JP2000082731A - クリーンルーム設備 - Google Patents
クリーンルーム設備Info
- Publication number
- JP2000082731A JP2000082731A JP25147398A JP25147398A JP2000082731A JP 2000082731 A JP2000082731 A JP 2000082731A JP 25147398 A JP25147398 A JP 25147398A JP 25147398 A JP25147398 A JP 25147398A JP 2000082731 A JP2000082731 A JP 2000082731A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean room
- wafer
- room
- clean
- cleanliness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】ウェーハを密閉容器から汚染されることなく取
り出し、製造、洗浄等の装置へ受け渡すことのできるク
リーンルーム設備を提供する。 【解決手段】装置室１１の入口に沿ってクリーンルーム
１０と前記装置室１１との間でウェーハＷを受け渡しす
るための中間室１２を形成し、該中間室１２を高清浄度
の設定する。
り出し、製造、洗浄等の装置へ受け渡すことのできるク
リーンルーム設備を提供する。 【解決手段】装置室１１の入口に沿ってクリーンルーム
１０と前記装置室１１との間でウェーハＷを受け渡しす
るための中間室１２を形成し、該中間室１２を高清浄度
の設定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、クリーンルーム設
備に関するもので、詳しくはウェーハを密閉容器に収容
して移動させることによって、クリーンルーム内の清浄
度を低清浄度（クラス１０2 程度以上）にしたクリーン
ルーム設備に関するものである。
備に関するもので、詳しくはウェーハを密閉容器に収容
して移動させることによって、クリーンルーム内の清浄
度を低清浄度（クラス１０2 程度以上）にしたクリーン
ルーム設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２に従来のクリーンルーム設備を示し
ている。このクリーン設備では、クリーンルーム１の天
井にファンフィルタユニット（ＦＦＵ）２を設置すると
ともに、床をグレーチング床３にし、天井裏空間４の空
気をＦＦＵ２によって浄化してクリーンルーム１内に供
給して、該クリーンルーム１内を清浄にしている。そし
て、クリーンルーム１内の空気は、グレーチング床３を
介して床下空間５に排出され、該床下空間５からクリー
ンルーム１を画成する側壁６の外側の循環路空間７を経
て天井裏空間４に循環され、再びＦＦＵ２によってクリ
ーンルーム１内に供給される。また、クリーンルーム設
備には製造装置，洗浄装置等の装置を収容する装置室８
が設置され、該装置室８は、クリーンルーム１に臨んで
配置されている。この装置室８を収容する空間９の天井
にもＦＦＵ１０が設置され、該空間９の雰囲気が清浄度
１０3 程度に維持されている。
ている。このクリーン設備では、クリーンルーム１の天
井にファンフィルタユニット（ＦＦＵ）２を設置すると
ともに、床をグレーチング床３にし、天井裏空間４の空
気をＦＦＵ２によって浄化してクリーンルーム１内に供
給して、該クリーンルーム１内を清浄にしている。そし
て、クリーンルーム１内の空気は、グレーチング床３を
介して床下空間５に排出され、該床下空間５からクリー
ンルーム１を画成する側壁６の外側の循環路空間７を経
て天井裏空間４に循環され、再びＦＦＵ２によってクリ
ーンルーム１内に供給される。また、クリーンルーム設
備には製造装置，洗浄装置等の装置を収容する装置室８
が設置され、該装置室８は、クリーンルーム１に臨んで
配置されている。この装置室８を収容する空間９の天井
にもＦＦＵ１０が設置され、該空間９の雰囲気が清浄度
１０3 程度に維持されている。
【０００３】そして、クリーンルーム１では、ウェーハ
Ｗをオープンカセット１１に収納して、自走台車（ＡＧ
Ｖ）１２等によって移送を行なっている。このため、ク
リーンルーム１内全体を高清浄度（クラス１程度）に維
持しなくてはならず、ファンフィルタユニット（ＦＦ
Ｕ）２をクリーンルーム１の天井全体に設置して全面ダ
ウンフローにしている。
Ｗをオープンカセット１１に収納して、自走台車（ＡＧ
Ｖ）１２等によって移送を行なっている。このため、ク
リーンルーム１内全体を高清浄度（クラス１程度）に維
持しなくてはならず、ファンフィルタユニット（ＦＦ
Ｕ）２をクリーンルーム１の天井全体に設置して全面ダ
ウンフローにしている。
【０００４】しかし、このような方式では、ＦＦＵ２の
設置台数が多くなり、クリーンルーム設備のランニング
コストを増大するという問題があった。この解決策とし
ては、ウェーハＷを運ぶ密閉容器（ＦＯＵＰ）を用い
て、即ちＦＯＵＰ内のみを高清浄度に保つことによっ
て、クリーンルーム内の清浄度を低清浄度にすること、
即ちＦＦＵの台数の削減を実現することが考えられる。
設置台数が多くなり、クリーンルーム設備のランニング
コストを増大するという問題があった。この解決策とし
ては、ウェーハＷを運ぶ密閉容器（ＦＯＵＰ）を用い
て、即ちＦＯＵＰ内のみを高清浄度に保つことによっ
て、クリーンルーム内の清浄度を低清浄度にすること、
即ちＦＦＵの台数の削減を実現することが考えられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなクリーン設備では、ＦＯＵＰをロードポート上で開
成し、移載機によってウェーハをＦＯＵＰから取り出
し、そして製造，洗浄等の装置へ移動させる必要があ
り、その際にウェーハがクリーンルーム内の雰囲気に曝
されて汚染される虞がある。
うなクリーン設備では、ＦＯＵＰをロードポート上で開
成し、移載機によってウェーハをＦＯＵＰから取り出
し、そして製造，洗浄等の装置へ移動させる必要があ
り、その際にウェーハがクリーンルーム内の雰囲気に曝
されて汚染される虞がある。
【０００６】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ウェーハを密閉容器から汚染されることなく取
り出し、製造、洗浄等の装置へ受け渡すことのできるク
リーンルーム設備を提供することを目的とする。
もので、ウェーハを密閉容器から汚染されることなく取
り出し、製造、洗浄等の装置へ受け渡すことのできるク
リーンルーム設備を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するために、本発明に係る請求項１のクリーンルーム設
備では、クリーンルーム内に設けた装置室の入口に沿っ
て、クリーンルームと装置室間でウェーハを受け渡しす
るための中間室を形成し、該中間室を高清浄度に設定し
てなることを特徴としている。
するために、本発明に係る請求項１のクリーンルーム設
備では、クリーンルーム内に設けた装置室の入口に沿っ
て、クリーンルームと装置室間でウェーハを受け渡しす
るための中間室を形成し、該中間室を高清浄度に設定し
てなることを特徴としている。
【０００８】また、本発明に係る請求項２のクリーンル
ーム設備では、請求項１において、前記中間室の天井に
ファンフィルタユニットを設置し、床に排気孔を形成し
ている。上記請求項１または２の発明によれば、ウェー
ハの受け渡し領域が高清浄度の中間室内であるため、ク
リーンルームが低清浄度であってもウェーハの汚染は防
止される。
ーム設備では、請求項１において、前記中間室の天井に
ファンフィルタユニットを設置し、床に排気孔を形成し
ている。上記請求項１または２の発明によれば、ウェー
ハの受け渡し領域が高清浄度の中間室内であるため、ク
リーンルームが低清浄度であってもウェーハの汚染は防
止される。
【０００９】また、本発明に係る請求項３のクリーンル
ーム設備では、請求項１または２において、前記中間室
内の圧力をクリーンルームのそれよりも高く設定してい
る。また、本発明に係る請求項４のクリーンルーム設備
では、請求項１、２または３において、前記床の開口に
ダンパを設置し、該ダンパを開閉させることで、前記中
間室内の圧力を設定させるようにしている。
ーム設備では、請求項１または２において、前記中間室
内の圧力をクリーンルームのそれよりも高く設定してい
る。また、本発明に係る請求項４のクリーンルーム設備
では、請求項１、２または３において、前記床の開口に
ダンパを設置し、該ダンパを開閉させることで、前記中
間室内の圧力を設定させるようにしている。
【００１０】さらにまた、本発明に係る請求項５のクリ
ーンルーム設備では、請求項２、３または４において、
前記ファンフィルタユニットのモータの回転を制御して
前記中間室内の圧力を設定させるようにしている。上記
請求項３、４または５の発明によれば、中間室にクリー
ンルームから空気が侵入する虞がなく、中間室は常に高
清浄度に維持される。
ーンルーム設備では、請求項２、３または４において、
前記ファンフィルタユニットのモータの回転を制御して
前記中間室内の圧力を設定させるようにしている。上記
請求項３、４または５の発明によれば、中間室にクリー
ンルームから空気が侵入する虞がなく、中間室は常に高
清浄度に維持される。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って、本発明の
クリーンルーム設備の好ましい実施の形態について詳説
する。図１は本発明に係るクリーンルーム設備の１実施
の形態を示している。このクリーンルーム設備では、ク
リーンルーム２０、製造装置、洗浄装置等を収容する装
置室２１および中間室（ミニエンバイロメント）２２が
形成されている。中間室２２は、装置室２１のクリーン
ルーム２０側入口に沿って配設されている。そして、ク
リーンルーム２０の天井にはファンフィルタユニット
（ＦＦＵ）２３が設置され、該ＦＦＵ２３から噴射され
る清浄空気によってクリーンルーム２０内が清浄度１０
3 程度に維持される。
クリーンルーム設備の好ましい実施の形態について詳説
する。図１は本発明に係るクリーンルーム設備の１実施
の形態を示している。このクリーンルーム設備では、ク
リーンルーム２０、製造装置、洗浄装置等を収容する装
置室２１および中間室（ミニエンバイロメント）２２が
形成されている。中間室２２は、装置室２１のクリーン
ルーム２０側入口に沿って配設されている。そして、ク
リーンルーム２０の天井にはファンフィルタユニット
（ＦＦＵ）２３が設置され、該ＦＦＵ２３から噴射され
る清浄空気によってクリーンルーム２０内が清浄度１０
