲が良い。反
応は無溶媒でも可能であるが、溶媒を用いることもでき
る。溶媒としては、反応に対して安定なものであれば用
いることができる。一般的には、水及び酢酸等の低級脂
肪酸が用いられる。上記溶媒の２種以上を混合または分
散しても使用できる。また、水を溶媒として用いる場
合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウム等を添加
して反応をおこなうこともできる。
【００５４】６）硝酸酸化では、通常希硝酸あるいは濃
硝酸の形で、溶媒も兼ねて反応が行われる。希硝酸ある
いは濃硝酸の使用量は、式（７）のピラゾール１重量部
に対して、通常１〜３０重量部の範囲が良い。反応温度
は０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は加圧条件下で行
うこともできる。圧力の範囲としては、常圧〜５０ＭＰ
ａが良い。
硝酸の形で、溶媒も兼ねて反応が行われる。希硝酸ある
いは濃硝酸の使用量は、式（７）のピラゾール１重量部
に対して、通常１〜３０重量部の範囲が良い。反応温度
は０℃〜３００℃の範囲が良い。反応は加圧条件下で行
うこともできる。圧力の範囲としては、常圧〜５０ＭＰ
ａが良い。
【００５５】７）触媒存在下での酸素酸化に使用される
金属化合物触媒としては、ギ酸コバルト、酢酸コバル
ト、オクチル酸コバルト及びナフテン酸コバルト等の有
機酸コバルト塩、コバルトアセチルアセトナト等のキレ
ート化合物、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバ
ルト及び炭酸コバルト等のコバルト塩、ギ酸マンガン、
酢酸マンガン、オクチル酸マンガン及びナフテン酸マン
ガン等の有機酸マンガン塩、マンガンアセチルアセトナ
ト等のキレート化合物、塩化マンガン、臭化マンガン、
ヨウ化マンガン及び炭酸マンガン等のマンガン塩、ギ酸
セリウム、酢酸セリウム、オクチル酸セリウム及びナフ
テン酸セリウム等の有機酸セリウム塩、セリウムアセチ
ルアセトナト等のキレート化合物、塩化セリウム、臭化
セリウム、ヨウ化セリウム、炭酸セリウム等のセリウム
塩、ギ酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、オクチル酸
ジルコニウム及びナフテン酸ジルコニウム等の有機酸ジ
ルコニウム塩、ジルコニウムアセチルアセトナト等のキ
レート化合物並びに塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウ
ム、ヨウ化ジルコニウム及び炭酸ジルコニウム等のジル
コニウム塩等が挙げられ、これらの化合物が単独に、ま
たは組み合せて触媒として使用されるが、反応性、経済
性等を考慮すると、コバルトおよび／またはマンガンの
化合物を用いることが好ましい。
金属化合物触媒としては、ギ酸コバルト、酢酸コバル
ト、オクチル酸コバルト及びナフテン酸コバルト等の有
機酸コバルト塩、コバルトアセチルアセトナト等のキレ
ート化合物、塩化コバルト、臭化コバルト、ヨウ化コバ
ルト及び炭酸コバルト等のコバルト塩、ギ酸マンガン、
酢酸マンガン、オクチル酸マンガン及びナフテン酸マン
ガン等の有機酸マンガン塩、マンガンアセチルアセトナ
ト等のキレート化合物、塩化マンガン、臭化マンガン、
ヨウ化マンガン及び炭酸マンガン等のマンガン塩、ギ酸
セリウム、酢酸セリウム、オクチル酸セリウム及びナフ
テン酸セリウム等の有機酸セリウム塩、セリウムアセチ
ルアセトナト等のキレート化合物、塩化セリウム、臭化
セリウム、ヨウ化セリウム、炭酸セリウム等のセリウム
塩、ギ酸ジルコニウム、酢酸ジルコニウム、オクチル酸
ジルコニウム及びナフテン酸ジルコニウム等の有機酸ジ
ルコニウム塩、ジルコニウムアセチルアセトナト等のキ
レート化合物並びに塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウ
ム、ヨウ化ジルコニウム及び炭酸ジルコニウム等のジル
コニウム塩等が挙げられ、これらの化合物が単独に、ま
たは組み合せて触媒として使用されるが、反応性、経済
性等を考慮すると、コバルトおよび／またはマンガンの
化合物を用いることが好ましい。
【００５６】またもう一方の触媒成分である臭素化合物
としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウ
ム、臭化アンモニウム、臭素、臭化水素、四臭化炭素、
ブロモホルム、二臭化エチレン、臭化メチル及び臭化エ
チル等の無機、有機の臭素化合物を用いることができ
る。汎用性、経済性及び反応性等を考慮すると臭化ナト
リウム、臭化カリウム及び臭化アンモニウム等の塩類ま
たは臭化水素を用いることが好ましい。また前述の金属
成分との塩として、臭化コバルト、臭化マンガン及び臭
化セリウム等を用いることも好ましい。これら金属およ
び臭素の触媒としての使用量は、式（７）のピラゾール
化合物に対して、各々０.００１〜２０モル％の範囲で
選択するが、特に０.０１〜１０モル％が好ましい。実
際にはこの濃度範囲の中で、最適な反応活性が得られる
ように、各成分の触媒組成を調整することが、経済的に
も好ましい。例えば、ピラゾール化合物に対して、酢酸
コバルト０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０１〜１モ
ル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％である触媒組
成、酢酸セリウム０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０
１〜１モル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％であ
る触媒組成及び臭化コバルト０.５〜５モル％、臭化マ
ンガン０.０１〜１モル％である触媒組成等は、極めて
優れた反応の活性と選択性を有している。
としては、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウ
ム、臭化アンモニウム、臭素、臭化水素、四臭化炭素、
ブロモホルム、二臭化エチレン、臭化メチル及び臭化エ
チル等の無機、有機の臭素化合物を用いることができ
る。汎用性、経済性及び反応性等を考慮すると臭化ナト
リウム、臭化カリウム及び臭化アンモニウム等の塩類ま
たは臭化水素を用いることが好ましい。また前述の金属
成分との塩として、臭化コバルト、臭化マンガン及び臭
化セリウム等を用いることも好ましい。これら金属およ
び臭素の触媒としての使用量は、式（７）のピラゾール
化合物に対して、各々０.００１〜２０モル％の範囲で
選択するが、特に０.０１〜１０モル％が好ましい。実
際にはこの濃度範囲の中で、最適な反応活性が得られる
ように、各成分の触媒組成を調整することが、経済的に
も好ましい。例えば、ピラゾール化合物に対して、酢酸
コバルト０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０１〜１モ
ル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％である触媒組
成、酢酸セリウム０.５〜５モル％、酢酸マンガン０.０
１〜１モル％、臭化ナトリウム０.５〜１０モル％であ
る触媒組成及び臭化コバルト０.５〜５モル％、臭化マ
ンガン０.０１〜１モル％である触媒組成等は、極めて
優れた反応の活性と選択性を有している。
【００５７】また、前記の金属触媒及び臭素化合物を用
いない系として、ｔ−ＢｕＯＫ／ＤＭＳＯを使用するも
のがある。反応に用いる酸素含有ガスとしては、純酸素
ガスでも、純酸素または空気を反応に不活性なガスで希
釈した酸素含有ガスのいずれも用いることができる。反
応に不活性な希釈ガスとしては、窒素、アルゴン及び炭
酸ガス等が挙げられるが、汎用性から窒素ガスを用いる
ことが好ましく、一般には空気または空気に酸素または
窒素を添加して、所望の酸素ガス濃度としたものを用い
ることが好ましい。
いない系として、ｔ−ＢｕＯＫ／ＤＭＳＯを使用するも
のがある。反応に用いる酸素含有ガスとしては、純酸素
ガスでも、純酸素または空気を反応に不活性なガスで希
釈した酸素含有ガスのいずれも用いることができる。反
応に不活性な希釈ガスとしては、窒素、アルゴン及び炭
酸ガス等が挙げられるが、汎用性から窒素ガスを用いる
ことが好ましく、一般には空気または空気に酸素または
窒素を添加して、所望の酸素ガス濃度としたものを用い
ることが好ましい。
【００５８】反応中のガス全圧としては、通常常圧〜２
０Ｍｐａ、操作性、安全性等を考慮すると常圧〜１０Ｍ
ｐａの範囲から選択することが好ましい。また酸素ガス
分圧としては、０.０１〜１０Ｍｐａの範囲で選択する
が、一般には常圧〜５Ｍｐａが好ましい。反応温度は８
０〜３００℃、生産性、安全性等を考慮すると、１００
〜２５０℃で行なうことが好ましい。反応は、無溶媒で
も可能であるが、操作性、安全性の点から、溶媒を用い
て希釈条件下で行なうことが好ましい。溶媒としては、
反応に対して安定であるものであれば、用いることがで
きるが、一般には酢酸、プロピオン酸及び酪酸等の低級
脂肪酸類、特に酢酸が好ましい。
０Ｍｐａ、操作性、安全性等を考慮すると常圧〜１０Ｍ
ｐａの範囲から選択することが好ましい。また酸素ガス
分圧としては、０.０１〜１０Ｍｐａの範囲で選択する
が、一般には常圧〜５Ｍｐａが好ましい。反応温度は８
０〜３００℃、生産性、安全性等を考慮すると、１００
〜２５０℃で行なうことが好ましい。反応は、無溶媒で
も可能であるが、操作性、安全性の点から、溶媒を用い
て希釈条件下で行なうことが好ましい。溶媒としては、
反応に対して安定であるものであれば、用いることがで
きるが、一般には酢酸、プロピオン酸及び酪酸等の低級
脂肪酸類、特に酢酸が好ましい。
【００５９】なお、上記Ａ〜Ｆの各工程毎に目的物を精
製、単離せずに、任意の一連の工程を連続して実施する
こともできる。
製、単離せずに、任意の一連の工程を連続して実施する
こともできる。
【００６０】
【実施例】以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６１】（Ａ工程） 実施例１）t−ブトキシカリウム８６．７３ｇを乾燥THF
５００mlに溶解し、充分に窒素置換した後、５０℃に加
熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル５０．０ｇ、プロ
ピオニトリル２１．３０ｇ及び乾燥THF５０ｍｌの混合
溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさ
らに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去
後の反応液に、３５％塩酸７０ml及び水５００mlを加え
酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エ
チルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液７０４．４３
ｇをガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の
３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブ
タンニトリルが３７．０５ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率７０％であった。
この抽出液を減圧溶媒留去した後、減圧蒸留を行い、７
１．５〜７５．５℃／２０ｍｍＨｇの留分２５．５５ｇ
（ＧＣ分析値９５．４％）及び７６〜８０℃／２０ｍｍ
Ｈｇの留分１１．１３ｇ（ＧＣ分析値９０．０％）を得
た。
５００mlに溶解し、充分に窒素置換した後、５０℃に加
熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル５０．０ｇ、プロ
ピオニトリル２１．３０ｇ及び乾燥THF５０ｍｌの混合
溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちながらさ
らに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去
後の反応液に、３５％塩酸７０ml及び水５００mlを加え
酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢酸エ
チルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液７０４．４３
ｇをガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的の
３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブ
タンニトリルが３７．０５ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率７０％であった。
この抽出液を減圧溶媒留去した後、減圧蒸留を行い、７
１．５〜７５．５℃／２０ｍｍＨｇの留分２５．５５ｇ
（ＧＣ分析値９５．４％）及び７６〜８０℃／２０ｍｍ
Ｈｇの留分１１．１３ｇ（ＧＣ分析値９０．０％）を得
た。
【００６２】実施例２）t−ブトキシカリウム８．６７
ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸メチル４．５
１ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥THF５ｍｌ
の混合溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちな
がらさらに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶
媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び水１００mlを
加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢
酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロ
マトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−
４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリル
が３．６７ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸メ
チルを基準にして収率６９％であった。
ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸メチル４．５
１ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥THF５ｍｌ
の混合溶液を１．５時間で滴下した。同じ温度を保ちな
がらさらに５時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。溶
媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び水１００mlを
加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。水層から酢
酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合わせて水で洗浄
した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出液をガスクロ
マトグラフィーで分析したところ、目的の３−オキソ−
４，４，４−トリフルオロ−２−メチルブタンニトリル
が３．６７ｇ含まれていた。これはトリフルオロ酢酸メ
チルを基準にして収率６９％であった。
【００６３】実施例３）t−ブトキシカリウム５．１３
ｇを乾燥トルエン１００mlに溶解し、充分に窒素置換し
た後、５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル
５ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥トルエン５
ｍｌの混合溶液を１時間で滴下した。同じ温度を保ちな
がらさらに５時間撹拌した後、反応液に３５％塩酸５ml
及び水１００mlを加え酸性にした後、有機層を分離し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが２．５５ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率４８％であった。
ｇを乾燥トルエン１００mlに溶解し、充分に窒素置換し
た後、５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチル
５ｇ、プロピオニトリル４．２６ｇ及び乾燥トルエン５
ｍｌの混合溶液を１時間で滴下した。同じ温度を保ちな
がらさらに５時間撹拌した後、反応液に３５％塩酸５ml
及び水１００mlを加え酸性にした後、有機層を分離し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが２．５５ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率４８％であった。
【００６４】実施例４）t−ブトキシカリウム８．６７
ｇをt−ブタノール５０mlに溶解し、充分に窒素置換し
た後、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 上記の
混合液を５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチ
ル５ｇ及びt−ブタノール５ｍｌの混合溶液を１時間で
滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した
後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に３５％
塩酸７ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチ
ルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の
有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したと
ころ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−
２−メチルブタンニトリルが３．５７ｇ含まれていた。
これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率６７％
であった。
ｇをt−ブタノール５０mlに溶解し、充分に窒素置換し
た後、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 上記の
混合液を５０℃に加熱した中に、トリフルオロ酢酸エチ
ル５ｇ及びt−ブタノール５ｍｌの混合溶液を１時間で
滴下した。同じ温度を保ちながらさらに５時間撹拌した
後、溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の反応液に３５％
塩酸７ml及び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチ
ルで抽出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の
有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで
乾燥後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したと
ころ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−
２−メチルブタンニトリルが３．５７ｇ含まれていた。
これはトリフルオロ酢酸エチルを基準にして収率６７％
であった。
【００６５】実施例５）t−ブトキシカリウム８．６７
ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
室温でトリフルオロ酢酸エチル５ｇ、プロピオニトリル
２．１３ｇ及び乾燥THF５ｍｌの混合溶液を１時間で滴
下した。その後、室温で３日間撹拌した後、溶媒を減圧
留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び
水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが３．２７ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率６２％であった。
ｇを乾燥THF５０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
室温でトリフルオロ酢酸エチル５ｇ、プロピオニトリル
２．１３ｇ及び乾燥THF５ｍｌの混合溶液を１時間で滴
下した。その後、室温で３日間撹拌した後、溶媒を減圧
留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸５ml及び
水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが３．２７ｇ含まれていた。これはトリ
フルオロ酢酸エチルを基準にして収率６２％であった。
【００６６】実施例６）乾燥THF２５mlにトリフルオロ
酢酸クロリド４．７３ｇを室温で吹き込み、溶解させた
ところに、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 t−
ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF３０mlに溶解し
た中に上記の混合液を、３０℃以下になるように冷却し
ながら２時間で滴下した。室温で１時間撹拌後、溶媒を
減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、１N塩酸水溶液
７０mlと水３０mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽
出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層
と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２
−メチルブタンニトリルが５．２４ｇ含まれていた。こ
れはトリフルオロ酢酸クロリドを基準にして収率９７％
であった。
酢酸クロリド４．７３ｇを室温で吹き込み、溶解させた
ところに、プロピオニトリル２．１３ｇを加えた。 t−
ブトキシカリウム８．６７ｇを乾燥THF３０mlに溶解し
た中に上記の混合液を、３０℃以下になるように冷却し
ながら２時間で滴下した。室温で１時間撹拌後、溶媒を
減圧留去した。溶媒留去後の反応液に、１N塩酸水溶液
７０mlと水３０mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽
出した。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層
と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、抽出液をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２
−メチルブタンニトリルが５．２４ｇ含まれていた。こ
れはトリフルオロ酢酸クロリドを基準にして収率９７％
であった。
【００６７】実施例７）t−ブトキシカリウム８．６７
ｇを乾燥THF３０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
室温で無水トリフルオロ酢酸７．３９ｇ、プロピオニト
リル２．１３ｇ及び乾燥THF２５ｍｌの混合溶液を２時
間で滴下した。室温で１．５時間撹拌した後、溶媒を減
圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸７ml及
び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが１．０６ｇ含まれていた。これは無水
トリフルオロ酢酸を基準にして収率２０％であった。
ｇを乾燥THF３０mlに溶解し、充分に窒素置換した後、
室温で無水トリフルオロ酢酸７．３９ｇ、プロピオニト
リル２．１３ｇ及び乾燥THF２５ｍｌの混合溶液を２時
間で滴下した。室温で１．５時間撹拌した後、溶媒を減
圧留去した。溶媒留去後の反応液に、３５％塩酸７ml及
び水１００mlを加え酸性にした後、酢酸エチルで抽出し
た。水層から酢酸エチルで２回抽出後、先の有機層と合
わせて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、目的
の３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２−メチル
ブタンニトリルが１．０６ｇ含まれていた。これは無水
トリフルオロ酢酸を基準にして収率２０％であった。
【００６８】（Ｂ工程） 実施例８）３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−２
−メチルブタンニトリル５．０ｇ（０．０３３１ｍｏ
ｌ）をエタノール５０ｍｌに溶解した中に、ヒドラジン
水和物１．９９ｇを加え、加熱還流下で４時間反応させ
た。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶媒を留去し
た。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸エチルで抽
出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出した黄色結
晶をイソプロピルエーテルとn−ヘキサンの混合溶媒で
洗浄することにより、目的の５−アミノ−３−トリフル
オロメチル−４−メチルピラゾールを収率８３％で得
た。このものは、融点１２５℃の結晶で、６０ＭＨｚの
1H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準物質：Ｔ
ＭＳ）を測定したところ、δ１．９８にメチル基、δ
４．０〜δ４．５付近にアミノ基のシグナルが観測され
た。
−メチルブタンニトリル５．０ｇ（０．０３３１ｍｏ
ｌ）をエタノール５０ｍｌに溶解した中に、ヒドラジン
水和物１．９９ｇを加え、加熱還流下で４時間反応させ
た。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶媒を留去し
た。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸エチルで抽
出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出した黄色結
晶をイソプロピルエーテルとn−ヘキサンの混合溶媒で
洗浄することにより、目的の５−アミノ−３−トリフル
オロメチル−４−メチルピラゾールを収率８３％で得
た。このものは、融点１２５℃の結晶で、６０ＭＨｚの
1H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準物質：Ｔ
ＭＳ）を測定したところ、δ１．９８にメチル基、δ
４．０〜δ４．５付近にアミノ基のシグナルが観測され
た。
【００６９】（Ｃ工程）実施例９） ５−アミノ−３−トリフルオロメチル−４−メチルピラ
ゾール０．５ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶
解した中に、t−ブトキシカリウム０．３７ｇを室温で
加え、５分間撹拌した。混合溶液中に、ヨウ化メチル
０．５２ｇを室温で加えた後、同じ温度で一晩撹拌し
た。反応液を水に注いだ後、クロロホルムで抽出した。
水層からクロロホルムで抽出した後、先の有機層と合わ
せて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出
液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目
的の５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロ
メチルピラゾールが４９％の収率で得られていた。
ゾール０．５ｇ（３．０３ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶
解した中に、t−ブトキシカリウム０．３７ｇを室温で
加え、５分間撹拌した。混合溶液中に、ヨウ化メチル
０．５２ｇを室温で加えた後、同じ温度で一晩撹拌し
た。反応液を水に注いだ後、クロロホルムで抽出した。
水層からクロロホルムで抽出した後、先の有機層と合わ
せて水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出
液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目
的の５−アミノ−１，４−ジメチル−３−トリフルオロ
メチルピラゾールが４９％の収率で得られていた。
【００７０】実施例１０）５−アミノ−３−トリフルオ
ロメチル−４−メチルピラゾール０．５ｇ（３．０３ｍ
ｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶解した中に、６０％水素化ナ
トリウム０．１３ｇを室温で加え、１５分間撹拌した。
混合溶液中に、ジメチル硫酸０．４６ｇを室温で加えた
後、同じ温度で一晩撹拌した。反応液を水に注いだ後、
クロロホルムで抽出した。水層からクロロホルムで抽出
した後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、目的の５−アミノ−１，４−ジ
メチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが３９％の
収率で得られていた。
ロメチル−４−メチルピラゾール０．５ｇ（３．０３ｍ
ｍｏｌ）をＴＨＦ５mlに溶解した中に、６０％水素化ナ
トリウム０．１３ｇを室温で加え、１５分間撹拌した。
混合溶液中に、ジメチル硫酸０．４６ｇを室温で加えた
後、同じ温度で一晩撹拌した。反応液を水に注いだ後、
クロロホルムで抽出した。水層からクロロホルムで抽出
した後、先の有機層と合わせて水で洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、抽出液を高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、目的の５−アミノ−１，４−ジ
メチル−３−トリフルオロメチルピラゾールが３９％の
収率で得られていた。
【００７１】（Ｆ工程） 実施例１１）３−オキソ−４，４，４−トリフルオロ−
２−メチルブタンニトリル２０．０ｇ（０．１３２５ｍ
ｏｌ）をエタノール２００ｍｌに溶解した中に、９８％
メチルヒドラジン７．７０ｇを加え、加熱還流下で４時
間反応させた。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶
媒を留去した。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸
エチルで抽出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出
した結晶をn−ヘキサンで洗浄することにより、目的の
５−アミノ−１，４−ジメチルー３−トリフルオロメチ
ルピラゾールを収率８２％で得た。このものは、融点７
０．７℃の白色結晶であった。
２−メチルブタンニトリル２０．０ｇ（０．１３２５ｍ
ｏｌ）をエタノール２００ｍｌに溶解した中に、９８％
メチルヒドラジン７．７０ｇを加え、加熱還流下で４時
間反応させた。室温にもどした後、水を加え、減圧で溶
媒を留去した。酢酸エチルで抽出した後、水層から酢酸
エチルで抽出し、先の有機層と合わせて水で洗浄した。
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、析出
した結晶をn−ヘキサンで洗浄することにより、目的の
５−アミノ−１，４−ジメチルー３−トリフルオロメチ
ルピラゾールを収率８２％で得た。このものは、融点７
０．７℃の白色結晶であった。
【００７２】（Ｄ工程）実施例１２）５−アミノ−１，
４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール５．
０ｇ（０．０２７９ｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液２５ml
に溶解した中に、亜硝酸ナトリウム２．５ｇを水５mlに
溶解した液を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０
分撹拌後、尿素０．３３ｇを加え、過剰の亜硝酸ナトリ
ウムを分解した。その後、スラリー状態のジアゾニウム
液を、ＳＯ２ガス０．９ｇを１、２−ジクロルエタン４
０mlに溶解した中に１０℃以下で分注した。室温まで徐
々に昇温した後、１時間撹拌した。反応液を水で希釈
後、１、２−ジクロルエタンで抽出した。水層から１、
２−ジクロルエタンで２回抽出し、先の有機層と合わ
せ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出
液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目
的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロ
メチルピラゾールが８５％の収率で得られていた。溶媒
を減圧留去した後、減圧蒸留を行った。１０５〜１０６
℃／８０ｍｍＨｇの留分が、目的の５−クロル−１，４
−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールであっ
た。６０ＭＨｚの1H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ3、
内部標準物質：ＴＭＳ）を測定したところ、δ２．１０
とδ３．８３にメチル基のシグナルが観測された。
４−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾール５．
０ｇ（０．０２７９ｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液２５ml
に溶解した中に、亜硝酸ナトリウム２．５ｇを水５mlに
溶解した液を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０
分撹拌後、尿素０．３３ｇを加え、過剰の亜硝酸ナトリ
ウムを分解した。その後、スラリー状態のジアゾニウム
液を、ＳＯ２ガス０．９ｇを１、２−ジクロルエタン４
０mlに溶解した中に１０℃以下で分注した。室温まで徐
々に昇温した後、１時間撹拌した。反応液を水で希釈
後、１、２−ジクロルエタンで抽出した。水層から１、
２−ジクロルエタンで２回抽出し、先の有機層と合わ
せ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽出
液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、目
的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオロ
メチルピラゾールが８５％の収率で得られていた。溶媒
を減圧留去した後、減圧蒸留を行った。１０５〜１０６
℃／８０ｍｍＨｇの留分が、目的の５−クロル−１，４
−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールであっ
た。６０ＭＨｚの1H−ＮＭＲ（測定溶媒：ＣＤＣｌ3、
内部標準物質：ＴＭＳ）を測定したところ、δ２．１０
とδ３．８３にメチル基のシグナルが観測された。
【００７３】実施例１３）５−アミノ−１，４−ジメチ
ル−３−トリフルオロメチルピラゾール１．０ｇ（５．
５９ｍｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液５mlに溶解した中
に、亜硝酸ナトリウム０．５ｇを水３mlに溶解した液
を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０分撹拌し
た。塩化第一銅０．５５ｇを３５％塩酸水溶液３mlと
１，２−ジクロルエタン８mlに溶解した中に、先のスラ
リー状態のジアゾニウム液を３０〜３５℃で分注した。
同じ温度で１時間撹拌後、水で希釈し、酢酸エチルで抽
出した。水層から酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合
わせ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、
目的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオ
ロメチルピラゾールが５９％の収率で得られていた。
ル−３−トリフルオロメチルピラゾール１．０ｇ（５．
５９ｍｍｏｌ）を３５％塩酸水溶液５mlに溶解した中
に、亜硝酸ナトリウム０．５ｇを水３mlに溶解した液
を、１０℃以下で滴下した。同じ温度で３０分撹拌し
た。塩化第一銅０．５５ｇを３５％塩酸水溶液３mlと
１，２−ジクロルエタン８mlに溶解した中に、先のスラ
リー状態のジアゾニウム液を３０〜３５℃で分注した。
同じ温度で１時間撹拌後、水で希釈し、酢酸エチルで抽
出した。水層から酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合
わせ、水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、抽
出液を高速液体クロマトグラフィーで分析したところ、
目的の５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオ
ロメチルピラゾールが５９％の収率で得られていた。
【００７４】（Ｅ工程） 実施例１４）内容量１００ｍｌのチタン製オートクレー
ブに、５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオ
ロメチルピラゾール１.９９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、酢酸
コバルト・２水塩６３.９ｍｇ（３.０ｍｏｌ％）、酢酸
セリウム・１水塩２５.１ｍｇ（０.７５ｍｏｌ％）、臭
化ナトリウム６１.７ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）及び酢酸４
０ｍｌを仕込み、空気を２Ｍｐａ圧入し、撹拌しながら
昇温して、温度１７５℃に達した時点で純酸素により、
全圧を３.５Ｍｐａに調整した。その後、圧力を保つよ
うに酸素を供給し、合計６時間反応を行なった。冷却
後、反応液を取り出して、高速液体クロマトグラフィー
で分析を行なった結果、原料の５−クロル−１，４−ジ
メチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化率は
９６.７％であり、生成物として５−クロル−１−メチ
ル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン
酸が９５.５％の収率で得られていた。
ブに、５−クロル−１，４−ジメチル−３−トリフルオ
ロメチルピラゾール１.９９ｇ（１０ｍｍｏｌ）、酢酸
コバルト・２水塩６３.９ｍｇ（３.０ｍｏｌ％）、酢酸
セリウム・１水塩２５.１ｍｇ（０.７５ｍｏｌ％）、臭
化ナトリウム６１.７ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）及び酢酸４
０ｍｌを仕込み、空気を２Ｍｐａ圧入し、撹拌しながら
昇温して、温度１７５℃に達した時点で純酸素により、
全圧を３.５Ｍｐａに調整した。その後、圧力を保つよ
うに酸素を供給し、合計６時間反応を行なった。冷却
後、反応液を取り出して、高速液体クロマトグラフィー
で分析を行なった結果、原料の５−クロル−１，４−ジ
メチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化率は
９６.７％であり、生成物として５−クロル−１−メチ
ル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカルボン
酸が９５.５％の収率で得られていた。
【００７５】実施例１５）内容量１００ｍｌのチタン製
オートクレーブを用いて、臭化ナトリウム６１.７ｍｇ
（６.０ｍｏｌ％）の代わりに臭化水素酸（４７％）１
０３.３ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）を用いた以外は、実施例
１４）と全く同様に反応を行なった。高速液体クロマト
グラフィーでの分析の結果、原料の５−クロル−１，４
−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化
率は９９.１％であり、生成物として５−クロル−１−
メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカル
ボン酸が９７.０％の収率で得られていた。
オートクレーブを用いて、臭化ナトリウム６１.７ｍｇ
（６.０ｍｏｌ％）の代わりに臭化水素酸（４７％）１
０３.３ｍｇ（６.０ｍｏｌ％）を用いた以外は、実施例
１４）と全く同様に反応を行なった。高速液体クロマト
グラフィーでの分析の結果、原料の５−クロル−１，４
−ジメチル−３−トリフルオロメチルピラゾールの転化
率は９９.１％であり、生成物として５−クロル−１−
メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾールカル
ボン酸が９７.０％の収率で得られていた。
Claims (28)
- 【請求項１】 塩基としてt−ブトキシカリウムを用い
て、式（１）： ＣＦ3ＣＯＹ 〔式中、Ｙはハロゲン原子、ＯＣＯＣＦ3またはＯＲ
（ＲはＣ1〜Ｃ4のアルキル基を表わす。）を表す。〕で
表されるトリフルオロ酢酸誘導体と、式（２）： ＣＨ3ＣＨ2ＣＮ で表されるプロピオニトリルを反応させることを特徴と
する、式（３）： 【化１】 で表わされる化合物の製造法。 - 【請求項２】 式（３）： 【化２】 で表される化合物と、ヒドラジンを反応させることを特
徴とする、式（４）： 【化３】 で表されるピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項３】 請求項１記載の製造法により得られる式
（３）で表される化合物を用いる請求項２記載の製造
法。 - 【請求項４】 式（４）： 【化４】 で表されるピラゾール化合物を、塩基の存在下でアルキ
ル化剤と反応させ、アルキル化することを特徴とする、
式（５）： 【化５】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表わされる
ピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項５】 請求項２記載の製造法により得られる式
（４）で表されるピラゾール化合物を用いる請求項４記
載の製造法。 - 【請求項６】 請求項３記載の製造法により得られる式
（４）で表されるピラゾール化合物を用いる請求項４記
載の製造法。 - 【請求項７】 請求項１記載の製造法により得られる式
（３）で表される化合物と、式（６）： Ｒ１−ＮＨＮＨ2 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表わされる
アルキルヒドラジンを反応させることを特徴とする、式
（５）： 【化６】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表されるピ
ラゾール化合物の製造法。 - 【請求項８】 式（４）： 【化７】 または式（５）： 【化８】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表されるピ
ラゾール化合物を、鉱酸または有機酸の存在下亜硝酸供
給源を用いてジアゾニウム塩とし、次いで触媒作用のあ
るハロゲン供給源の存在下、または触媒及びハロゲン供
給源の存在下でジアゾ分解することを特徴とする、式
（７）： 【化９】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物の製造法。 - 【請求項９】 式（４）または式（５）で表されるピラ
ゾール化合物として、請求項４記載の製造法により得ら
れる式（５）〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕
で表される化合物を用いる請求項８記載の製造法。 - 【請求項１０】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、請求項５記載の製造法により得
られる式（５）〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表
す。〕で表される化合物を用いる請求項８記載の製造
法。 - 【請求項１１】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、請求項６記載の製造法により得
られる式（５）〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表
す。〕で表される化合物を用いる請求項８記載の製造
法。 - 【請求項１２】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、式（３）： 【化１０】 で表される化合物と、式（６）： Ｒ１−ＮＨＮＨ2 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表されるア
ルキルヒドラジンを反応させて得られる、式（５）： 【化１１】 〔式中、R1はC1〜C4アルキル基を表す。〕で表されるピ
ラゾール化合物を用いる請求項８記載の製造法。 - 【請求項１３】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、請求項７記載の製造法により得
られる式（５）の化合物を用いる請求項８記載の製造
法。 - 【請求項１４】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、請求項２記載の製造法により得
られる式（４）の化合物を用いる請求項８記載の製造
法。 - 【請求項１５】 式（４）または式（５）で表されるピ
ラゾール化合物として、請求項３記載の製造法により得
られる式（４）の化合物を用いる請求項８記載の製造
法。 - 【請求項１６】 式（７）： 【化１２】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物を酸化することを特徴とする、式（８）： 【化１３】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表わされるピラゾール化
合物の製造法。 - 【請求項１７】 請求項８記載の製造法により得られる
式（７）〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基
を表し、Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾ
ール化合物を用いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項１８】 請求項９記載の製造法により得られる
式（７）〔式中、R2はC1〜C4アルキル基を表し、Xはハ
ロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を用
いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項１９】 請求項１０記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2はC1〜C4アルキル基を表し、Xは
ハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を
用いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項２０】 請求項１１記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2はC1〜C4アルキル基を表し、Xは
ハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を
用いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項２１】 請求項１２記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2はC1〜C4アルキル基を表し、Xは
ハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を
用いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項２２】 請求項１３記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2はC1〜C4アルキル基を表し、Xは
ハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を
用いる請求項１６記載の製造法。 - 【請求項２３】 請求項１４記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2は水素原子を表し、Xはハロゲン
原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を用いる請
求項１６記載の製造法。 - 【請求項２４】 請求項１５記載の製造法により得られ
る式（７）〔式中、R2は水素原子を表し、Xはハロゲン
原子を表す。〕で表されるピラゾール化合物を用いる請
求項１６記載の製造法。 - 【請求項２５】 R1及びR2がメチル基であり、Xが塩素
原子である請求項４乃至１３または１６乃至２２記載の
ピラゾール化合物の製造法。 - 【請求項２６】 式（４）： 【化１４】 で表わされるピラゾール化合物。
- 【請求項２７】 式（７）： 【化１５】 〔式中、R2は水素原子またはC1〜C4アルキル基を表し、
Xはハロゲン原子を表す。〕で表されるピラゾール化合
物。 - 【請求項２８】 R2メチル基であり、Xが塩素原子であ
る請求項２７記載のピラゾール化合物
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25710698A JP4273271B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | ピラゾール化合物及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25710698A JP4273271B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | ピラゾール化合物及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000086637A true JP2000086637A (ja) | 2000-03-28 |
| JP4273271B2 JP4273271B2 (ja) | 2009-06-03 |
Family
ID=17301824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25710698A Expired - Fee Related JP4273271B2 (ja) | 1998-09-10 | 1998-09-10 | ピラゾール化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4273271B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003014067A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-20 | Ube Industries, Ltd. | PROCESS FOR PRODUCING ß-OXONITRILE COMPOUND OR ALKALI METAL SALT THEREOF |
| JP2010083812A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | ５−アミノピラゾール誘導体の製造方法 |
-
1998
- 1998-09-10 JP JP25710698A patent/JP4273271B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003014067A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-20 | Ube Industries, Ltd. | PROCESS FOR PRODUCING ß-OXONITRILE COMPOUND OR ALKALI METAL SALT THEREOF |
| US7141693B2 (en) | 2001-08-02 | 2006-11-28 | Ube Industries, Ltd. | Process for producing β-oxonitrile compound or alkali metal salt thereof |
| JP2010083812A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | ５−アミノピラゾール誘導体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4273271B2 (ja) | 2009-06-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105541716B (zh) | 吡唑衍生物的制造方法 | |
| JP3921238B2 (ja) | ベンゾイル誘導体及びその合成 | |
| JP2002514630A (ja) | イソオキサゾリン−３−イルアシルベンゼンの製造方法 | |
| US20130030190A1 (en) | Process for synthesis fipronil | |
| JP2010106027A (ja) | ２−（３−ピラゾリルオキシメチレン）ニトロベンゼンの製造法 | |
| JPH0625125A (ja) | 安息香酸誘導体類 | |
| WO2019083001A1 (ja) | ベンゾイル蟻酸化合物及びピリダジン化合物の製造方法 | |
| JPH06247930A (ja) | ピロール類の脱臭素的塩素化 | |
| JP2008222606A (ja) | エステル、カルボン酸及びアミドの製造方法 | |
| JP4273271B2 (ja) | ピラゾール化合物及びその製造法 | |
| AU685654B2 (en) | Heterocyclic- and carbocyclic-substituted benzoic acids and synthesis thereof | |
| EP3956314A1 (en) | Preparation of substituted pyrazoles and their use as anthranilamides precursors | |
| JP5232335B1 (ja) | １−置換−３−フルオロアルキルピラゾール−４−カルボン酸エステルの製造方法 | |
| TW201321359A (zh) | 用於製備ｎ取代的吡唑化合物的方法 | |
| WO2002012203A1 (fr) | Processus de préparation d'aryltriazolinones | |
| JPS5931509B2 (ja) | ３−ヒドロキシ−３−メチルフタリド又はその核置換体の製造法 | |
| KR100322237B1 (ko) | α-케토카르복시산 유도체의 제조방법 | |
| JP2838664B2 (ja) | オキソ化合物の製造方法 | |
| JP4289830B2 (ja) | ４−アルキル−５−ホルミルチアゾール誘導体の製造法 | |
| CN116178265A (zh) | 一种3-（二氟甲基）-1-甲基-1h-吡唑-4-羧酸的合成方法 | |
| JP4013772B2 (ja) | ２−ヒドロキシイミノ−３−オキソプロピオニトリル及びその製法 | |
| JP4075342B2 (ja) | ４，５−ジ置換−１，２，３−トリアゾールの製造方法 | |
| KR20210065111A (ko) | 히드라진 화합물의 제조를 위한 합성 방법 | |
| US7176321B2 (en) | Method for producing 3-amino-4-substituted-5-pyrazolones | |
| JP4831897B2 (ja) | （２，６−ジクロロピリジン−４−イル）メタノールの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050623 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081001 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081008 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081107 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081203 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090204 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090217 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |