JP2000086559A - 精製フェノールの製造方法 - Google Patents
精製フェノールの製造方法Info
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- C07C37/70—Purification; separation; Use of additives, e.g. for stabilisation by physical treatment
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】アセトン、水、ヒドロキシアセトン、キュメ
ン、α−メチルスチレン及びフェノールを含む粗製フェ
ノールを原料とする、経済的に有利な精製フェノールの
製造方法を提供する。 【解決手段】粗製フェノールを複数の蒸留塔で順次に処
理して精製フェノールを製造する方法において、粗製フ
ェノールを第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有
軽質成分を回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重
質成分を回収する工程を含む。
ン、α−メチルスチレン及びフェノールを含む粗製フェ
ノールを原料とする、経済的に有利な精製フェノールの
製造方法を提供する。 【解決手段】粗製フェノールを複数の蒸留塔で順次に処
理して精製フェノールを製造する方法において、粗製フ
ェノールを第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有
軽質成分を回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重
質成分を回収する工程を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、粗製フェノールの
製造方法に関するものであり、詳しくは、例えばキュメ
ンハイドロパーオキサイドの酸接触分解工程から得られ
る粗製フェノールを原料とする粗製フェノールの製造方
法に関するものである。
製造方法に関するものであり、詳しくは、例えばキュメ
ンハイドロパーオキサイドの酸接触分解工程から得られ
る粗製フェノールを原料とする粗製フェノールの製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】キュメン法フェノールの製造プロセス
は、原料キュメンの酸化で得られたキュメンハイドロパ
ーオキサドを８０〜８５％まで濃縮し、次いで、フェノ
ールとアセトンに酸分解した後、中和洗浄する工程を包
含する。そして、得られた粗製フェノールは、アセト
ン、水、キュメン、α−メチルスチレン、フェノール等
を含み、斯かる粗製フェノールから、蒸留により、精製
フェノールが製造され、同時に、アセトン及びα−メチ
ルスチレンがそれぞれ分離して回収される。
は、原料キュメンの酸化で得られたキュメンハイドロパ
ーオキサドを８０〜８５％まで濃縮し、次いで、フェノ
ールとアセトンに酸分解した後、中和洗浄する工程を包
含する。そして、得られた粗製フェノールは、アセト
ン、水、キュメン、α−メチルスチレン、フェノール等
を含み、斯かる粗製フェノールから、蒸留により、精製
フェノールが製造され、同時に、アセトン及びα−メチ
ルスチレンがそれぞれ分離して回収される。
【０００３】上記の様な粗製フェノールの蒸留は、例え
ば、特開昭５５−９４３２６号公報、特公昭６４−７０
５８号公報などに記載されている通り、通常、第１塔目
である粗アセトン塔で塔頂成分にアセトン、塔底成分に
水、キュメン、α−メチルスチレン、フェノール、重質
成分と分離する方法によって行われている。
ば、特開昭５５−９４３２６号公報、特公昭６４−７０
５８号公報などに記載されている通り、通常、第１塔目
である粗アセトン塔で塔頂成分にアセトン、塔底成分に
水、キュメン、α−メチルスチレン、フェノール、重質
成分と分離する方法によって行われている。
【０００４】しかしながら、上記の方法により、精製フ
ェノールの製造と同時にアセトン及びα−メチルスチレ
ンをそれぞれ分離して回収せんとした場合は、次の様な
問題がある。すなわち、キュメンとα−メチルスチレン
の分離が困難であるため、その分離のために多くの段数
の蒸留塔が必要である。従って、多大の設備投資とエネ
ルギーコストを必要とし、経済的ではない。
ェノールの製造と同時にアセトン及びα−メチルスチレ
ンをそれぞれ分離して回収せんとした場合は、次の様な
問題がある。すなわち、キュメンとα−メチルスチレン
の分離が困難であるため、その分離のために多くの段数
の蒸留塔が必要である。従って、多大の設備投資とエネ
ルギーコストを必要とし、経済的ではない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情に
鑑みなされたものであり、その目的は、アセトン、水、
ヒドロキシアセトン、キュメン、α−メチルスチレン及
びフェノールを含む粗製フェノールを原料とする、経済
的に有利な精製フェノールの製造方法を提供することに
ある。
鑑みなされたものであり、その目的は、アセトン、水、
ヒドロキシアセトン、キュメン、α−メチルスチレン及
びフェノールを含む粗製フェノールを原料とする、経済
的に有利な精製フェノールの製造方法を提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々検討
を重ねた結果、第１蒸留塔において特定の成分をキー成
分として分離を行うならば、各成分の分離を予想以上に
効率的に行うことが出来るとの知見を得た。
を重ねた結果、第１蒸留塔において特定の成分をキー成
分として分離を行うならば、各成分の分離を予想以上に
効率的に行うことが出来るとの知見を得た。
【０００７】本発明は、上記の知見に基づき完成された
ものであり、その要旨は、キュメン法フェノール製造プ
ロセスから得られ、アセトン、水、ヒドロキシアセト
ン、キュメン、α−メチルスチレン及びフェノールを含
む粗製フェノールを複数の蒸留塔で順次に処理して精製
フェノールを製造する方法において、粗製フェノールを
第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有軽質成分を
回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重質成分を回
収する工程を含むことを特徴とする精製フェノールの製
造方法に存する。
ものであり、その要旨は、キュメン法フェノール製造プ
ロセスから得られ、アセトン、水、ヒドロキシアセト
ン、キュメン、α−メチルスチレン及びフェノールを含
む粗製フェノールを複数の蒸留塔で順次に処理して精製
フェノールを製造する方法において、粗製フェノールを
第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有軽質成分を
回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重質成分を回
収する工程を含むことを特徴とする精製フェノールの製
造方法に存する。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づき
詳細に説明する。図１は、本発明に係る精製フェノール
の製造方法の一例を示す説明図である。本発明におい
て、原料の粗製フェノールとしては、キュメンハイドロ
パーオキサイドの酸接触分解工程から得られる粗製フェ
ノールが好適に使用される。斯かる粗製フェノールの組
成の一例は、次の表に示す通りである。なお、以下の表
中の成分は低沸点の順に並べてある。
詳細に説明する。図１は、本発明に係る精製フェノール
の製造方法の一例を示す説明図である。本発明におい
て、原料の粗製フェノールとしては、キュメンハイドロ
パーオキサイドの酸接触分解工程から得られる粗製フェ
ノールが好適に使用される。斯かる粗製フェノールの組
成の一例は、次の表に示す通りである。なお、以下の表
中の成分は低沸点の順に並べてある。
【０００９】
【表１】
【００１０】＜第１蒸留塔（粗アセトン塔）＞粗製フェ
ノールを第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有軽
質分を回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重質分
を回収する。本発明においては、第１蒸留塔でフェノー
ルの存在下にキュメンとα−メチルスチレンとの分離を
行うことが重要である。その理由は次の通りである。
ノールを第１蒸留塔に供給し、塔頂からキュメン含有軽
質分を回収し、塔底からα−メチルスチレン含有重質分
を回収する。本発明においては、第１蒸留塔でフェノー
ルの存在下にキュメンとα−メチルスチレンとの分離を
行うことが重要である。その理由は次の通りである。
【００１１】キュメン−α−メチルスチレンの２成分系
は、両者の揮発度が近似しているために分離が困難であ
る。しかしながら、本発明者らの知見によれば、フェノ
ール又はアセトンの存在下では揮発度が変化してキュメ
ンとα−メチルスチレンとの分離性が高められる。そこ
で、本発明においては、上記の様に、粗フェノールから
最初にキュメンとα−メチルスチレンとを分離する。そ
の結果、回収部（原料供給段より下方部分）ではフェノ
ールが濃縮してキュメンとα−メチルスチレンの分離が
容易となり、濃縮部（原料供給段より上方部分）ではア
セトンが濃縮してキュメンとα−メチルスチレンの分離
が容易となる。また、第１蒸留塔の塔底にα−メチルス
チレンを分離することにより、フェノールの不純物であ
るヒドロキシアセトンの活量が高められ、少ないエネル
ギーでフェノールからのヒドロキシアセトンの分離が可
能となる。
は、両者の揮発度が近似しているために分離が困難であ
る。しかしながら、本発明者らの知見によれば、フェノ
ール又はアセトンの存在下では揮発度が変化してキュメ
ンとα−メチルスチレンとの分離性が高められる。そこ
で、本発明においては、上記の様に、粗フェノールから
最初にキュメンとα−メチルスチレンとを分離する。そ
の結果、回収部（原料供給段より下方部分）ではフェノ
ールが濃縮してキュメンとα−メチルスチレンの分離が
容易となり、濃縮部（原料供給段より上方部分）ではア
セトンが濃縮してキュメンとα−メチルスチレンの分離
が容易となる。また、第１蒸留塔の塔底にα−メチルス
チレンを分離することにより、フェノールの不純物であ
るヒドロキシアセトンの活量が高められ、少ないエネル
ギーでフェノールからのヒドロキシアセトンの分離が可
能となる。
【００１２】＜第２蒸留塔（製品アセトン塔）＞上記の
キュメン含有軽質分（アセトン、水、ヒドロキシアセト
ン、キュメン）を第２蒸留塔に供給して反応蒸留を行
い、第２蒸留塔のサイドカットにより製品アセトンを回
収する。上記の反応蒸留は、公知の方法に従い、ＮａＯ
Ｈ等のアルカリの存在下に行われる。斯かる反応蒸留に
より、不純物であるアルデヒド類およびヒドロキシアセ
トンは、アルドール化により重質化される。従って、従
来と同等の品質の製品アセトンが回収される。
キュメン含有軽質分（アセトン、水、ヒドロキシアセト
ン、キュメン）を第２蒸留塔に供給して反応蒸留を行
い、第２蒸留塔のサイドカットにより製品アセトンを回
収する。上記の反応蒸留は、公知の方法に従い、ＮａＯ
Ｈ等のアルカリの存在下に行われる。斯かる反応蒸留に
より、不純物であるアルデヒド類およびヒドロキシアセ
トンは、アルドール化により重質化される。従って、従
来と同等の品質の製品アセトンが回収される。
【００１３】第２蒸留塔の塔頂から回収した微量のアル
デヒド類を含むアセトン成分は、必要に応じ、フェノー
ル製造プロセスの酸分解反応器に循環する。また、第２
蒸留塔の塔底から回収した水−キュメン−α−メチルス
チレン−アルドール化不純物含有成分はデカンター（図
示せず）で処理され、水が分離された残余成分は第３蒸
留塔に供給される。
デヒド類を含むアセトン成分は、必要に応じ、フェノー
ル製造プロセスの酸分解反応器に循環する。また、第２
蒸留塔の塔底から回収した水−キュメン−α−メチルス
チレン−アルドール化不純物含有成分はデカンター（図
示せず）で処理され、水が分離された残余成分は第３蒸
留塔に供給される。
【００１４】＜第３蒸留塔（キュメン回収塔）＞水が分
離された上記の残余成分を第３蒸留塔に供給し、第３蒸
留塔の塔底または塔底より数段上のサイドカットから回
収したキュメン−α−メチルスチレン−アルドール化不
純物含有成分をフェノール製造プロセスの水添反応器に
循環する。水添反応により、α−メチルスチレンはキュ
メンに転換される。なお、第３蒸留塔の塔頂から回収し
た軽質不純物はフェノール製造プロセス外にパージされ
る。
離された上記の残余成分を第３蒸留塔に供給し、第３蒸
留塔の塔底または塔底より数段上のサイドカットから回
収したキュメン−α−メチルスチレン−アルドール化不
純物含有成分をフェノール製造プロセスの水添反応器に
循環する。水添反応により、α−メチルスチレンはキュ
メンに転換される。なお、第３蒸留塔の塔頂から回収し
た軽質不純物はフェノール製造プロセス外にパージされ
る。
【００１５】＜第４蒸留塔（粗α−メチルスチレン塔）
＞前記の第１蒸留塔の塔底から回収したα−メチルスチ
レン含有重質分（α−メチルスチレン、フェノール、高
沸点物）を第４蒸留塔に供給して水蒸気蒸留を行い、第
４蒸留塔の塔頂から粗α−メチルスチレンを回収すると
共に第４蒸留塔の供給段より下の段から粗フェノールを
蒸気サイドカットにより回収する。
＞前記の第１蒸留塔の塔底から回収したα−メチルスチ
レン含有重質分（α−メチルスチレン、フェノール、高
沸点物）を第４蒸留塔に供給して水蒸気蒸留を行い、第
４蒸留塔の塔頂から粗α−メチルスチレンを回収すると
共に第４蒸留塔の供給段より下の段から粗フェノールを
蒸気サイドカットにより回収する。
【００１６】ところで、α−メチルスチレン−フェノー
ル２成分系は、共沸系であるために分離が困難である。
しかしながら、本発明者らの知見によれば、第３成分と
して水を供給する水蒸気蒸留により、塔頂からフェノー
ルが殆ど含まれていない粗α−メチルスチレンを回収す
ることが出来る。また、蒸気サイドカットにより、供給
段より下の段からアセトフェノン等の高沸点物が殆ど含
まれていない粗フェノールを回収することが出来る。し
かも、水により、製品フェノールの不純物である２−メ
チルベンゾフランの活量が高められるため、フェノール
から２−メチルベンゾフランを容易に分離することが出
来る。なお、第４蒸留塔で使用した水は、塔頂の還流槽
から後述の水抽出塔に供給して利用することも出来る。
ル２成分系は、共沸系であるために分離が困難である。
しかしながら、本発明者らの知見によれば、第３成分と
して水を供給する水蒸気蒸留により、塔頂からフェノー
ルが殆ど含まれていない粗α−メチルスチレンを回収す
ることが出来る。また、蒸気サイドカットにより、供給
段より下の段からアセトフェノン等の高沸点物が殆ど含
まれていない粗フェノールを回収することが出来る。し
かも、水により、製品フェノールの不純物である２−メ
チルベンゾフランの活量が高められるため、フェノール
から２−メチルベンゾフランを容易に分離することが出
来る。なお、第４蒸留塔で使用した水は、塔頂の還流槽
から後述の水抽出塔に供給して利用することも出来る。
【００１７】第４蒸留塔の塔頂から回収した粗α−メチ
ルスチレンは、アルカリ洗浄槽（図示せず）に供給して
微量不純物を除去した後に第５蒸留塔に供給され、蒸気
サイドカットにより回収した粗フェノールは、第６蒸留
塔（抽出蒸留塔）に供給され、第４蒸留塔の塔底から回
収した高沸点物は、必要に応じ、熱分解回収工程に供給
されて処理される。すなわち、有効成分を回収し、酸分
解中和洗浄工程または第１蒸留塔に再循環てもよい。
ルスチレンは、アルカリ洗浄槽（図示せず）に供給して
微量不純物を除去した後に第５蒸留塔に供給され、蒸気
サイドカットにより回収した粗フェノールは、第６蒸留
塔（抽出蒸留塔）に供給され、第４蒸留塔の塔底から回
収した高沸点物は、必要に応じ、熱分解回収工程に供給
されて処理される。すなわち、有効成分を回収し、酸分
解中和洗浄工程または第１蒸留塔に再循環てもよい。
【００１８】＜第５蒸留塔（製品α−メチルスチレン
塔）＞微量不純物を除去した後の上記の粗α−メチルス
チレンを第５蒸留塔に供給してサイドカットにより製品
α−メチルスチレンを回収する。上記の粗α−メチルス
チレンは、キュメンの含有量が少ないため、第５蒸留塔
の１塔のみで十分な精製が可能である。第５蒸留塔の塔
頂から回収した成分α−メチルスチレン及び水は、必要
に応じ、第１蒸留塔に循環し、第５蒸留塔の塔底から回
収したブチルベンゼン等の中質不純物は、フェノール製
造プロセス外にパージされる。上記の製品α−メチルス
チレンは、任意の量で水添反応工程に供給し、キュメン
として回収し、フェノール製造プロセスの反応工程へ循
環することも出来る。
塔）＞微量不純物を除去した後の上記の粗α−メチルス
チレンを第５蒸留塔に供給してサイドカットにより製品
α−メチルスチレンを回収する。上記の粗α−メチルス
チレンは、キュメンの含有量が少ないため、第５蒸留塔
の１塔のみで十分な精製が可能である。第５蒸留塔の塔
頂から回収した成分α−メチルスチレン及び水は、必要
に応じ、第１蒸留塔に循環し、第５蒸留塔の塔底から回
収したブチルベンゼン等の中質不純物は、フェノール製
造プロセス外にパージされる。上記の製品α−メチルス
チレンは、任意の量で水添反応工程に供給し、キュメン
として回収し、フェノール製造プロセスの反応工程へ循
環することも出来る。
【００１９】＜第６蒸留塔（抽出蒸留塔）＞第４蒸留塔
からサイドカットにより回収した粗フェノールを第６蒸
留塔に供給して抽出蒸留を行い、第６蒸留塔の塔底から
フェノールを回収する。抽出蒸留は公知の方法に従って
行われ、抽出溶媒としては、水、ポリアルキレングリコ
ール又はそのエーテルが好適に使用される。第６蒸留塔
の塔底から回収されたフェノールは、第７蒸留塔（製品
フェノール塔）に供給され、第６蒸留塔の塔頂に分離さ
れたカルボニル不純物などは、フェノール製造工程外に
パージ除去される。
からサイドカットにより回収した粗フェノールを第６蒸
留塔に供給して抽出蒸留を行い、第６蒸留塔の塔底から
フェノールを回収する。抽出蒸留は公知の方法に従って
行われ、抽出溶媒としては、水、ポリアルキレングリコ
ール又はそのエーテルが好適に使用される。第６蒸留塔
の塔底から回収されたフェノールは、第７蒸留塔（製品
フェノール塔）に供給され、第６蒸留塔の塔頂に分離さ
れたカルボニル不純物などは、フェノール製造工程外に
パージ除去される。
【００２０】＜第７蒸留塔（製品フェノール塔）＞第６
蒸留塔の塔底から回収したフェノールを第７蒸留塔に供
給してサイドカットにより製品フェノールを回収する。
色相５以下、硫酸着色９５以上、純度９９．９９重量％
以上の製品フェノールを得ることが出来る。
蒸留塔の塔底から回収したフェノールを第７蒸留塔に供
給してサイドカットにより製品フェノールを回収する。
色相５以下、硫酸着色９５以上、純度９９．９９重量％
以上の製品フェノールを得ることが出来る。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。
【００２２】実施例１ 原料として前述の表１に示す組成の粗製フェノールを使
用し、図１に示される態様に従って精製フェノールの製
造を行った。同時に、アセトン及びα−メチルスチレン
を回収した。
用し、図１に示される態様に従って精製フェノールの製
造を行った。同時に、アセトン及びα−メチルスチレン
を回収した。
【００２３】粗製フェノールを第１蒸留塔（段数：６５
段、供給段：１７段目、塔頂圧力：約０．０２Kg/cm
2Ｇ）に供給し、塔頂からキュメン含有軽質分を回収
し、塔底からα−メチルスチレン含有重質分を回収し
た。
段、供給段：１７段目、塔頂圧力：約０．０２Kg/cm
2Ｇ）に供給し、塔頂からキュメン含有軽質分を回収
し、塔底からα−メチルスチレン含有重質分を回収し
た。
【００２４】上記のキュメン含有軽質分（アセトン、
水、ヒドロキシアセトン、キュメン）を第２蒸留塔（段
数５７段、塔頂圧力約−０．４Kg/cm2Ｇ）に供給してＮ
ａＯＨの存在下に反応蒸留を行い、第２蒸留塔のサイド
カットにより製品アセトンを回収した。
水、ヒドロキシアセトン、キュメン）を第２蒸留塔（段
数５７段、塔頂圧力約−０．４Kg/cm2Ｇ）に供給してＮ
ａＯＨの存在下に反応蒸留を行い、第２蒸留塔のサイド
カットにより製品アセトンを回収した。
【００２５】第１蒸留塔の塔底から回収したα−メチル
スチレン含有重質分（α−メチルスチレン、フェノー
ル、高沸点物）を第４蒸留塔（段数：６７段、供給段：
２３段目、塔頂圧力：約−０．６Kg/cm2Ｇ）に供給して
水蒸気蒸留を行い、第４蒸留塔の塔頂から粗α−メチル
スチレンを回収すると共に第４蒸留塔の供給段より下の
段（第２６段目）から粗フェノールを蒸気サイドカット
により回収した。
スチレン含有重質分（α−メチルスチレン、フェノー
ル、高沸点物）を第４蒸留塔（段数：６７段、供給段：
２３段目、塔頂圧力：約−０．６Kg/cm2Ｇ）に供給して
水蒸気蒸留を行い、第４蒸留塔の塔頂から粗α−メチル
スチレンを回収すると共に第４蒸留塔の供給段より下の
段（第２６段目）から粗フェノールを蒸気サイドカット
により回収した。
【００２６】第４蒸留塔の塔頂から回収した粗α−メチ
ルスチレンをアルカリ洗浄槽（図示せず）に供給して微
量不純物を除去した。そして、微量不純物を除去した後
の粗α−メチルスチレンを第５蒸留塔（段数：８３段、
供給段：５２段目、塔頂圧力：約−０．１Kg/cm2Ｇ）に
供給してサイドカットにより製品α−メチルスチレンを
回収した。
ルスチレンをアルカリ洗浄槽（図示せず）に供給して微
量不純物を除去した。そして、微量不純物を除去した後
の粗α−メチルスチレンを第５蒸留塔（段数：８３段、
供給段：５２段目、塔頂圧力：約−０．１Kg/cm2Ｇ）に
供給してサイドカットにより製品α−メチルスチレンを
回収した。
【００２７】第４蒸留塔からサイドカットにより回収し
た粗フェノールを第６蒸留塔（段数：７７段、供給段：
８段目、塔頂圧力：約１．２Kg/cm2Ｇ）に供給して水を
溶媒とする公知の抽出蒸留を行い、第６蒸留塔の塔底か
らフェノールを回収した。
た粗フェノールを第６蒸留塔（段数：７７段、供給段：
８段目、塔頂圧力：約１．２Kg/cm2Ｇ）に供給して水を
溶媒とする公知の抽出蒸留を行い、第６蒸留塔の塔底か
らフェノールを回収した。
【００２８】第６蒸留塔の塔底から回収したフェノール
を第７蒸留塔（段数：２５段、供給段：２２段目、塔頂
圧力：約−０．６Kg/cm2Ｇ）に供給してサイドカットに
より製品フェノール（色相５以下、硫酸着色９５以上、
純度９９．９９重量％以上）を回収した。
を第７蒸留塔（段数：２５段、供給段：２２段目、塔頂
圧力：約−０．６Kg/cm2Ｇ）に供給してサイドカットに
より製品フェノール（色相５以下、硫酸着色９５以上、
純度９９．９９重量％以上）を回収した。
【００２９】第１蒸留塔において、供給α−メチルスチ
レン１００重量部に対し、殆ど全量に近い９５重量部の
α−メチルスチレンを塔底に分離した際、リボイラース
チームの所要エネルギーは供給流量１Ｔ／Ｈに対し、
０．１MMKCal/T-feedであった。その際の第１蒸留塔の
塔底液の組成は、表２に示す通りであった。
レン１００重量部に対し、殆ど全量に近い９５重量部の
α−メチルスチレンを塔底に分離した際、リボイラース
チームの所要エネルギーは供給流量１Ｔ／Ｈに対し、
０．１MMKCal/T-feedであった。その際の第１蒸留塔の
塔底液の組成は、表２に示す通りであった。
【００３０】
【表２】
【００３１】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、第１蒸留
塔でフェノールの存在下にキュメンとα−メチルスチレ
ンとの分離を行うことにより、各成分の分離を予想以上
に効率的に行うことが出来、その結果、経済的に有利に
精製フェノールを製造することが出来る。
塔でフェノールの存在下にキュメンとα−メチルスチレ
ンとの分離を行うことにより、各成分の分離を予想以上
に効率的に行うことが出来、その結果、経済的に有利に
精製フェノールを製造することが出来る。
【図１】本発明に係る精製フェノールの製造方法の一例
を示す説明図
を示す説明図
１：第１蒸留塔（粗アセトン塔） ２：第２蒸留塔（製品アセトン塔） ３：第３蒸留塔（キュメン回収塔） ４：第４蒸留塔（粗α−メチルスチレン塔） ５：第５蒸留塔（製品α−メチルスチレン塔） ６：第６蒸留塔（抽出蒸留塔） ７：第７蒸留塔（製品フェノール塔）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 昌幸 茨城県鹿島郡神栖町東和田17番地１ 三菱 化学株式会社鹿島事業所内 (72)発明者 小田切 崇 岡山県倉敷市潮通三丁目10番地 三菱化学 株式会社水島事業所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC42 AD11 AD13 AD14 AD16 BD60 BD84 FC52 FE13
Claims (7)
- 【請求項１】 キュメン法フェノール製造プロセスから
得られ、アセトン、水、ヒドロキシアセトン、キュメ
ン、α−メチルスチレン及びフェノールを含む粗製フェ
ノールを複数の蒸留塔で順次に処理して精製フェノール
を製造する方法において、粗製フェノールを第１蒸留塔
に供給し、塔頂からキュメン含有軽質成分を回収し、塔
底からα−メチルスチレン含有重質成分を回収する工程
を含むことを特徴とする精製フェノールの製造方法。 - 【請求項２】 第１蒸留塔の塔頂から回収したキュメン
含有軽質成分を第２蒸留塔に供給して反応蒸留を行い、
第２蒸留塔のサイドカットにより製品アセトンを回収す
る請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 第２蒸留塔の塔底から回収した水−キュ
メン−α−メチルスチレン−アルドール化不純物含有成
分をデカンターで処理し、水が分離された残余成分を第
３蒸留塔に供給し、第３蒸留塔の塔底から回収したキュ
メン−α−メチルスチレン−アルドール化不純物含有成
分をフェノール製造プロセスの水添反応器に循環する請
求項１〜３の何れかに記載の製造方法。 - 【請求項４】 第１蒸留塔の塔底から回収したα−メチ
ルスチレン含有重質分を第４蒸留塔に供給して水蒸気蒸
留を行い、第４蒸留塔の塔頂から粗α−メチルスチレン
を回収すると共に第４蒸留塔の供給段より下の段から粗
フェノールを蒸気サイドカットにより回収する請求項１
〜３の何れかに記載の製造方法。 - 【請求項５】 第４蒸留塔の塔頂から回収した粗α−メ
チルスチレンをアルカリ洗浄槽に供給して微量不純物を
除去した後、第５蒸留塔に供給してサイドカットにより
製品α−メチルスチレンを回収する請求項１〜４の何れ
かに記載の製造方法。 - 【請求項６】 第４蒸留塔からサイドカットにより回収
した粗フェノールを第６蒸留塔に供給して抽出蒸留を行
い、第６蒸留塔の塔底からフェノールを回収する請求項
１〜５の何れかに記載の製造方法。 - 【請求項７】 第６蒸留塔の塔底から回収したフェノー
ルを第７蒸留塔に供給してサイドカットにより製品フェ
ノールを回収する請求項１〜６の何れかに記載の製造方
法。
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|---|---|---|---|
| JP25863298A JP4224877B2 (ja) | 1998-09-11 | 1998-09-11 | 精製フェノールの製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP2000086559A true JP2000086559A (ja) | 2000-03-28 |
| JP4224877B2 JP4224877B2 (ja) | 2009-02-18 |
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|---|---|---|---|
| JP25863298A Expired - Lifetime JP4224877B2 (ja) | 1998-09-11 | 1998-09-11 | 精製フェノールの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4224877B2 (ja) |
Cited By (5)
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1998
- 1998-09-11 JP JP25863298A patent/JP4224877B2/ja not_active Expired - Lifetime
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