3 程度に維持される。
【００１２】また、上記中間室２２には、その天井２２
ａにファンフィルタユニット（ＦＦＵ）２４が設置さ
れ、床２３には、グレーチング等の開口２５が形成され
ている。そして、中間室２２内は、ＦＦＵ２４から噴射
される清浄空気によってクリーンルーム２０内が清浄度
１程度に維持される。なお、装置室２１内は、従来と同
様な手段によって、所定の清浄度に維持されている。
ａにファンフィルタユニット（ＦＦＵ）２４が設置さ
れ、床２３には、グレーチング等の開口２５が形成され
ている。そして、中間室２２内は、ＦＦＵ２４から噴射
される清浄空気によってクリーンルーム２０内が清浄度
１程度に維持される。なお、装置室２１内は、従来と同
様な手段によって、所定の清浄度に維持されている。
【００１３】さらに、このクリーンルーム設備では、中
間室２２の上記開口２５にダンパ２６が配設されてい
る。そして、この中間室２２内には、移載機２７が配置
され、この移載機２７に対向したクリーンルーム２０内
にはロードポート２８が設置されている。さらにまた、
このクリーンルーム設備では、クリーンルーム２０、中
間室２２および装置室２１内に圧力センサ２９、３０、
３１が設置され、それらによって検出された圧力値に基
づき、コントローラ３２によって、クリーンルーム２
０、中間室２２および装置室２１内の圧力が、中間室２
２の圧力＞装置室２１の圧力＞クリーンルーム２０の圧
力となるように設定維持される。
間室２２の上記開口２５にダンパ２６が配設されてい
る。そして、この中間室２２内には、移載機２７が配置
され、この移載機２７に対向したクリーンルーム２０内
にはロードポート２８が設置されている。さらにまた、
このクリーンルーム設備では、クリーンルーム２０、中
間室２２および装置室２１内に圧力センサ２９、３０、
３１が設置され、それらによって検出された圧力値に基
づき、コントローラ３２によって、クリーンルーム２
０、中間室２２および装置室２１内の圧力が、中間室２
２の圧力＞装置室２１の圧力＞クリーンルーム２０の圧
力となるように設定維持される。
【００１４】以下に、上記１実施の形態のクリーンルー
ム設備に係る動作について説明する。クリーンルーム２
０には、ＦＦＵ２３から清浄空気が供給され、室内が清
浄度１０3 程度に維持される。ＦＦＵ２３からクリーン
ルーム２０内に供給された清浄空気は、グレーチング床
３３から床下空間３４に排出され、その排気はＦＦＵ２
３の天井空間３５へ循環され、ＦＦＵ２３によって再度
清浄されてクリーンルーム２０に供給される。
ム設備に係る動作について説明する。クリーンルーム２
０には、ＦＦＵ２３から清浄空気が供給され、室内が清
浄度１０3 程度に維持される。ＦＦＵ２３からクリーン
ルーム２０内に供給された清浄空気は、グレーチング床
３３から床下空間３４に排出され、その排気はＦＦＵ２
３の天井空間３５へ循環され、ＦＦＵ２３によって再度
清浄されてクリーンルーム２０に供給される。
【００１５】一方、中間室２２には、ＦＦＵ２４によっ
てクリーンルーム２０内の空気が清浄されて供給され、
該室内が清浄度１程度に維持される。そして、ＦＦＵ２
４から中間室２２内に供給された清浄空気は、開口２
５，ダンパ２６を経て床下空間３４に排出される。ま
た、クリーンルーム２０内と中間室２２内は、圧力セン
サ２９，３０によって常時または間欠的に圧力が検出さ
れ、その検出値がコントローラ３２に入力される。そし
て、コントローラ３２は、その検出値に基づいて、中間
室２２の圧力＞クリーンルーム２０の圧力となるよう
に、ＦＦＵ２３の駆動モータの回転数およびダンパ２６
の開度を制御する。なお、装置室２１の圧力も圧力セン
サ３１によって検出され、コントローラ３２によって、
中間室２２の圧力＞装置室２１の圧力＞クリーンルーム
２０の圧力となるように、例えば該装置室２１に設置し
たＦＦＵの回転数を制御することによって設定される。
てクリーンルーム２０内の空気が清浄されて供給され、
該室内が清浄度１程度に維持される。そして、ＦＦＵ２
４から中間室２２内に供給された清浄空気は、開口２
５，ダンパ２６を経て床下空間３４に排出される。ま
た、クリーンルーム２０内と中間室２２内は、圧力セン
サ２９，３０によって常時または間欠的に圧力が検出さ
れ、その検出値がコントローラ３２に入力される。そし
て、コントローラ３２は、その検出値に基づいて、中間
室２２の圧力＞クリーンルーム２０の圧力となるよう
に、ＦＦＵ２３の駆動モータの回転数およびダンパ２６
の開度を制御する。なお、装置室２１の圧力も圧力セン
サ３１によって検出され、コントローラ３２によって、
中間室２２の圧力＞装置室２１の圧力＞クリーンルーム
２０の圧力となるように、例えば該装置室２１に設置し
たＦＦＵの回転数を制御することによって設定される。
【００１６】このような環境にあるクリーンルーム設備
において、ウェーハＷは、密閉容器（ＦＯＵＰ）３６内
に収容された状態で、自走台車（ＡＧＶ）３７によっ
て、ロードポート２８まで搬送され、該ロードポート２
８上に移載される。そして、密閉容器３６の蓋３６ａが
開けられ、内部のがウェーハＷは移載機２７によって取
り出され、装置室２１内の製造装置、洗浄装置等へ受け
渡される。
において、ウェーハＷは、密閉容器（ＦＯＵＰ）３６内
に収容された状態で、自走台車（ＡＧＶ）３７によっ
て、ロードポート２８まで搬送され、該ロードポート２
８上に移載される。そして、密閉容器３６の蓋３６ａが
開けられ、内部のがウェーハＷは移載機２７によって取
り出され、装置室２１内の製造装置、洗浄装置等へ受け
渡される。
【００１７】その際、ウェーハＷはクリーンルーム２０
の雰囲気に曝されることなく、高清浄度の密閉容器３６
から高清浄度の中間室２２に移送されるので、ウェーハ
Ｗが汚染されることはない。なお、上記実施の形態で
は、ダンパ２６の開度を調整することにより流出する空
気量を調節し、中間室２２内の圧力をコントロールする
ようにしているが、ダンパ２６の代わりに、またはダン
パ２６に加えて、ＦＦＵ２４のモータの回転数を制御す
ることによって、空気の供給量を増減させて中間室２２
内の圧力をコントロールしてもよい。
の雰囲気に曝されることなく、高清浄度の密閉容器３６
から高清浄度の中間室２２に移送されるので、ウェーハ
Ｗが汚染されることはない。なお、上記実施の形態で
は、ダンパ２６の開度を調整することにより流出する空
気量を調節し、中間室２２内の圧力をコントロールする
ようにしているが、ダンパ２６の代わりに、またはダン
パ２６に加えて、ＦＦＵ２４のモータの回転数を制御す
ることによって、空気の供給量を増減させて中間室２２
内の圧力をコントロールしてもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るクリ
ーンルーム設備では、装置室とクリーンルームとの間に
高清浄空間を形成しているので、高清浄度の密閉容器に
収容されているウェーハはクリーンルームの雰囲気に曝
されることなく、装置室の製造装置，洗浄装置等の装置
に受け渡すことができる。したがって、クリーンルーム
は清浄度１０3 程度でよく、クリーンルームの天井に設
置するＦＦＵの数が少なくて済むので、ランニングコス
ト等の低減が図れる。
ーンルーム設備では、装置室とクリーンルームとの間に
高清浄空間を形成しているので、高清浄度の密閉容器に
収容されているウェーハはクリーンルームの雰囲気に曝
されることなく、装置室の製造装置，洗浄装置等の装置
に受け渡すことができる。したがって、クリーンルーム
は清浄度１０3 程度でよく、クリーンルームの天井に設
置するＦＦＵの数が少なくて済むので、ランニングコス
ト等の低減が図れる。
【００１９】また、本発明に係るクリーンルーム設備で
は、中間室内の圧力をクリーンルームのそれよりも高く
設定しているので、クリーンルームからの低清浄度の空
気が中間室に流入する虞がなく、中間室を常に高清浄度
に維持することができ、製品の信頼度が保障される。
は、中間室内の圧力をクリーンルームのそれよりも高く
設定しているので、クリーンルームからの低清浄度の空
気が中間室に流入する虞がなく、中間室を常に高清浄度
に維持することができ、製品の信頼度が保障される。
【図１】本発明に係るクリーンルーム設備の一実施の形
態を示した構成図である。
態を示した構成図である。
【図２】従来のクリーンルーム設備を示した構成図であ
る。
る。
２０…クリーンルーム ２１…装置室 ２２…中間室 ２３、２４…ファンフィルタユニット（ＦＦＵ） ２５…開口 ２６…ダンパ ２７…移載機 ２８…ロードポート ２９、３０、３１…圧力センサ ３２…コントローラ ３３…グレーチング床 ３６…密閉容器（ＦＯＵＰ） ３６ａ…蓋 ３７…自走台車（ＡＧＶ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 加藤 浩二 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 平田 順太 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 鈴木 道夫 東京都千代田区内神田１丁目１番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 小林 義明 東京都小平市上水本町５丁目20番１号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 Ｆターム(参考） 3L058 BF01 BF08 5F031 BB05 CC12 CC13 CC18 EE01 LL01 LL05 LL10
Claims (5)
- 【請求項１】クリーンルーム内に設けられた装置室の入
口に沿って、前記クリーンルームと装置室間でウェーハ
を受け渡しするための中間室を形成し、該中間室を高清
浄度に設定してなることを特徴とするクリーンルーム設
備。 - 【請求項２】前記中間室の天井にファンフィルタユニッ
トを設置し、床に排気孔を形成したことを特徴とする請
求項１に記載のクリーンルーム設備。 - 【請求項３】前記中間室内の圧力を前記クリーンルーム
の圧力よりも高く設定していることを特徴とする請求項
１または２に記載のクリーンルーム設備。 - 【請求項４】前記床の開口にダンパを設置し、該ダンパ
を開閉させることで、前記中間室内の圧力を設定させる
ようにしたことを特徴とする請求項１、２または３に記
載のクリーンルーム設備。 - 【請求項５】前記ファンフィルタユニットのモータの回
転を制御して前記中間室内の圧力を設定させるようにし
たことを特徴とする請求項２、３または４に記載のクリ
ーンルーム設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25147398A JP2000082731A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | クリーンルーム設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25147398A JP2000082731A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | クリーンルーム設備 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000082731A true JP2000082731A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17223347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25147398A Pending JP2000082731A (ja) | 1998-09-04 | 1998-09-04 | クリーンルーム設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000082731A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002353290A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Daihen Corp | カセット搬送方法及びカセット搬送システム |
| JP2002362735A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-18 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 空間の圧力制御システム |
| JP2003254573A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | アップフローダクト付きクリーンモジュール |
| JP2004228576A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板加工装置 |
| JP2008032335A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Hitachi High-Technologies Corp | ミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法 |
| JP2009145028A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Olympus Corp | クリーン生産装置 |
| JP2013067493A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Murata Machinery Ltd | クリーンルーム用の自動倉庫 |
| JP2013089689A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| KR101271198B1 (ko) * | 2005-03-08 | 2013-06-04 | 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤 | 냉각 스테이지가 장착된 반도체 제조장치 및 이를 사용한반도체 제조방법 |
| WO2015098892A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | コニカミノルタ株式会社 | 電子デバイスの印刷製造システム |
| JP7410565B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-01-10 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | カプセル化クリーンルームシステム |
-
1998
- 1998-09-04 JP JP25147398A patent/JP2000082731A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002353290A (ja) * | 2001-05-30 | 2002-12-06 | Daihen Corp | カセット搬送方法及びカセット搬送システム |
| JP2002362735A (ja) * | 2001-06-01 | 2002-12-18 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 空間の圧力制御システム |
| JP2003254573A (ja) * | 2002-02-28 | 2003-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | アップフローダクト付きクリーンモジュール |
| JP2004228576A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板加工装置 |
| KR101271198B1 (ko) * | 2005-03-08 | 2013-06-04 | 에이에스엠 저펜 가부시기가이샤 | 냉각 스테이지가 장착된 반도체 제조장치 및 이를 사용한반도체 제조방법 |
| JP2008032335A (ja) * | 2006-07-31 | 2008-02-14 | Hitachi High-Technologies Corp | ミニエンバイロメント装置、検査装置、製造装置、及び空間の清浄化方法 |
| JP2009145028A (ja) * | 2007-12-18 | 2009-07-02 | Olympus Corp | クリーン生産装置 |
| JP2013067493A (ja) * | 2011-09-22 | 2013-04-18 | Murata Machinery Ltd | クリーンルーム用の自動倉庫 |
| JP2013089689A (ja) * | 2011-10-14 | 2013-05-13 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置 |
| WO2015098892A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | コニカミノルタ株式会社 | 電子デバイスの印刷製造システム |
| JPWO2015098892A1 (ja) * | 2013-12-26 | 2017-03-23 | コニカミノルタ株式会社 | 電子デバイスの印刷製造システム |
| US10170348B2 (en) | 2013-12-26 | 2019-01-01 | Konica Minolta, Inc. | Production system for printing electronic devices |
| JP7410565B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-01-10 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | カプセル化クリーンルームシステム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20190362989A1 (en) | Substrate manufacturing apparatus and methods with factory interface chamber heating | |
| JP3425592B2 (ja) | 処理装置 | |
| US5261167A (en) | Vertical heat treating apparatus | |
| JP3654612B2 (ja) | クリーンルーム | |
| JP7008834B2 (ja) | ファクトリインターフェースチャンバのフィルタパージを用いた基板処理装置及び方法 | |
| KR20180059914A (ko) | 반도체 시스템의 습도 제어 | |
| JP2000082731A (ja) | クリーンルーム設備 | |
| JP4606348B2 (ja) | 基板処理装置及び基板搬送方法並びに記憶媒体 | |
| JPH09205047A (ja) | 処理装置 | |
| JP6674869B2 (ja) | ウェーハ搬送装置 | |
| JP3774277B2 (ja) | 被処理基板の搬送方法及び処理システム | |
| JP3697275B2 (ja) | 局所クリーン化におけるインターフェイスボックス及びそのクリーンルーム | |
| JP2002083854A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP3283798B2 (ja) | 処理装置 | |
| JPH11238777A (ja) | カセット搬送装置及びこれを備えたカセット搬送システム | |
| JP2005283049A (ja) | ミニエンバイロメント装置 | |
| JP2001182978A (ja) | クリーンルーム設備 | |
| JP2002231782A (ja) | 半導体ウエハの移送方法、半導体装置の製造方法およびプロセス装置 | |
| JPH07254583A (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP2000297953A (ja) | クリーンルームのポッド用インターフェースチャンバ | |
| JPH1074815A (ja) | 搬送方法及びその装置 | |
| JP2001044119A (ja) | レジスト塗布現像処理装置 | |
| JP3747377B2 (ja) | 半導体ウエハなどの保管方法 | |
| JPH1097962A (ja) | 処理装置及び処理システム | |
| JP3341978B2 (ja) | 洗浄システム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040616 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040625 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050105 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |